JPS62125517A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS62125517A JPS62125517A JP26494185A JP26494185A JPS62125517A JP S62125517 A JPS62125517 A JP S62125517A JP 26494185 A JP26494185 A JP 26494185A JP 26494185 A JP26494185 A JP 26494185A JP S62125517 A JPS62125517 A JP S62125517A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- film
- thin film
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分計〕
本発明は磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドに関
する。
する。
最近磁気記録の高密度化に伴って最短記録波長の短縮化
が進められてきている。このため磁気ヘッドもこれに対
応してより高精度のものが要求されてきている。例えば
、多チャンネル薄膜磁気ヘッドにおいては特性及び互換
性の面からギャップの直線性が高精度のものが要求され
ている。
が進められてきている。このため磁気ヘッドもこれに対
応してより高精度のものが要求されてきている。例えば
、多チャンネル薄膜磁気ヘッドにおいては特性及び互換
性の面からギャップの直線性が高精度のものが要求され
ている。
前述した多チャンネル薄膜磁気ヘッドは従来は第７図及
び第８図に示すように構成されていた。
び第８図に示すように構成されていた。
すなわち、磁性基板１上にギャップ膜２、励磁コイル３
、絶縁層４、磁気コア５及び保護膜６が順次積層されて
薄膜層７が形成されている。このとき、この薄膜層７の
熱膨張特性は基板１の熱膨張特性と異なるため、成膜時
に発生する熱てより基板１には第９図または第１０図に
示すようにそれぞれ凸状または凹状の反りが発生してい
た。この反りの発生によって基板ｌのギャップ形成面の
平担度が損なわれ、多チヤンネルヘッドにおいて各々の
ヘッドのギャップの直線性が異なっていた。このため磁
気ヘッドの記録媒体に対する角度調整が困難となるばか
りでなく、互換性に欠けるものとなるという問題があっ
た。一方、パターン形成時のフォトマスク合わせの方法
がコンタクトタイブチアル フォトリンゲラフィブロ
セスにおいては、前述した基板１０反りによってマスク
コンタクトが不均一となるため、間隙の生じた部分のパ
ターン形成精度が劣化するという問題もあった。
、絶縁層４、磁気コア５及び保護膜６が順次積層されて
薄膜層７が形成されている。このとき、この薄膜層７の
熱膨張特性は基板１の熱膨張特性と異なるため、成膜時
に発生する熱てより基板１には第９図または第１０図に
示すようにそれぞれ凸状または凹状の反りが発生してい
た。この反りの発生によって基板ｌのギャップ形成面の
平担度が損なわれ、多チヤンネルヘッドにおいて各々の
ヘッドのギャップの直線性が異なっていた。このため磁
気ヘッドの記録媒体に対する角度調整が困難となるばか
りでなく、互換性に欠けるものとなるという問題があっ
た。一方、パターン形成時のフォトマスク合わせの方法
がコンタクトタイブチアル フォトリンゲラフィブロ
セスにおいては、前述した基板１０反りによってマスク
コンタクトが不均一となるため、間隙の生じた部分のパ
ターン形成精度が劣化するという問題もあった。
また、第１１図に示すように例えば多チヤンネル記録用
薄膜磁気ヘッド８と多チヤンネル再生用薄膜磁気ヘッド
９とをスペーサ１０を用いて複合一体化するような場合
だ、前述の基板１のｆｆｃによって記録、再生用の両ヘ
ッド８．９間の高精度なギャップ平行度合わせ及び相対
