JPS62136265A - Apparatus for applying treatment liquid - Google Patents

Abstract

PURPOSE:To prevent the re-adhesion of a mist like treatment liquid to a blank disc, by providing a shield plate above the blank disc to be treated in opposed relation to the surface of said disc and providing a means for allowing clean air to flow out from the upper part of a chamber at the time of high speed rotation. CONSTITUTION:After a treatment liquid such as a resist was applied to a glass blank disc 4, air in a chamber is excluded from the exhaust port 14 provided to the lower part of the chamber in synchronous relation to the high speed rotation of said disc 4. By this method, new air corresponding to exhaust quantity is sucked in the chamber from the opening of a cover 16 to advance along a shield plate 15 and converted to streams 22, 23 drawn downwardly at the outer edge part of the shield plate 15 to reach the exhaust port 14. As a result, the treatment liquid shaken off by the high speed rotation of the blank disc 4 to collide with the inner wall of the chamber and formed into mist is drawn downwardly to be discharged to the outside from the exhaust port 14 of the chamber and, therefore, the re-adhesion of the treatment liquid to the surface of the blank disc 4 is prevented.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、光ディスクの原盤作製工程等においてガラス
板などの基板上に処理液を塗布する装置に関するもので
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to an apparatus for applying a processing liquid onto a substrate such as a glass plate in the process of manufacturing an optical disc master.

従来の技術 ガラス原盤上にフォトレジスト及びそれの密着強化剤を
塗布する方法として一般によく行なわれているのが、ス
ピニングによる方法である。これは、盤上に塗布された
フォトレジストを高速回転によって振り切り、薄い膜を
盤面上に形成する方法である。光ディスクなどに用いら
れる原盤ではこのフォトレジスト層を１０００Å以下の
非常に薄い膜にする必要がある。光ディスクではこのレ
ジスト層にレーザーで溝や信号を露光記録し、その後に
現像処理を行なうことによって、実際の凹凸を有する溝
やピットが形成される。それが光ディスクの原盤になる
ため、レジスト層は均一で、塗りむらのないことが必要
である。2. Description of the Related Art A commonly used method for coating a photoresist and its adhesion enhancer on a glass master is spinning. This is a method in which the photoresist coated on the disk is shaken off by high-speed rotation to form a thin film on the disk surface. For master discs used for optical discs and the like, this photoresist layer must be a very thin film of 1000 Å or less. In an optical disc, grooves and signals are exposed and recorded on this resist layer using a laser, and then a development process is performed to form grooves and pits having actual irregularities. Since it becomes the master of the optical disc, the resist layer must be uniform and without uneven coating.

一般に、スピニングによる塗布装置では高速で振り切ら
れたレジスト液がチャンバーの内壁に当り、一部がはね
返り、そのミスト状の液が再び盤面上に付着するという
現象があり、不良の原因となることが多かった。Generally, in coating equipment using spinning, there is a phenomenon in which the resist liquid that is spun off at high speed hits the inner wall of the chamber, some of it bounces off, and the mist-like liquid adheres to the surface of the board again, which can cause defects. There were many.

そのために、第２図に示すように、ガラス原盤上方に遮
蔽板を設け、内壁からのはね返りを防ぐ方式がとられて
いた。第２図で、１はチャンバー、２はターンテーブル
、３はスピンドルであり、図示されない駆動源により回
転させられる。４はガラス原盤であり、図示されないノ
ズルからこの上に処理液が供給される。５はガラス原盤
上方に設けられた遮蔽板、９はその固定部材、６はチャ
ンバーのカバーである。７の矢印は、高速回転で振り切
られるレジスト液の流れを示している。内壁にあたった
レジスト液はミスト状の小さい粒となって、四方に散ら
ばり、一部が再び原盤上に付着する。６の遮蔽板によっ
て、大部分それらを防ぐことができる。To this end, as shown in FIG. 2, a shielding plate was provided above the glass master disk to prevent it from rebounding from the inner wall. In FIG. 2, 1 is a chamber, 2 is a turntable, and 3 is a spindle, which are rotated by a drive source (not shown). 4 is a glass master disk, onto which a processing liquid is supplied from a nozzle (not shown). 5 is a shielding plate provided above the glass master, 9 is a fixing member thereof, and 6 is a cover of the chamber. The arrow 7 indicates the flow of the resist liquid that is shaken off by high-speed rotation. The resist liquid that hits the inner wall turns into small mist-like particles that are scattered in all directions, and some of them adhere to the master again. Most of these can be prevented by the shielding plate No. 6.

しかし、ガラス盤４が高速で回転するため、６の遮蔽板
との間に矢印８で示す空気流が生じる。However, since the glass disk 4 rotates at a high speed, an air flow shown by an arrow 8 is generated between the glass disk 4 and the shielding plate 6.

