JPS62181234A - イソフタル酸ジクロリドの製造方法 - Google Patents
イソフタル酸ジクロリドの製造方法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
- B01J19/123—Ultraviolet light
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、イソフタル酸ジクロリドの製造方法に関する
。
。
(従来の技術)
従来イソフタル酸ジクロリドの製造方法としては、下記
の4つの方法が知られている。
の4つの方法が知られている。
(特公昭49−4058号同55−45058号など)
(発明が解決しようとする問題点) しかし、上記従来法の中で、■の方法は、塩化チオニル
が高価であり、またホスゲンの場合は毒性が極めて強い
ため問題がある。また■の方法においては9m−キシレ
ンは電子供与性のメチル基がメタ位にあるために側鎖塩
素化時に核置換塩素化物が生じやすい。そのため、側鎖
塩素化後反応生成物をそのままインフタル酸と反応させ
ると核置換塩素化物が混入してしまい、この不純物を何
らかの手段で除去する必要があるが、蒸留、再結晶、晶
析等の方法では手間がかかり収率も低くなる。■の方法
の場合イソフタル酸に対して2倍モルのペンシトリクロ
ライド類が必要となる。したがって対応する酸クロリド
もイソフタル酸ジクロリドに対して2倍モル副生してし
まう。また■の方法の場合、出発物質の融点が高く、取
扱いが容易でない上、第1段の塩素化反応速度が遅く1
通常の反応条件では、側鎖がジクロルメチル基で反応が
止まってしまう、という難点がある。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、上記従来法の中で、■の方法は、塩化チオニル
が高価であり、またホスゲンの場合は毒性が極めて強い
ため問題がある。また■の方法においては9m−キシレ
ンは電子供与性のメチル基がメタ位にあるために側鎖塩
素化時に核置換塩素化物が生じやすい。そのため、側鎖
塩素化後反応生成物をそのままインフタル酸と反応させ
ると核置換塩素化物が混入してしまい、この不純物を何
らかの手段で除去する必要があるが、蒸留、再結晶、晶
析等の方法では手間がかかり収率も低くなる。■の方法
の場合イソフタル酸に対して2倍モルのペンシトリクロ
ライド類が必要となる。したがって対応する酸クロリド
もイソフタル酸ジクロリドに対して2倍モル副生してし
まう。また■の方法の場合、出発物質の融点が高く、取
扱いが容易でない上、第1段の塩素化反応速度が遅く1
通常の反応条件では、側鎖がジクロルメチル基で反応が
止まってしまう、という難点がある。
(問題点を解決するための手段)
本発明者らはこのような従来のイソフタル酸ジクロリド
の製造方法の欠点を克服するため鋭意研究を重ねた結果
、m−トルイル酸クロリドを側鎖塩素化して得たm−)
!Jクロロメチル安息香酸クロリドとm−)ルイル酸と
を触媒の存在下に反応させると、塩化水素を発生しなが
らイソフタル酸ジクロリドとm−トルイル酸クロリドと
が得られ。
の製造方法の欠点を克服するため鋭意研究を重ねた結果
、m−トルイル酸クロリドを側鎖塩素化して得たm−)
!Jクロロメチル安息香酸クロリドとm−)ルイル酸と
を触媒の存在下に反応させると、塩化水素を発生しなが
らイソフタル酸ジクロリドとm−トルイル酸クロリドと
が得られ。
反応生成液の蒸留により高純度のイソフタル酸ジクロリ
ドを容易に分離しうろことを見出し、この知見に基づき
本発明をなすに至った。
ドを容易に分離しうろことを見出し、この知見に基づき
本発明をなすに至った。
すなわち本発明はm−ト’)クロロメチル安息香酸クロ
リドとm−)ルイル酸とを触媒の存在下に反応させるこ
とを特徴とするイソフタル酸ジクロリドの製造方法を提
供するものである。
リドとm−)ルイル酸とを触媒の存在下に反応させるこ
とを特徴とするイソフタル酸ジクロリドの製造方法を提
供するものである。
本発明方法を適用する反応工程は次式で表わすことがで
きる。
きる。
〈第1工程〉
〈第2工程〉
以下上記反応工程式に従って本発明方法を説明する。
第1工程で用いられる出発原料のm−)ルイル酸クロリ
ドはm−)ルイル酸の塩素化により常法に従って合成で
き2例えば次式に従って合成できる。
ドはm−)ルイル酸の塩素化により常法に従って合成で
