JPH04317Y2 - - Google Patents
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- JPH04317Y2 JPH04317Y2 JP1986129079U JP12907986U JPH04317Y2 JP H04317 Y2 JPH04317 Y2 JP H04317Y2 JP 1986129079 U JP1986129079 U JP 1986129079U JP 12907986 U JP12907986 U JP 12907986U JP H04317 Y2 JPH04317 Y2 JP H04317Y2
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- JP
- Japan
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- stage
- support
- guideway
- precision moving
- support base
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
- G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
- G02B7/182—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
- G02B7/1822—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
- G02B7/1824—Manual alignment
- G02B7/1825—Manual alignment made by screws, e.g. for laser mirrors
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
［考案の目的］
（産業上の利用分野）
本考案は、例えば電子ビーム描画装置、レチク
ル欠陥検査装置、ステツパあるいは寸法測定装置
等における被処理材載置用の高精度移動ステージ
装置に関するものである。
ル欠陥検査装置、ステツパあるいは寸法測定装置
等における被処理材載置用の高精度移動ステージ
装置に関するものである。
（従来の技術）
従来、この種の電子ビーム描画装置やレチクル
欠陥検査装置等に用いられる高精度移動ステージ
装置においては、ステージ上に被処理材を載置固
定して、Ｘ・Ｙ・Ｚ・θ軸線方向（Ｘ・Ｙ軸線方
向のみのものもある）に移動して正確に位置決め
しているものである。
欠陥検査装置等に用いられる高精度移動ステージ
装置においては、ステージ上に被処理材を載置固
定して、Ｘ・Ｙ・Ｚ・θ軸線方向（Ｘ・Ｙ軸線方
向のみのものもある）に移動して正確に位置決め
しているものである。
このような従来の移動ステージ装置部、例えば
被処理材を載置固定してＸ・Ｙ軸線方向の移動・
位置決めを行なう移動ステージ装置部の構成は、
第９図及び第１０図に示すように、最下段のベー
ス１上にガイドウエイ２を介してＸ軸線方向に直
線的に往復移動自在なＸステージ３が設けられ、
更に、このＸステージ３上にガイドウエイ４を介
してＸ軸線方向と直交するＹ軸線方向に往復移動
自在なＹステージ５が設けられて、このＹステー
ジ５の上面にホルダーとしての被処理材Ｗを固定
する被処理材固定具６が設けられている。
被処理材を載置固定してＸ・Ｙ軸線方向の移動・
位置決めを行なう移動ステージ装置部の構成は、
第９図及び第１０図に示すように、最下段のベー
ス１上にガイドウエイ２を介してＸ軸線方向に直
線的に往復移動自在なＸステージ３が設けられ、
更に、このＸステージ３上にガイドウエイ４を介
してＸ軸線方向と直交するＹ軸線方向に往復移動
自在なＹステージ５が設けられて、このＹステー
ジ５の上面にホルダーとしての被処理材Ｗを固定
する被処理材固定具６が設けられている。
そして、上記した固定具６に被処理材Ｗを載置
セツトした状態で、前記Ｘステージ３及びＹステ
ージ５が図示しない駆動手段により、各々のガイ
ドウエイ２，４に沿つて定められた方向に移動さ
せることで、前記固定具６にセツトした被処理材
ＷをＸ−Ｙ両軸線方向に往復移動できるようにな
つている。
