JPS62120026A - Ｘ線露光装置 - Google Patents
Ｘ線露光装置Info
- Publication number
- JPS62120026A JPS62120026A JP60260313A JP26031385A JPS62120026A JP S62120026 A JPS62120026 A JP S62120026A JP 60260313 A JP60260313 A JP 60260313A JP 26031385 A JP26031385 A JP 26031385A JP S62120026 A JPS62120026 A JP S62120026A
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- JP
- Japan
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- base
- vibration
- mask
- ray
- wafer
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
ステップ・アンド・リピーＨＮ光装置のステージ部と、
ターゲット、モータ等の回転部とを別々の除振台にセッ
トし、距離を一定に保つことによりＸ線領域を最小にし
た微少レベルの防振が可能なＸ線露光装置である。
ターゲット、モータ等の回転部とを別々の除振台にセッ
トし、距離を一定に保つことによりＸ線領域を最小にし
た微少レベルの防振が可能なＸ線露光装置である。
本発明はＸ線露光装置に関するもので、さらに詳しく言
えば簡単な方式でマスクパターンとほぼ同じ範囲に無駄
なく小さなＸ線スポットを作ることにより精度よ（経済
的なＸ線露光を行いうる装置に関するものである。
えば簡単な方式でマスクパターンとほぼ同じ範囲に無駄
なく小さなＸ線スポットを作ることにより精度よ（経済
的なＸ線露光を行いうる装置に関するものである。
Ｘ線露光装置の線源となるマスク、ウェハの関係は第２
図に示され、同図において１．３１は光源、３２はＸ線
、３３はマスク、３４はウェハ、３５は移動ステージを
示し、光源３１とマスク３３までの距離りが小さければ
小さいほど強度大なるＸ線が露光されるが、光源の大き
さφには限度があるので露光領域りを必要最小限に設定
すると効率的である。なお同図において、ｇはマスク３
３とウェハ３４との間の距離を示す。
図に示され、同図において１．３１は光源、３２はＸ線
、３３はマスク、３４はウェハ、３５は移動ステージを
示し、光源３１とマスク３３までの距離りが小さければ
小さいほど強度大なるＸ線が露光されるが、光源の大き
さφには限度があるので露光領域りを必要最小限に設定
すると効率的である。なお同図において、ｇはマスク３
３とウェハ３４との間の距離を示す。
従来は静止したターゲットを水冷し、それに電子ビーム
を照射してＸ線を得る方式がとられていたが、ターゲッ
トの同一部分のみを電子ビームで照射すると冷却効率が
悪いだけでなく、ターゲットのある特定の部分のみが常
時電子ビームで照射されるのでその部分のみがダメージ
を受ける問題があった。
を照射してＸ線を得る方式がとられていたが、ターゲッ
トの同一部分のみを電子ビームで照射すると冷却効率が
悪いだけでなく、ターゲットのある特定の部分のみが常
時電子ビームで照射されるのでその部分のみがダメージ
を受ける問題があった。
そこで最近は回転体ターゲットをＸ線源とする露光装置
が用いられるが、この型の装置としては第３図と第４図
に示されるものがあり、これらの図において、１１は真
空チャンバ、１２は回転ターゲット、１３はモータ、１
４は軸受、１５はポンプ、１６は電子ビーム、１７はフ
ィラメント、１８はＢｅ窓、１９はＸ線、２０はマスク
、２１はウェハ、２２は移動台、２３は除振台、２４は
除振材、２５は足、２６は床を示す。
が用いられるが、この型の装置としては第３図と第４図
に示されるものがあり、これらの図において、１１は真
空チャンバ、１２は回転ターゲット、１３はモータ、１
４は軸受、１５はポンプ、１６は電子ビーム、１７はフ
ィラメント、１８はＢｅ窓、１９はＸ線、２０はマスク
、２１はウェハ、２２は移動台、２３は除振台、２４は
除振材、２５は足、２６は床を示す。
第３図の装置においては、除振台２３の上に除振材２４
によってモータ１３と回転ターゲット１２を支えるもの
であり、第４図の装置においては、除振台２３から離し
てモータ１３と回転ターゲット１２を支柱２７によって
取り付けたものである。
によってモータ１３と回転ターゲット１２を支えるもの
であり、第４図の装置においては、除振台２３から離し
てモータ１３と回転ターゲット１２を支柱２７によって
取り付けたものである。
ステップ・アンド・リピート方式においては、移動台２
２を重くし、防振の目的で共振周波数を低く抑えである
。この移動台２２が高速で加速、減速を繰り返す。かか
る方式において、第４図の装置では移動台２２の振動で
マスク２０とウェハ２１はＸ線領域から大きく （±１
０ｗ１程度）外れてしまう。第３図の装置においても、
防振材２４の種類によっては同じ現象が発生する可能性
があり、露光パターンの微細化がサブミクロン台へと進
むと、モータ１３、回転ターゲット１２の振動を、移動
台２２上で露光パターンのさらに１桁下のレベルの振幅
で除振することが困難になってくる。第４図の装置では
必要以上のＸ線領域を用意しなければならないか、ある
いは防振台のゆれがおさまるまで待つしかない。
２を重くし、防振の目的で共振周波数を低く抑えである
。この移動台２２が高速で加速、減速を繰り返す。かか