この空気流は、静止している遮蔽板６に沿って外周から
吹い込まれ、ガラス原盤の内周でガラス原盤表面に向か
い、再びガラス原盤の回転に合わせてらせん状に外周に
向かってはき出される。そのため、内壁でミスト状にな
ったレジスト液がこの空気流に乗って吸い込まれ再び盤
面上に付着するという問題点を有していた。This air flow is blown in from the outer periphery along the stationary shielding plate 6, directed toward the surface of the glass master at the inner periphery of the glass master, and then expelled spirally toward the outer periphery as the glass master rotates. . Therefore, there is a problem in that the resist liquid that has become a mist on the inner wall is sucked in by this air flow and is deposited on the board surface again.

問題点を解決するだめの手段 上記問題点を解決するために、本発明の処理液塗布装置
は、原盤表面に対向して設けられた遮蔽板の上方より清
浄空気を流出させる手段を有している。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems, the processing liquid coating apparatus of the present invention has means for causing clean air to flow out from above a shielding plate provided opposite to the master surface. There is.

作用 本発明は、上記した構成により、遮蔽板外周端面より清
浄空気を下方に向かって流すことができ、そのために壁
面でミスト状になったレジストなどの処理液をガラス原
盤より下方に押しやり、再び盤面上に侵入して付着する
ことを防ぐことができる。Effects of the present invention With the above-described configuration, clean air can flow downward from the outer peripheral end face of the shielding plate, and for this purpose, processing liquid such as resist that has become mist on the wall is forced downward from the glass master, This prevents it from entering and adhering to the board surface again.

実施例 以下、本発明の一実施例について、図面を参照しながら
説明する。第１図、第２図には塗布装置を示しているが
、原理的には現像装置でも同じである。塗布装置ではガ
ラス原盤上にレジストの層を形成するのに対し、現像装
置では、現像液が回転する原盤上に供給され、露光され
た部分のみを化学作用により洗い流すのである。この時
も現像液や洗浄液のはね返りがあると局所的なむらや斑
点となり不良の原因になる。EXAMPLE Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. Although a coating device is shown in FIGS. 1 and 2, the principle is the same for a developing device. A coating device forms a layer of resist on a glass master disk, whereas a developing device supplies a developer onto a rotating master disk and washes away only the exposed areas by chemical action. At this time, if there is splashing of the developer or cleaning solution, it may cause local unevenness or spots and cause defects.

第１図において、４はガラス原盤、１０はレジストを供
給するノズル、１１はチャンバー、１２はターンテーブ
ル、１３はスピンドル、１４は排気孔、１５は遮蔽板、
１６はチャンバーのカバー、１９は遮蔽板の固定部材で
あり、棒状で３〜４個で遮蔽板を保持している。１７は
レジストが高速回転によって振り切られる流れ、１８は
ガラス盤上の空気流、２ｏはカバー１６の開口部よりチ
ャンバー内に流入する空気、２１は遮蔽板端部より下方
に流れる空気流、２２．２３は排気孔１４よりチャンバ
ー外に排出される空気流である。In FIG. 1, 4 is a glass master disk, 10 is a nozzle for supplying resist, 11 is a chamber, 12 is a turntable, 13 is a spindle, 14 is an exhaust hole, 15 is a shielding plate,
16 is a cover of the chamber, and 19 is a fixing member for the shielding plate, and the shielding plate is held in three or four rod-shaped pieces. 17 is the flow of the resist being shaken off by high-speed rotation, 18 is the air flow above the glass plate, 2o is the air flowing into the chamber from the opening of the cover 16, 21 is the air flow flowing downward from the end of the shield plate, 22.23 is the air flow This is an air flow discharged from the exhaust hole 14 to the outside of the chamber.

以上のように構成された塗布装置について、その動作を
説明する。チャンバー１１の側面の一部１１１Ｌが点線
で示すように開くと、ノズル１ｏがチャンバー内に進入
し、ガラス原盤４の中心付近まで来る。その後、ノズル
１０からレジスト、又は密着強化剤が吐出される。この
時、ノズル１０は処理液を吐出しながら外周に向かって
後退させることができる。処理液をガラス原盤上に載せ
た後、ノズル１ｏは再びチャンバー外に出て、側面１１
１Ｌも閉ざされる。この間、ガラス原盤を低速で回転さ
せると、レジストなどの処理液をガラス盤全周に隈なく
行きわたらせることができる。その後、ガラス原盤は高
速で回転させられ、表面上のレジストの大部を振υ切り
、均一な薄い層を形成する。The operation of the coating apparatus configured as described above will be explained. When a portion 111L of the side surface of the chamber 11 opens as shown by the dotted line, the nozzle 1o enters the chamber and comes near the center of the glass master 4. Thereafter, the resist or adhesion enhancer is discharged from the nozzle 10. At this time, the nozzle 10 can be retreated toward the outer periphery while discharging the processing liquid. After placing the processing liquid on the glass master, the nozzle 1o comes out of the chamber again, and the side surface 11
1L will also be closed. During this time, if the glass master disk is rotated at a low speed, the processing liquid such as resist can be spread all over the entire circumference of the glass disk. The glass master disk is then rotated at high speed to shake off most of the resist on the surface and form a thin, uniform layer.