セツトした状態で、前記Ｘステージ３及びＹステ
ージ５が図示しない駆動手段により、各々のガイ
ドウエイ２，４に沿つて定められた方向に移動さ
せることで、前記固定具６にセツトした被処理材
ＷをＸ−Ｙ両軸線方向に往復移動できるようにな
つている。
さらに、上記Ｙステージ５の上面には、Ｘ−Ｙ
軸線方向の位置測定用の平面Ｌ字形をしたレーザ
ミラー７が取付けられ、このレーザミラー７と図
示しない定盤等に別途固定したレーザ干渉計との
間でのレーザ値の変化量をもつてＸ−Ｙ軸線方向
の移動距離を算出し、これによつて、位置測定し
ながら前記被処理材を正確に位置決めまたは制御
し得るように前記Ｘステージ３及びＹステージ５
の移動制御を行なうようになつている。
軸線方向の位置測定用の平面Ｌ字形をしたレーザ
ミラー７が取付けられ、このレーザミラー７と図
示しない定盤等に別途固定したレーザ干渉計との
間でのレーザ値の変化量をもつてＸ−Ｙ軸線方向
の移動距離を算出し、これによつて、位置測定し
ながら前記被処理材を正確に位置決めまたは制御
し得るように前記Ｘステージ３及びＹステージ５
の移動制御を行なうようになつている。
ところが、ここで問題となるのは、上記ステー
ジ走行によるステージ部材の弾性変形の変動また
はステージ走行時のガイドウエイ固定部側の昇温
によるステージ歪等により、前記レーザミラー７
と被処理材Ｗとの間の位置関係がステージポジシ
ヨンまたは走行時間等によつて変動することであ
る。
ジ走行によるステージ部材の弾性変形の変動また
はステージ走行時のガイドウエイ固定部側の昇温
によるステージ歪等により、前記レーザミラー７
と被処理材Ｗとの間の位置関係がステージポジシ
ヨンまたは走行時間等によつて変動することであ
る。
すなわち、上記Ｙステージ５がガイドウエイ４
に沿つて走行すると、これらＹステージ５及びガ
イドウエイ４の加工精度により、Ｙステージ５が
歪まされたり、あるいはステージ走行により、前
記Ｙステージ５のガイドウエイ４側下面部の温度
が上がり、その上面部側との間に温度差が発生し
て、Ｙステージ５のガイドウエイ４側下面部が伸
びたりすると、Ｙステージ５が歪まされ、この結
果、前記レーザミラー７と被処理材Ｗとの間の位
置関係が変動する。
に沿つて走行すると、これらＹステージ５及びガ
イドウエイ４の加工精度により、Ｙステージ５が
歪まされたり、あるいはステージ走行により、前
記Ｙステージ５のガイドウエイ４側下面部の温度
が上がり、その上面部側との間に温度差が発生し
て、Ｙステージ５のガイドウエイ４側下面部が伸
びたりすると、Ｙステージ５が歪まされ、この結
果、前記レーザミラー７と被処理材Ｗとの間の位
置関係が変動する。
（考案が解決しようとする問題点）
このため、従来にあつては、前記レーザミラー
７と被処理材Ｗとの間の相対位置関係が一定なも
のとして、被処理材Ｗへの処理を行なつているこ
とから、これが位置測定系の誤差となり、延いて
は、装置自体の処理誤差として精度の低下の要因
となつているとともに、その量は、ステージの構
造にもよるが、0.05〜0.1μｍに及ぶものがあり、
例えば電子ビーム描画装置の場合にあつては、寸
法精度として3σで0.1μｍ程度が要求されているた
め、無視することができない状況となつて来てい
る。
７と被処理材Ｗとの間の相対位置関係が一定なも
のとして、被処理材Ｗへの処理を行なつているこ
とから、これが位置測定系の誤差となり、延いて
は、装置自体の処理誤差として精度の低下の要因
となつているとともに、その量は、ステージの構
造にもよるが、0.05〜0.1μｍに及ぶものがあり、
例えば電子ビーム描画装置の場合にあつては、寸
法精度として3σで0.1μｍ程度が要求されているた
め、無視することができない状況となつて来てい
る。
また、上記Ｙステージ５上に固定されているレ
ーザミラー７の平面度は、通常、λ／20（λはNe
−Heレーザの波長で、約0.6μｍ）程度に加工さ
れているが、これがステージの歪みによつて悪化
し、さらに、Ｙステージ５上に載置された被処理
材Ｗの平面度もステージの歪みによつて変動し、
いずれにしても精度の低下の要因となつて高精度
な移動ステージ装置としては好ましくないといつ
た問題があつた。
ーザミラー７の平面度は、通常、λ／20（λはNe
−Heレーザの波長で、約0.6μｍ）程度に加工さ
れているが、これがステージの歪みによつて悪化
