JPS62127710A - レ−ザマ−カ装置 - Google Patents
レ−ザマ−カ装置Info
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- JPS62127710A JPS62127710A JP60266098A JP26609885A JPS62127710A JP S62127710 A JPS62127710 A JP S62127710A JP 60266098 A JP60266098 A JP 60266098A JP 26609885 A JP26609885 A JP 26609885A JP S62127710 A JPS62127710 A JP S62127710A
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- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
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-
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1313—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
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- G—PHYSICS
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- G06K1/126—Methods or arrangements for marking the record carrier in digital fashion otherwise than by punching by photographic or thermographic registration
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザマーカ装置に係わり、特にレーザビーム
のエネルギを効率よく帰還させて利用するだめのレーデ
マーカ装置に関するものである。
のエネルギを効率よく帰還させて利用するだめのレーデ
マーカ装置に関するものである。
一般に、レーザマーカ装置は広い光束のレーザビームで
マスクを照射し、このマスクを通過する所望のレーザビ
ームを用いてレンズによって結像させ、被加工物のIC
プラスチックモールドパッケージやトランジスタ等の表
面に前記マスク上のパターンを焼き付けることによって
捺印するよう構成したものである。
マスクを照射し、このマスクを通過する所望のレーザビ
ームを用いてレンズによって結像させ、被加工物のIC
プラスチックモールドパッケージやトランジスタ等の表
面に前記マスク上のパターンを焼き付けることによって
捺印するよう構成したものである。
従来、この種のレーザマーカ装置のマスクは、主として
金属薄板あるいはガラス基板上に蒸着し、所望の捺印パ
ターンを蝕刻したものが採用されてきたが、このマスク
はパターン部以外のレーザビームを反射あるいは散乱さ
せて揄でてしまうという欠点があった。また、レーザビ
ームを反射させて捨ててしまう場合、この反射レーザビ
ームかもとのレーザビームのエネルギの半分近くあるい
はそれ以上になり、レーザマーカ装置内部にその高いエ
ネルギのため損傷を生ずる場合があった。
金属薄板あるいはガラス基板上に蒸着し、所望の捺印パ
ターンを蝕刻したものが採用されてきたが、このマスク
はパターン部以外のレーザビームを反射あるいは散乱さ
せて揄でてしまうという欠点があった。また、レーザビ
ームを反射させて捨ててしまう場合、この反射レーザビ
ームかもとのレーザビームのエネルギの半分近くあるい
はそれ以上になり、レーザマーカ装置内部にその高いエ
ネルギのため損傷を生ずる場合があった。
そこで、これらの欠点を取り除きかつレーザビームを効
率よく利用するためには、不要のレーザビームを帰還さ
せることが考えられるが、一般に広い光束のレーザビー
ムを用いるため帰還が困難であった。
率よく利用するためには、不要のレーザビームを帰還さ
せることが考えられるが、一般に広い光束のレーザビー
ムを用いるため帰還が困難であった。
本発明の目的は、不要のレーザビームを帰還させること
ができるようにし、レーザビームを効率よく利用するこ
とができるようにしたレーザマーカ装置を提供するにあ
る。
ができるようにし、レーザビームを効率よく利用するこ
とができるようにしたレーザマーカ装置を提供するにあ
る。
本発明のレーザマーカ装置は、レーザビーム導入手段と
して少なくとも三本の光ファイバを使用するとともに、
この光ファイバのうち一本はレーザ光源に接続しかつ残
りの光ファイバはそれぞれ偏光子および検光子を有する
光学系に接続して成り、一方マスキング手段として液晶