る方式において、第４図の装置では移動台２２の振動で
マスク２０とウェハ２１はＸ線領域から大きく （±１
０ｗ１程度）外れてしまう。第３図の装置においても、
防振材２４の種類によっては同じ現象が発生する可能性
があり、露光パターンの微細化がサブミクロン台へと進
むと、モータ１３、回転ターゲット１２の振動を、移動
台２２上で露光パターンのさらに１桁下のレベルの振幅
で除振することが困難になってくる。第４図の装置では
必要以上のＸ線領域を用意しなければならないか、ある
いは防振台のゆれがおさまるまで待つしかない。
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、Ｘ線
領域を必要最小限にし、除振もより微少レベルにしたＸ
線露光装置を提供することを目的とする。
領域を必要最小限にし、除振もより微少レベルにしたＸ
線露光装置を提供することを目的とする。
第１図ｔａ＋と（１１１は本発明実施例の平面図と正面
図である。
図である。
本発明においては、除振すべきマスク２０、ウェハ２１
と回転ターゲット１２、モータ１３、ポンプ１５とを離
し、Ｘ線領域が移動台２２が移動した後の除振台２３の
振動にも追従できるようにウェハ、マスクの除振台２３
と線源の除振台２８との距離を一定に保つよう構成する
。
と回転ターゲット１２、モータ１３、ポンプ１５とを離
し、Ｘ線領域が移動台２２が移動した後の除振台２３の
振動にも追従できるようにウェハ、マスクの除振台２３
と線源の除振台２８との距離を一定に保つよう構成する
。
上記の装置において、移動台（ＸＹステージ）２３のＸ
方向の動きについて説明すると、移動台が測長系が除振
台２３に相対的な１１の距離を測定し、演算回路でｌ−
１！１ ＝Δｌを計算しくｌは除振台２３に対し前辺っ
て定められた距離）、Δｌの距離をさらに動（よう駆動
回路から駆動部２９ａに信号が与えられて除振台２８を
動かし、Ｙ方向の動きについても同様とするものである
。
方向の動きについて説明すると、移動台が測長系が除振
台２３に相対的な１１の距離を測定し、演算回路でｌ−
１！１ ＝Δｌを計算しくｌは除振台２３に対し前辺っ
て定められた距離）、Δｌの距離をさらに動（よう駆動
回路から駆動部２９ａに信号が与えられて除振台２８を
動かし、Ｙ方向の動きについても同様とするものである
。
以下、図面を参照して本発明実施例を詳細に説明する。
第１図を再び参照すると、本発明実施例においては、床
２６上に足２５ａで支持された除振台（常盤）２３には
、マスク２０、ウェハ２１、移動台（ＸＹステージ）２
２が取り付けられ、床２６上に足２５ｂによって支持さ
れた除振台２８は、除振台２３を囲むアングルによって
構成され、除振台２８上にはり２９ａ、 ２９ｂ。
２６上に足２５ａで支持された除振台（常盤）２３には
、マスク２０、ウェハ２１、移動台（ＸＹステージ）２
２が取り付けられ、床２６上に足２５ｂによって支持さ
れた除振台２８は、除振台２３を囲むアングルによって
構成され、除振台２８上にはり２９ａ、 ２９ｂ。
２９ｃを立て、回転ターゲット１２、回転ターゲットを
回転するモータ１３、ポンプ１５（例えばターボポンプ
）が取り付けられる。測長部３１ａは除振台２３に対す
るＸ方向の距離を、また測長部３１ｂはＹ方向の距離を
ある精度（Ｘ線源領域のマスクからの外れ量）で測定す
ることのできる非接触（例えば圧力センサ、光学的リニ
アエンコーダ、マグネスケール、高精度レーザ測長器）
測長部で、これにより足２５ｂに取り付けられた駆動部
３０ａ、 ３０ｂを用い除振台２８を動かず。ここで、
駆動部３０ａ、 ３０ｂは、除振台２３が除振台として
の機能を果すものであるため数１１２の振動数であるか
ら、その移動速度は定速でありエアシリンダ等でも追従
することができる。これを要約すると、 測長部３１ａ 、 ３１ｂによるｌ】測定−１−１１＝
Δｌ演算−駆動部３０ａ 、 ３０ｂに対するΔｌ駆動
信号−除振台２８の移動 となる。
回転するモータ１３、ポンプ１５（例えばターボポンプ
）が取り付けられる。測長部３１ａは除振台２３に対す
るＸ方向の距離を、また測長部３１ｂはＹ方向の距離を
ある精度（Ｘ線源領域のマスクからの外れ量）で測定す
ることのできる非接触（例えば圧力センサ、光学的リニ
アエンコーダ、マグネスケール、高精度レーザ測長器）
測長部で、これにより足２５ｂに取り付けられた駆動部
３０ａ、 ３０ｂを用い除振台２８を動かず。ここで、
駆動部３０ａ、 ３０ｂは、除振台２３が除振台として
の機能を果すものであるため数１１２の振動数であるか
ら、その移動速度は定速でありエアシリンダ等でも追従
することができる。これを要約すると、 測長部３１ａ 、 ３１ｂによるｌ】測定−１−１１＝
Δｌ演算−駆動部３０ａ 、 ３０ｂに対するΔｌ駆動
信号−除振台２８の移動 となる。
以上述べてきたように、本発明によれば、比較的に簡単
な方式で、マスクパターンと同じ範囲に無駄なく小さな
Ｘ線スポットを作ることができるので、Ｘ線露光の経済
性、作業性を高めるに有効である。
な方式で、マスクパターンと同じ範囲に無駄なく小さな
Ｘ線スポットを作ることができるので、Ｘ線露光の経済
性、作業性を高めるに有効である。
第１図（ａ）と（′ｂ）は本発明実施例の平面図と正面
図、第２図はＸ線露光の原理を示す図、 第３図と第４図は従来例の断面図である。 第１図、第３図、第４図において、 １１は真空チ苓ンバ、 １２は回転ターゲット １３はモータ、 １４は軸受、 １５はポンプ、 工６は電子ビーム、 １７はフィラメント、 １８はＢｅ窓、 １９はＸ線、 ２０はマスク、 ２工はウェハ、 ２２は移動台、 ２３は除１辰台、 ２４は除振材、 ２５、２５ａ 、 ２５ｂは足、 ２６は床、 ２７は支柱、 ２８は除振台、 ２９ａ 、 ２９ｂ 、 ２９ｃははり、３０ａ 、