位置合わせが困難となるばかりでなく、加工時にも戻り
のための基板裏面１ａを直接加工基準面とすることがで
きず、新たに別の基準面を形成する必要があった。
薄膜磁気ヘッド８と多チヤンネル再生用薄膜磁気ヘッド
９とをスペーサ１０を用いて複合一体化するような場合
だ、前述の基板１のｆｆｃによって記録、再生用の両ヘ
ッド８．９間の高精度なギャップ平行度合わせ及び相対
位置合わせが困難となるばかりでなく、加工時にも戻り
のための基板裏面１ａを直接加工基準面とすることがで
きず、新たに別の基準面を形成する必要があった。
第１２図及び第１３はメタル・イン・ギャップ型の磁気
ヘッドの一例を示すもので、軟磁性酸化物よりなる磁性
基板１１によって形成された磁気コア半体対の接合面に
、高飽和磁束密度及び高透磁率を有する金属磁性膜１２
を形成したものである。この場合も磁性基板１１と金属
磁性［Ｘ２との熱膨張特性が異なるため、第１４図に示
すように磁性基板１１に反りが発生し、磁気ギャップ形
成時にウェハー内で不均一なギャップが形成されていた
。この結果、前述した薄膜磁気ヘッドの場合と同様なＩ
ＲＪ題が生じていた。
ヘッドの一例を示すもので、軟磁性酸化物よりなる磁性
基板１１によって形成された磁気コア半体対の接合面に
、高飽和磁束密度及び高透磁率を有する金属磁性膜１２
を形成したものである。この場合も磁性基板１１と金属
磁性［Ｘ２との熱膨張特性が異なるため、第１４図に示
すように磁性基板１１に反りが発生し、磁気ギャップ形
成時にウェハー内で不均一なギャップが形成されていた
。この結果、前述した薄膜磁気ヘッドの場合と同様なＩ
ＲＪ題が生じていた。
本発明は上述した点に鑑みてなされたものであシ、ギャ
ップの直線性のよい磁気ヘッドを提供することを目的と
する。
ップの直線性のよい磁気ヘッドを提供することを目的と
する。
本発明は基板の表面にギャップ膜、励磁コイル、絶縁層
、磁気コア、保護膜などよシなる薄膜層が形成された磁
気ヘッドの、前記基板の裏面に前記薄膜層とほぼ同等の
熱膨張特性を有する部材よりなる薄膜を形成することに
より、ギャップの直；磁性をよくしたものである。
、磁気コア、保護膜などよシなる薄膜層が形成された磁
気ヘッドの、前記基板の裏面に前記薄膜層とほぼ同等の
熱膨張特性を有する部材よりなる薄膜を形成することに
より、ギャップの直；磁性をよくしたものである。
また、本発明は軟磁性酸化物よりなる磁気コア半体対の
接合面に軟磁性金属薄膜を形成し、この磁気コア半体対
を磁気ギャップを介して突き合わせてなる磁気ヘッドの
、前記磁気コア半体対の接合面と平行な裏面に前記軟磁
性金属薄膜とほぼ同等の熱膨張特性を有する部材よシな
る薄膜を形成することにより、ギャップの直、練性をよ
くしたものである。
接合面に軟磁性金属薄膜を形成し、この磁気コア半体対
を磁気ギャップを介して突き合わせてなる磁気ヘッドの
、前記磁気コア半体対の接合面と平行な裏面に前記軟磁
性金属薄膜とほぼ同等の熱膨張特性を有する部材よシな
る薄膜を形成することにより、ギャップの直、練性をよ
くしたものである。
以下、本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を図面を参照
して説明する。
して説明する。
第１図に本発明の第１の発明の一実施例を示す。
この図において第８図に示す従来例と同一または同等部
分には同一符号を付して示し、説明を省略する。本実施
例の特徴は基板１の裏面に矯正膜１３を形成した点にあ
る。表面が高精度に平面研磨された平担度のよい磁性基
板１の片面に従来例で説明したような薄膜７がスパッタ
リングなどの手段で形成されている。この基板１の、薄
膜７が形成された面と反対側の面には、この薄膜７の熱
膨張係数とほぼ等しい熱膨張係数を有するセンダストな
どの材料によりスパッタリングなどの手段で薄膜７とほ
ぼ等しい厚さの矯正ｖ１３が全面に形成されている。
分には同一符号を付して示し、説明を省略する。本実施