ガラス原盤が高速回転するのと同期してチャンバー下部
に設けた排気孔１４から、チャンバー内の空気を排気す
る。それによってカバー１６の開口からは排気量に相等
する新しい空気が吹い込まれる。この空気は遮蔽板１５
に沿って進み、２１で示されるように外縁部で下方に引
張られ、２２゜２３で示されるように進んでから排気孔
１４を通リ、チャンバー外に出される。また、一部は矢
印１８で示されるようにガラス原盤と遮蔽板の間に引き
込まれる。Air in the chamber is exhausted from an exhaust hole 14 provided at the bottom of the chamber in synchronization with the high speed rotation of the glass master disk. As a result, new air equivalent to the amount of exhaust air is blown through the opening of the cover 16. This air is the shielding plate 15
, is pulled downward at the outer edge as shown at 21, travels as shown at 22 and 23, and then passes through the exhaust hole 14 and exits the chamber. Further, a part of the glass is drawn between the glass master and the shielding plate as shown by an arrow 18.

以上のように、本実施例では、ガラス原盤が高速回転し
ている間、ガラス原盤の外周部及びチャンバー内壁部で
は下向きの空気流が生じている。As described above, in this embodiment, while the glass master disk is rotating at high speed, a downward air flow is generated at the outer circumference of the glass master disk and the inner wall of the chamber.

つまり、内壁でぶつかってミスト状になった処理液はこ
の気流のために下方に引張られ、チャンバーの排気孔か
ら外に出される。そのために、従来例で述べたように再
びガラス原盤の表面に付着することがない。In other words, the processing liquid that collides with the inner wall and becomes a mist is pulled downward by this airflow and is discharged from the exhaust hole of the chamber. Therefore, as described in the conventional example, it does not adhere to the surface of the glass master disk again.

従来からもチャンバー内を排気する試みはなされていた
が、それは処理液の蒸気や内壁にあたって生じたミスト
をただ排出するためのものであり、本発明のように、原
盤表面にほぼ同じサイズで対向する遮蔽板を設け、原盤
と遮蔽板の外周縁部に下向きの気流を生じさせ、再び原
盤と遮蔽板の間に侵入しようとするミストを防ぐための
ものではなかった。Attempts have been made in the past to exhaust the inside of the chamber, but these were simply to exhaust the vapor of the processing liquid and the mist generated when it hit the inner wall. This was not intended to prevent mist from entering between the original disc and the shielding plate again by providing a shielding plate to create a downward airflow around the outer periphery of the original disc and the shielding plate.

また、原盤にレジスト層を均一に塗布するには、レジス
ト溶液の蒸気圧を原盤全周で同じに保つ必要がある。つ
まりある部分での溶剤の蒸発が早く進めば乾燥が早まり
、その部分が厚くなるからである。Furthermore, in order to uniformly apply the resist layer to the master, it is necessary to keep the vapor pressure of the resist solution the same around the entire circumference of the master. In other words, the faster the solvent evaporates in a certain area, the faster it dries and the thicker the area becomes.

本発明による遮蔽板は、原盤表面上の空間を制限し、蒸
気圧を全周で一定にする働きもしている。The shielding plate according to the present invention also functions to limit the space on the master surface and to keep the vapor pressure constant over the entire circumference.

また、チャンバーの排気によって生じる空気流も、直接
原盤表面上には作用せず、蒸気圧に影響を与えることが
ない。Further, the air flow generated by exhausting the chamber does not directly act on the surface of the master disc, and does not affect the vapor pressure.

また、本実施例では、チャンバーカバーに開口を設けて
、チャンバーの排気によって生じる空気流を利用してい
るが、チャンバー開口部から積極的にクリーンな空気を
流出する手段を設けてもよい。チャンバー内壁との衝突
によって生じる処理液のミストはターンテーブルの回転
数や液濃度などによって変化するが、ミストが多く発生
する場合はチャンバー上方より加圧された空気を送り込
みチャンバー内壁部分でミストを捕獲する空気流を発生
させるのが好ましい。Further, in this embodiment, an opening is provided in the chamber cover to utilize the air flow generated by exhausting the chamber, but a means for actively flowing clean air from the chamber opening may be provided. The mist of processing liquid that is generated by collision with the inner wall of the chamber changes depending on the rotation speed of the turntable and the concentration of the liquid, but if a large amount of mist is generated, pressurized air is sent from above the chamber to capture the mist on the inner wall of the chamber. It is preferable to generate an air flow that

以上の実施例はレジスト塗布装置について説明したが現
像装置の場合も基本構成、基本原理は同じである。現像
装置では、現像後に純水で表面を洗浄し、高速で振り切
って乾燥させるいわゆるスピンドライを行なうが、この
時にチャンバー内壁からのはね返りが不良の原因となる
ことが多い。In the above embodiments, the resist coating apparatus was described, but the basic configuration and basic principles are the same for the developing apparatus. In the developing device, after development, the surface is washed with pure water and dried by shaking it off at high speed, so-called spin drying. At this time, splashes from the inner wall of the chamber often cause defects.