３０ｂは駆動部、 ３１ａ 、 ３１ｂは測長部である。 ｘａＢ尤ｔｈＪＩＸｖ！８ｆ、＜５Ａ 第２図 仇果刑ＩＩｆｒ如固 荻′１．剖断加図
図、第２図はＸ線露光の原理を示す図、 第３図と第４図は従来例の断面図である。 第１図、第３図、第４図において、 １１は真空チ苓ンバ、 １２は回転ターゲット １３はモータ、 １４は軸受、 １５はポンプ、 工６は電子ビーム、 １７はフィラメント、 １８はＢｅ窓、 １９はＸ線、 ２０はマスク、 ２工はウェハ、 ２２は移動台、 ２３は除１辰台、 ２４は除振材、 ２５、２５ａ 、 ２５ｂは足、 ２６は床、 ２７は支柱、 ２８は除振台、 ２９ａ 、 ２９ｂ 、 ２９ｃははり、３０ａ 、
３０ｂは駆動部、 ３１ａ 、 ３１ｂは測長部である。 ｘａＢ尤ｔｈＪＩＸｖ！８ｆ、＜５Ａ 第２図 仇果刑ＩＩｆｒ如固 荻′１．剖断加図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 マスク（２０）、ウエハ（２１）、移動台（２２）は床
（２６）上に足（２５ａ）によって支持された除振台（
２３）に取り付けられ、 回転ターゲット（１２）、回転ターゲットを回転するモ
ータ（１３）、ポンプ（１５）は床（２６）上に足（２
５ｂ）によって支持された除振台（２８）に取り付けら
れ、 移動台（２２）のＸＹ方向動きをそれぞれ測定する測長
部（３１ａ、３１ｂ）と測長部の測定結果に基づいて除
振台（２８）をそれぞれＸＹ方向に駆動する駆動部（３
０ａ、３０ｂ）が設けられてなることを特徴とするＸ線
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60260313A JPS62120026A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | Ｘ線露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60260313A JPS62120026A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | Ｘ線露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62120026A true JPS62120026A (ja) | 1987-06-01 |
Family
ID=17346287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60260313A Pending JPS62120026A (ja) | 1985-11-20 | 1985-11-20 | Ｘ線露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62120026A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02199813A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-08 | Canon Inc | 露光装置 |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US8854601B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-10-07 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
-
1985
- 1985-11-20 JP JP60260313A patent/JPS62120026A/ja active Pending
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02199813A (ja) * | 1989-01-30 | 1990-08-08 | Canon Inc | 露光装置 |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US9429851B2 (en) | 2005-05-12 | 2016-08-30 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9360763B2 (en) | 2005-05-12 | 2016-06-07 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9310696B2 (en) | 2005-05-12 | 2016-04-12 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US9891539B2 (en) | 2005-05-12 | 2018-02-13 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US8854601B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-10-07 | Nikon Corporation | Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
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