JPS62158706A - 光学用樹脂組成物の製造法 - Google Patents
光学用樹脂組成物の製造法Info
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- JPS62158706A JPS62158706A JP29726685A JP29726685A JPS62158706A JP S62158706 A JPS62158706 A JP S62158706A JP 29726685 A JP29726685 A JP 29726685A JP 29726685 A JP29726685 A JP 29726685A JP S62158706 A JPS62158706 A JP S62158706A
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- compound
- methacrylate
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光学レンズ、情報伝送体、情報記録媒体等の
光学素子の成形に好適な光学用樹脂組成物に関する。
光学素子の成形に好適な光学用樹脂組成物に関する。
(従来の技術)
近年、プラスチック光学素子が、その軽量性、量産性の
故に普及しつつあるが、特に、射出成形、圧縮成形等の
成形技術の進歩を基礎として、カメラ、複写機、レーザ
ー光学機器等のための光学レンズ、レーザー光を利用し
た情報記録媒体用のディスク盤、光ファイバー、コネク
タ等の情報伝送体、光導波回路等への応用が広がりつつ
ある。
故に普及しつつあるが、特に、射出成形、圧縮成形等の
成形技術の進歩を基礎として、カメラ、複写機、レーザ
ー光学機器等のための光学レンズ、レーザー光を利用し
た情報記録媒体用のディスク盤、光ファイバー、コネク
タ等の情報伝送体、光導波回路等への応用が広がりつつ
ある。
このような光学素子用の樹脂としては、ポリスチレン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート
樹脂、ポリシクロヘキシルメタクリレート樹脂(特開昭
58−125742号公報)シクロへキシルメタクリレ
ートとメチルメタクリレート、スチレン又は他のモノマ
ーとの共重合体(特開昭58−162614号公報、特
開昭58−5318号公報、特開昭58−113214
号公報)等が知られている。
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート
樹脂、ポリシクロヘキシルメタクリレート樹脂(特開昭
58−125742号公報)シクロへキシルメタクリレ
ートとメチルメタクリレート、スチレン又は他のモノマ
ーとの共重合体(特開昭58−162614号公報、特
開昭58−5318号公報、特開昭58−113214
号公報)等が知られている。
しかし、これらの樹脂は、光学的分散性、吸湿性及び耐
熱性のうち、いずれかの点において、大きな欠点を有す
るものであった。
熱性のうち、いずれかの点において、大きな欠点を有す
るものであった。
例えば、光学レンズにおいては、高屈折率でかつ低分散
な光学的物性、吸湿変形による面精度のくろいが低いこ
と(換言すれば、低吸湿性であること)、耐熱性及び精
密成形性が特に要求されるが、ポリスチレン樹脂、ポリ
カーボネート樹脂などは、分散が大きい(光学的分散:
アツベ数が30〜31)ため、色収差の発生が大きいと
いう問題点があり、ポリメチルメタクリレート樹脂は吸
湿性が大きく、吸湿変形による面積度のくるいが大きい
という問題点がある。
な光学的物性、吸湿変形による面精度のくろいが低いこ
と(換言すれば、低吸湿性であること)、耐熱性及び精
密成形性が特に要求されるが、ポリスチレン樹脂、ポリ
カーボネート樹脂などは、分散が大きい(光学的分散:
アツベ数が30〜31)ため、色収差の発生が大きいと
いう問題点があり、ポリメチルメタクリレート樹脂は吸
湿性が大きく、吸湿変形による面積度のくるいが大きい
という問題点がある。
また、レーザー光を利用して情報の読出しく場、合によ
り書込み)を行うビデオディスク、オーディオディスク
、記録再生ディスク、記録再生消去ディスク等の情報記
録媒体においては、低複屈折性、低吸湿性及び耐熱性が
特に要求されるが、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂等は、複屈折性が大きいため、再生時のエラーが
多くなるという問題があり、ポリメチルメタクリレート
樹脂では、吸湿変形によりディスク盤の面精度にくるい
が生じ、やはり、再生時にエラーが生じるという問題が
あった。
り書込み)を行うビデオディスク、オーディオディスク
、記録再生ディスク、記録再生消去ディスク等の情報記
録媒体においては、低複屈折性、低吸湿性及び耐熱性が
特に要求されるが、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂等は、複屈折性が大きいため、再生時のエラーが
多くなるという問題があり、ポリメチルメタクリレート
樹脂では、吸湿変形によりディスク盤の面精度にくるい
が生じ、やはり、再生時にエラーが生じるという問題が
あった。
しかし、上記の樹脂のうちでも、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂は、吸湿変形しやすいという欠点を除けば、優
れた光学特性を有しており、この点で最も優れた樹脂と
言える。
ート樹脂は、吸湿変形しやすいという欠点を除けば、優
れた光学特性を有しており、この点で最も優れた樹脂と
言える。
そこで、最近では、ポリメチルメタクリレート樹脂と同
等の光学特性を有しつつ、吸湿性の改善された樹脂の開
発が種々検討されている。
等の光学特性を有しつつ、吸湿性の改善された樹脂の開
発が種々検討されている。
(発明が解決しようとする問題点)
本発明者は、光学的な低分散性及び低吸湿性である樹脂
材料を開発するため、種々検討し、まず、エステルのア
ルコール成分部分によりリジッドな構造を有する脂環式
炭化水素基を有するメタクリレートの(共)重合体がそ
れらの条件を満足することを見い出し、光学素子成形材
料としての応用を検討した。
材料を開発するため、種々検討し、まず、エステルのア
ルコール成分部分によりリジッドな構造を有する脂環式
炭化水素基を有するメタクリレートの(共)重合体がそ
れらの条件を満足することを見い出し、光学素子成形材
料としての応用を検討した。
しかし、これらの脂環式炭化水素基を有するメタクリレ
ートの(共)重合体は、射出成形、圧縮成形等の高温溶
融加工時の微妙な熱酸化により、近紫外部に吸収を有す
る微量物質の生成による着色を生じ、得られる光学用成
形品の光線透過率を著しく低下させるという問題があっ
た。そこで更に研究の結果、この着色は、よりリジッド
で、多くの三級炭素を含む脂環式炭化水素基を有するポ
リメタクリレートはど大きいことが判った。しかし、反
面、ポリメタクリレート中の脂環式炭化水素基がよりリ
ジッドな構造である程、耐熱性に優れているという特徴
がある。
ートの(共)重合体は、射出成形、圧縮成形等の高温溶
融加工時の微妙な熱酸化により、近紫外部に吸収を有す
る微量物質の生成による着色を生じ、得られる光学用成
形品の光線透過率を著しく低下させるという問題があっ
た。そこで更に研究の結果、この着色は、よりリジッド
で、多くの三級炭素を含む脂環式炭化水素基を有するポ
リメタクリレートはど大きいことが判った。しかし、反
面、ポリメタクリレート中の脂環式炭化水素基がよりリ
ジッドな構造である程、耐熱性に優れているという特徴
がある。
従って、リジッドな脂環式炭化水素基を有するポリメタ
クリレートを光学用成形材料として使用し、光学的分散
性及び吸湿性が低く、耐熱性に優れた光学素子を得るた
めには、高温溶融加工時の熱酸化による着色を防止する
ことが必要不可欠となる。
クリレートを光学用成形材料として使用し、光学的分散
性及び吸湿性が低く、耐熱性に優れた光学素子を得るた
めには、高温溶融加工時の熱酸化による着色を防止する
ことが必要不可欠となる。
この種の熱酸化を抑制する手段としては、押出機又は混
練機により樹脂中に抗酸化剤を溶融混合する方法が一般
的である。
練機により樹脂中に抗酸化剤を溶融混合する方法が一般
的である。
ところが、エステル部分にリジッドな脂環式炭化水素基
を有するメタクリル酸エステルより成る重合体は、抗酸
化剤を熔融混合する段階で、熱酸化を受けて着色したり
、また、着色に至らないまでも、抗酸化剤の大半が失活
してしまい、次の成形工程で著しい熱酸化着色を呈する
ため、無色透明な光学用成形品が得られないという問題
が生ずる。