き2例えば次式に従って合成できる。
式(1)の反応自体は公知である。反応温度は100〜
150°C9触媒としては例えば無水塩化第二鉄を仕込
量に対して0.1重量%使用する。反応時間は通常1〜
10時間で十分である。反応溶媒は特に必要としないが
、0−クロロ安息香酸クロリドを溶媒として用いてもよ
い。この反応終了後9反応液を蒸留して、m−トルイル
酸クロリドと0−りp口安息香酸クロリドとを分離する
。
150°C9触媒としては例えば無水塩化第二鉄を仕込
量に対して0.1重量%使用する。反応時間は通常1〜
10時間で十分である。反応溶媒は特に必要としないが
、0−クロロ安息香酸クロリドを溶媒として用いてもよ
い。この反応終了後9反応液を蒸留して、m−トルイル
酸クロリドと0−りp口安息香酸クロリドとを分離する
。
第1工程は紫外線照射下にm−)ルイル酸クロリドを側
鎖塩素化することからなる。反応溶媒は特に必要ではな
いが9反応に不活性な溶媒を使用しても差支えない。反
応温度は50〜200°C1好ましくは120〜160
℃の範囲である。塩素の使用量は回分式反応装置の場合
、大過剰でもよいが、理論量の110〜200モルチで
十分である。連続式の場合は必ずしも過剰に加える必要
はない。
鎖塩素化することからなる。反応溶媒は特に必要ではな
いが9反応に不活性な溶媒を使用しても差支えない。反
応温度は50〜200°C1好ましくは120〜160
℃の範囲である。塩素の使用量は回分式反応装置の場合
、大過剰でもよいが、理論量の110〜200モルチで
十分である。連続式の場合は必ずしも過剰に加える必要
はない。
第1工程の特徴として、金属化合物の混入による悪影響
を抑えるための物質(すなわち、ベンズアミド、アセト
アミド、アルキレンポリアミン。
を抑えるための物質(すなわち、ベンズアミド、アセト
アミド、アルキレンポリアミン。
アリールフォスフェートまたはソルビトール等の安定剤
)あるいは触媒を反応液に添加することは。
)あるいは触媒を反応液に添加することは。
必ずしも必要としない。また第1工程の特徴は核塩素化
物がほとんど生成しない点にある。
物がほとんど生成しない点にある。
第1工程の回分式実施において1m−トルイル酸クロリ
ドを100〜200°Cの範囲内に保持しながら、紫外
線含有光照射下に塩素を液中に導入すると1反応が進行
する。この際、いわゆる反応誘導期(塩素導入後塩素ガ
スが反応せず1反応液中に溶解してゆくだけで、塩化水
素ガスの発生が見られず、その後、突然反応の進行が開
始され、塩化水素ガスが激しく発生するまでの間)は生
じない。
ドを100〜200°Cの範囲内に保持しながら、紫外
線含有光照射下に塩素を液中に導入すると1反応が進行
する。この際、いわゆる反応誘導期(塩素導入後塩素ガ
スが反応せず1反応液中に溶解してゆくだけで、塩化水
素ガスの発生が見られず、その後、突然反応の進行が開
始され、塩化水素ガスが激しく発生するまでの間)は生
じない。
通常は反応の初期の段階においては2反応の進行がきわ
めて速く、高熱を発するので1反応熱を除去するために
2反応液を冷却することが必要であるが、その後、徐々
に反応速度が低下して、温度が降下するので、所定の反
応温度を保持するために、加熱が必要となる。反応速度
の低下にともなって、塩素の吸収がほとんどみられなく
なった時点で1反応を終了する。第1工程による塩素化
反応終了液は、単蒸留して留出液を第2工程の原料とす
るが単蒸留をせずに、そのまま使用しても特に問題はな
い。
めて速く、高熱を発するので1反応熱を除去するために
2反応液を冷却することが必要であるが、その後、徐々
に反応速度が低下して、温度が降下するので、所定の反
応温度を保持するために、加熱が必要となる。反応速度
の低下にともなって、塩素の吸収がほとんどみられなく
なった時点で1反応を終了する。第1工程による塩素化
反応終了液は、単蒸留して留出液を第2工程の原料とす
るが単蒸留をせずに、そのまま使用しても特に問題はな
い。
次に本発明の第2工程は、第1工程から得られたm−)
!Jクロロメチル安息香酸クロリドに等モルのm−トル
イル酸を触媒の存在下に反応温度120〜160°Cで
作用させると、塩化水素を発生しながらイソフタル酸ジ
クロリドとm−トルイル酸クロリドの混合物が得られる
。この触媒としては。
!Jクロロメチル安息香酸クロリドに等モルのm−トル
