JPS61120628A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS61120628A JPS61120628A JP24283984A JP24283984A JPS61120628A JP S61120628 A JPS61120628 A JP S61120628A JP 24283984 A JP24283984 A JP 24283984A JP 24283984 A JP24283984 A JP 24283984A JP S61120628 A JPS61120628 A JP S61120628A
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- JP
- Japan
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- product
- vacuum
- vacuum chamber
- processing
- treatment
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子機器に使われる情報記録媒体等に真空中で
処理を施す真空処理装置に関するものである。
処理を施す真空処理装置に関するものである。
従来の技術
近年真空処理装置はその生産形態として製品−個づつ処
理する枚葉処理、あるいは製品複数個づつ処理するバッ
チ処理方式から、製品を順次連続的に自動化して処理す
る連続自動処理方式に変わりつつある。
理する枚葉処理、あるいは製品複数個づつ処理するバッ
チ処理方式から、製品を順次連続的に自動化して処理す
る連続自動処理方式に変わりつつある。
またこの連続自動処理方式のほとんどは製品を搭載して
真空室間を循環する治具パレット方式がとられている。
真空室間を循環する治具パレット方式がとられている。
以下図面を参照しながら上述した従来の真空処理装置の
一例について説明する０第３図、第４図は従来の真空処
理装置の平面図及び正面図を示すものである。第３図、
第４図において、１は処理を施される製品、２は製品を
搭載して搬送するための治具パレット、３，４，６，６
．７はそれぞれ周囲を密閉して連結された真空室、８，
９゜１０．１１．１２．１３はそれぞれ、前記真空室間
及び外気との仕切りが可能なゲートバルブ、１４は治具
パレット反転装置、１５は治具パレットの搬送ローラー
、１６は治具パレットを水平移動で循環させるコンベア
ー、１７は治具パレットに取付けられ反転された製品に
処理を施す処理機器、１８は処理剤の周囲への飛散を防
ぐための規制板である。
一例について説明する０第３図、第４図は従来の真空処
理装置の平面図及び正面図を示すものである。第３図、
第４図において、１は処理を施される製品、２は製品を
搭載して搬送するための治具パレット、３，４，６，６
．７はそれぞれ周囲を密閉して連結された真空室、８，
９゜１０．１１．１２．１３はそれぞれ、前記真空室間
及び外気との仕切りが可能なゲートバルブ、１４は治具
パレット反転装置、１５は治具パレットの搬送ローラー
、１６は治具パレットを水平移動で循環させるコンベア
ー、１７は治具パレットに取付けられ反転された製品に
処理を施す処理機器、１８は処理剤の周囲への飛散を防
ぐための規制板である。
以上のように構成された真空処理装置について、以下そ
の動作について説明する。
の動作について説明する。
作業者によってコンベアー１６上の治具パレット２に取
付けられた製品１は、直進、方向変換を行ってゲートバ
ルブ８が開放状態で通過し、真空室３の中に入り停止す
る。次に真空室３の真空度が上げられ、隣接する真空室
４の真空度まで到達した時点で、ゲートバルブ９が開き
真空室４の中に製品を搭載した治具パレットが入り停止
する。ここでも隣接する真空室５の真空度まで上げられ
た後にゲートバルブ１０が開き、治具パレットは真空室
６内に搬送され停止してゲートバルブ１０は閉じる。次
に反転装置１４によって治具パレットは１８００反転さ
れて製品が治具パレットの下側に位置する様になった後
、製品の下方に設けられた処理機器１７が作動して、製
品に処理が施される。処理が完了した後、前記反転装置
１４が前回と逆の動作をして治具パレットを元の状態に
戻し、ゲートバルブ１１が開いて、治具パレットが次の
真空室６に搬送されて停止し、ゲートバルブ１１は閉じ
る。同様の動作を行って治具パレットは真空室７を通過
して、コンベアー１６上を搬送されて元の作業者の位置
まで循環されて、処理された製品は治具パレットから作
業者によって取り出される。