を有するメタクリル酸エステルより成る重合体は、抗酸
化剤を熔融混合する段階で、熱酸化を受けて着色したり
、また、着色に至らないまでも、抗酸化剤の大半が失活
してしまい、次の成形工程で著しい熱酸化着色を呈する
ため、無色透明な光学用成形品が得られないという問題
が生ずる。
本発明は、上記問題点を解決し、低吸湿性を有しつつ、
無色透明で、光線透過率においても優れ、原料の選定に
より光学的低分散性及び耐熱性に優れた光学素子の成形
に好適な樹脂材料m古#仕を提供することを目的とする
。
無色透明で、光線透過率においても優れ、原料の選定に
より光学的低分散性及び耐熱性に優れた光学素子の成形
に好適な樹脂材料m古#仕を提供することを目的とする
。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、エステルのアルコール成分部分に炭素原子数
5〜22の脂環式炭化水素基を有するメタクリル酸エス
テル100〜10重量%及びこれと共重合可能な重合性
単量体0〜90重量%を配合してなる単量体を重合させ
て得られる重合体並びに一般式(I): 〔式中、R1、R2、R3、R’、R’及びRGは、各
々独立して炭素原子数1以上のアルキル基である〕で表
される基を有する化合物及び/又は一般式(■): 以下余白 R7 〔式中R’? 、R8、R9、RIO,R11及びR1
2は、各々独立して炭素原子数1以上のアルキル基であ
る〕で表される基を有する化合物を含有してなり、上記
重合体を一般式(1)で表される基を有する化合物及び
/又は一般式(U)で表される基を有する化合物の存在
下に上記単量体を重合させて合成してなる光学用樹脂組
成物に関する。
5〜22の脂環式炭化水素基を有するメタクリル酸エス
テル100〜10重量%及びこれと共重合可能な重合性
単量体0〜90重量%を配合してなる単量体を重合させ
て得られる重合体並びに一般式(I): 〔式中、R1、R2、R3、R’、R’及びRGは、各
々独立して炭素原子数1以上のアルキル基である〕で表
される基を有する化合物及び/又は一般式(■): 以下余白 R7 〔式中R’? 、R8、R9、RIO,R11及びR1
2は、各々独立して炭素原子数1以上のアルキル基であ
る〕で表される基を有する化合物を含有してなり、上記
重合体を一般式(1)で表される基を有する化合物及び
/又は一般式(U)で表される基を有する化合物の存在
下に上記単量体を重合させて合成してなる光学用樹脂組
成物に関する。
エステルのアルコール成分部分に炭素原子数5〜22の
脂環式炭化水素基を有するメタクリル酸エステル(以下
、メタクリル酸脂環式エステルという)としては、メタ
クリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル
、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸ト
リメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ノルボルニル、
メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸イソボ
ルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル
、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸アダマンチル
、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、メタクリル酸ト
リシクロ(5,2,1,02J”)デカ−8−イル、メ
タクリル酸トリシクロ(5,2,1゜02−G)デカ−
3−メチル、メタクリル酸トリシクロ(5,2,1,0
2J=)デカ−4−メチル、メタクリル酸シクロドデシ
ル等がある。これらのうち、本発明に使用する一般式(
1)で表される基を有する化合物及び/又は一般式(n
)で表される基を有する化合物との組合せによる着色防
止効果が大きく、かつ耐熱性を向上させる観点から、ア
ルコール成分部分に三級炭素を3個以上含んだメタクリ
ル酸エステルが好ましい。特に好ましいメタクリル酸エ
ステルとしては、例えばメタクリル酸ノルボルニル、メ
タクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸トリシク
ロ(5,2,1,02j)デカ−8−イル、メタクリル
酸トリシクロ(5,2,1,02’−)デカ−3−メチ
ル、メタクリル酸トリシクロ(5,2゜1.02J=)
デカ−4−メチル等が挙げられる。また、耐熱性の点か
ら、上記エステルの脂環式炭化水素基は、炭素原子数8
以上のものが好ましい。
脂環式炭化水素基を有するメタクリル酸エステル(以下
、メタクリル酸脂環式エステルという)としては、メタ
クリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル
、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸ト
リメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ノルボルニル、
メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸イソボ
ルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル
、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸アダマンチル
、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、メタクリル酸ト
リシクロ(5,2,1,02J”)デカ−8−イル、メ
タクリル酸トリシクロ(5,2,1゜02−G)デカ−
3−メチル、メタクリル酸トリシクロ(5,2,1,0
2J=)デカ−4−メチル、メタクリル酸シクロドデシ
ル等がある。これらのうち、本発明に使用する一般式(
1)で表される基を有する化合物及び/又は一般式(n
)で表される基を有する化合物との組合せによる着色防
止効果が大きく、かつ耐熱性を向上させる観点から、ア
ルコール成分部分に三級炭素を3個以上含んだメタクリ
ル酸エステルが好ましい。特に好ましいメタクリル酸エ
ステルとしては、例えばメタクリル酸ノルボルニル、メ
タクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸トリシク
ロ(5,2,1,02j)デカ−8−イル、メタクリル
酸トリシクロ(5,2,1,02’−)デカ−3−メチ
ル、メタクリル酸トリシクロ(5,2゜1.02J=)
デカ−4−メチル等が挙げられる。また、耐熱性の点か
ら、上記エステルの脂環式炭化水素基は、炭素原子数8
以上のものが好ましい。
また、本発明に使用する重合体において、メタクリル酸
脂環式エステルの使用量は、該重合体の原料単量体に対
して100〜10重量%であり、10重量%未満では、
成形体の低吸湿性及び耐熱性が充分ではない。耐熱性の
点からは、20重量%以上がより好ましい。
脂環式エステルの使用量は、該重合体の原料単量体に対
して100〜10重量%であり、10重量%未満では、
成形体の低吸湿性及び耐熱性が充分ではない。耐熱性の
点からは、20重量%以上がより好ましい。
上記のメタクリル酸エステルと共重合可能な他の重合性
単量体としては、不飽和脂肪酸エステル、芳香族ビニル
化合物、シアン化ビニル化合物、不飽和二塩基酸又はそ
の誘導体、不飽和脂肪酸又はその誘導体等があり、これ
らのうち一種又は二種以上が使用される。
単量体としては、不飽和脂肪酸エステル、芳香族ビニル
化合物、シアン化ビニル化合物、不飽和二塩基酸又はそ
の誘導体、不飽和脂肪酸又はその誘導体等があり、これ
らのうち一種又は二種以上が使用される。
不飽和脂肪酸エステルとしては、アクリル酸メチル、ア
クリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エ
チルヘキシル等のアクリル酸アルキルエステル、アクリ
ル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル
、アクリル酸ボルニル、アクリル酸イソボルニル、アク
リル酸アダマンチル等のアクリル酸シクロアルキルエス
テル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アク
リル酸ナフチル等のアクリル酸芳香族エステル、アクリ
ル酸フルオロフェニル、アクリル酸クロロフェニル、ア
クリル酸ブロモフェニル、アクリル酸フルオロベンジル
、アクリル酸クロロベンジル、アクリル酸ブロモベンジ