例の特徴は基板１の裏面に矯正膜１３を形成した点にあ
る。表面が高精度に平面研磨された平担度のよい磁性基
板１の片面に従来例で説明したような薄膜７がスパッタ
リングなどの手段で形成されている。この基板１の、薄
膜７が形成された面と反対側の面には、この薄膜７の熱
膨張係数とほぼ等しい熱膨張係数を有するセンダストな
どの材料によりスパッタリングなどの手段で薄膜７とほ
ぼ等しい厚さの矯正ｖ１３が全面に形成されている。
本実施例によれば、成膜時の基板加熱及びスパッタリン
グ時の温度上昇があっても、基板１０表裏両面に熱膨張
係数及び厚さのほぼ等しい薄膜７と矯正膜１３とがそれ
ぞれ形成されているため、温度上昇による応力の発生は
基板ｌの表裏においてほぼ等しく、基板１の反りの発生
を防止することができる。従って、基板１の初期の高精
度平面を維持することができ、ギャップの直線性の良い
磁気ヘラドラ得ることができる。
グ時の温度上昇があっても、基板１０表裏両面に熱膨張
係数及び厚さのほぼ等しい薄膜７と矯正膜１３とがそれ
ぞれ形成されているため、温度上昇による応力の発生は
基板ｌの表裏においてほぼ等しく、基板１の反りの発生
を防止することができる。従って、基板１の初期の高精
度平面を維持することができ、ギャップの直線性の良い
磁気ヘラドラ得ることができる。
上述した実施例では矯正膜１３が基板１の裏面の全面に
形成された場合について説明したが、この矯正膜１３は
第２図乃至第４図に示すようにそれぞれ平行板状、中空
板状、ブロック状に形成してもよい。これらの形状は薄
膜磁気ヘッド製造時にコア材、コイル材、絶縁材などを
パターニングするため基板１０表面に発生する不均一な
応力に対応して決められ、部分的に発生する反りの矯正
に効果がある。
形成された場合について説明したが、この矯正膜１３は
第２図乃至第４図に示すようにそれぞれ平行板状、中空
板状、ブロック状に形成してもよい。これらの形状は薄
膜磁気ヘッド製造時にコア材、コイル材、絶縁材などを
パターニングするため基板１０表面に発生する不均一な
応力に対応して決められ、部分的に発生する反りの矯正
に効果がある。
第５図は多チヤンネル記録用薄膜磁気ヘッド８と多チヤ
ンネル再生用薄膜磁気ヘッド９とｔｉ合一体化するタイ
プの磁気ヘッドに応用した場合を示す。この図において
、第８図及び第１１図に示す従来例と同一または同等部
分には同一符号を付して示す。基板１上にギャップ膜２
、磁気コア５などの薄膜をパターニングしてなる記録用
薄膜磁気ヘッド８と、例えば基板１上にギャップ膜１４
、磁気ヨーク１５などの薄膜をパターニングしてなるヨ
ークタイプ再生用薄膜磁気ヘッド９とのそれぞれの表面
Ｓｉαなどの保護層６が数組乃至数＋μｍの厚さで形成
されている。この場合も基板ｌの薄膜が形成された面と
反対側の面に前述の実施例と同様に矯正膜１３が形成さ
れていて、基板ｌの平面度はほぼ初期状部を保っている
。そしてこれらの記録用薄膜磁気ヘッド８と再生用薄膜
磁気ヘッド９とがスペーサ１０を介して一体化されてい
る。この結果、多チャンネルの記録ヘッド８と再生ヘッ
ド９との平面度が確保されているため、それぞれの磁気
ヘッド８．９のギャップの直線度が良好となる。
ンネル再生用薄膜磁気ヘッド９とｔｉ合一体化するタイ
プの磁気ヘッドに応用した場合を示す。この図において
、第８図及び第１１図に示す従来例と同一または同等部
分には同一符号を付して示す。基板１上にギャップ膜２
、磁気コア５などの薄膜をパターニングしてなる記録用
薄膜磁気ヘッド８と、例えば基板１上にギャップ膜１４
、磁気ヨーク１５などの薄膜をパターニングしてなるヨ
ークタイプ再生用薄膜磁気ヘッド９とのそれぞれの表面
Ｓｉαなどの保護層６が数組乃至数＋μｍの厚さで形成
されている。この場合も基板ｌの薄膜が形成された面と
反対側の面に前述の実施例と同様に矯正膜１３が形成さ
れていて、基板ｌの平面度はほぼ初期状部を保っている
。そしてこれらの記録用薄膜磁気ヘッド８と再生用薄膜