イル酸を触媒の存在下に反応温度120〜160°Cで
作用させると、塩化水素を発生しながらイソフタル酸ジ
クロリドとm−トルイル酸クロリドの混合物が得られる
。この触媒としては。
塩化アルミニウム、塩化アンチモン、塩化第二鉄。
四塩化チタン、四塩化スズおよび塩化亜鉛等のクリ−デ
ルクラフッ触媒が使用されるが、特に塩化第二鉄が好ま
しい。塩化第二鉄添加量は9両反応成分の合計に対して
O,OO1〜1重fa%の範囲が好ましい。触媒量が0
.001重量係未満では反応の進行が遅<、1.0重量
%以上使用しても、とくに有利な点は認められない。
ルクラフッ触媒が使用されるが、特に塩化第二鉄が好ま
しい。塩化第二鉄添加量は9両反応成分の合計に対して
O,OO1〜1重fa%の範囲が好ましい。触媒量が0
.001重量係未満では反応の進行が遅<、1.0重量
%以上使用しても、とくに有利な点は認められない。
塩化水素ガスの発生が収まった後1時間はど反応温度を
保って熟成すれば、トリクロロメチル安息香酸クロリド
は消失し1反応は完結する。この反応は特に溶媒を必要
としないが、第二工程の反応終了液を蒸留した残渣を溶
媒として使用することもできる。この場合、触媒は、蒸
留残渣に残るので、繰り返し使用することもできる。
保って熟成すれば、トリクロロメチル安息香酸クロリド
は消失し1反応は完結する。この反応は特に溶媒を必要
としないが、第二工程の反応終了液を蒸留した残渣を溶
媒として使用することもできる。この場合、触媒は、蒸
留残渣に残るので、繰り返し使用することもできる。
反応終了液中に含まれる反応生成物は、150’Cに於
ける蒸気圧が、インフタルジクロリドが20mmHgで
トルイル酸クロリドの111 mmHgと大きく異なる
ので9反応終了液は、蒸留により、容易にイソフタル酸
ジクロリドとトルイル酸クロリドに分離される。
ける蒸気圧が、インフタルジクロリドが20mmHgで
トルイル酸クロリドの111 mmHgと大きく異なる
ので9反応終了液は、蒸留により、容易にイソフタル酸
ジクロリドとトルイル酸クロリドに分離される。
留出したトルイル酸クロリドは1回収され再び第1工程
へ送られる。イソフタル酸ジクロリドはそのまま製品と
することができる。
へ送られる。イソフタル酸ジクロリドはそのまま製品と
することができる。
上記反応終了液の蒸留処理が回分式で行われる場合、中
間留分および釜残が生じるが、中間留分は2次回サイク
ルの蒸留の際に利用し、釜残は第2工程の溶媒として利
用できるので結局ロスは生じない。
間留分および釜残が生じるが、中間留分は2次回サイク
ルの蒸留の際に利用し、釜残は第2工程の溶媒として利
用できるので結局ロスは生じない。
第1工程と第2工程の関係を下記スキームに示した。
スキーム
〈第1工程〉
(発明の効果)
本発明によればm−トルイル酸クロリドの側鎖塩素化に
よって得られるm−ト’)クロロメチル安息香酸クロリ
ドを用いることによって、核置換塩素化物がほとんど含
まれず、目的のイソフタル酸ジクロリドを特別な精製操
作を行わずに高純度で得ることができる。
よって得られるm−ト’)クロロメチル安息香酸クロリ
ドを用いることによって、核置換塩素化物がほとんど含
まれず、目的のイソフタル酸ジクロリドを特別な精製操
作を行わずに高純度で得ることができる。
本発明方法によればイソフタル酸ジクロリドと同時に生
成したm−トルイル酸クロリドは、第1工程の出発原料
とすることができるので、目的物以外の副生物を循環利
用することができる。また本発明は、トルイル酸クロリ
ドとm−トリクロロメチル安息香酸クロリドを反応成分
とするが9両者ともトルイル酸を出発原料として高純度
で合成できるものであり、同一物質を原料とするので極
めて好都合である。
成したm−トルイル酸クロリドは、第1工程の出発原料
とすることができるので、目的物以外の副生物を循環利
用することができる。また本発明は、トルイル酸クロリ
ドとm−トリクロロメチル安息香酸クロリドを反応成分
とするが9両者ともトルイル酸を出発原料として高純度
で合成できるものであり、同一物質を原料とするので極
めて好都合である。
さらに本発明方法に前記の第1工程とを組合わせて、リ
サイクルするようにすれば2回収したm−トルイル酸ク
ロリドにイソフタル酸ジクロリドが混入していても光塩
素化(第1工程)を支障なく行うことができ、第2工程
の収率、純度になんら影響を及ぼさないという実用上優
れた効果を奏する。