し、さらに、Ｙステージ５上に載置された被処理
材Ｗの平面度もステージの歪みによつて変動し、
いずれにしても精度の低下の要因となつて高精度
な移動ステージ装置としては好ましくないといつ
た問題があつた。
本考案は、上記の事情のもとになされたもの
で、その目的とするところは、ステージ走行によ
る歪みの影響をなくして装置の精度を大幅に向上
させることができるようにした高精度移動ステー
ジ装置を提供することにある。
で、その目的とするところは、ステージ走行によ
る歪みの影響をなくして装置の精度を大幅に向上
させることができるようにした高精度移動ステー
ジ装置を提供することにある。
［考案の構成］
（問題点を解決するための手段）
上記した問題点を解決するために、ガイドウエ
イを介して少なくとも一軸方向に移動可能で位置
測定用レーザミラー及び被処理材が備えられる高
精度移動ステージ装置において、ステージと、こ
のステージ上に支持された状態に配置されステー
ジ走行方向を含む平面に対してほぼ平行な取付面
を有する支持台と、ステージ走行方向または走行
平面方向に対して剛性が高くかつその走行平面と
直交する上下方向に対して低剛性であり前記支持
台と前記ステージとを結合する弾性部材とを具備
し、前記支持台をステージ走行方向を含む平面と
直交する上下方向に対して少なくとも３点以上で
ステージ上に接触支持させた構成したものであ
る。
イを介して少なくとも一軸方向に移動可能で位置
測定用レーザミラー及び被処理材が備えられる高
精度移動ステージ装置において、ステージと、こ
のステージ上に支持された状態に配置されステー
ジ走行方向を含む平面に対してほぼ平行な取付面
を有する支持台と、ステージ走行方向または走行
平面方向に対して剛性が高くかつその走行平面と
直交する上下方向に対して低剛性であり前記支持
台と前記ステージとを結合する弾性部材とを具備
し、前記支持台をステージ走行方向を含む平面と
直交する上下方向に対して少なくとも３点以上で
ステージ上に接触支持させた構成したものであ
る。
（作用）
すなわち、本考案は、上記の構成とすることに
よつて、ステージ走行方向を含む平面に対してほ
ぼ平行な取付面を有する支持台をステージ上に３
点以上で接触支持して一体運動可能に配置すると
ともに、前記支持台を、ステージ走行方向または
走行平面方向に対して剛性が高くかつその平面と
直交する上下方向に対して低剛性の弾性部材で前
記ステージ上に結合するようにしたことから、ス
テージを走行させるガイドウエイの加工誤差やス
テージ走行時のガイドウエイ部の昇温によりステ
ージが歪まされても、その変形分は弾性部材で吸
収されるため、支持台には影響を及ぼさず、これ
によつて、レーザミラーと被処理材を固定する固
定具との間の位置関係の変動がなく、装置の処理
精度を大幅に向上させることが可能になる。
よつて、ステージ走行方向を含む平面に対してほ
ぼ平行な取付面を有する支持台をステージ上に３
点以上で接触支持して一体運動可能に配置すると
ともに、前記支持台を、ステージ走行方向または
走行平面方向に対して剛性が高くかつその平面と
直交する上下方向に対して低剛性の弾性部材で前
記ステージ上に結合するようにしたことから、ス
テージを走行させるガイドウエイの加工誤差やス
テージ走行時のガイドウエイ部の昇温によりステ
ージが歪まされても、その変形分は弾性部材で吸
収されるため、支持台には影響を及ぼさず、これ
によつて、レーザミラーと被処理材を固定する固
定具との間の位置関係の変動がなく、装置の処理
精度を大幅に向上させることが可能になる。
（実施例）
以下、本考案の一実施例を第１図から第８図に
示す図面を参照しながら詳細に説明する。なお、
本考案に係る図示の実施例において、第９図及び
第１０図に示す従来装置と構成が重複する部分は
同一符号を用いて説明する。
示す図面を参照しながら詳細に説明する。なお、
本考案に係る図示の実施例において、第９図及び
第１０図に示す従来装置と構成が重複する部分は
同一符号を用いて説明する。
第１図から第４図は本考案に係る高精度移動ス
テージ装置の第１実施例を示すものであり、上述
した従来装置におけるＹステージ５上に、ステー
ジ走行方向を含む平面に対してほぼ平行な取付面
１１ａを有する支持台１１を一体運動可能に配置
してなる構成を有する。
テージ装置の第１実施例を示すものであり、上述
