JPS61120628A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPS61120628A JPS61120628A JP24283984A JP24283984A JPS61120628A JP S61120628 A JPS61120628 A JP S61120628A JP 24283984 A JP24283984 A JP 24283984A JP 24283984 A JP24283984 A JP 24283984A JP S61120628 A JPS61120628 A JP S61120628A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- product
- vacuum
- vacuum chamber
- processing
- treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子機器に使われる情報記録媒体等に真空中で
処理を施す真空処理装置に関するものである。
処理を施す真空処理装置に関するものである。
従来の技術
近年真空処理装置はその生産形態として製品−個づつ処
理する枚葉処理、あるいは製品複数個づつ処理するバッ
チ処理方式から、製品を順次連続的に自動化して処理す
る連続自動処理方式に変わりつつある。
理する枚葉処理、あるいは製品複数個づつ処理するバッ
チ処理方式から、製品を順次連続的に自動化して処理す
る連続自動処理方式に変わりつつある。
またこの連続自動処理方式のほとんどは製品を搭載して
真空室間を循環する治具パレット方式がとられている。
真空室間を循環する治具パレット方式がとられている。
以下図面を参照しながら上述した従来の真空処理装置の
一例について説明する0第3図、第4図は従来の真空処
理装置の平面図及び正面図を示すものである。第3図、
第4図において、1は処理を施される製品、2は製品を
搭載して搬送するための治具パレット、3,4,6,6
.7はそれぞれ周囲を密閉して連結された真空室、8,
9゜10.11.12.13はそれぞれ、前記真空室間
及び外気との仕切りが可能なゲートバルブ、14は治具
パレット反転装置、15は治具パレットの搬送ローラー
、16は治具パレットを水平移動で循環させるコンベア
ー、17は治具パレットに取付けられ反転された製品に
処理を施す処理機器、18は処理剤の周囲への飛散を防
ぐための規制板である。
一例について説明する0第3図、第4図は従来の真空処
理装置の平面図及び正面図を示すものである。第3図、
第4図において、1は処理を施される製品、2は製品を
搭載して搬送するための治具パレット、3,4,6,6
.7はそれぞれ周囲を密閉して連結された真空室、8,
9゜10.11.12.13はそれぞれ、前記真空室間
及び外気との仕切りが可能なゲートバルブ、14は治具
パレット反転装置、15は治具パレットの搬送ローラー
、16は治具パレットを水平移動で循環させるコンベア
ー、17は治具パレットに取付けられ反転された製品に
処理を施す処理機器、18は処理剤の周囲への飛散を防
ぐための規制板である。
以上のように構成された真空処理装置について、以下そ
の動作について説明する。
の動作について説明する。
作業者によってコンベアー16上の治具パレット2に取
付けられた製品1は、直進、方向変換を行ってゲートバ
ルブ8が開放状態で通過し、真空室3の中に入り停止す
る。次に真空室3の真空度が上げられ、隣接する真空室
4の真空度まで到達した時点で、ゲートバルブ9が開き
真空室4の中に製品を搭載した治具パレットが入り停止
する。ここでも隣接する真空室5の真空度まで上げられ
た後にゲートバルブ10が開き、治具パレットは真空室
6内に搬送され停止してゲートバルブ10は閉じる。次
に反転装置14によって治具パレットは1800反転さ
れて製品が治具パレットの下側に位置する様になった後
、製品の下方に設けられた処理機器17が作動して、製
品に処理が施される。処理が完了した後、前記反転装置
14が前回と逆の動作をして治具パレットを元の状態に
戻し、ゲートバルブ11が開いて、治具パレットが次の
真空室6に搬送されて停止し、ゲートバルブ11は閉じ
る。同様の動作を行って治具パレットは真空室7を通過
して、コンベアー16上を搬送されて元の作業者の位置
まで循環されて、処理された製品は治具パレットから作
業者によって取り出される。
付けられた製品1は、直進、方向変換を行ってゲートバ
ルブ8が開放状態で通過し、真空室3の中に入り停止す
る。次に真空室3の真空度が上げられ、隣接する真空室
4の真空度まで到達した時点で、ゲートバルブ9が開き
真空室4の中に製品を搭載した治具パレットが入り停止
する。ここでも隣接する真空室5の真空度まで上げられ
た後にゲートバルブ10が開き、治具パレットは真空室
6内に搬送され停止してゲートバルブ10は閉じる。次
に反転装置14によって治具パレットは1800反転さ
れて製品が治具パレットの下側に位置する様になった後
、製品の下方に設けられた処理機器17が作動して、製
