JPS62164875A - 連続成膜装置 - Google Patents
連続成膜装置Info
- Publication number
- JPS62164875A JPS62164875A JP457286A JP457286A JPS62164875A JP S62164875 A JPS62164875 A JP S62164875A JP 457286 A JP457286 A JP 457286A JP 457286 A JP457286 A JP 457286A JP S62164875 A JPS62164875 A JP S62164875A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- disk
- jig
- film forming
- vacuum chamber
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子機器の記録媒体となるディスク表面に成膜
を施す連続成膜装置に関するものである。
を施す連続成膜装置に関するものである。
従来の技術
従来の連続成膜装置は第４図にその具体構成を示すよう
に真空室１，２．成膜室３及び真空室４がそれぞれゲー
トバルブ５を介して連結され、成膜装置本体６の外から
ディスク７が搬送治具８に取付けられて、搬送装置９に
よって真空室から成膜室へ順次搬送され、成膜されたデ
ィスクは真空室４を通って本体の外に搬送されディスク
が搬送治具から手で取外される。なお１０は成膜発生器
である。
に真空室１，２．成膜室３及び真空室４がそれぞれゲー
トバルブ５を介して連結され、成膜装置本体６の外から
ディスク７が搬送治具８に取付けられて、搬送装置９に
よって真空室から成膜室へ順次搬送され、成膜されたデ
ィスクは真空室４を通って本体の外に搬送されディスク
が搬送治具から手で取外される。なお１０は成膜発生器
である。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成では、成膜装置本体から
出てディスクが取外された搬送治具は再び元の位置に返
還しなければならず、人手で行う場合は作業負荷がかか
るし、自動返還装置を設けた場合装置が複雑になり、設
備設置面積も犬きくなる。また搬送治具は成膜の際に成
膜の膜が付着しこれが真空室から大気に戻るとダストが
飛散しやすくディスク成膜の品質を害するため再び真空
室の中ヘディスクを取付けて搬送する際は搬送治具の清
掃が必要となる。さらに成膜室３には搬送駆動装置が成
膜発生器１ｏの真上にあるため、成膜時のダストが搬送
駆動装置に付着し、これがはがれて、ディスクに付着す
ると品質劣化の原因となる。
出てディスクが取外された搬送治具は再び元の位置に返
還しなければならず、人手で行う場合は作業負荷がかか
るし、自動返還装置を設けた場合装置が複雑になり、設
備設置面積も犬きくなる。また搬送治具は成膜の際に成
膜の膜が付着しこれが真空室から大気に戻るとダストが
飛散しやすくディスク成膜の品質を害するため再び真空
室の中ヘディスクを取付けて搬送する際は搬送治具の清
掃が必要となる。さらに成膜室３には搬送駆動装置が成
膜発生器１ｏの真上にあるため、成膜時のダストが搬送
駆動装置に付着し、これがはがれて、ディスクに付着す
ると品質劣化の原因となる。
本発明は上記欠点に鑑み、ディスクの搬送経路を簡単に
し、搬送治具は通常運転時は成膜装置から外へ出すこと
がなく、治具の清掃をほとんど必要としない構成を有す
る連続成膜装置を提供するものである。
し、搬送治具は通常運転時は成膜装置から外へ出すこと
がなく、治具の清掃をほとんど必要としない構成を有す
る連続成膜装置を提供するものである。
問題点を解決するための手段
本発明の連続成膜装置は、成膜室に隣接した真空室にあ
って、成膜室までディスク外周を保持して移載する一対
の移載アームと、成膜室にあってディスク中心穴に入る
治具と、治具の上端を挟持したまま引上げ連続回転円板
下面に押圧する治具回転保持部と、治具の下端の受け部
を先端に有し昇降と旋回と治具受け部のロック機能を有
する旋回アームから構成されている。
って、成膜室までディスク外周を保持して移載する一対
の移載アームと、成膜室にあってディスク中心穴に入る
治具と、治具の上端を挟持したまま引上げ連続回転円板
下面に押圧する治具回転保持部と、治具の下端の受け部
を先端に有し昇降と旋回と治具受け部のロック機能を有
する旋回アームから構成されている。
作用
上記本発明の装置は以下の作用を有する。
（１）成膜装置の外部からはディスクだけが真空室、成
膜室に入り、搬送治具等をともなっていないため成膜室
で成膜の際、ダストの付着する部分がディスクと治具の
一部のみであり、大気中に戻らないためダストが落下飛