サイクルするようにすれば2回収したm−トルイル酸ク
ロリドにイソフタル酸ジクロリドが混入していても光塩
素化(第1工程)を支障なく行うことができ、第2工程
の収率、純度になんら影響を及ぼさないという実用上優
れた効果を奏する。
(実施例)
次に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明する。
実施例1
温度計、塩素吹込管及びコンデンサーを装備したパイレ
ックス製1υ容四つロフラスコにm−トルイル酸クロリ
ド506.1gを仕込み、120〜160°Cで高圧水
銀ランプ照射下塩素ガスを2モル/hrで9時間吹込ん
だ。反応終了液は826.4gの微黄色透明液体で、ガ
スクロマトグラフィー分析によr)、m−トリクロロメ
チル安息香酸クロリド以外のピークは、痕跡程度しか検
出されなかった。
ックス製1υ容四つロフラスコにm−トルイル酸クロリ
ド506.1gを仕込み、120〜160°Cで高圧水
銀ランプ照射下塩素ガスを2モル/hrで9時間吹込ん
だ。反応終了液は826.4gの微黄色透明液体で、ガ
スクロマトグラフィー分析によr)、m−トリクロロメ
チル安息香酸クロリド以外のピークは、痕跡程度しか検
出されなかった。
次いでこの反応終了液を単蒸留して、 804.6g
の留出液と、21.1gの釜残に分離した。
の留出液と、21.1gの釜残に分離した。
留出液の一部(511g)にm−トルイル酸272.3
gと無水塩化第二鉄0.33 gを加え、攪拌しながら
加熱したところ、約130°Cで塩化水素ガスの発生が
始まった。さらに加熱を続け1発泡が収まってから1時
間後に分析したところ、インフタル酸ジクロリドとm−
トルイル酸クロリドが生成しておりm−トリクロロメチ
ル安息香酸クロリドは消失していた。これを回分精留し
たところm−トルイル酸クロリド288g (純度99
.6チ)と中間留分60g、イソフタル酸ジクロリド3
44g (純度99.81)分離され、釜残12gが得
られた。
gと無水塩化第二鉄0.33 gを加え、攪拌しながら
加熱したところ、約130°Cで塩化水素ガスの発生が
始まった。さらに加熱を続け1発泡が収まってから1時
間後に分析したところ、インフタル酸ジクロリドとm−
トルイル酸クロリドが生成しておりm−トリクロロメチ
ル安息香酸クロリドは消失していた。これを回分精留し
たところm−トルイル酸クロリド288g (純度99
.6チ)と中間留分60g、イソフタル酸ジクロリド3
44g (純度99.81)分離され、釜残12gが得
られた。
実施例2
実施例1で得られたm−トルイル酸クロリド(M度99
.6%、イソフタル酸ジクロリド0.36%)287g
用い実施例1と同様の装置で光塩素化を行なった。2モ
ル/hrで4.5hr塩素ガスを吹込み4466gの反
応終了液を得た。最初に含まれていたインフタル酸ジク
ロリドは塩素化されずに、そのままの形で残っていた。
.6%、イソフタル酸ジクロリド0.36%)287g
用い実施例1と同様の装置で光塩素化を行なった。2モ
ル/hrで4.5hr塩素ガスを吹込み4466gの反
応終了液を得た。最初に含まれていたインフタル酸ジク
ロリドは塩素化されずに、そのままの形で残っていた。
次いでこの反応終了液(蒸留しない)255.6gにm
−)ルイル酸136.2gと無水塩化第二鉄0.15
gを加え、攪拌しながら加熱したところ、130°Cで
塩化水素ガスの発生がはじまり発泡が収まってから、1
時間後には、m−トリクロロメチル安息香酸クロリドは
消失していた。
−)ルイル酸136.2gと無水塩化第二鉄0.15
gを加え、攪拌しながら加熱したところ、130°Cで
塩化水素ガスの発生がはじまり発泡が収まってから、1
時間後には、m−トリクロロメチル安息香酸クロリドは
消失していた。
実施例1と同様にして反応終了液を回分精留に付して2
m−トルイル酸クロリド145g (純度99.5係)
トイソフタル酸ジクロリド179g(純度99.7%)
に分離した。
m−トルイル酸クロリド145g (純度99.5係)
トイソフタル酸ジクロリド179g(純度99.7%)
に分離した。
比較例
実施例1で用いたと同様の反応装置にm−キシレン31
8.5 gを仕込み光塩素化を行った。反応温度115
〜120°Cで塩素を0.90モル/hrで32時間吹
込んだ。反応終了液は938.5gの茶かっ免液体でガ
スクロ分析によりヘキサクロロ−m−キシレンの純度は