品に処理が施される。処理が完了した後、前記反転装置
14が前回と逆の動作をして治具パレットを元の状態に
戻し、ゲートバルブ11が開いて、治具パレットが次の
真空室6に搬送されて停止し、ゲートバルブ11は閉じ
る。同様の動作を行って治具パレットは真空室7を通過
して、コンベアー16上を搬送されて元の作業者の位置
まで循環されて、処理された製品は治具パレットから作
業者によって取り出される。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記の様な構成では、製品を処理機器の上
方まで搬送するために治具パレットを使用しているため
に処理位置で処理剤が製品以外の治具パレットに付着す
るため処理が完了して製品を作業者が治具パレットを取
はずした後、治具の洗浄が必要である。もし洗浄せずに
次に製品を取付けて処理を施した場合、処理の製品特性
に悪影響を及ぼす。
方まで搬送するために治具パレットを使用しているため
に処理位置で処理剤が製品以外の治具パレットに付着す
るため処理が完了して製品を作業者が治具パレットを取
はずした後、治具の洗浄が必要である。もし洗浄せずに
次に製品を取付けて処理を施した場合、処理の製品特性
に悪影響を及ぼす。
上記の治具パレットの洗浄の必要性は、治具パレットへ
の製品の取付は及び取はずし工程を自動化する際の大き
な障害となっていた。また製品の搬送に治具パレットを
使用するため治具パレットの循環のためのコンベアー及
び処理位置での治具パレットの反転装置等の付帯装置が
必要で装置が大型化、複雑化する問題がある。さらに各
真空室を直線的に連結しているため段階的に真空度を上
げ、処理後、段階的に真空度を下げていく構成をとって
いるため、真空室の連結が長くなると同時に真空排気系
の排気ダクト、ポンプも別個に必要となり装置が大型化
、複雑化するという問題点を有していた。
の製品の取付は及び取はずし工程を自動化する際の大き
な障害となっていた。また製品の搬送に治具パレットを
使用するため治具パレットの循環のためのコンベアー及
び処理位置での治具パレットの反転装置等の付帯装置が
必要で装置が大型化、複雑化する問題がある。さらに各
真空室を直線的に連結しているため段階的に真空度を上
げ、処理後、段階的に真空度を下げていく構成をとって
いるため、真空室の連結が長くなると同時に真空排気系
の排気ダクト、ポンプも別個に必要となり装置が大型化
、複雑化するという問題点を有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、洗浄等により自動化の大き
な障害となる製品搬送用の治具パレットを使用せず、製
品のみを直接真空室から次の真空室へ移載することによ
る工程の自動化、簡素化。
な障害となる製品搬送用の治具パレットを使用せず、製
品のみを直接真空室から次の真空室へ移載することによ
る工程の自動化、簡素化。
小型化を狙った真空処理装置を提供するものである0
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明の真空処理装置は段
階状の真空度をもつ連結された真空室と、−真空室おき
に設けられ処理室への行き、戻りそれぞれ別駆動をもっ
た一対の製品移載装置と、間欠円板上に一定間隔で設け
られた製品受け治具に受けて処理を施す処理室における
製品移動装置という構成を備えたものである。
階状の真空度をもつ連結された真空室と、−真空室おき
に設けられ処理室への行き、戻りそれぞれ別駆動をもっ
た一対の製品移載装置と、間欠円板上に一定間隔で設け
られた製品受け治具に受けて処理を施す処理室における
製品移動装置という構成を備えたものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、製品を搬送する治具パ
レットを使用せず製品しか送りのため治具パレット等に
処理剤が付着することによる品質の低下、自動化への阻
害要因が取り除かれた。また処理室への行き、戻りのた
めの真空室が共通になるため真空室の構成が簡単で小型
化でき、さらに製品が真空処理装置の中をU字型の搬送
経路をたどることができ全体工程の編成上、簡叫で効果
的である。
レットを使用せず製品しか送りのため治具パレット等に
処理剤が付着することによる品質の低下、自動化への阻
害要因が取り除かれた。また処理室への行き、戻りのた
めの真空室が共通になるため真空室の構成が簡単で小型
化でき、さらに製品が真空処理装置の中をU字型の搬送
経路をたどることができ全体工程の編成上、簡叫で効果
的である。
実施例
以下本発明の実施例の真空処理装置について、図面を参
照しながら説明する。第1図は本発明の実施例における
真空処理装置の平面図を示すものであり、第2図は同じ
く正面図を示すものである。
照しながら説明する。第1図は本発明の実施例における
真空処理装置の平面図を示すものであり、第2図は同じ
く正面図を示すものである。
第1図、第2図において、19,20,21.22はそ
れぞれ段階的に真空度が維持される真空室、23.24