ル等のアクリル酸置換芳香族エステル、アクリル酸フル
オロメチル、アクリル酸フルオロエチル、アクリル酸ク
ロロエチル、アクリル酸ブロモエチル等のアクリル酸ハ
ロゲン化アルキルエステル、アクリル酸ヒドロキシアル
キルエステル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸エチ
レングリコールエステル、アクリル酸ポリエチレングリ
コールエステル、アクリル酸アルキルアミノアルキルエ
ステル、アクリル酸シアノアルキルエステル等のアクリ
ル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキ
シル等のメタクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸
フエニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ナフチ
ル等のメタクリル酸芳香族エステル、メタクリル酸フル
オロフェニル、メタクリル酸クロロフェニル、メタクリ
ル酸ブロモフェニル、メタクリル酸フルオロベンジル、
メタクリル酸クロロベンジル、メタクリル酸ブロモベン
ジル等のメタクリル酸置換芳香族エステル、メタクリル
酸フルオロメチル、メタクリル酸フルオロエチル、メタ
クリル酸クロロエチル、メタクリル酸ブロモエチル等の
メタクリル酸ハロゲン化アルキルエステル、メタクリル
酸ヒドロキシアルキルエステル、メタクリル酸グリシジ
ル、メタクリル酸エチレングリコールエステル、メタク
リル酸ポリエチレングリコールエステル、メタクリル酸
アルキルアミノアルキルエステル、メタクリル酸シアノ
アルキルエステル等のメタクリル酸エステル、α−フル
オロアクリル酸エステル、α−クロロアクリル酸エステ
ル、α−シアノアクリル酸エステル等のα−置換アクリ
ル酸エステル等がある。
クリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エ
チルヘキシル等のアクリル酸アルキルエステル、アクリ
ル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル
、アクリル酸ボルニル、アクリル酸イソボルニル、アク
リル酸アダマンチル等のアクリル酸シクロアルキルエス
テル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アク
リル酸ナフチル等のアクリル酸芳香族エステル、アクリ
ル酸フルオロフェニル、アクリル酸クロロフェニル、ア
クリル酸ブロモフェニル、アクリル酸フルオロベンジル
、アクリル酸クロロベンジル、アクリル酸ブロモベンジ
ル等のアクリル酸置換芳香族エステル、アクリル酸フル
オロメチル、アクリル酸フルオロエチル、アクリル酸ク
ロロエチル、アクリル酸ブロモエチル等のアクリル酸ハ
ロゲン化アルキルエステル、アクリル酸ヒドロキシアル
キルエステル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸エチ
レングリコールエステル、アクリル酸ポリエチレングリ
コールエステル、アクリル酸アルキルアミノアルキルエ
ステル、アクリル酸シアノアルキルエステル等のアクリ
ル酸エステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチ
ル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキ
シル等のメタクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸
フエニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸ナフチ
ル等のメタクリル酸芳香族エステル、メタクリル酸フル
オロフェニル、メタクリル酸クロロフェニル、メタクリ
ル酸ブロモフェニル、メタクリル酸フルオロベンジル、
メタクリル酸クロロベンジル、メタクリル酸ブロモベン
ジル等のメタクリル酸置換芳香族エステル、メタクリル
酸フルオロメチル、メタクリル酸フルオロエチル、メタ
クリル酸クロロエチル、メタクリル酸ブロモエチル等の
メタクリル酸ハロゲン化アルキルエステル、メタクリル
酸ヒドロキシアルキルエステル、メタクリル酸グリシジ
ル、メタクリル酸エチレングリコールエステル、メタク
リル酸ポリエチレングリコールエステル、メタクリル酸
アルキルアミノアルキルエステル、メタクリル酸シアノ
アルキルエステル等のメタクリル酸エステル、α−フル
オロアクリル酸エステル、α−クロロアクリル酸エステ
ル、α−シアノアクリル酸エステル等のα−置換アクリ
ル酸エステル等がある。
芳香族ビニル化合物としては、スチレン、α−メチルス
チレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、
α−クロロスチレン等のα−置換スチレン、フルオロス
チレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチ
レン、ブチルスチレン、メトキシスチレン等の核置換ス
チレンがある。
チレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、
α−クロロスチレン等のα−置換スチレン、フルオロス
チレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチ
レン、ブチルスチレン、メトキシスチレン等の核置換ス
チレンがある。
シアン化ビニル化合物としては、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル等がある。
タクリロニトリル等がある。
不飽和二塩基酸及びその誘導体としては、N−メチルマ
レイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイ
ミド、N−ブチルマレイミド、N−シクロへキシルマレ
イミド、N−フェニルマレイミド、N−メチルフェニル
マレイミド、N−クロロフェニルマレイミド、N−メト
キシフェニルマレイミド、N−カルボキシフェニルマレ
イミド等のN−置換マレイミド、マレイン酸、無水マレ
イン酸、フマル酸等がある。
レイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイ
ミド、N−ブチルマレイミド、N−シクロへキシルマレ
イミド、N−フェニルマレイミド、N−メチルフェニル
マレイミド、N−クロロフェニルマレイミド、N−メト
キシフェニルマレイミド、N−カルボキシフェニルマレ
イミド等のN−置換マレイミド、マレイン酸、無水マレ
イン酸、フマル酸等がある。
不飽和脂肪酸及びその誘導体としては、アクリル酸、メ
タクリル酸等の不飽和脂肪酸、アクリルアミド、メタク
リルアミド、N−ジメチルアクリルアミド、N−ジエチ
ルアクリルアミド、N−ジメチルメタクリルアミド、N
−ジエチルメタクリルアミド等の(メタ)アクリルアミ
ド類、アクリル酸カルシウム、メタクリル酸カルシウム
、アクリル酸バリウム、メタクリル酸バリウム、アクリ
ル酸鉛、メタクリル酸鉛、アクリル酸鉛、メタクリル酸
鉛、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛等のアクリル酸
又はメタクリル酸の金属塩等が挙げられる。
タクリル酸等の不飽和脂肪酸、アクリルアミド、メタク
リルアミド、N−ジメチルアクリルアミド、N−ジエチ
ルアクリルアミド、N−ジメチルメタクリルアミド、N
−ジエチルメタクリルアミド等の(メタ)アクリルアミ
ド類、アクリル酸カルシウム、メタクリル酸カルシウム
、アクリル酸バリウム、メタクリル酸バリウム、アクリ
ル酸鉛、メタクリル酸鉛、アクリル酸鉛、メタクリル酸
鉛、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸亜鉛等のアクリル酸
又はメタクリル酸の金属塩等が挙げられる。
これらの共重合可能な他の単量体のうち、N−置換マレ
イミドの使用は、耐熱性を向上させるために好ましい。
イミドの使用は、耐熱性を向上させるために好ましい。
一般式(1)で表される基を有する化合物としては、よ
り具体的には、一般式(■):〔式中、R1、R2、R
3、R4、R5及びR6は、一般式(I)の場合と同じ
であり、nはXへの結合数で、1〜4の整数であり、X
は炭素原子数1〜20のn価の脂肪族炭化水素基を示す
〕で表される化合物が好ましく、更に具体的には、■。
り具体的には、一般式(■):〔式中、R1、R2、R
3、R4、R5及びR6は、一般式(I)の場合と同じ
であり、nはXへの結合数で、1〜4の整数であり、X