散するこ七がなく、成膜品質が向上すると同時に、数多
い搬送治具及び成膜室にある複雑な搬送駆動部を清掃す
る作業が大幅に少なくなる。
膜室に入り、搬送治具等をともなっていないため成膜室
で成膜の際、ダストの付着する部分がディスクと治具の
一部のみであり、大気中に戻らないためダストが落下飛
散するこ七がなく、成膜品質が向上すると同時に、数多
い搬送治具及び成膜室にある複雑な搬送駆動部を清掃す
る作業が大幅に少なくなる。
（２）搬送治具は元の所に返還する作業又は装置が不要
となり、作業負荷の軽減及び装置設置面積が少なくなり
装置価格が低減できる。
となり、作業負荷の軽減及び装置設置面積が少なくなり
装置価格が低減できる。
（３）連続成膜装置へのディスクの投入と取出しが接近
しているため作業者で行う場合は作業性が向上するし、
ディスクの自動投入取出しを設ける場合でも問題な〈実
施できる。
しているため作業者で行う場合は作業性が向上するし、
ディスクの自動投入取出しを設ける場合でも問題な〈実
施できる。
実施例
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。第１図は本発明の実施例における連続成膜装置
の平面図、第２図は同じく正面図、第３図は成膜室の詳
細図を示すものである。第１図、第２図、第３図におい
て、１１は連続成膜装置本体、１２，１３．１４はそれ
ぞれ真空室、１５は成膜室、１６．１７，１８．１９は
それぞれ上記各真空室、成膜室を連結する開閉可能なゲ
ートバルブ、２ｏは成膜発生器、２１．２２はそれぞれ
第１真空室にあって装置外及び第２真空室へ移載動作可
能な１対の移載アーム、２３．２４はそれぞれ第３真空
室にあって隣接する第２真空室及び成膜室へ移載動作可
能な一対の移載アーム、２５は治具、２６は治具回転保
持部、２７は旋回アーム、２８は成膜中のディスクであ
る。２９は治具上部を保持するチャックツメ、３０はエ
アーシリンダー３１からチャックツメへ上下動作を伝え
る軸、３２はディスク上面に接触して回転する回転円板
、３３は回転駆動をモーター３４．１対の平歯車３５．
３６から回転円板に伝える中間軸、３７はハウジング３
８内にあって前記中間軸の回転を支える軸受、３９は成
膜室の上部プレート、４０は治具の下部を受けて保持す
る治具受け部、４１は治具受けロック、４２は治具受け
ロックに動作を伝達する水平連結軸、４３は同じく垂直
連結軸で上部のエアーシリンダー４４によって駆動され
る。４６は垂直連結軸から水平連結軸に動作を伝えるレ
バー、４６は前記旋回アーム２７に連結され昇降と旋回
動作をそれぞれ伝える中間軸、回転動作はモーター４７
から平歯車４８．４９からアーム５０．ビン６１、アー
ム６２を介して中間軸へ伝達される。また昇降動作は外
部の駆動源（図示せず）からローラー６３からガイド５
４を介して中間軸へ伝達される。５５は第１ハウジング
６６内にあって中間軸の昇降動作を支持する軸受、５７
は第２ハウジング６８内にあって第１ハウジングの回転
動作を支持する軸受、６９は規正ビンでアーム５ｏの規
正穴に嵌合しエアーシリンダー６０によって駆動されガ
イド６１によって摺動の案内となる。なお６２．６３は
それぞれ第２真空室にあってディスクを昇降して受け取
るディスク受けである。
明する。第１図は本発明の実施例における連続成膜装置
の平面図、第２図は同じく正面図、第３図は成膜室の詳
細図を示すものである。第１図、第２図、第３図におい
て、１１は連続成膜装置本体、１２，１３．１４はそれ
ぞれ真空室、１５は成膜室、１６．１７，１８．１９は
それぞれ上記各真空室、成膜室を連結する開閉可能なゲ
ートバルブ、２ｏは成膜発生器、２１．２２はそれぞれ
第１真空室にあって装置外及び第２真空室へ移載動作可
能な１対の移載アーム、２３．２４はそれぞれ第３真空
室にあって隣接する第２真空室及び成膜室へ移載動作可
能な一対の移載アーム、２５は治具、２６は治具回転保
持部、２７は旋回アーム、２８は成膜中のディスクであ
る。２９は治具上部を保持するチャックツメ、３０はエ
アーシリンダー３１からチャックツメへ上下動作を伝え
る軸、３２はディスク上面に接触して回転する回転円板
、３３は回転駆動をモーター３４．１対の平歯車３５．
３６から回転円板に伝える中間軸、３７はハウジング３
８内にあって前記中間軸の回転を支える軸受、３９は成
膜室の上部プレート、４０は治具の下部を受けて保持す
る治具受け部、４１は治具受けロック、４２は治具受け
ロックに動作を伝達する水平連結軸、４３は同じく垂直
連結軸で上部のエアーシリンダー４４によって駆動され
る。４６は垂直連結軸から水平連結軸に動作を伝えるレ
バー、４６は前記旋回アーム２７に連結され昇降と旋回
動作をそれぞれ伝える中間軸、回転動作はモーター４７
から平歯車４８．４９からアーム５０．ビン６１、アー