,25.26は前記各真空室間及び、外気との仕切シ可
能なゲートバルブ、27.2B。
れぞれ段階的に真空度が維持される真空室、23.24
,25.26は前記各真空室間及び、外気との仕切シ可
能なゲートバルブ、27.2B。
29.30はそれぞれ前記ゲートバルブ23,24゜2
5.26に開閉駆動を与えるエアーシリンダー、27は
処理を施される製品、28,29,30゜31はそれぞ
れ一真空室おきに設けられ、隣接する前後の真空室まで
移動可能な移載アーム、32゜33.34.35はそれ
ぞれ前記移載アームの先端に取付けられ製品を保持する
製品保持部、36゜37.38.39はそれぞれ真空室
の外側にあって各移載アームに駆動を与えるモーター駆
動部、40.41.42,43はそれぞれ前記各モータ
ー駆動部から各移載アームに駆動を伝達する歯車5
伝動部である。44.45は前記移載アームが取
付けられた真空室の中間にある真空室にあって製品を製
品保持部から受け取る製品持上げ部、46゜47はそれ
ぞれ、前記製品持上げ部に昇降動作を与えるエアーシリ
ンダー、48は周囲に一定間隔を保って取付けられた4
個の製品受け49を有する間欠回転円板、50は真空室
の外部にあって前記間欠回転円板に駆動を与えるモータ
ー、61は前記モーター6oから間欠回転円板に駆動を
伝達し支持する伝動部、5.2は前記製品受けの上方よ
り下降して製品を回転させる製品回転部、63は前記回
転される製品の下方に設けられ製品に処理を施す処理機
器、54は前記処理機器から発せられる処理剤が周辺に
飛散することを防ぐ規制板、66は製品移動装置である
。
5.26に開閉駆動を与えるエアーシリンダー、27は
処理を施される製品、28,29,30゜31はそれぞ
れ一真空室おきに設けられ、隣接する前後の真空室まで
移動可能な移載アーム、32゜33.34.35はそれ
ぞれ前記移載アームの先端に取付けられ製品を保持する
製品保持部、36゜37.38.39はそれぞれ真空室
の外側にあって各移載アームに駆動を与えるモーター駆
動部、40.41.42,43はそれぞれ前記各モータ
ー駆動部から各移載アームに駆動を伝達する歯車5
伝動部である。44.45は前記移載アームが取
付けられた真空室の中間にある真空室にあって製品を製
品保持部から受け取る製品持上げ部、46゜47はそれ
ぞれ、前記製品持上げ部に昇降動作を与えるエアーシリ
ンダー、48は周囲に一定間隔を保って取付けられた4
個の製品受け49を有する間欠回転円板、50は真空室
の外部にあって前記間欠回転円板に駆動を与えるモータ
ー、61は前記モーター6oから間欠回転円板に駆動を
伝達し支持する伝動部、5.2は前記製品受けの上方よ
り下降して製品を回転させる製品回転部、63は前記回
転される製品の下方に設けられ製品に処理を施す処理機
器、54は前記処理機器から発せられる処理剤が周辺に
飛散することを防ぐ規制板、66は製品移動装置である
。
以上のように構成された真空処理装置について、以下第
1図、第2図を用いてその動作を説明する。
1図、第2図を用いてその動作を説明する。
外部の移載装置(図示せず)から製品が、ゲートバルブ
23が開いて外部へ移動してきた製品保持部32に受け
取られ、次にモーター駆動部36により、歯車伝動部4
oを介して移動アーム28が揺動して製品を真空室18
内に入れて停止し、ゲートバルブ23は閉じる。続いて
真空室19内の真空度が大気から、隣接する真空室2o
の真空度まで上げられた後、ゲートバルブ24が開き、
前記移載アーム28及び製品保持部32がモーター駆動
部36の駆動で真空室2o内に移動し、真空室20内に
ある製品持上げ部44が上昇して製品を製品保持部32
から受け取った後、移載アーム28及び製品保持部32
は元の真空室に戻り、ゲートバルブ24は閉じる。次に
真空室20の真空度が隣接する真空室21の真空度まで
上げられた後、ゲートバルブ26は開いて、真空室21
内にある移載アーム29及び製品保持部33が移動して
真空室20内に移動し、前記製品持上げ部が下降するこ
とにより製品が製品保持部に受け取られて前記移載アー
ム29及び製品保持部が元の真空室21に戻ってゲート
バルブ25は閉じる。次に真空室21の真空度が真空室
22の真空度まで上げられた後、ゲートバルブ26が開
き真空室21内にあった移載アーム29及び製品保持部
33が移動して真空室22内に入り間欠回転円板48上
に取付けられた製品受け49上に受け渡され、移載アー
ム29及び製品保持部33は元の真空室21に戻り、ゲ
ートバルブ26は閉じる。次に前記間欠回転円板48が
1/4回転して製品27を処理機器63の上方に移動し
、処理が開始される。
23が開いて外部へ移動してきた製品保持部32に受け
取られ、次にモーター駆動部36により、歯車伝動部4
oを介して移動アーム28が揺動して製品を真空室18
内に入れて停止し、ゲートバルブ23は閉じる。続いて
真空室19内の真空度が大気から、隣接する真空室2o
の真空度まで上げられた後、ゲートバルブ24が開き、
前記移載アーム28及び製品保持部32がモーター駆動
部36の駆動で真空室2o内に移動し、真空室20内に
