JPS62127710A - レ−ザマ−カ装置 - Google Patents

レ−ザマ−カ装置

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JPS62127710A
JPS62127710A JP60266098A JP26609885A JPS62127710A JP S62127710 A JPS62127710 A JP S62127710A JP 60266098 A JP60266098 A JP 60266098A JP 26609885 A JP26609885 A JP 26609885A JP S62127710 A JPS62127710 A JP S62127710A
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laser
optical
laser beam
polarizer
coupler
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    • H01L23/544—Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B23K26/066—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms by using masks
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    • G02F1/1313—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells specially adapted for a particular application
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザマーカ装置に係わり、特にレーザビーム
のエネルギを効率よく帰還させて利用するだめのレーデ
マーカ装置に関するものである。
〔従来の技術〕
一般に、レーザマーカ装置は広い光束のレーザビームで
マスクを照射し、このマスクを通過する所望のレーザビ
ームを用いてレンズによって結像させ、被加工物のＩＣ
プラスチックモールドパッケージやトランジスタ等の表
面に前記マスク上のパターンを焼き付けることによって
捺印するよう構成したものである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来、この種のレーザマーカ装置のマスクは、主として
金属薄板あるいはガラス基板上に蒸着し、所望の捺印パ
ターンを蝕刻したものが採用されてきたが、このマスク
はパターン部以外のレーザビームを反射あるいは散乱さ
せて揄でてしまうという欠点があった。また、レーザビ
ームを反射させて捨ててしまう場合、この反射レーザビ
ームかもとのレーザビームのエネルギの半分近くあるい
はそれ以上になり、レーザマーカ装置内部にその高いエ
ネルギのため損傷を生ずる場合があった。
そこで、これらの欠点を取り除きかつレーザビームを効
率よく利用するためには、不要のレーザビームを帰還さ
せることが考えられるが、一般に広い光束のレーザビー
ムを用いるため帰還が困難であった。
本発明の目的は、不要のレーザビームを帰還させること
ができるようにし、レーザビームを効率よく利用するこ
とができるようにしたレーザマーカ装置を提供するにあ
る。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明のレーザマーカ装置は、レーザビーム導入手段と
して少なくとも三本の光ファイバを使用するとともに、
この光ファイバのうち一本はレーザ光源に接続しかつ残
りの光ファイバはそれぞれ偏光子および検光子を有する
光学系に接続して成り、一方マスキング手段として液晶
素子の如き電気光学素子を用いた構成とし、もって上述
した目的を達成せんとするものである。
〔実施例〕 以下、図に示す実施例を用いて本発明の詳細な説明する
。
第１図は本発明に係わるレーザマーカ装置の一実施例を
示す概略構成図である。レーザ発振器１の先端部には結
合器２が取り付けられており、この結合器２は第１の光
ファイバ３を介してコリメータ４に接続されている。こ
のコリメータ４に対して光の進行方向に所定距離離間し
た位置には、光軸に対して所定角度傾斜して成る偏光子
５が配設されており、さらにこの偏光子５に対して光の
進行方向に所定距離離間した位置には、凹状のンリンド
リカルレンズおよび凸状のシリンドリカルレンズを組み
合わせたエキスパンダ６が配設されている。また、この
エキスパンダ６に対して光の進行方向に所定距離離間し
た位置にはマスキング手段としての液晶素子７が配設さ
れており、さらにこの液晶素子７から所定間隔離間して
検光子８、結像レンズ９および被加工物１０が順次配設
されている。
コリメータ４と集光結合器１２とは第２の光ファイバ１
１によって接続されており、集光結合器１２の光入射端
１２ａ側には所定間隔離間して光路変更のための反射鏡
１３が設けられている。
コリメーク４と集光結合器１６とは第３の光ファイバ１
７によって接続されており、集光結合器１６の先端側に
は、エキスパンダ６と同じ構成になりかつエキスパンダ
６とは逆方向から入射されるレデューサ１５が設けられ
ている。このレデューサ１５の光入射端１５ａに対して