ム６２を介して中間軸へ伝達される。また昇降動作は外
部の駆動源（図示せず）からローラー６３からガイド５
４を介して中間軸へ伝達される。５５は第１ハウジング
６６内にあって中間軸の昇降動作を支持する軸受、５７
は第２ハウジング６８内にあって第１ハウジングの回転
動作を支持する軸受、６９は規正ビンでアーム５ｏの規
正穴に嵌合しエアーシリンダー６０によって駆動されガ
イド６１によって摺動の案内となる。なお６２．６３は
それぞれ第２真空室にあってディスクを昇降して受け取
るディスク受けである。
以上のように構成された連続成膜装置について以下その
動作を説明する。
動作を説明する。
まずディスク２８は移載アーム２２が第１真空室１２か
ら外へ揺動移動してセットし保持された！ま第１真空室
１２へ移動してゲートパルプ１６が閉じる。次に第１真
空室の真空度が第２真空室１３の真空度と同じ値まで達
するとゲートパルプ１７が開いてディスクを保持した移
載アーム２２が揺動移動して第２真空室１３のディスク
受け６３に受け渡され移載アーム２２は第１真空室１２
にもどった後ゲートパルプ１７は閉じる。次に第２真空
室１３の真空度が第３真空室１４の真空度と同じ値まで
上げられるとゲートパルプ１８が開いて第３真空室１４
にある移載アーム２４が揺動移動して第２真空室１３の
ディスク受けからディスクを受け取り、再び第３真空室
１４へ戻ってゲートパルプ１８は閉じ冬。次に第３真空
室１４の真空度が成膜室１６の真空度と同じ値まで上げ
られるとゲートパルプ１９が開いて第３真空室１４にあ
る移載アームが揺動移動して成膜室にある旋回アーム２
７の先端に保持しロックされた治具２６を保持したまま
上昇しディスク中心穴に治具が入って受け取り、移載ア
ームは元の第３真空室に戻ってゲートパルプ１９は閉じ
る。次に旋回アームに旋回駆動がモーター４７から平歯
車４８．４９からアーム４９、ピン６１、′−ムロ２、
中間軸４６を介して伝達され一定角度旋回され成膜発生
源２０の上方に設けられだ治具回転保持部２６の下に移
動する。次に外部の駆動源からローラー５３に昇降動作
が与えられ、ガイド６４、中間軸４６を介して旋回レバ
ー２７に昇降動作が与えられ、ディスクの中心穴から上
に突き出りた治具を回転円板３２に挿入するため上昇し
た後、チャックツメ２９に挟持動作がエアーシリンダー
３１の駆動で、軸３０を介して、伝えられ治具を保持し
た後さらに引き上げられてディスクを回転円板に押圧す
る。そこで旋回アームが下降、旋回して元の位置−に戻
る。治具回転保持部に保持されたディスクと治具は下方
の成膜発生源によって成膜を行うためモーター３４から
平歯車３５，３６、中間軸３３を介して治具回転保持部
に回転駆動が伝えられ一定の成膜条件に達するまで連続
回転しディスクに成膜が施される、成膜が完了すると回
転が停止して、元の位置に戻っていた旋回アームが治具
回転保持部の下まで旋回して上昇し、治具の下部が治具
受け部４０に受けられロック４１が働いた後、チャック
ツメ２９が開いて、旋回アームが下降して治具に受けら
れたディスクを受け取り、次に旋回アームが次の位置ま
で一定角度回転して第３真空室から成膜室内へ揺動移動
してきた移載アーム２３の所へ来て停止し、下降すると
ディスクだけが移載アーム２３に外周保持で受け渡され
旋回アーム先端には治具が保持されたまま残る。次に受
け渡されたディスクを保持したまま移載アームは第３真
空室へ移動してゲートパルプ１９が閉じ、以後ディスク
と移載アームは成膜室へ供給されて来たのと逆の動作を
繰シ返して、ディスク受け６２、移載アーム２１へと受
け渡されて成膜装置外部へ取り出される。一方、旋回ア
ームは治具を先端に保持したまま元の位置に戻シ次に前
回と同じ動作の繰シ返しで移載されて来た移載アームが
第３真空室から成膜室まで旋回移動して来た位置に停止
して上昇し次のディスクを治具を介して受け取る。
ら外へ揺動移動してセットし保持された！ま第１真空室
１２へ移動してゲートパルプ１６が閉じる。次に第１真
空室の真空度が第２真空室１３の真空度と同じ値まで達
するとゲートパルプ１７が開いてディスクを保持した移
載アーム２２が揺動移動して第２真空室１３のディスク
受け６３に受け渡され移載アーム２２は第１真空室１２
にもどった後ゲートパルプ１７は閉じる。次に第２真空
室１３の真空度が第３真空室１４の真空度と同じ値まで
上げられるとゲートパルプ１８が開いて第３真空室１４
にある移載アーム２４が揺動移動して第２真空室１３の
ディスク受けからディスクを受け取り、再び第３真空室
１４へ戻ってゲートパルプ１８は閉じ冬。次に第３真空
室１４の真空度が成膜室１６の真空度と同じ値まで上げ
られるとゲートパルプ１９が開いて第３真空室１４にあ
る移載アームが揺動移動して成膜室にある旋回アーム２
７の先端に保持しロックされた治具２６を保持したまま