付けられた製品１は、直進、方向変換を行ってゲートバ
ルブ８が開放状態で通過し、真空室３の中に入り停止す
る。次に真空室３の真空度が上げられ、隣接する真空室
４の真空度まで到達した時点で、ゲートバルブ９が開き
真空室４の中に製品を搭載した治具パレットが入り停止
する。ここでも隣接する真空室５の真空度まで上げられ
た後にゲートバルブ１０が開き、治具パレットは真空室
６内に搬送され停止してゲートバルブ１０は閉じる。次
に反転装置１４によって治具パレットは１８００反転さ
れて製品が治具パレットの下側に位置する様になった後
、製品の下方に設けられた処理機器１７が作動して、製
品に処理が施される。処理が完了した後、前記反転装置
１４が前回と逆の動作をして治具パレットを元の状態に
戻し、ゲートバルブ１１が開いて、治具パレットが次の
真空室６に搬送されて停止し、ゲートバルブ１１は閉じ
る。同様の動作を行って治具パレットは真空室７を通過
して、コンベアー１６上を搬送されて元の作業者の位置
まで循環されて、処理された製品は治具パレットから作
業者によって取り出される。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記の様な構成では、製品を処理機器の上
方まで搬送するために治具パレットを使用しているため
に処理位置で処理剤が製品以外の治具パレットに付着す
るため処理が完了して製品を作業者が治具パレットを取
はずした後、治具の洗浄が必要である。もし洗浄せずに
次に製品を取付けて処理を施した場合、処理の製品特性
に悪影響を及ぼす。
方まで搬送するために治具パレットを使用しているため
に処理位置で処理剤が製品以外の治具パレットに付着す
るため処理が完了して製品を作業者が治具パレットを取
はずした後、治具の洗浄が必要である。もし洗浄せずに
次に製品を取付けて処理を施した場合、処理の製品特性
に悪影響を及ぼす。
上記の治具パレットの洗浄の必要性は、治具パレットへ
の製品の取付は及び取はずし工程を自動化する際の大き
な障害となっていた。また製品の搬送に治具パレットを
使用するため治具パレットの循環のためのコンベアー及
び処理位置での治具パレットの反転装置等の付帯装置が
必要で装置が大型化、複雑化する問題がある。さらに各
真空室を直線的に連結しているため段階的に真空度を上
げ、処理後、段階的に真空度を下げていく構成をとって
いるため、真空室の連結が長くなると同時に真空排気系
の排気ダクト、ポンプも別個に必要となり装置が大型化
、複雑化するという問題点を有していた。
の製品の取付は及び取はずし工程を自動化する際の大き
な障害となっていた。また製品の搬送に治具パレットを
使用するため治具パレットの循環のためのコンベアー及
び処理位置での治具パレットの反転装置等の付帯装置が
必要で装置が大型化、複雑化する問題がある。さらに各
真空室を直線的に連結しているため段階的に真空度を上
げ、処理後、段階的に真空度を下げていく構成をとって
いるため、真空室の連結が長くなると同時に真空排気系
の排気ダクト、ポンプも別個に必要となり装置が大型化
、複雑化するという問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、洗浄等により自動化の大き
な障害となる製品搬送用の治具パレットを使用せず、製
品のみを直接真空室から次の真空室へ移載することによ
る工程の自動化、簡素化。
な障害となる製品搬送用の治具パレットを使用せず、製
品のみを直接真空室から次の真空室へ移載することによ
る工程の自動化、簡素化。
小型化を狙った真空処理装置を提供するものである０
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の真空処理装置は段
階状の真空度をもつ連結された真空室と、−真空室おき
に設けられ処理室への行き、戻りそれぞれ別駆動をもっ
た一対の製品移載装置と、間欠円板上に一定間隔で設け
られた製品受け治具に受けて処理を施す処理室における
製品移動装置という構成を備えたものである。
階状の真空度をもつ連結された真空室と、−真空室おき
に設けられ処理室への行き、戻りそれぞれ別駆動をもっ
た一対の製品移載装置と、間欠円板上に一定間隔で設け
られた製品受け治具に受けて処理を施す処理室における
製品移動装置という構成を備えたものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、製品を搬送する治具パ
レットを使用せず製品しか送りのため治具パレット等に
処理剤が付着することによる品質の低下、自動化への阻
害要因が取り除かれた。また処理室への行き、戻りのた