素子の如き電気光学素子を用いた構成とし、もって上述
した目的を達成せんとするものである。
して少なくとも三本の光ファイバを使用するとともに、
この光ファイバのうち一本はレーザ光源に接続しかつ残
りの光ファイバはそれぞれ偏光子および検光子を有する
光学系に接続して成り、一方マスキング手段として液晶
素子の如き電気光学素子を用いた構成とし、もって上述
した目的を達成せんとするものである。
〔実施例〕
以下、図に示す実施例を用いて本発明の詳細な説明する
。
。
第1図は本発明に係わるレーザマーカ装置の一実施例を
示す概略構成図である。レーザ発振器1の先端部には結
合器2が取り付けられており、この結合器2は第1の光
ファイバ3を介してコリメータ4に接続されている。こ
のコリメータ4に対して光の進行方向に所定距離離間し
た位置には、光軸に対して所定角度傾斜して成る偏光子
5が配設されており、さらにこの偏光子5に対して光の
進行方向に所定距離離間した位置には、凹状のンリンド
リカルレンズおよび凸状のシリンドリカルレンズを組み
合わせたエキスパンダ6が配設されている。また、この
エキスパンダ6に対して光の進行方向に所定距離離間し
た位置にはマスキング手段としての液晶素子7が配設さ
れており、さらにこの液晶素子7から所定間隔離間して
検光子8、結像レンズ9および被加工物10が順次配設
されている。
示す概略構成図である。レーザ発振器1の先端部には結
合器2が取り付けられており、この結合器2は第1の光
ファイバ3を介してコリメータ4に接続されている。こ
のコリメータ4に対して光の進行方向に所定距離離間し
た位置には、光軸に対して所定角度傾斜して成る偏光子
5が配設されており、さらにこの偏光子5に対して光の
進行方向に所定距離離間した位置には、凹状のンリンド
リカルレンズおよび凸状のシリンドリカルレンズを組み
合わせたエキスパンダ6が配設されている。また、この
エキスパンダ6に対して光の進行方向に所定距離離間し
た位置にはマスキング手段としての液晶素子7が配設さ
れており、さらにこの液晶素子7から所定間隔離間して
検光子8、結像レンズ9および被加工物10が順次配設
されている。
コリメータ4と集光結合器12とは第2の光ファイバ1
1によって接続されており、集光結合器12の光入射端
12a側には所定間隔離間して光路変更のための反射鏡
13が設けられている。
1によって接続されており、集光結合器12の光入射端
12a側には所定間隔離間して光路変更のための反射鏡
13が設けられている。
コリメーク4と集光結合器16とは第3の光ファイバ1
7によって接続されており、集光結合器16の先端側に
は、エキスパンダ6と同じ構成になりかつエキスパンダ
6とは逆方向から入射されるレデューサ15が設けられ
ている。このレデューサ15の光入射端15aに対して
所定間隔離間した位置には光路変更のための反射鏡14
が配設されている。
7によって接続されており、集光結合器16の先端側に
は、エキスパンダ6と同じ構成になりかつエキスパンダ
6とは逆方向から入射されるレデューサ15が設けられ
ている。このレデューサ15の光入射端15aに対して
所定間隔離間した位置には光路変更のための反射鏡14
が配設されている。
次に、以上のように構成されたレーザマーカ装置の作用
について説明する。レーザ発振器1から出射されたレー
ザビームは結合器2によって第1の光ファイバ3に導入
し、コリメータ4によってコリメート光101とし偏光
子5に入射する。偏光子5によって偏光された光束は、
エキスパンダ6によって楕円光束102に変換され、マ
スキング手段である液晶素子7に入射した後、光束10
3となって検光子81に導かれる。液晶素子7によって
変調されたレーザ光の一方の偏光(例えば104を出射
光束とする)は結像レンズ9により被加工物10上に液
晶素子7の像面を結像させる。
について説明する。レーザ発振器1から出射されたレー
ザビームは結合器2によって第1の光ファイバ3に導入
し、コリメータ4によってコリメート光101とし偏光
子5に入射する。偏光子5によって偏光された光束は、
エキスパンダ6によって楕円光束102に変換され、マ
スキング手段である液晶素子7に入射した後、光束10
3となって検光子81に導かれる。液晶素子7によって
変調されたレーザ光の一方の偏光(例えば104を出射
光束とする)は結像レンズ9により被加工物10上に液
晶素子7の像面を結像させる。
一方、偏光子5および検光子8において用いられなかっ
たレーデビーム105.106は集光結合器12によっ
て第2の光ファイバ11に導入されると共に、レデュー
サ15および集光結合器16によって第3の光ファイバ
17に導入される。
たレーデビーム105.106は集光結合器12によっ
て第2の光ファイバ11に導入されると共に、レデュー
サ15および集光結合器16によって第3の光ファイバ
17に導入される。
しかる後、コリメータ4で第1〜第3の光ファイバ3.