は炭素原子数1〜20のn価の脂肪族炭化水素基を示す
〕で表される化合物が好ましく、更に具体的には、■。
3、 5−)リス(3,5−ジーL−ブチルー4−ヒド
ロキシベンジル)−S−!−リアジンー2.4゜6−
(IH,3H,5H)−)リオン、オクタデシル−3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
−プロピオネート、テトラキス〔メチレン(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)〕
メタン、1.6−ヘキサンシオールービス(3−(3,
5−ジ−t−フチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート)、N、N’−へキサメチレンビス(3,5−
ジーt−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド
)、3.5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジ
ルホスホネート−ジエチルエステル、1,3.5−トリ
メチル−2,4,6−トリス(3,5−ジーL−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ペンタエリスリ
チル−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕等がある。こ
れらのうち、特に本発明に使用する重合体に対する熱酸
化着色防止効果の点から好ましい例としては、オクタデ
シル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−プロピオネート、テトラキス〔メチレン(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナ
メート)〕メタン、1.6−ヘキサンシオールービス(
3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート〕、ペンタエリスリチル−テトラキ
ス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオネート〕が挙げられる。
ロキシベンジル)−S−!−リアジンー2.4゜6−
(IH,3H,5H)−)リオン、オクタデシル−3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
−プロピオネート、テトラキス〔メチレン(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)〕
メタン、1.6−ヘキサンシオールービス(3−(3,
5−ジ−t−フチルー4−ヒドロキシフェニル)プロピ
オネート)、N、N’−へキサメチレンビス(3,5−
ジーt−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド
)、3.5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジ
ルホスホネート−ジエチルエステル、1,3.5−トリ
メチル−2,4,6−トリス(3,5−ジーL−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ペンタエリスリ
チル−テトラキス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロピオネート〕等がある。こ
れらのうち、特に本発明に使用する重合体に対する熱酸
化着色防止効果の点から好ましい例としては、オクタデ
シル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)−プロピオネート、テトラキス〔メチレン(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナ
メート)〕メタン、1.6−ヘキサンシオールービス(
3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート〕、ペンタエリスリチル−テトラキ
ス(3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフ
ェニル)プロピオネート〕が挙げられる。
一般に、フェノール系化合物はラジカル捕捉作用を有す
るため、単量体のラジカル重合時にフェノール系化合物
を反応系内に含有させると、重合禁止効果等の副作用が
生じ、適当でないとされている。しかし、本発明におけ
る単量体のラジカル重合において、一般式(1)で表さ
れる基を有する化合物を反応系内に含有させておいても
、重合に対する副作用はほとんどない。この理由は、フ
ェノール基部分が水酸基に対して〇−位とo l−位の
第三級アルキル基により充分保護されていること等が考
えられる。
るため、単量体のラジカル重合時にフェノール系化合物
を反応系内に含有させると、重合禁止効果等の副作用が
生じ、適当でないとされている。しかし、本発明におけ
る単量体のラジカル重合において、一般式(1)で表さ
れる基を有する化合物を反応系内に含有させておいても
、重合に対する副作用はほとんどない。この理由は、フ
ェノール基部分が水酸基に対して〇−位とo l−位の
第三級アルキル基により充分保護されていること等が考
えられる。
一般式(II)で表される基を有する化合物としては、
より具体的には、一般式(■):〔式中R7、Re 、
R9% RIOSR1+及び R12は、一般式(n)
の場合と同様であり、mは基Yへの結合数で、1〜4の
整数でありYは炭素原子数1〜4のm価の脂肪族炭化水
素基である〕で表される化合物が好ましく、更に具体的
には、4゜41−メチレン−ビス(3−メチル−6−t
−ブチルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファイト、4
.41−イソプロピリデン−ビス(3−メチル−6−t
−ブチルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファイト、4
.4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファイト、4.4′
−ブチリデン−ビス(3−メチル−5−t−ブチルフェ
ニル−ジオクチル)ホスファイト、l、1.3−)リス
(2−メチル−4−ジトリデシルホスファイト−5−t
−7’チルフエニル)ブタン、1.l、3−)リス(2
−メチル−4−ジオクチルホスファイト−5−L−ブチ
ルフェニル)ブタン、テトラキス(2゜4−ジ−t−ブ
チルフェニル)−4,4’−ビフェニレンホスホナイト
、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファ
イト等がある。これらのうち、特に本発明に使用する重
合体に対する熱酸化着色防止効果の点から好ましい例と
しては、4.4°−ブチリデン−ビス(3−メチル−6
−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)−ホスファイト
、1,1.3−トリス(2−メチル−4−ジトリデシル
ホスファイト−5−t−ブチルフェニル)ブタンが挙げ
られる。
より具体的には、一般式(■):〔式中R7、Re 、
R9% RIOSR1+及び R12は、一般式(n)
の場合と同様であり、mは基Yへの結合数で、1〜4の
整数でありYは炭素原子数1〜4のm価の脂肪族炭化水
素基である〕で表される化合物が好ましく、更に具体的
には、4゜41−メチレン−ビス(3−メチル−6−t
−ブチルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファイト、4
.41−イソプロピリデン−ビス(3−メチル−6−t
−ブチルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファイト、4
.4’−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−t−ブチ
ルフェニル−ジ−トリデシル)ホスファイト、4.4′
−ブチリデン−ビス(3−メチル−5−t−ブチルフェ
ニル−ジオクチル)ホスファイト、l、1.3−)リス
(2−メチル−4−ジトリデシルホスファイト−5−t
−7’チルフエニル)ブタン、1.l、3−)リス(2
−メチル−4−ジオクチルホスファイト−5−L−ブチ
ルフェニル)ブタン、テトラキス(2゜4−ジ−t−ブ
チルフェニル)−4,4’−ビフェニレンホスホナイト
、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファ
イト等がある。これらのうち、特に本発明に使用する重
合体に対する熱酸化着色防止効果の点から好ましい例と
しては、4.4°−ブチリデン−ビス(3−メチル−6
−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)−ホスファイト
、1,1.3−トリス(2−メチル−4−ジトリデシル
ホスファイト−5−t−ブチルフェニル)ブタンが挙げ
られる。
一般式(1)で表される基を有する化合物及び一般式(
n)で表される基を有する化合物は、それぞれ、単独で
用いても十分効果があるが、これらを併用すると優れた
相乗効果を示す。
n)で表される基を有する化合物は、それぞれ、単独で
用いても十分効果があるが、これらを併用すると優れた
相乗効果を示す。
一般式(1)で表される基を有する化合物及び一般式(
II)で表される基を有する化合物(以下、これらを、
[本発明の熱酸化防止化合物」という)は、総量で、前
記メタクリル酸脂環式エステルの重合体又はこのエステ
ルと他の共重合可能な重合性単量体の共重合体に対して
0.01〜2重量%使用するのが好ましい。本発明の熱
酸化防止化合物が少なすぎると、熱酸化防止効果が小さ
く、おおきぎても熱酸化防止効果の向上はな(、経済的
に得策でない。
II)で表される基を有する化合物(以下、これらを、
[本発明の熱酸化防止化合物」という)は、総量で、前
記メタクリル酸脂環式エステルの重合体又はこのエステ
ルと他の共重合可能な重合性単量体の共重合体に対して
0.01〜2重量%使用するのが好ましい。本発明の熱
酸化防止化合物が少なすぎると、熱酸化防止効果が小さ
く、おおきぎても熱酸化防止効果の向上はな(、経済的
に得策でない。
前記メタクリル酸脂環式エステル又は該エステルと他の
共重合可能な重合性単量体は、本発明の熱酸化防止化合
物の存在下に重合させられる。本発明の熱酸化防止化合
物を重合系に存在させる方法としては、m台面の単量体
中に本発明の熱酸化防止化合物を溶解しておく方法、一
部の単量体中に該化合物を熔解した単量体溶液を重合途
中で追加する方法、該化合物を溶剤に溶解して重合途中
に添加し、重合系内に存在させる方法等が挙げられるが
、基本的には、重合完結前までに該重合系内に存在させ
ることができれば、任意の方法でよい。しかし、特に作
業性及び均質微細に含有させる観点からは、重合前に単
量体中に該化合物を溶解含有させる方法が好ましい。
共重合可能な重合性単量体は、本発明の熱酸化防止化合
物の存在下に重合させられる。本発明の熱酸化防止化合
物を重合系に存在させる方法としては、m台面の単量体
中に本発明の熱酸化防止化合物を溶解しておく方法、一
部の単量体中に該化合物を熔解した単量体溶液を重合途
中で追加する方法、該化合物を溶剤に溶解して重合途中
に添加し、重合系内に存在させる方法等が挙げられるが
、基本的には、重合完結前までに該重合系内に存在させ
ることができれば、任意の方法でよい。しかし、特に作
業性及び均質微細に含有させる観点からは、重合前に単
量体中に該化合物を溶解含有させる方法が好ましい。
本発明に用いられる重合方法としては、塊状重合、懸濁
重合、乳化重合、溶液重合等の公知の方法を適用できる
が、特に樹脂中の不純物の混入等を考慮する必要のある
光学素子用のためには、塊状重合又は懸濁重合法が好ま
しい。
重合、乳化重合、溶液重合等の公知の方法を適用できる
が、特に樹脂中の不純物の混入等を考慮する必要のある
光学素子用のためには、塊状重合又は懸濁重合法が好ま
しい。
重合開始剤としては、例えば過酸化ベンゾイル、過酸化
ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシへキサヒドロテ
レフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノエート、l、1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,
3,5−1−リメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物
、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4−メトキ
シ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロ
へキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等
のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムに
代表される水溶性触媒及び過酸化物或いは過硫酸塩と還
元剤の組合せによるレドックス触媒等、通常のラジカル
重合に使用できるものはいずれも使用できる。重合触媒
は、モノマーの総量に対して0.01〜10重量%の範
囲で使用されるのが好ましい。重合調節剤として、メル
カプタン系化合物、チオグリコール、四臭化炭素、α−
メチルスチレンダイマー等を分子量調節のために必要に
応じて添加することができる。
ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシへキサヒドロテ
レフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキ
サノエート、l、1−ジ−t−ブチルパーオキシ−3,
3,5−1−リメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物
、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4−メトキ
シ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロ
へキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等
のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムに
代表される水溶性触媒及び過酸化物或いは過硫酸塩と還
元剤の組合せによるレドックス触媒等、通常のラジカル
重合に使用できるものはいずれも使用できる。重合触媒
は、モノマーの総量に対して0.01〜10重量%の範
囲で使用されるのが好ましい。重合調節剤として、メル
カプタン系化合物、チオグリコール、四臭化炭素、α−
メチルスチレンダイマー等を分子量調節のために必要に
応じて添加することができる。
重合温度は、0〜200℃の間で適宜選択するのが好ま
しく、特に50〜120℃が好ましい。
しく、特に50〜120℃が好ましい。
溶液重合における溶媒としては、ベンゼン、トルエン、
キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジクロルエチレン等を使
用することができる。
キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジクロルエチレン等を使
用することができる。
懸濁重合は、水性媒体中で行われ、懸濁剤及び必要に応
じて懸濁助剤を添加して行う。懸濁剤としては、ポリビ
ニルアルコール、メチルセルロース、ポリアクリルアミ
ド等の水溶性高分子、燐酸カルシウム、ピロ燐酸マグネ
シウム等の難溶性無機物質等があり、水溶性高分子はモ
ノマーの総量に対して0.03〜1重量%及び難溶性無
機物質は七ツマ−の総量に対して0.05〜0.5重量
%使用するのが好ましい。
じて懸濁助剤を添加して行う。懸濁剤としては、ポリビ
ニルアルコール、メチルセルロース、ポリアクリルアミ
ド等の水溶性高分子、燐酸カルシウム、ピロ燐酸マグネ
シウム等の難溶性無機物質等があり、水溶性高分子はモ
ノマーの総量に対して0.03〜1重量%及び難溶性無
機物質は七ツマ−の総量に対して0.05〜0.5重量
%使用するのが好ましい。
懸濁助剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム等の陰イオン界面活性剤があり、想濁剤として難溶
性無機物質を使用する場合には、懸濁助剤を併用するの
が好ましい。懸濁助剤は、モノマーの総量に対して0.
001〜0.02flliff1%ついて特に限定する
ものではないが、耐熱性、機械的物性の観点から、重量
平均分子量(ポリスチレン換算)が10000〜100
0000の範囲のものが好ましく、この範囲のものは特
に゛、成形材料として使用する場合に好ましい。
ウム等の陰イオン界面活性剤があり、想濁剤として難溶
性無機物質を使用する場合には、懸濁助剤を併用するの
が好ましい。懸濁助剤は、モノマーの総量に対して0.