磁気ヘッド９とがスペーサ１０を介して一体化されてい
る。この結果、多チャンネルの記録ヘッド８と再生ヘッ
ド９との平面度が確保されているため、それぞれの磁気
ヘッド８．９のギャップの直線度が良好となる。
同時に、例えば記録ヘッド８の基板１の裏面を加工基準
面として用いることができ、記録再生の両磁気ヘッド８
．９間の高精度なギャップ平行度合わせ及び相互位置合
わせ全容易に行なうことができる。
面として用いることができ、記録再生の両磁気ヘッド８
．９間の高精度なギャップ平行度合わせ及び相互位置合
わせ全容易に行なうことができる。
第６図に本発明の第２の発明の一実施例であるメタル・
イン・ギャップ型の磁気ヘッドを示す。
イン・ギャップ型の磁気ヘッドを示す。
この図において第１４図に示す従来例と同一または同等
部分圧は同一符号を付して示し、説明を省略する。本実
施例においても第１の発明の場合と同様に、磁性基板１
１の金属磁性膜１２が形成された面と反対側の面にはこ
の金属磁性膜１２の熱膨張係数とほぼ等しい熱膨張係数
を有する材料により、スパッタリングなどの手段で金属
磁性膜１２とほぼ等しい厚さの矯正膜１３が形成されて
いる。
部分圧は同一符号を付して示し、説明を省略する。本実
施例においても第１の発明の場合と同様に、磁性基板１
１の金属磁性膜１２が形成された面と反対側の面にはこ
の金属磁性膜１２の熱膨張係数とほぼ等しい熱膨張係数
を有する材料により、スパッタリングなどの手段で金属
磁性膜１２とほぼ等しい厚さの矯正膜１３が形成されて
いる。
本実施例によれば、第１の発明の場合と同様に磁性基板
１１の反りの発生を防止することができ、これにより、
ギャップ対向面１６が磁気ギャップ形成時にウェハー内
全域に亘って均一に形成でき、ギャップ長も均一になる
。従って、ギャップの直線度が良好となり磁気ヘッドと
しての精度が向上する。また接合面において残留歪が少
ないためクラックの発生を防止できるという効果もある
。
１１の反りの発生を防止することができ、これにより、
ギャップ対向面１６が磁気ギャップ形成時にウェハー内
全域に亘って均一に形成でき、ギャップ長も均一になる
。従って、ギャップの直線度が良好となり磁気ヘッドと
しての精度が向上する。また接合面において残留歪が少
ないためクラックの発生を防止できるという効果もある
。
上述した各実施例においては、基板１及び１１がフェラ
イトなどの酸化物磁性基板の場合について説明したが、
この基板材料は結晶化ガラスなどの非磁性材料を用いて
もよく、同様の効果を得ることができる。
イトなどの酸化物磁性基板の場合について説明したが、
この基板材料は結晶化ガラスなどの非磁性材料を用いて
もよく、同様の効果を得ることができる。
上述したように本発明によれば、磁気ヘッドの基板の薄
膜が形成された面と反対側の面にこの薄膜と熱膨張特性
の等しい端正膜を形成したので、成膜時の温度上昇によ
る基板の反りの発生？防止することができ、ギャップの
直線性のよい磁気ヘッドを得ることができる。
膜が形成された面と反対側の面にこの薄膜と熱膨張特性
の等しい端正膜を形成したので、成膜時の温度上昇によ
る基板の反りの発生？防止することができ、ギャップの
直線性のよい磁気ヘッドを得ることができる。
第１図は本発明の第１の発明の一実施例を示す正面１、
第２図乃至第５図は第１の発明の他の実施例を示す斜視
図、第６図は本発明の第２の発明の一実施例を示す分解
斜視図、第７図は従来の薄膜磁気ヘッドの構成を示す斜
視図、第８図は第７図のＡ−Ａ線断面図、第９図乃至第
１１図は従来の薄膜磁気ヘッドの反シの状態を示す斜視
図、第１２図は従来のメタル・イン ギャップ型の磁気
ヘッドを示す斜視図、第１３図は第１２図の平面図、第
１４図は従来のメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッド
の反りの状態を示す斜視図である。 ｌ・・・基板、 Ｉａ・・・長面、 ２・・・ギ