めの真空室が共通になるため真空室の構成が簡単で小型
化でき、さらに製品が真空処理装置の中をＵ字型の搬送
経路をたどることができ全体工程の編成上、簡叫で効果
的である。
レットを使用せず製品しか送りのため治具パレット等に
処理剤が付着することによる品質の低下、自動化への阻
害要因が取り除かれた。また処理室への行き、戻りのた
めの真空室が共通になるため真空室の構成が簡単で小型
化でき、さらに製品が真空処理装置の中をＵ字型の搬送
経路をたどることができ全体工程の編成上、簡叫で効果
的である。
実施例
以下本発明の実施例の真空処理装置について、図面を参
照しながら説明する。第１図は本発明の実施例における
真空処理装置の平面図を示すものであり、第２図は同じ
く正面図を示すものである。
照しながら説明する。第１図は本発明の実施例における
真空処理装置の平面図を示すものであり、第２図は同じ
く正面図を示すものである。
第１図、第２図において、１９，２０，２１．２２はそ
れぞれ段階的に真空度が維持される真空室、２３．２４
，２５．２６は前記各真空室間及び、外気との仕切シ可
能なゲートバルブ、２７．２Ｂ。
れぞれ段階的に真空度が維持される真空室、２３．２４
，２５．２６は前記各真空室間及び、外気との仕切シ可
能なゲートバルブ、２７．２Ｂ。
２９．３０はそれぞれ前記ゲートバルブ２３，２４゜２
５．２６に開閉駆動を与えるエアーシリンダー、２７は
処理を施される製品、２８，２９，３０゜３１はそれぞ
れ一真空室おきに設けられ、隣接する前後の真空室まで
移動可能な移載アーム、３２゜３３．３４．３５はそれ
ぞれ前記移載アームの先端に取付けられ製品を保持する
製品保持部、３６゜３７．３８．３９はそれぞれ真空室
の外側にあって各移載アームに駆動を与えるモーター駆
動部、４０．４１．４２，４３はそれぞれ前記各モータ
ー駆動部から各移載アームに駆動を伝達する歯車５
伝動部である。４４．４５は前記移載アームが取
付けられた真空室の中間にある真空室にあって製品を製
品保持部から受け取る製品持上げ部、４６゜４７はそれ
ぞれ、前記製品持上げ部に昇降動作を与えるエアーシリ
ンダー、４８は周囲に一定間隔を保って取付けられた４
個の製品受け４９を有する間欠回転円板、５０は真空室
の外部にあって前記間欠回転円板に駆動を与えるモータ
ー、６１は前記モーター６ｏから間欠回転円板に駆動を
伝達し支持する伝動部、５．２は前記製品受けの上方よ
り下降して製品を回転させる製品回転部、６３は前記回
転される製品の下方に設けられ製品に処理を施す処理機
器、５４は前記処理機器から発せられる処理剤が周辺に
飛散することを防ぐ規制板、６６は製品移動装置である
。
５．２６に開閉駆動を与えるエアーシリンダー、２７は
処理を施される製品、２８，２９，３０゜３１はそれぞ
れ一真空室おきに設けられ、隣接する前後の真空室まで
移動可能な移載アーム、３２゜３３．３４．３５はそれ
ぞれ前記移載アームの先端に取付けられ製品を保持する
製品保持部、３６゜３７．３８．３９はそれぞれ真空室
の外側にあって各移載アームに駆動を与えるモーター駆
動部、４０．４１．４２，４３はそれぞれ前記各モータ
ー駆動部から各移載アームに駆動を伝達する歯車５
伝動部である。４４．４５は前記移載アームが取
付けられた真空室の中間にある真空室にあって製品を製
品保持部から受け取る製品持上げ部、４６゜４７はそれ
ぞれ、前記製品持上げ部に昇降動作を与えるエアーシリ
ンダー、４８は周囲に一定間隔を保って取付けられた４
個の製品受け４９を有する間欠回転円板、５０は真空室
の外部にあって前記間欠回転円板に駆動を与えるモータ
ー、６１は前記モーター６ｏから間欠回転円板に駆動を
伝達し支持する伝動部、５．２は前記製品受けの上方よ
り下降して製品を回転させる製品回転部、６３は前記回
転される製品の下方に設けられ製品に処理を施す処理機
器、５４は前記処理機器から発せられる処理剤が周辺に
飛散することを防ぐ規制板、６６は製品移動装置である
。
以上のように構成された真空処理装置について、以下第
１図、第２図を用いてその動作を説明する。
１図、第２図を用いてその動作を説明する。
外部の移載装置（図示せず）から製品が、ゲートバルブ
２３が開いて外部へ移動してきた製品保持部３２に受け
取られ、次にモーター駆動部３６により、歯車伝動部４
ｏを介して移動アーム２８が揺動して製品を真空室１８
内に入れて停止し、ゲートバルブ２３は閉じる。続いて
真空室１９内の真空度が大気から、隣接する真空室２ｏ
の真空度まで上げられた後、ゲートバルブ２４が開き、
前記移載アーム２８及び製品保持部３２がモーター駆動
部３６の駆動で真空室２ｏ内に移動し、真空室２０内に