001〜0.02flliff1%ついて特に限定する
ものではないが、耐熱性、機械的物性の観点から、重量
平均分子量(ポリスチレン換算)が10000〜100
0000の範囲のものが好ましく、この範囲のものは特
に゛、成形材料として使用する場合に好ましい。
れた低吸湿性を維持する観点からは、重合体の元素分析
による分子中の炭素原子の比率が60M量%以上である
ことが好ましい。一 本発明に係る光学用樹脂組成物は、飽和吸水率が1.8
%以下が好ましく、1.2%以下がより好ましく、特に
0.6%以下が好ましい。これは、主にメタクリル酸脂
環式エステルの使用量により調整することができる。
による分子中の炭素原子の比率が60M量%以上である
ことが好ましい。一 本発明に係る光学用樹脂組成物は、飽和吸水率が1.8
%以下が好ましく、1.2%以下がより好ましく、特に
0.6%以下が好ましい。これは、主にメタクリル酸脂
環式エステルの使用量により調整することができる。
また、本発明に係る光学用樹脂組成物は、ガラス転移点
が100℃以上であるのが好ましく、120℃以上であ
るのが特に好ましい。更に、アツベ数は、本発明に係る
光学用樹脂組成物をレンズ等の光学的分散が問題になる
用途に使用する場合、45以上であるのが好ましく、5
0以上がより好ましく、特に55以上が好ましい。これ
らの物性は、m合体め原料となる単量体を適宜選択すあ
る前記重合体は、光学用途特性を阻害しない限リ、ラン
ダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体、ブロ
ック共重合体、ポリマーブレンド等の形態について特に
限定されない。
が100℃以上であるのが好ましく、120℃以上であ
るのが特に好ましい。更に、アツベ数は、本発明に係る
光学用樹脂組成物をレンズ等の光学的分散が問題になる
用途に使用する場合、45以上であるのが好ましく、5
0以上がより好ましく、特に55以上が好ましい。これ
らの物性は、m合体め原料となる単量体を適宜選択すあ
る前記重合体は、光学用途特性を阻害しない限リ、ラン
ダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体、ブロ
ック共重合体、ポリマーブレンド等の形態について特に
限定されない。
本発明に係る光学用樹脂材料は、その使用にあたって、
劣化防止、熱的安定性、成形性、加工性等の観点から、
フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系等の抗
酸化剤(本発明の熱酸化防止化合物を除()、脂肪族ア
ルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグ
リセリド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩等
の離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸
収剤、難燃剤、重金属不活性化剤等を添加してもよい。
劣化防止、熱的安定性、成形性、加工性等の観点から、
フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系等の抗
酸化剤(本発明の熱酸化防止化合物を除()、脂肪族ア
ルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグ
リセリド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩等
の離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸
収剤、難燃剤、重金属不活性化剤等を添加してもよい。
本発明に係る光学用樹脂材料は、射出成形法、圧縮成形
法、マイクロモールド法、フローティングモールド法、
ローリンクス法等の周知の成形法によって光学素子に成
形することができる。
法、マイクロモールド法、フローティングモールド法、
ローリンクス法等の周知の成形法によって光学素子に成
形することができる。
また、以上のような成形法により得られた成形品表面に
、MgF2.5i02等の無機化合物を真空蒸着法、ス
パッタリング法、イオンブレーティング法等によってコ
ーティングすること、成形品表面をシランカップリング
剤等の有機シリコン化合物、ビニルモノマー、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂等
をハードコートすることなどによって、耐湿性、光学特
性、耐薬品性、耐摩耗性、曇り止め等を向上させること
ができる。
、MgF2.5i02等の無機化合物を真空蒸着法、ス
パッタリング法、イオンブレーティング法等によってコ
ーティングすること、成形品表面をシランカップリング
剤等の有機シリコン化合物、ビニルモノマー、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン樹脂等
をハードコートすることなどによって、耐湿性、光学特
性、耐薬品性、耐摩耗性、曇り止め等を向上させること
ができる。
ここで、光学素子としては、一般カメラ用、ビデオカメ
ラ用、望遠鏡用、レーザービーム用、投影機用、眼科用
、太陽光集合用、光フアイバ用等のレンズ、ペンタプリ
ズム等のプリズム、光ファイバ、光導波回路等の光伝送
用素子、光学式ビデオディスク、オーディオディスク、
文書ファイルディスク、メモリディスク等のディスク等
、光を透過することによって機能を発揮する素子がある
。
ラ用、望遠鏡用、レーザービーム用、投影機用、眼科用
、太陽光集合用、光フアイバ用等のレンズ、ペンタプリ
ズム等のプリズム、光ファイバ、光導波回路等の光伝送
用素子、光学式ビデオディスク、オーディオディスク、
文書ファイルディスク、メモリディスク等のディスク等
、光を透過することによって機能を発揮する素子がある
。
(実施例)
次に、実施例に基づいて本発明を詳述するが、本発明は
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例1
攪拌機及びコンデンサを備えた5βのセパラブルフラス
コに分散剤として塩基性リン酸カルシウムの10i量%
水性懸濁液83g、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム0.004 g及び硫酸ナトリウム1gを純水24
00gと共に加え、攪拌混合して懸濁媒体とした。これ
に下記組成からなる組成物を加え、攪拌回転数20Or
pmとし、窒素雰囲気下に60℃で3時間、続いて98
℃で4時間重合させた。
コに分散剤として塩基性リン酸カルシウムの10i量%
水性懸濁液83g、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム0.004 g及び硫酸ナトリウム1gを純水24
00gと共に加え、攪拌混合して懸濁媒体とした。これ
に下記組成からなる組成物を加え、攪拌回転数20Or
pmとし、窒素雰囲気下に60℃で3時間、続いて98
℃で4時間重合させた。
七ツマ−
メタクリル酸トリシクロデシル 1800g。
アクリル酸n−ブチル 200g重合開始
剤 過酸化ラウロイル 8g重合調節
剤 n−オクチルメルカプタン 2g熱酸化防
止化合物 4.4′−ブチリデン−ビス(3− メチル−6−t−ブチルフェニル− ジトリデシル)ホスファイト 0.2 g 。
剤 過酸化ラウロイル 8g重合調節
剤 n−オクチルメルカプタン 2g熱酸化防
止化合物 4.4′−ブチリデン−ビス(3− メチル−6−t−ブチルフェニル− ジトリデシル)ホスファイト 0.2 g 。
オクタデシル−3−(4’−ヒドロ
キシ−3’、5’−ジ−t−ブチル
フェニル)プロピオネート 0.2g得られ
た重合体粒子を酸洗、水洗、脱水後、真空乾燥し、光学
用樹脂組成物を得た。
た重合体粒子を酸洗、水洗、脱水後、真空乾燥し、光学
用樹脂組成物を得た。
実施例2
熱酸化防止化合物としてテトラキス〔メチレン(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート
)〕メタン0.2gを使用した以外は、実施例1と同様
にして光学用樹脂組成物を製造した。
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート
)〕メタン0.2gを使用した以外は、実施例1と同様
にして光学用樹脂組成物を製造した。
実施例3
熱酸化防止化合物として1,1.3−1−IJス(2−
メチル−4−ジトリデシルホスファイト=5−t−ブチ
ルフェニル)ブタン0.2gを使用した以外は、実施例
1と同様にして光学用樹脂組成物を製造した。
メチル−4−ジトリデシルホスファイト=5−t−ブチ
ルフェニル)ブタン0.2gを使用した以外は、実施例
1と同様にして光学用樹脂組成物を製造した。
実施例4
モノマーとしてメタクリル酸ノルボルニルメチル100
0g及びメタクリル酸メチル1000gを使用し、熱酸