90.3 %であり核置換塩素化物は6.8チであった
。
8.5 gを仕込み光塩素化を行った。反応温度115
〜120°Cで塩素を0.90モル/hrで32時間吹
込んだ。反応終了液は938.5gの茶かっ免液体でガ
スクロ分析によりヘキサクロロ−m−キシレンの純度は
90.3 %であり核置換塩素化物は6.8チであった
。
この反応終了液に単蒸留を行い、その内の156.3g
を使用しこれにインフタル酸83.0g無水塩化第二鉄
0.12 gを加え125℃〜130℃で反応を行った
。
を使用しこれにインフタル酸83.0g無水塩化第二鉄
0.12 gを加え125℃〜130℃で反応を行った
。
この反応終了液をガスクロマトグラフィー分析した結果
イソフタル酸ジクロリドの純度は97.2 %核置換塩
素化物は2.1係であった。
イソフタル酸ジクロリドの純度は97.2 %核置換塩
素化物は2.1係であった。
Claims (2)
- (1)m−トリクロロメチル安息香酸クロリドとm−ト
ルイル酸とを触媒の存在下で反応させることを特徴とす
るイソフタル酸ジクロリドの製造方法。 - (2)m−トリクロロメチル安息香酸クロリドが、m
−トルイル酸クロリドの光塩素化によって得られる特許
請求の範囲第1項記載のイソフタル酸ジクロリドの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2360686A JPS62181234A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | イソフタル酸ジクロリドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2360686A JPS62181234A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | イソフタル酸ジクロリドの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62181234A true JPS62181234A (ja) | 1987-08-08 |
Family
ID=12115268
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2360686A Pending JPS62181234A (ja) | 1986-02-05 | 1986-02-05 | イソフタル酸ジクロリドの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62181234A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102701960A (zh) * | 2012-05-22 | 2012-10-03 | 天津大学 | 间苯二甲酰氯粗品精制方法及设备 |
WO2016152028A1 (ja) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 機能層形成用組成物、機能層形成用組成物の製造方法、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 |
-
1986
- 1986-02-05 JP JP2360686A patent/JPS62181234A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102701960A (zh) * | 2012-05-22 | 2012-10-03 | 天津大学 | 间苯二甲酰氯粗品精制方法及设备 |
WO2016152028A1 (ja) * | 2015-03-25 | 2016-09-29 | セイコーエプソン株式会社 | 機能層形成用組成物、機能層形成用組成物の製造方法、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 |
JP2016181648A (ja) * | 2015-03-25 | 2016-10-13 | セイコーエプソン株式会社 | 機能層形成用組成物、機能層形成用組成物の製造方法、有機el素子の製造方法、有機el装置、電子機器 |
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