ある製品持上げ部４４が上昇して製品を製品保持部３２
から受け取った後、移載アーム２８及び製品保持部３２
は元の真空室に戻り、ゲートバルブ２４は閉じる。次に
真空室２０の真空度が隣接する真空室２１の真空度まで
上げられた後、ゲートバルブ２６は開いて、真空室２１
内にある移載アーム２９及び製品保持部３３が移動して
真空室２０内に移動し、前記製品持上げ部が下降するこ
とにより製品が製品保持部に受け取られて前記移載アー
ム２９及び製品保持部が元の真空室２１に戻ってゲート
バルブ２５は閉じる。次に真空室２１の真空度が真空室
２２の真空度まで上げられた後、ゲートバルブ２６が開
き真空室２１内にあった移載アーム２９及び製品保持部
３３が移動して真空室２２内に入り間欠回転円板４８上
に取付けられた製品受け４９上に受け渡され、移載アー
ム２９及び製品保持部３３は元の真空室２１に戻り、ゲ
ートバルブ２６は閉じる。次に前記間欠回転円板４８が
１／４回転して製品２７を処理機器６３の上方に移動し
、処理が開始される。
２３が開いて外部へ移動してきた製品保持部３２に受け
取られ、次にモーター駆動部３６により、歯車伝動部４
ｏを介して移動アーム２８が揺動して製品を真空室１８
内に入れて停止し、ゲートバルブ２３は閉じる。続いて
真空室１９内の真空度が大気から、隣接する真空室２ｏ
の真空度まで上げられた後、ゲートバルブ２４が開き、
前記移載アーム２８及び製品保持部３２がモーター駆動
部３６の駆動で真空室２ｏ内に移動し、真空室２０内に
ある製品持上げ部４４が上昇して製品を製品保持部３２
から受け取った後、移載アーム２８及び製品保持部３２
は元の真空室に戻り、ゲートバルブ２４は閉じる。次に
真空室２０の真空度が隣接する真空室２１の真空度まで
上げられた後、ゲートバルブ２６は開いて、真空室２１
内にある移載アーム２９及び製品保持部３３が移動して
真空室２０内に移動し、前記製品持上げ部が下降するこ
とにより製品が製品保持部に受け取られて前記移載アー
ム２９及び製品保持部が元の真空室２１に戻ってゲート
バルブ２５は閉じる。次に真空室２１の真空度が真空室
２２の真空度まで上げられた後、ゲートバルブ２６が開
き真空室２１内にあった移載アーム２９及び製品保持部
３３が移動して真空室２２内に入り間欠回転円板４８上
に取付けられた製品受け４９上に受け渡され、移載アー
ム２９及び製品保持部３３は元の真空室２１に戻り、ゲ
ートバルブ２６は閉じる。次に前記間欠回転円板４８が
１／４回転して製品２７を処理機器６３の上方に移動し
、処理が開始される。
処理が終了後、間欠回転円板４８がさらに１／４回転し
てゲートバルブ２６が開き、真空室２１内にある移載ア
ーム３１及び製品保持部３６が真空室２２内に移動して
、製品受け４９から製品を受け取った後、元の真空室２
１に移動してゲートバルブ２６が閉じる。これ以降は前
記の処理の真空室２２に行きと、全く逆の動作をくり返
して、処理が施された製品が真空処理装置の外に移載ア
ーム３ｏ及び製品保持部３４によって取出される。
てゲートバルブ２６が開き、真空室２１内にある移載ア
ーム３１及び製品保持部３６が真空室２２内に移動して
、製品受け４９から製品を受け取った後、元の真空室２
１に移動してゲートバルブ２６が閉じる。これ以降は前
記の処理の真空室２２に行きと、全く逆の動作をくり返
して、処理が施された製品が真空処理装置の外に移載ア
ーム３ｏ及び製品保持部３４によって取出される。
以上のように本実施例によれば、連結され、段階状の真
空度をもつ複数の真空室の一室おきに隣接する真空室ま
で移動可能な一対の移載アームと製品保持部を設は移載
アームを設けない中間の真空室には製品保持部から製品
を受けとる製品持上げ部を設けることにより、製品の搬
送に治具を使わず直接製品を移載でき、しかも処理の真
空室へ行きの移載と戻りの移載を一対の移載アームで行
うことができ、製品の搬送経路が平面から見てＵ字形に
することができ、真空処理装置全体が小形、簡素化でき
全体工程の編成上有効である。
空度をもつ複数の真空室の一室おきに隣接する真空室ま
で移動可能な一対の移載アームと製品保持部を設は移載
アームを設けない中間の真空室には製品保持部から製品
を受けとる製品持上げ部を設けることにより、製品の搬
送に治具を使わず直接製品を移載でき、しかも処理の真
空室へ行きの移載と戻りの移載を一対の移載アームで行
うことができ、製品の搬送経路が平面から見てＵ字形に
することができ、真空処理装置全体が小形、簡素化でき
全体工程の編成上有効である。
また製品しか送りのため処理後の治具バレット等の洗浄
が不要で自動化に対して大きな効果を発揮する。