化防止化合物としてテトラキス〔メチレン(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)〕
メメツ00.1及び4.4′−ブチリデン−ビス(3−
メチル−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホス
ファイト0.1gを使用した以外は、実施例1と同様に
して光学用樹脂組成物を製造した。
0g及びメタクリル酸メチル1000gを使用し、熱酸
化防止化合物としてテトラキス〔メチレン(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロシンナメート)〕
メメツ00.1及び4.4′−ブチリデン−ビス(3−
メチル−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホス
ファイト0.1gを使用した以外は、実施例1と同様に
して光学用樹脂組成物を製造した。
実施例5
モノマーとしてメタクリル酸トリシクロデシルメチル1
000g及びメタクリル酸メチル1000gを使用し、
熱酸化防止化合物としてオクタデシル−3−(4”−ヒ
ドロキシ−3’、5’−t−ブチルフェニル)プロピオ
ネ−)0.1g及び1,1.3−)リス(2−メチル−
4−ジトリデシルホスファイト−5−t−ブチルフェニ
ル)−ブタン0.1gを使用した以外は、実施例1と同
様にして光学用樹脂組成物を製造した。
000g及びメタクリル酸メチル1000gを使用し、
熱酸化防止化合物としてオクタデシル−3−(4”−ヒ
ドロキシ−3’、5’−t−ブチルフェニル)プロピオ
ネ−)0.1g及び1,1.3−)リス(2−メチル−
4−ジトリデシルホスファイト−5−t−ブチルフェニ
ル)−ブタン0.1gを使用した以外は、実施例1と同
様にして光学用樹脂組成物を製造した。
実施例6
七ツマ−としてメタクリル酸トリシクロデシル600g
及びメタクリル酸メチル1400gを使用し、熱酸化防
止化合物としてオクタデシル−3−(4′−ヒドロキシ
−3°、5′−t−ブチルフェニル)プロピオネート0
.05 g及ヒ4. 4 ’−ブチリデンービス(3−
メチル−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホス
ファイト0.05gを使用した以外は、実施例1と同様
にして光学用樹脂組成物を製造した。
及びメタクリル酸メチル1400gを使用し、熱酸化防
止化合物としてオクタデシル−3−(4′−ヒドロキシ
−3°、5′−t−ブチルフェニル)プロピオネート0
.05 g及ヒ4. 4 ’−ブチリデンービス(3−
メチル−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホス
ファイト0.05gを使用した以外は、実施例1と同様
にして光学用樹脂組成物を製造した。
実施例7
モノマーとしてメタクリル酸トリシクロデシル1000
g及びスチレン100.0gを使用し、熱酸化防止化合
物としてオクタデシル−3−(4“−ヒドロキシ−3@
、 5 ?−t−ブチルフェニル)プロピオネート0
.2g及び1.1.3−)リス(2−メチル−4−ジト
リデシルホスファイト−5−t−ブチルフェニル)−ブ
タン0.2gを使用した以外は、実施例1と同様にして
光学用樹脂組成物を製造した。
g及びスチレン100.0gを使用し、熱酸化防止化合
物としてオクタデシル−3−(4“−ヒドロキシ−3@
、 5 ?−t−ブチルフェニル)プロピオネート0
.2g及び1.1.3−)リス(2−メチル−4−ジト
リデシルホスファイト−5−t−ブチルフェニル)−ブ
タン0.2gを使用した以外は、実施例1と同様にして
光学用樹脂組成物を製造した。
実施例8
モノマーとしてメタクリル酸トリシクロデシル600
g、メタクリル酸メチル1080g及びスチレン320
gを使用し、熱酸化防止化合物としてテトラキス〔メチ
レン(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
シンナメート)メタン0、05 g及び1.1.3−)
リス(2−メチル−4−ジトリデシルホスファイト−5
−t−ブチルフェニル)−ブタン0.05 gを使用し
た以外は、実施例1と同様にして光学用樹脂組成物を製
造した。
g、メタクリル酸メチル1080g及びスチレン320
gを使用し、熱酸化防止化合物としてテトラキス〔メチ
レン(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシヒドロ
シンナメート)メタン0、05 g及び1.1.3−)
リス(2−メチル−4−ジトリデシルホスファイト−5
−t−ブチルフェニル)−ブタン0.05 gを使用し
た以外は、実施例1と同様にして光学用樹脂組成物を製
造した。
実施例9
モノマーとして、メタクリル酸ノルボルニル1000g
及びメタクリル酸メチル1000gを使用し、熱酸化防
止化合物としてオクタデシル−3−(4’−ヒドロキシ
−3’、5’−t−ブチルフェニル)プロピオネート0
.1 g及び4,4゜−ブチリデンービス(3−メチル
−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホスファイ
ト0.1gを使用する以外は、実施例1と同様にして光
学用樹脂組成物を製造した。
及びメタクリル酸メチル1000gを使用し、熱酸化防
止化合物としてオクタデシル−3−(4’−ヒドロキシ
−3’、5’−t−ブチルフェニル)プロピオネート0
.1 g及び4,4゜−ブチリデンービス(3−メチル
−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホスファイ
ト0.1gを使用する以外は、実施例1と同様にして光
学用樹脂組成物を製造した。
実施例10
モノマーとしてメタクリル酸メチル1000g及びメタ
クリル酸シクロヘキシル1000gを使用し、熱酸化防
止化合物としてオクタデシル−3−(41−ヒドロキシ
−3’、5’−t−ブチルフェニル)プロピオネ−)
0.2 g及び4.4’−ブチリデン−ビス(3−メチ
ル−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホスファ
イト0.2gを使用した以外は、実施例1と同様にして
光学用樹脂組成物を製造した。
クリル酸シクロヘキシル1000gを使用し、熱酸化防
止化合物としてオクタデシル−3−(41−ヒドロキシ
−3’、5’−t−ブチルフェニル)プロピオネ−)
0.2 g及び4.4’−ブチリデン−ビス(3−メチ
ル−6−t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホスファ
イト0.2gを使用した以外は、実施例1と同様にして
光学用樹脂組成物を製造した。
比較例1
モノマーとしてメタクリル酸トリシクロデシル1800
g及びアクリル酸n−ブチル200gを使用し、熱酸化
防止化合物として2.2−チオビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)0.2g及び4,41−イソプ
ロピリデン−ジフェノールアルキルホスファイト(但し
、アルキルは炭素原子数12〜15のものの混合物)0
.2gを使用し、実施例1と同様にして樹脂組成物を製
造した。
g及びアクリル酸n−ブチル200gを使用し、熱酸化
防止化合物として2.2−チオビス(4−メチル−6−
t−ブチルフェノール)0.2g及び4,41−イソプ
ロピリデン−ジフェノールアルキルホスファイト(但し
、アルキルは炭素原子数12〜15のものの混合物)0
.2gを使用し、実施例1と同様にして樹脂組成物を製
造した。
比較例2
七ツマ−としてメタクリル酸トリシクロデシル100g
及びメタクリル酸メチル1900gを使用し、熱酸化防
止化合物を使用しない以外は、実施例1と同様にして樹
脂材料を製造した。
及びメタクリル酸メチル1900gを使用し、熱酸化防
止化合物を使用しない以外は、実施例1と同様にして樹
脂材料を製造した。
比較例3
モノマーとしてメタクリル酸トリシクロデシル600g
及びメタクリル酸メチル1400gを使用する以外は、
比較例2と同様にして樹脂組成物を製造した。
及びメタクリル酸メチル1400gを使用する以外は、
比較例2と同様にして樹脂組成物を製造した。
比較例4
モノマーとしてメタクリル酸トリシクロデシル1800
g及びアクリル酸n−ブチル200gを使用する以外は
、比較例2と同様にして樹脂組成物を製造し、得られた
乾燥樹脂粒子に、オクタデシル−3−(4’−ヒドロキ
シ−39,5+ を−ブチルフェニル)プロピオネー
ト及び4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−
t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホスファイトを各
々樹脂に対して0.2重量%加え、ベント付単軸押出機
(スクリュー径35)を用いて樹脂温度230℃で混線
押出し、ペレタイザーを通してペレット状の樹脂組成物