した従来装置におけるＹステージ５上に、ステー
ジ走行方向を含む平面に対してほぼ平行な取付面
１１ａを有する支持台１１を一体運動可能に配置
してなる構成を有する。
すなわち、上記支持台１１は、前記Ｙステージ
５上の３個所に植設した受けピン１２によりステ
ージ走行方向を含む平面と直交する上下方向（Ｚ
軸線方向）に対して３点で接触支持させてなると
ともに、この支持台１１の取付面１１ａ上に、被
処理材Ｗの固定具６及び位置測定用レーザミラー
７を取付けてなる一方、前記Ｙステージ５上の３
個所に設置した弾性部材１３で、Ｙステージ５に
結合し得るようになつている。そして、前記各々
の弾性部材１３は、前記Ｙステージ５及び支持台
１１の双方にボルト１４，１５により固定してな
るとともに、ステージ走行方向及び走行平面方向
に対して剛性が高くかつその平面と直交する上下
方向に対して低剛性の弾性体構造となつている。
５上の３個所に植設した受けピン１２によりステ
ージ走行方向を含む平面と直交する上下方向（Ｚ
軸線方向）に対して３点で接触支持させてなると
ともに、この支持台１１の取付面１１ａ上に、被
処理材Ｗの固定具６及び位置測定用レーザミラー
７を取付けてなる一方、前記Ｙステージ５上の３
個所に設置した弾性部材１３で、Ｙステージ５に
結合し得るようになつている。そして、前記各々
の弾性部材１３は、前記Ｙステージ５及び支持台
１１の双方にボルト１４，１５により固定してな
るとともに、ステージ走行方向及び走行平面方向
に対して剛性が高くかつその平面と直交する上下
方向に対して低剛性の弾性体構造となつている。
しかして、上記した構成によれば、第４図に示
すように、Ｙステージ５を走行させるガイドウエ
イ４の加工誤差やＹステージ５の走行時の昇温に
より、前記Ｙステージ５が第４図に示す方向また
はその逆方向に歪まされても、その変形分は弾性
部材１３で吸収されるため、Ｙステージ５上の支
持台１１には影響を及ぼさず、これによつて。レ
ーザミラー７と被処理材Ｗを固定する固定具６と
の間の位置関係の変動がないことから、装置の処
理精度を大幅に向上させることを可能にしている
ものである。
すように、Ｙステージ５を走行させるガイドウエ
イ４の加工誤差やＹステージ５の走行時の昇温に
より、前記Ｙステージ５が第４図に示す方向また
はその逆方向に歪まされても、その変形分は弾性
部材１３で吸収されるため、Ｙステージ５上の支
持台１１には影響を及ぼさず、これによつて。レ
ーザミラー７と被処理材Ｗを固定する固定具６と
の間の位置関係の変動がないことから、装置の処
理精度を大幅に向上させることを可能にしている
ものである。
また、第５図及び第６図は、本考案に係る第２
実施例を示すもので、ベース１、Ｘステージ３及
びＹステージ５の中央部を刳り貫き開口させてな
る構成を有するものである。
実施例を示すもので、ベース１、Ｘステージ３及
びＹステージ５の中央部を刳り貫き開口させてな
る構成を有するものである。
さらに、第７図及び第８図は、本考案に係る第
３実施例を示すもので、Ｙステージ５上に植設し
たロケートピン１６に支持台１１を一方向からコ
イルスプリングからなる弾性体１７で押圧付勢し
てなる構成を有するものである。
３実施例を示すもので、Ｙステージ５上に植設し
たロケートピン１６に支持台１１を一方向からコ
イルスプリングからなる弾性体１７で押圧付勢し
てなる構成を有するものである。
ところで、上記各実施例では、Ｙステージ５上
に支持台１１を接触支持する複数の受けピン１２
の一部または全部に上下駆動用アクチユエータと
してピエゾ素子２０を組み込み、図示しないＺ軸
線方向の変位測定装置からの信号によつて、前記
ピエゾ素子２０へ給電して支持台１１を上下動さ
せ、自動補正を可能にしている。
に支持台１１を接触支持する複数の受けピン１２
の一部または全部に上下駆動用アクチユエータと
してピエゾ素子２０を組み込み、図示しないＺ軸
線方向の変位測定装置からの信号によつて、前記
ピエゾ素子２０へ給電して支持台１１を上下動さ
せ、自動補正を可能にしている。
なお、本考案は、上記の実施例に限定されない
ものであり、本考案の要旨を変えない範囲で種々
変更実施可能なことは勿論である。
ものであり、本考案の要旨を変えない範囲で種々
変更実施可能なことは勿論である。
［考案の効果］
本考案は、以上説明したように、ガイドウエイ
を介して少なくとも一軸方向に移動可能で位置測