上昇しディスク中心穴に治具が入って受け取り、移載ア
ームは元の第３真空室に戻ってゲートパルプ１９は閉じ
る。次に旋回アームに旋回駆動がモーター４７から平歯
車４８．４９からアーム４９、ピン６１、′−ムロ２、
中間軸４６を介して伝達され一定角度旋回され成膜発生
源２０の上方に設けられだ治具回転保持部２６の下に移
動する。次に外部の駆動源からローラー５３に昇降動作
が与えられ、ガイド６４、中間軸４６を介して旋回レバ
ー２７に昇降動作が与えられ、ディスクの中心穴から上
に突き出りた治具を回転円板３２に挿入するため上昇し
た後、チャックツメ２９に挟持動作がエアーシリンダー
３１の駆動で、軸３０を介して、伝えられ治具を保持し
た後さらに引き上げられてディスクを回転円板に押圧す
る。そこで旋回アームが下降、旋回して元の位置−に戻
る。治具回転保持部に保持されたディスクと治具は下方
の成膜発生源によって成膜を行うためモーター３４から
平歯車３５，３６、中間軸３３を介して治具回転保持部
に回転駆動が伝えられ一定の成膜条件に達するまで連続
回転しディスクに成膜が施される、成膜が完了すると回
転が停止して、元の位置に戻っていた旋回アームが治具
回転保持部の下まで旋回して上昇し、治具の下部が治具
受け部４０に受けられロック４１が働いた後、チャック
ツメ２９が開いて、旋回アームが下降して治具に受けら
れたディスクを受け取り、次に旋回アームが次の位置ま
で一定角度回転して第３真空室から成膜室内へ揺動移動
してきた移載アーム２３の所へ来て停止し、下降すると
ディスクだけが移載アーム２３に外周保持で受け渡され
旋回アーム先端には治具が保持されたまま残る。次に受
け渡されたディスクを保持したまま移載アームは第３真
空室へ移動してゲートパルプ１９が閉じ、以後ディスク
と移載アームは成膜室へ供給されて来たのと逆の動作を
繰シ返して、ディスク受け６２、移載アーム２１へと受
け渡されて成膜装置外部へ取り出される。一方、旋回ア
ームは治具を先端に保持したまま元の位置に戻シ次に前
回と同じ動作の繰シ返しで移載されて来た移載アームが
第３真空室から成膜室まで旋回移動して来た位置に停止
して上昇し次のディスクを治具を介して受け取る。
発明の効果
以上のように本発明は、一対の移載アームと、治具と、
治具回転保持部と、旋回アームを設けることよシディス
クの搬送経路が簡単になり、搬送治具は用いず成膜室内
にのみ１個の治具を使用するため治具の清掃がほとんど
必要でなく、また成膜室内には搬送態動部等がないため
成膜室内の清掃、保守も簡単であり成膜の品質上でも大
幅な向上をはかることができ、その実用的効果は大なる
ものがある。
治具回転保持部と、旋回アームを設けることよシディス
クの搬送経路が簡単になり、搬送治具は用いず成膜室内
にのみ１個の治具を使用するため治具の清掃がほとんど
必要でなく、また成膜室内には搬送態動部等がないため
成膜室内の清掃、保守も簡単であり成膜の品質上でも大
幅な向上をはかることができ、その実用的効果は大なる
ものがある。
第１図は本発明の実抱例における連続成膜装置の平面断
面図、第２図は同正面断面図、第３図は成膜室の詳細正
面断面図、第４図は従来の連続成膜装置の正面断面図で
ある。 １５・・・・・・成膜室、２１．２２，２３．２４・・
・・・・移載アーム、２６・・・・・・治具、２６・・
・・・・治具回転保持部、２７・・・・・・旋回アーム
。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ＩＪ
−−−Ａ、職τ ２７−−右をロアー４ ＠２図 第４図
面図、第２図は同正面断面図、第３図は成膜室の詳細正
面断面図、第４図は従来の連続成膜装置の正面断面図で
ある。 １５・・・・・・成膜室、２１．２２，２３．２４・・
・・・・移載アーム、２６・・・・・・治具、２６・・
・・・・治具回転保持部、２７・・・・・・旋回アーム
。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名ＩＪ
−−−Ａ、職τ ２７−−右をロアー４ ＠２図 第４図
Claims (1)
- 複数の真空室が各々ゲートバルブを介して連結され真空
室内に有する移載アームでディスクを順次受け渡す装置
において、成膜室の前の真空室にあってディスク外周を
保持して前記成膜室まで移載する一対の移載アームと、
前記成膜室にあってディスク中心穴に入りディスク下面
内周付近を保保する治具と、成膜発生器の上方にあって
前記治具の上端を挟持したまま引上げ、ディスクを連続
回転の円板の下面に押圧する治具回転保持部と、前記治
具の下端を保持する治具受け部を先端に有し、前記一対
の移載アームからディスクを受け渡しする２点と前記治
具回転保持部とを往復旋回する昇降と旋回と治具受け部