を得た。
g及びアクリル酸n−ブチル200gを使用する以外は
、比較例2と同様にして樹脂組成物を製造し、得られた
乾燥樹脂粒子に、オクタデシル−3−(4’−ヒドロキ
シ−39,5+ を−ブチルフェニル)プロピオネー
ト及び4,4′−ブチリデン−ビス(3−メチル−6−
t−ブチルフェニル−ジトリデシル)ホスファイトを各
々樹脂に対して0.2重量%加え、ベント付単軸押出機
(スクリュー径35)を用いて樹脂温度230℃で混線
押出し、ペレタイザーを通してペレット状の樹脂組成物
を得た。
試験例
Ox60X2(mm)の透明平板を得た。
この成形仮について、波長別の光線透過率、アツベ数、
飽和吸水率及びガラス転移点を測定した結果を下記の表
1に示す。
飽和吸水率及びガラス転移点を測定した結果を下記の表
1に示す。
なお、波長別の光線透過率は、分光光度計を用いて測定
した。
した。
また、アツベ数は、アツベ屈折計を使用して測定した。
飽和吸水率(%)は、まず、成形板を乾燥して乾燥重量
を測定し、次いで、該成形板を70 ’Cの温水中に7
2時間浸漬した後、その重量(吸水重量)を求め、次の
式によって求めた。
を測定し、次いで、該成形板を70 ’Cの温水中に7
2時間浸漬した後、その重量(吸水重量)を求め、次の
式によって求めた。
更に、ガラス転移点は、示差走査熱量計(DSC)にお
ける吸熱ピーク時の温度とした。
ける吸熱ピーク時の温度とした。
表1 演1淀結果
つ無色又は淡色透明な成形品を生じ、光学素子の成形に
好適である。
好適である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エステルのアルコール成分部分に炭素原子数5〜2
2の脂環式炭化水素基を有するメタクリル酸エステル1
00〜10重量%及びこれと共重合可能な重合性単量体
0〜90重量%を配合してなる単量体を重合させて得ら
れる重合体並びに一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5及び
R^6は、各々独立して炭素原子数1以上のアルキル基
である〕で表される基を有する化合物及び/又は一般式
(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中R^7、R^8、R^9、R^10、R^1^1
及びR^1^2は、各々独立して炭素原子数1以上のア
ルキル基である〕で表される基を有する化合物を含有し
てなり、上記重合体を一般式( I )で表される基を有
する化合物及び/又は一般式(II)で表される基を有す
る化合物の存在下に上記単量体を重合させて合成してな
る光学用樹脂組成物。 2、一般式( I )で表される基を有する化合物が、一
般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、R^1、R^2、R^3、R^4、R^5及び
R^6は、一般式( I )の場合と同じであり、nはX
への結合数で、1〜4の整数であり、Xは炭素原子数1
〜20のn価の脂肪族炭化水素基を示す〕で表される化
合物である特許請求の範囲第1項記載の光学用樹脂組成
物。 3、一般式(II)で表される基を有する化合物が、一般
式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔式中R^7、R^8、R^9、R^10、R^1^1
及びR^1^2は、一般式(II)の場合と同様であり、
mは基Yへの結合数で、1〜4の整数でありYは炭素原
子数1〜4のm価の脂肪族炭化水素基である〕で表され
る化合物である特許請求の範囲第1項記載の光学用樹脂
組成物。 4、エステルのアルコール成分部分に炭素原子数5〜2
2の脂環式炭化水素基を有するメタクリル酸エステルが
アルコール成分部分に3個以上の三級炭素原子を有する
特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の光学用
樹脂組成物。 5、重合体に対して、一般式( I )で表される基を有
する化合物及び一般式(II)で表される基を有する化合
物を総量で0.01〜重量%含有してなる特許請求の範
囲第1項、第2項又は第3項記載の光学用樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29726685A JPH0643461B2 (ja) | 1985-12-30 | 1985-12-30 | 光学用樹脂組成物の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29726685A JPH0643461B2 (ja) | 1985-12-30 | 1985-12-30 | 光学用樹脂組成物の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62158706A true JPS62158706A (ja) | 1987-07-14 |
JPH0643461B2 JPH0643461B2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=17844294
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29726685A Expired - Lifetime JPH0643461B2 (ja) | 1985-12-30 | 1985-12-30 | 光学用樹脂組成物の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0643461B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62209156A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-14 | Hitachi Chem Co Ltd | 光学素子用樹脂組成物 |
JPH04178409A (ja) * | 1990-11-09 | 1992-06-25 | Hitachi Chem Co Ltd | マレイミド系共重合体の製造法 |
WO2005088372A1 (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Jsr Corporation | 光導波路形成用感光性組成物および光導波路 |
JP2015086250A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 株式会社クラレ | メタクリル樹脂組成物および成形体 |
WO2016129675A1 (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | デンカ株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101604087A (zh) | 2004-09-30 | 2009-12-16 | 卡西欧计算机株式会社 | 垂直取向型有源矩阵液晶显示元件 |
-
1985
- 1985-12-30 JP JP29726685A patent/JPH0643461B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62209156A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-14 | Hitachi Chem Co Ltd | 光学素子用樹脂組成物 |
JPH04178409A (ja) * | 1990-11-09 | 1992-06-25 | Hitachi Chem Co Ltd | マレイミド系共重合体の製造法 |
WO2005088372A1 (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Jsr Corporation | 光導波路形成用感光性組成物および光導波路 |
JP2015086250A (ja) * | 2013-10-28 | 2015-05-07 | 株式会社クラレ | メタクリル樹脂組成物および成形体 |
WO2016129675A1 (ja) * | 2015-02-12 | 2016-08-18 | デンカ株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
JPWO2016129675A1 (ja) * | 2015-02-12 | 2017-11-24 | デンカ株式会社 | 光学用スチレン系樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0643461B2 (ja) | 1994-06-08 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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