ある製品持上げ部44が上昇して製品を製品保持部32
から受け取った後、移載アーム28及び製品保持部32
は元の真空室に戻り、ゲートバルブ24は閉じる。次に
真空室20の真空度が隣接する真空室21の真空度まで
上げられた後、ゲートバルブ26は開いて、真空室21
内にある移載アーム29及び製品保持部33が移動して
真空室20内に移動し、前記製品持上げ部が下降するこ
とにより製品が製品保持部に受け取られて前記移載アー
ム29及び製品保持部が元の真空室21に戻ってゲート
バルブ25は閉じる。次に真空室21の真空度が真空室
22の真空度まで上げられた後、ゲートバルブ26が開
き真空室21内にあった移載アーム29及び製品保持部
33が移動して真空室22内に入り間欠回転円板48上
に取付けられた製品受け49上に受け渡され、移載アー
ム29及び製品保持部33は元の真空室21に戻り、ゲ
ートバルブ26は閉じる。次に前記間欠回転円板48が
1/4回転して製品27を処理機器63の上方に移動し
、処理が開始される。
処理が終了後、間欠回転円板48がさらに1/4回転し
てゲートバルブ26が開き、真空室21内にある移載ア
ーム31及び製品保持部36が真空室22内に移動して
、製品受け49から製品を受け取った後、元の真空室2
1に移動してゲートバルブ26が閉じる。これ以降は前
記の処理の真空室22に行きと、全く逆の動作をくり返
して、処理が施された製品が真空処理装置の外に移載ア
ーム3o及び製品保持部34によって取出される。
てゲートバルブ26が開き、真空室21内にある移載ア
ーム31及び製品保持部36が真空室22内に移動して
、製品受け49から製品を受け取った後、元の真空室2
1に移動してゲートバルブ26が閉じる。これ以降は前
記の処理の真空室22に行きと、全く逆の動作をくり返
して、処理が施された製品が真空処理装置の外に移載ア
ーム3o及び製品保持部34によって取出される。
以上のように本実施例によれば、連結され、段階状の真
空度をもつ複数の真空室の一室おきに隣接する真空室ま
で移動可能な一対の移載アームと製品保持部を設は移載
アームを設けない中間の真空室には製品保持部から製品
を受けとる製品持上げ部を設けることにより、製品の搬
送に治具を使わず直接製品を移載でき、しかも処理の真
空室へ行きの移載と戻りの移載を一対の移載アームで行
うことができ、製品の搬送経路が平面から見てU字形に
することができ、真空処理装置全体が小形、簡素化でき
全体工程の編成上有効である。
空度をもつ複数の真空室の一室おきに隣接する真空室ま
で移動可能な一対の移載アームと製品保持部を設は移載
アームを設けない中間の真空室には製品保持部から製品
を受けとる製品持上げ部を設けることにより、製品の搬
送に治具を使わず直接製品を移載でき、しかも処理の真
空室へ行きの移載と戻りの移載を一対の移載アームで行
うことができ、製品の搬送経路が平面から見てU字形に
することができ、真空処理装置全体が小形、簡素化でき
全体工程の編成上有効である。
また製品しか送りのため処理後の治具バレット等の洗浄
が不要で自動化に対して大きな効果を発揮する。
が不要で自動化に対して大きな効果を発揮する。
発明の効果
以上のように本発明は複数の連結された真空室と、隣接
する真空室まで移動可能な一対の移載アームと製品保持
部と、中間の真空室には製品持上げ部と、間欠回転円板
上に一定ピッチで製品取付は治具をもった処理室の製品
移動装置を設けることにより、処理に関する作業の自動
化、真空処理装置の小形簡素化をはかることができさら
に真空処理装置への製品の投入と堆出し位置が接近でき
るため、全体工程の編成上有効である。
する真空室まで移動可能な一対の移載アームと製品保持
部と、中間の真空室には製品持上げ部と、間欠回転円板
上に一定ピッチで製品取付は治具をもった処理室の製品
移動装置を設けることにより、処理に関する作業の自動
化、真空処理装置の小形簡素化をはかることができさら
に真空処理装置への製品の投入と堆出し位置が接近でき
るため、全体工程の編成上有効である。
第1図は本発明の実施例における真空処理装置の平面断
面図、第2図は第1図の正面断面図、第3図は従来の真
空処理装置の平面断面図、第4図は第3図の正面断面図
である。 19.20,21.22・・・・・・真空室、23゜2
4.25.26・・・・・・ゲートバルブ、28,29
゜30.31・・・・・・移載アーム、32,33,3
4゜35・・・・・製品保持部、44.45・・・・・
・製品持上げ部、48・−・・・・間欠回転円板、49
・・・・・・治具、56・・・・・・製品移動装置。
面図、第2図は第1図の正面断面図、第3図は従来の真
空処理装置の平面断面図、第4図は第3図の正面断面図
である。 19.20,21.22・・・・・・真空室、23゜2
4.25.26・・・・・・ゲートバルブ、28,29
゜30.31・・・・・・移載アーム、32,33,3
4゜35・・・・・製品保持部、44.45・・・・・
・製品持上げ部、48・−・・・・間欠回転円板、49
・・・・・・治具、56・・・・・・製品移動装置。
Claims (1)