ロック機能を有する旋回アームとを備えた連続成膜装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP457286A JPS62164875A (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | 連続成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP457286A JPS62164875A (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | 連続成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62164875A true JPS62164875A (ja) | 1987-07-21 |
Family
ID=11587748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP457286A Pending JPS62164875A (ja) | 1986-01-13 | 1986-01-13 | 連続成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62164875A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5327624A (en) * | 1986-07-16 | 1994-07-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for forming a thin film on a semiconductor device using an apparatus having a load lock |
| US6312525B1 (en) | 1997-07-11 | 2001-11-06 | Applied Materials, Inc. | Modular architecture for semiconductor wafer fabrication equipment |
| US6440261B1 (en) | 1999-05-25 | 2002-08-27 | Applied Materials, Inc. | Dual buffer chamber cluster tool for semiconductor wafer processing |
| US6841200B2 (en) | 1999-11-30 | 2005-01-11 | Applied Materials, Inc. | Dual wafer load lock |
| JP2011047048A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
-
1986
- 1986-01-13 JP JP457286A patent/JPS62164875A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5327624A (en) * | 1986-07-16 | 1994-07-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for forming a thin film on a semiconductor device using an apparatus having a load lock |
| US6312525B1 (en) | 1997-07-11 | 2001-11-06 | Applied Materials, Inc. | Modular architecture for semiconductor wafer fabrication equipment |
| US6440261B1 (en) | 1999-05-25 | 2002-08-27 | Applied Materials, Inc. | Dual buffer chamber cluster tool for semiconductor wafer processing |
| US6841200B2 (en) | 1999-11-30 | 2005-01-11 | Applied Materials, Inc. | Dual wafer load lock |
| JP2011047048A (ja) * | 2009-08-27 | 2011-03-10 | Samsung Mobile Display Co Ltd | 薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法 |
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