所定間隔離間した位置には光路変更のための反射鏡１４
が配設されている。
次に、以上のように構成されたレーザマーカ装置の作用
について説明する。レーザ発振器１から出射されたレー
ザビームは結合器２によって第１の光ファイバ３に導入
し、コリメータ４によってコリメート光１０１とし偏光
子５に入射する。偏光子５によって偏光された光束は、
エキスパンダ６によって楕円光束１０２に変換され、マ
スキング手段である液晶素子７に入射した後、光束１０
３となって検光子８１に導かれる。液晶素子７によって
変調されたレーザ光の一方の偏光（例えば１０４を出射
光束とする）は結像レンズ９により被加工物１０上に液
晶素子７の像面を結像させる。
一方、偏光子５および検光子８において用いられなかっ
たレーデビーム１０５．１０６は集光結合器１２によっ
て第２の光ファイバ１１に導入されると共に、レデュー
サ１５および集光結合器１６によって第３の光ファイバ
１７に導入される。
しかる後、コリメータ４で第１〜第３の光ファイバ３．
１１．１７を束ねることによってコリメート光に帰還さ
せるようにしている。
第２図は光ファイバを束ねる手段の一実施例を示したも
ので、光ファイバ２０１．２０２．２０３をテフロン製
のガイド部材２０４によって東ね合わせ、凸レンズ２０
５によって光ファイバ２０１．２０２．２０３から出射
されるレーザビームをコリメートするよう構成したもの
である。
第３図はこのコリメート光の分布を示すもので、それぞ
れの光ファイバ２０１．２０２．２０３から出射された
レーザビーム３０１．３０２、３０３の如く光ファイバ
２０１．２０２．２０３の直径分だけずれて出射される
状態を表わしたものである。
なお、池の実施例としては、単純に光ファイバを束ねる
以外に、束ねた上で光ファイバを溶融させて一体化する
方法も考えられる。
また、上述した実施例ではレーザビーム導入手段として
三本の光ファイバ３．１１．１７を設けた構造としてい
るが、別に三本に限定されるものでなく、少なくとも三
本であればよい。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明に係わるレーザマーカ装置に
よれば、マーキング光学系の設置の自由度が増すばかり
でなく、マスキング手段によって分布をもった光ビーム
も均一化できることおよび偏光子、検光子および電気光
学素子という可動部品を用いない構成であるため、レー
ザビームを帰還させるための光学系の構成が容易となり
、しかも光ファイバへの結合損失、伝送損失以外にレー
ザビームを弱める要因が少なく、したがってレーザビー
ムを効率よく利用できるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明に係わるレーザマーカ装置の一実施例を
示す概略構成図、第２図は光ファイバを束ねる手段の一
実施例を示す断面図、第３図はレーザビームの分布状態
を説明するための図である。 １・・・・・・レーザ発振器、 ３・・・・・・第１の光ファイバ、 ５・・・・・・偏光子、６・・・・・・エキスパンダ、
７・・・・・・液晶素子、８・・・・・・検光子、９・
・・・・・結像レンズ、 １１・・・・・・第２の光ファイバ、 １７・・・・・・第３の光ファイバ。 出　　願　　人 日本電気株式会社 代　　理　　人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、レーザビームをマスキング手段によって照射し、マ
    スク上の像面をレンズで結像させるよう構成したレーザ
    マーカ装置において、レーザビーム導入手段として少な
    くとも三本の光ファイバを使用するとともに、この光フ
    ァイバのうち一本はレーザ光源に接続しかつ残りの光フ
    ァイバはそれぞれ偏光子および検光子を有する光学系に
    接続して成り、一方前記マスキング手段として電気光学
    素子を用いたことを特徴とするレーザマーカ装置。 ２、前記電気光学素子は液晶素子であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第１項記載のレーザマーカ装置。
JP60266098A 1985-11-28 1985-11-28 レ−ザマ−カ装置 Expired - Lifetime JPH0658466B2 (ja)

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US06/934,713 US4758848A (en) 1985-11-28 1986-11-25 Method and apparatus for marking a pattern on an article with a laser including partial feedback of the laser output for generating the marking beam

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JPH0658466B2 JPH0658466B2 (ja) 1994-08-03

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US4758848A (en) 1988-07-19

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