- 各々中間にゲートバルブを介して連結され、段階状の真
空度をもつ複数の真空室と、前記真空室の一室おきの上
面プレート中央に取付けられ、前後に隣接する真空室ま
で製品保持部が移動可能で、処理室への行き側、戻り側
それぞれ別駆動をもった一対の移載アーム及び製品保持
部と、中間の真空室にあって製品を移動してきた製品保
持部から受け取るため昇降する製品持上げ部と、処理す
る真空室にあって、移動してきた製品保持部から製品を
間欠回転する円板上に取付けられた複数の製品取付け治
具上に受けて処理を施す製品移動装置とを備えたことを
特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24283984A JPS61120628A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24283984A JPS61120628A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61120628A true JPS61120628A (ja) | 1986-06-07 |
JPH0530494B2 JPH0530494B2 (ja) | 1993-05-10 |
Family
ID=17095057
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24283984A Granted JPS61120628A (ja) | 1984-11-16 | 1984-11-16 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61120628A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62126248U (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-11 |
-
1984
- 1984-11-16 JP JP24283984A patent/JPS61120628A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62126248U (ja) * | 1986-01-31 | 1987-08-11 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0530494B2 (ja) | 1993-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS60115216A (ja) | 真空処理方法及び装置 | |
US5857826A (en) | Work transporting robot and semiconductor device manufacturing apparatus | |
TWI708728B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
US6245156B1 (en) | Substrate transport method and apparatus, and substrate processing system | |
US5611858A (en) | Apparatus for transporting discoidal substrates in a vacuum coating apparatus | |
US10896835B2 (en) | Processing system | |
JPS61120628A (ja) | 真空処理装置 | |
KR20070056416A (ko) | 기판 이송 장치 및 방법 | |
JPH0669315A (ja) | 基板搬送装置 | |
JPH02140948A (ja) | 真空処理装置 | |
JP3950745B2 (ja) | クリーン組立モジュール装置およびこれにより構成した生産システム | |
JPS62164875A (ja) | 連続成膜装置 | |
JP3421358B2 (ja) | 搬送方法 | |
JPH0614472Y2 (ja) | 処理システム | |
JP3033008B2 (ja) | 処理方法及び処理装置 | |
JPH05283504A (ja) | 半導体搬送装置のゲートバルブ開閉装置 | |
JPS6127759A (ja) | 移載装置 | |
JP2708695B2 (ja) | 真空用ゲートバルブの防塵方法及び真空用ゲートバルブ | |
JP2540406B2 (ja) | 処理装置 | |
JPH11135595A (ja) | 基板受渡し装置 | |
JPH0610685Y2 (ja) | ウエハ移し換え装置 | |
JPH0982613A (ja) | 基板処理装置 | |
JP3283789B2 (ja) | 処理装置 | |
JPS60160139A (ja) | 移送方法 | |
JPH10335219A (ja) | 処理装置 |