が不要で自動化に対して大きな効果を発揮する。
発明の効果
以上のように本発明は複数の連結された真空室と、隣接
する真空室まで移動可能な一対の移載アームと製品保持
部と、中間の真空室には製品持上げ部と、間欠回転円板
上に一定ピッチで製品取付は治具をもった処理室の製品
移動装置を設けることにより、処理に関する作業の自動
化、真空処理装置の小形簡素化をはかることができさら
に真空処理装置への製品の投入と堆出し位置が接近でき
るため、全体工程の編成上有効である。
する真空室まで移動可能な一対の移載アームと製品保持
部と、中間の真空室には製品持上げ部と、間欠回転円板
上に一定ピッチで製品取付は治具をもった処理室の製品
移動装置を設けることにより、処理に関する作業の自動
化、真空処理装置の小形簡素化をはかることができさら
に真空処理装置への製品の投入と堆出し位置が接近でき
るため、全体工程の編成上有効である。
第１図は本発明の実施例における真空処理装置の平面断
面図、第２図は第１図の正面断面図、第３図は従来の真
空処理装置の平面断面図、第４図は第３図の正面断面図
である。 １９．２０，２１．２２・・・・・・真空室、２３゜２
４．２５．２６・・・・・・ゲートバルブ、２８，２９
゜３０．３１・・・・・・移載アーム、３２，３３，３
４゜３５・・・・・製品保持部、４４．４５・・・・・
・製品持上げ部、４８・−・・・・間欠回転円板、４９
・・・・・・治具、５６・・・・・・製品移動装置。
面図、第２図は第１図の正面断面図、第３図は従来の真
空処理装置の平面断面図、第４図は第３図の正面断面図
である。 １９．２０，２１．２２・・・・・・真空室、２３゜２
４．２５．２６・・・・・・ゲートバルブ、２８，２９
゜３０．３１・・・・・・移載アーム、３２，３３，３
４゜３５・・・・・製品保持部、４４．４５・・・・・
・製品持上げ部、４８・−・・・・間欠回転円板、４９
・・・・・・治具、５６・・・・・・製品移動装置。
Claims (1)
- 各々中間にゲートバルブを介して連結され、段階状の真
空度をもつ複数の真空室と、前記真空室の一室おきの上
面プレート中央に取付けられ、前後に隣接する真空室ま
で製品保持部が移動可能で、処理室への行き側、戻り側
それぞれ別駆動をもった一対の移載アーム及び製品保持
部と、中間の真空室にあって製品を移動してきた製品保
持部から受け取るため昇降する製品持上げ部と、処理す
る真空室にあって、移動してきた製品保持部から製品を
間欠回転する円板上に取付けられた複数の製品取付け治
具上に受けて処理を施す製品移動装置とを備えたことを
特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24283984A JPS61120628A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24283984A JPS61120628A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61120628A true JPS61120628A (ja) | 1986-06-07 |
| JPH0530494B2 JPH0530494B2 (ja) | 1993-05-10 |
Family
ID=17095057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24283984A Granted JPS61120628A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61120628A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62126248U (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-11 |
-
1984
- 1984-11-16 JP JP24283984A patent/JPS61120628A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62126248U (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-11 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0530494B2 (ja) | 1993-05-10 |
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