11.17を束ねることによってコリメート光に帰還さ
せるようにしている。
11.17を束ねることによってコリメート光に帰還さ
せるようにしている。
第2図は光ファイバを束ねる手段の一実施例を示したも
ので、光ファイバ201.202.203をテフロン製
のガイド部材204によって東ね合わせ、凸レンズ20
5によって光ファイバ201.202.203から出射
されるレーザビームをコリメートするよう構成したもの
である。
ので、光ファイバ201.202.203をテフロン製
のガイド部材204によって東ね合わせ、凸レンズ20
5によって光ファイバ201.202.203から出射
されるレーザビームをコリメートするよう構成したもの
である。
第3図はこのコリメート光の分布を示すもので、それぞ
れの光ファイバ201.202.203から出射された
レーザビーム301.302、303の如く光ファイバ
201.202.203の直径分だけずれて出射される
状態を表わしたものである。
れの光ファイバ201.202.203から出射された
レーザビーム301.302、303の如く光ファイバ
201.202.203の直径分だけずれて出射される
状態を表わしたものである。
なお、池の実施例としては、単純に光ファイバを束ねる
以外に、束ねた上で光ファイバを溶融させて一体化する
方法も考えられる。
以外に、束ねた上で光ファイバを溶融させて一体化する
方法も考えられる。
また、上述した実施例ではレーザビーム導入手段として
三本の光ファイバ3.11.17を設けた構造としてい
るが、別に三本に限定されるものでなく、少なくとも三
本であればよい。
三本の光ファイバ3.11.17を設けた構造としてい
るが、別に三本に限定されるものでなく、少なくとも三
本であればよい。
以上説明したように本発明に係わるレーザマーカ装置に
よれば、マーキング光学系の設置の自由度が増すばかり
でなく、マスキング手段によって分布をもった光ビーム
も均一化できることおよび偏光子、検光子および電気光
学素子という可動部品を用いない構成であるため、レー
ザビームを帰還させるための光学系の構成が容易となり
、しかも光ファイバへの結合損失、伝送損失以外にレー
ザビームを弱める要因が少なく、したがってレーザビー
ムを効率よく利用できるという効果を有する。
よれば、マーキング光学系の設置の自由度が増すばかり
でなく、マスキング手段によって分布をもった光ビーム
も均一化できることおよび偏光子、検光子および電気光
学素子という可動部品を用いない構成であるため、レー
ザビームを帰還させるための光学系の構成が容易となり
、しかも光ファイバへの結合損失、伝送損失以外にレー
ザビームを弱める要因が少なく、したがってレーザビー
ムを効率よく利用できるという効果を有する。
第1図は本発明に係わるレーザマーカ装置の一実施例を
示す概略構成図、第2図は光ファイバを束ねる手段の一
実施例を示す断面図、第3図はレーザビームの分布状態
を説明するための図である。 1・・・・・・レーザ発振器、 3・・・・・・第1の光ファイバ、 5・・・・・・偏光子、6・・・・・・エキスパンダ、
7・・・・・・液晶素子、8・・・・・・検光子、9・
・・・・・結像レンズ、 11・・・・・・第2の光ファイバ、 17・・・・・・第3の光ファイバ。 出 願 人 日本電気株式会社 代 理 人
示す概略構成図、第2図は光ファイバを束ねる手段の一
実施例を示す断面図、第3図はレーザビームの分布状態
を説明するための図である。 1・・・・・・レーザ発振器、 3・・・・・・第1の光ファイバ、 5・・・・・・偏光子、6・・・・・・エキスパンダ、
7・・・・・・液晶素子、8・・・・・・検光子、9・
・・・・・結像レンズ、 11・・・・・・第2の光ファイバ、 17・・・・・・第3の光ファイバ。 出 願 人 日本電気株式会社 代 理 人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、レーザビームをマスキング手段によって照射し、マ
スク上の像面をレンズで結像させるよう構成したレーザ
マーカ装置において、レーザビーム導入手段として少な
くとも三本の光ファイバを使用するとともに、この光フ
ァイバのうち一本はレーザ光源に接続しかつ残りの光フ
ァイバはそれぞれ偏光子および検光子を有する光学系に
接続して成り、一方前記マスキング手段として電気光学
素子を用いたことを特徴とするレーザマーカ装置。 2、前記電気光学素子は液晶素子であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のレーザマーカ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60266098A JPH0658466B2 (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | レ−ザマ−カ装置 |
US06/934,713 US4758848A (en) | 1985-11-28 | 1986-11-25 | Method and apparatus for marking a pattern on an article with a laser including partial feedback of the laser output for generating the marking beam |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60266098A JPH0658466B2 (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | レ−ザマ−カ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62127710A true JPS62127710A (ja) | 1987-06-10 |
JPH0658466B2 JPH0658466B2 (ja) | 1994-08-03 |
Family
ID=17426290