ャップ膜。 ３・・・励磁コイル、 ４・・・絶縁層、５・・・磁
気コア。 ６・・・保獲膜、 ７・・・薄膜層。 １１・・・磁性基板（磁気コア半体対）１２・・・磁性
金属膜、１３・・・矯正膜（薄膜）代理人弁理士
則 近 憲 倍量 宇 治
弘第１図 第２図 第３図 第４図 第６図 第７図 第９図 第１０図 第１１図 第１２図 第１４図
第２図乃至第５図は第１の発明の他の実施例を示す斜視
図、第６図は本発明の第２の発明の一実施例を示す分解
斜視図、第７図は従来の薄膜磁気ヘッドの構成を示す斜
視図、第８図は第７図のＡ−Ａ線断面図、第９図乃至第
１１図は従来の薄膜磁気ヘッドの反シの状態を示す斜視
図、第１２図は従来のメタル・イン ギャップ型の磁気
ヘッドを示す斜視図、第１３図は第１２図の平面図、第
１４図は従来のメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッド
の反りの状態を示す斜視図である。 ｌ・・・基板、 Ｉａ・・・長面、 ２・・・ギ
ャップ膜。 ３・・・励磁コイル、 ４・・・絶縁層、５・・・磁
気コア。 ６・・・保獲膜、 ７・・・薄膜層。 １１・・・磁性基板（磁気コア半体対）１２・・・磁性
金属膜、１３・・・矯正膜（薄膜）代理人弁理士
則 近 憲 倍量 宇 治
弘第１図 第２図 第３図 第４図 第６図 第７図 第９図 第１０図 第１１図 第１２図 第１４図
Claims (2)
- （１）基板の表面にギャップ膜、励磁コイル、絶縁層、
磁気コア、保護膜などよりなる薄膜層が形成された磁気
ヘッドにおいて、前記基板の裏面に前記薄膜層とほぼ同
等の熱膨張特性を有する部材よりなる薄膜を形成したこ
とを特徴とする磁気ヘッド。 - （２）軟磁性配化物よりなる磁気コア半体対の接合面に
軟磁性金属薄膜を形成し、この磁気コア半体対を磁気ギ
ャップを介して突き合わせてなる磁気ヘッドにおいて、
前記磁気コア半体対の接合面と平行な裏面に前記軟磁性
金属薄膜とほぼ同等の熱膨張特性を有する部材よりなる
薄膜を形成したことを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26494185A JPS62125517A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26494185A JPS62125517A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62125517A true JPS62125517A (ja) | 1987-06-06 |
Family
ID=17410309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26494185A Pending JPS62125517A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62125517A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04353497A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-08 | Toppan Printing Co Ltd | 表面強度を付与したオパール色調を呈する印刷物 |
-
1985
- 1985-11-27 JP JP26494185A patent/JPS62125517A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04353497A (ja) * | 1991-05-30 | 1992-12-08 | Toppan Printing Co Ltd | 表面強度を付与したオパール色調を呈する印刷物 |
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