JPS62155923A - 乾式脱硫脱硝二段処理装置 - Google Patents

乾式脱硫脱硝二段処理装置

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JPS62155923A
JPS62155923A JP60298905A JP29890585A JPS62155923A JP S62155923 A JPS62155923 A JP S62155923A JP 60298905 A JP60298905 A JP 60298905A JP 29890585 A JP29890585 A JP 29890585A JP S62155923 A JPS62155923 A JP S62155923A
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JP
Japan
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tower
denitration
desulfurization
denitrification
exhaust gas
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JP60298905A
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Seiji Iwamura
征治 岩村
Koichi Shimazaki
島崎 行一
Hisao Tsuboya
坪谷 久男
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Electric Power Development Co Ltd
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Electric Power Development Co Ltd
Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (技術分野) 本発明は、活性炭を使用した排ガスの乾式脱硫脱硝装置
に関し、特に大巾に負荷が変動する場合においても、効
果的に脱硝を行うことの出来る処理装置に関する。
(従来技術) 一般に、活性炭を使用して排ガスの脱硫および脱硝を行
う乾式脱硫脱硝装置は、脱硫塔と脱硝塔において、これ
らの塔内を排ガスが順次通過する際に1それぞれ重点的
に脱硫および脱硝処理を行うようkなっているものであ
る◇ すなわち排ガスは、まず脱硫塔で脱硫された後、脱硝塔
で脱硝される。
ここで、脱硝塔において8〇−以上の脱硝率を−得、か
つNH,のリーク量を20−以下に押えるためには、脱
硝塔人口におけるSO2濃度が30〜100−である必
要がある。 しかしガス中のSo雪濃度が1000μか
ら400111mk大巾に変化する場合には、脱硝塔入
口のSO鵞濃度は50解以下となり、この状態で脱硝塔
でのNH,リークを2(UPI以下に押えようとすると
、全脱硝率を80襲以上に維持出来なくなり、反対に脱
硝率を上げようとすれば、NH3リークが増大してしま
うこととなる。
また脱硫脱硝装置を設計する場合、排ガス中に含まれて
いる8 0 x + N Ox濃度たより基本数値が異
なるが、一般的には高濃度、高負荷に対応して設計して
おけば、低濃度、低負荷の場合にも高効率を達成するこ
とが出来る。
しかし脱硫脱硝二段処理の場合には、高濃度Boxの高
負荷で設計した装置で低負荷運転を行うと、脱硫塔での
脱硫効率が上がり過ぎ、脱硝塔に入るガス中の80に濃
度が、脱硝塔における脱硝効率を維持するのに必要な濃
度30〜100隼よりも下回ってしまうことになる。 
このように脱硝塔入口のSOx濃度が低い場合には、注
入したNH3のリークが多くなり、所定の脱硝率を得る
ことが出来ない。
以上のような問題から、従来の脱硫脱硝二段処理装置に
おいては、大巾なガス中のSOx濃度の変動があった場
合に十分な脱硝効率を維持するのが困難であるといった
欠点を有するものであった。
(目  的) この発明は、以上のような従来の脱硫脱硝二段処理装置
における欠点を解消するために為されたものであって、
負荷変動すなわちガス中のSOx濃度の大巾な変動があ
った場合であっても、常に所定の脱硝効率を維持するこ
との出来る乾式脱硫脱硝装置を提供することを目的とす
るものである。
(構  成) この発明は、上記目的を達成するため、アンモニアが供
給される脱硫塔および脱硝塔内を排ガスが順次通過する
ことによって、排ガスの脱硫および脱硝処理を行う乾式
脱硫脱硝装置において、前記脱硫塔出口と脱硝塔入口と
の間に、排ガスの一部を直接脱硝塔に導入するためのバ
イパス配管を配設せしめたものである。
(実施例〉 以下この発明を、図面に示す実施例に基づいてさらに詳
細に説明を行う。
第1図において、脱硫塔1および脱硝塔2には、活性炭
(4)が循環して供給されるようになっており、この脱
硫塔1に排ガス(6)が導入されるようkなっている。
 そして脱硫塔1を通過して脱硫処理された排ガスは脱
硝塔2に導入され、脱硝処理された後、排気される。 
また脱硫塔1および脱硝塔2で説伏および脱硝処理を行
った活性炭は脱離塔31C導入され、この脱離塔3にお
いて活性炭から高濃度5(h(C)が分離排出される。
なお、脱硫塔1および脱硝塔2には、それぞれ入口にお
いてアンモニア(D)が供給されるようkなっている。
以上の処理工程は、従来の脱硫脱硝二段処理装置の処理
工程と同様である。
本発明は上記処理装置の脱硫塔1の入口と脱硝塔2の入
口との間にバイパス4を設け、排ガスの)の一部を直接
脱硝塔2!′c導入するようkなっているものである。
 バイパス4の途中に設けられた切替バルブ5によって
供給量をiI1節出来るようになっている。
上記脱硫脱硝二段処理装置によれば、高濃度SOx (
800〜1000e)で計画された装置で、低濃度(4
00〜600ppm)の排ガスを処理しようとする場合
、パルプ5を開け、排ガスBの一部をバイパス4を介し
て脱硝塔2の入口に導き、脱硝塔入口でのSOx濃度が
30〜100111mの範囲で維持されるようコントウ
ールしてやれば、低負荷’f30xの排ガスについても
常に所定の脱硝効率を維持することが可能となるもので
ある。 なお、゛ この発明は、ガス中のSO2濃度が
4,0%以上変動する場合に有効である。
第2図は、NH3リークが一定の場合(出口NH3が1
0騨の場合)の脱硝塔入口のSOx濃度と脱硝率との関
係を示したものであって、この図からSOx濃度が30
〜1100vIIの範囲において80で以上の脱硝率が
得られることが分る。
(効 果ン 入口との間にバイパス配管を設け、排ガス中のSOx濃
度の変動に応じて排ガスの一部を脱硝塔に直接導入する
ことが出来るよりたしたことにより、高濃度SOxで計
画された装置で、低濃度の排ガスを処理する場合であっ
ても、脱硝塔入口のSOx濃度を一定に維持できること
kよって、大巾な負荷変動にもかかわらず常に所定の脱
硝効率を得ることが出来るという優れた効果を有するも
のである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示す概略構成図、第2図
はNH3リークが一定の場合の脱硝塔入口のSOx濃度
と脱硝率との関係を示す図である。 1・・・・・・脱硫塔     2・・・・・・脱硝塔
4・・・・・・バイパス    5・・・・・・切替バ
ルブB・・・・・・排カス     D・・・・・・ア
ンモニア特許出願人 電源開発株式会社外1名 =7−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 アンモニアが注入される脱硫塔および脱硝塔内を排ガス
    が順次通過することによって、排ガス中の脱硫および脱
    硝処理を行う乾式脱硫脱硝二段処理装置において、 前記脱硫塔出口と脱硝塔入口との間に、排ガスの一部を
    直接前記脱硝塔に導入するための、バイパス配管を配設
    せしめたことを特徴とする乾式脱硫脱硝二段処理装置。
JP60298905A 1985-12-28 1985-12-28 乾式脱硫脱硝二段処理装置 Expired - Lifetime JPH0613083B2 (ja)

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