定用レーザミラー及び被処理材が備えられる高精
度移動ステージ装置において、ステージと、この
ステージ上に支持された状態に配置されステージ
走行方向を含む平面に対してほぼ平行な取付面を
有する支持台と、ステージ走行方向または走行平
面方向に対して剛性が高くかつその走行平面と直
交する上下方向に対して低剛性であり前記支持台
と前記ステージとを結合する弾性部材とを具備
し、前記支持台をステージ走行方向を含む平面と
直交する上下方向に対して少なくとも３点以上で
ステージ上に接触支持させたものである。したが
つて、ステージを走行させるガイドウエイの加工
誤差やステージ走行時の昇温によりステージが歪
まされても、その変形分は弾性部材で吸収される
ため、支持台には影響を及ぼさず、これによつ
て、レーザミラーと被処理材を固定する固定具と
の間の位置関係の変動がなく、装置の処理精度を
大幅に向上させることができるというすぐれた効
果を有する高精度移動ステージ装置を提供するこ
とができるものである。
を介して少なくとも一軸方向に移動可能で位置測
定用レーザミラー及び被処理材が備えられる高精
度移動ステージ装置において、ステージと、この
ステージ上に支持された状態に配置されステージ
走行方向を含む平面に対してほぼ平行な取付面を
有する支持台と、ステージ走行方向または走行平
面方向に対して剛性が高くかつその走行平面と直
交する上下方向に対して低剛性であり前記支持台
と前記ステージとを結合する弾性部材とを具備
し、前記支持台をステージ走行方向を含む平面と
直交する上下方向に対して少なくとも３点以上で
ステージ上に接触支持させたものである。したが
つて、ステージを走行させるガイドウエイの加工
誤差やステージ走行時の昇温によりステージが歪
まされても、その変形分は弾性部材で吸収される
ため、支持台には影響を及ぼさず、これによつ
て、レーザミラーと被処理材を固定する固定具と
の間の位置関係の変動がなく、装置の処理精度を
大幅に向上させることができるというすぐれた効
果を有する高精度移動ステージ装置を提供するこ
とができるものである。
第１図は本考案に係る高精度移動ステージ装置
の第１実施例を示す平面図、第２図は同じく断面
図、第３図は同じくステージと支持台との結合状
態を示す拡大断面図、第４図は同じくステージの
歪み変形状態を示す説明図、第５図は本考案に係
る第２実施例を示す平面図、第６図は同じく断面
図、第７図は本考案に係る第３実施例を示す平面
図、第８図は同じく断面図、第９図は従来の高精
度移動ステージ装置を示す平面図、第１０図は同
じく断面図である。 １……ベース、２……ガイドウエイ、３……Ｘ
ステージ、５……Ｙステージ、６……被処理材固
定具、７……レーザミラー、１１……支持台、１
２……受けピン、１３……弾性部材、Ｗ……被処
理材。
の第１実施例を示す平面図、第２図は同じく断面
図、第３図は同じくステージと支持台との結合状
態を示す拡大断面図、第４図は同じくステージの
歪み変形状態を示す説明図、第５図は本考案に係
る第２実施例を示す平面図、第６図は同じく断面
図、第７図は本考案に係る第３実施例を示す平面
図、第８図は同じく断面図、第９図は従来の高精
度移動ステージ装置を示す平面図、第１０図は同
じく断面図である。 １……ベース、２……ガイドウエイ、３……Ｘ
ステージ、５……Ｙステージ、６……被処理材固
定具、７……レーザミラー、１１……支持台、１
２……受けピン、１３……弾性部材、Ｗ……被処
理材。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) ガイドウエイを介して少なくとも一軸方向に
移動可能で位置測定用レーザミラー及び被処理
材が備えられる高精度移動ステージ装置におい
て、 ステージと、 このステージ上に支持された状態に配置され
ステージ走行方向を含む平面に対してほぼ平行
な取付面を有する支持台と、 ステージ走行方向または走行平面方向に対し
て剛性が高くかつその走行平面と直交する上下
方向に対して低剛性であり前記支持台と前記ス
テージとを結合する弾性部材と、 を具備し、 前記支持台をステージ走行方向を含む平面と
直交する上下方向に対して少なくとも３点以上
でステージ上に接触支持させたことを特徴とす
る高精度移動ステージ装置。 (2) 接触支持部の一部もしくは全部を上下移動可