本発明は前記した作用によシ、それらを防ぐことができ
る。またノズルはチャンバー内に固定されているもので
もよい。The present invention can prevent these problems by virtue of the effects described above. Further, the nozzle may be fixed within the chamber.

発明の効果 以上のように、本発明によれば、被処理原盤の上方にそ
の表面に対向して遮蔽板を設け、原盤が高速回転する時
にチャンバーの上方より清浄空気を流出する手段を設け
ているため、前記遮蔽板及び原盤の外縁部に下向きの空
気流を発生させることができ、チャンバー内壁に当って
ミスト状になった処理液が再び遮蔽板と原板の間に進入
し原盤上に再付着するのを防ぐことができる。Effects of the Invention As described above, according to the present invention, a shielding plate is provided above the master disk to be processed so as to face the surface thereof, and a means is provided for flowing clean air from above the chamber when the master disk rotates at high speed. As a result, a downward air flow can be generated at the outer edge of the shielding plate and the master disk, and the processing liquid that hits the inner wall of the chamber and becomes a mist enters between the shielding plate and the master plate again and re-deposit on the master disk. You can prevent it from happening.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第１図は本発明処理液塗布装置の一実施例を示すレジス
ト塗布装置の断面図、第２図は従来例のレジスト塗布装
置の断面図である。 １・・・・・・チャンバー、２・・・・・・ターンテー
ブル、３・・・・・・スピンドル、４・・・・・・原盤
、６・・・・・・遮蔽板、６・・・・・・カバー、７・
・・・・・処理液流れ、８・・・・・・空気流、９・・
・・・・遮蔽板固定部材、１ｏ・・・・・・ノズル、１
１・・・・・・チャンバー、１２・・・・・・ターンテ
ーブル、１３・・・・・・スピンドル、１４・・・・・
・排気孔、１６・・・・・・遮蔽板、１６・・・・・・
カバー、１７・・・・・・処理液流れ、１８・・・・・
・空気流、１９・・・・・・遮蔽板固定部材、２０〜２
３・・・・・・空気流。FIG. 1 is a sectional view of a resist coating apparatus showing an embodiment of the processing liquid coating apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view of a conventional resist coating apparatus. 1...Chamber, 2...Turntable, 3...Spindle, 4...Master disc, 6...Shielding plate, 6... ...Cover, 7.
... Processing liquid flow, 8 ... Air flow, 9 ...
...Bridging plate fixing member, 1o...Nozzle, 1
1...Chamber, 12...Turntable, 13...Spindle, 14...
・Exhaust hole, 16... Shielding plate, 16...
Cover, 17...Processing liquid flow, 18...
・Air flow, 19... Shielding plate fixing member, 20-2
3... Air flow.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] （１）チャンバー内で原盤を載置して回転するターンテ
ーブルと、前記原盤上に処理液を供給して塗布するノズ
ルと、前記原盤の上方でその表面に対向する遮蔽板と、
前記原盤高速回転時に前記チャンバー上方より清浄空気
を流出させる手段とを設けた処理液塗布装置。(1) a turntable that rotates with a master placed in a chamber, a nozzle that supplies and applies a processing liquid onto the master, and a shielding plate that is above the master and faces the surface thereof;
A processing liquid coating device comprising means for causing clean air to flow out from above the chamber when the master disk rotates at high speed. （２）チャンバー内で原盤を載置して回転するターンテ
ーブルと、前記原盤上に処理液を供給して塗布するノズ
ルと、前記原盤の上方でその表面に対向する遮蔽板と、
前記遮蔽板の上面に対向する前記チャンバーのカバーに
設けられた開口部と、前記原盤高速回転時に前記チャン
バーの下部より空気を排気する排気手段とを設けた特許
請求の範囲第１項記載の処理液塗布装置。(2) a turntable that rotates with a master disc placed in a chamber; a nozzle that supplies and applies a processing liquid onto the master disc; and a shielding plate facing the surface above the master disc;
The process according to claim 1, further comprising an opening provided in a cover of the chamber opposite to the upper surface of the shielding plate, and an exhaust means for exhausting air from a lower part of the chamber when the master disk rotates at high speed. Liquid coating equipment.