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60266098A Expired - Lifetime JPH0658466B2 (ja) | 1985-11-28 | 1985-11-28 | レ−ザマ−カ装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4758848A (ja) |
JP (1) | JPH0658466B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5589955A (en) * | 1991-05-21 | 1996-12-31 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2526717B2 (ja) * | 1990-06-21 | 1996-08-21 | 日本電気株式会社 | レ―ザ加工装置 |
JPH0484686A (ja) * | 1990-07-27 | 1992-03-17 | Advantest Corp | レーザ加工装置 |
NL9002036A (nl) * | 1990-09-17 | 1992-04-16 | Philips Nv | Inrichting en werkwijze voor het met elektromagnetisch straling aanbrengen van merktekens op een voorwerp, en een voorwerp voorzien van merktekens. |
US5262613A (en) * | 1991-09-24 | 1993-11-16 | General Laser, Inc. | Laser retrofit for mechanical engravers |
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GB2310504A (en) * | 1996-02-23 | 1997-08-27 | Spectrum Tech Ltd | Laser marking apparatus and methods |
FR2745214B1 (fr) * | 1996-02-23 | 1998-03-27 | Thomson Csf | Systeme optique pour le traitement des materiaux |
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US7015418B2 (en) * | 2002-05-17 | 2006-03-21 | Gsi Group Corporation | Method and system for calibrating a laser processing system and laser marking system utilizing same |
US7820937B2 (en) * | 2004-10-27 | 2010-10-26 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Method of applying one or more electromagnetic beams to form a fusion bond on a workpiece such as a medical device |
US7705268B2 (en) * | 2004-11-11 | 2010-04-27 | Gsi Group Corporation | Method and system for laser soft marking |
US20060189091A1 (en) * | 2004-11-11 | 2006-08-24 | Bo Gu | Method and system for laser hard marking |
US20060239304A1 (en) * | 2005-04-23 | 2006-10-26 | Photonics Industries Int'l | High powered TEM00 mode pulsed laser |
JP4921159B2 (ja) * | 2006-12-28 | 2012-04-25 | キヤノン株式会社 | 光ビーム走査装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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AU2841784A (en) * | 1983-05-18 | 1984-11-22 | Australian Electro Optics Pty. Limited | Laser beam marking |
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US4559546A (en) * | 1984-09-04 | 1985-12-17 | Xerox Corporation | Intensity control for the imaging beam of a raster scanner |
-
1985
- 1985-11-28 JP JP60266098A patent/JPH0658466B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-11-25 US US06/934,713 patent/US4758848A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5589955A (en) * | 1991-05-21 | 1996-12-31 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0658466B2 (ja) | 1994-08-03 |
US4758848A (en) | 1988-07-19 |
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