能にしたことを特徴とする実用新案登録請求の
範囲第１項記載の高精度移動ステージ装置。 (3) 各々の接触支持部の一部もしくは全部にピエ
ゾ素子を用いて上下移動可能にしたことを特徴
とする実用新案登録請求の範囲第２項記載の高
精度移動ステージ装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986129079U JPH04317Y2 (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | |
| US07/700,952 US5115354A (en) | 1986-08-25 | 1991-05-14 | High accuracy traveling table apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986129079U JPH04317Y2 (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6335990U JPS6335990U (ja) | 1988-03-08 |
| JPH04317Y2 true JPH04317Y2 (ja) | 1992-01-07 |
Family
ID=15000558
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986129079U Expired JPH04317Y2 (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5115354A (ja) |
| JP (1) | JPH04317Y2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4758091A (en) * | 1986-11-20 | 1988-07-19 | Ateo Corporation | Pattern generator part holder |
| US5341709A (en) * | 1992-12-17 | 1994-08-30 | Speranza Specialty Machining | Portable vertical boring machine |
| US5341700A (en) * | 1992-12-17 | 1994-08-30 | Speranza Specialty Machining | X-Y movement mechanism |
| US6813053B1 (en) * | 2000-05-19 | 2004-11-02 | The Regents Of The University Of California | Apparatus and method for controlled cantilever motion through torsional beams and a counterweight |
| US6601524B2 (en) * | 2001-03-28 | 2003-08-05 | Newport Corporation | Translation table with a spring biased dovetail bearing |
| CN108278972B (zh) * | 2018-04-17 | 2024-02-27 | 徐州利宝机械科技有限公司 | 一种回转件测量装置以及其后台控制方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6112092B2 (ja) * | 1980-09-01 | 1986-04-07 | Matsuda Kk |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5790607A (en) * | 1980-11-28 | 1982-06-05 | Fujitsu Ltd | Optical glass fitting device |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6335990U (ja) | 1988-03-08 |
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