JPS618479A - 真空装置 - Google Patents
真空装置Info
- Publication number
- JPS618479A JPS618479A JP13043284A JP13043284A JPS618479A JP S618479 A JPS618479 A JP S618479A JP 13043284 A JP13043284 A JP 13043284A JP 13043284 A JP13043284 A JP 13043284A JP S618479 A JPS618479 A JP S618479A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- frame
- bellows
- exhaust pipe
- pump
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16J—PISTONS; CYLINDERS; SEALINGS
- F16J15/00—Sealings
- F16J15/50—Sealings between relatively-movable members, by means of a sealing without relatively-moving surfaces, e.g. fluid-tight sealings for transmitting motion through a wall
- F16J15/52—Sealings between relatively-movable members, by means of a sealing without relatively-moving surfaces, e.g. fluid-tight sealings for transmitting motion through a wall by means of sealing bellows or diaphragms
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１１発明の技術分野
本発明は真空装置、詳しくは真空機器の防振構造の改良
に関する。
に関する。
（２）技術の背景
真空ポンプの一つとして最近小型軽量で排気速度、到達
真空度に優れたタライオンポンプが多用されるようにな
ったが、クライオンポンプはその構造上３ヘルツ（ｈｚ
）程度の低周波振動の発生が避けられない。
真空度に優れたタライオンポンプが多用されるようにな
ったが、クライオンポンプはその構造上３ヘルツ（ｈｚ
）程度の低周波振動の発生が避けられない。
前記タライオンポンプが使用される真空機器には、電子
ビーム露光装置、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ ）などの
如き高真空、サブミクロンの高精度が要求される装置が
あり、タライオンポンプの振動は機械振動となり、上方
に配置された前記装置に伝達し解像力の劣化の原因とな
る。
ビーム露光装置、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ ）などの
如き高真空、サブミクロンの高精度が要求される装置が
あり、タライオンポンプの振動は機械振動となり、上方
に配置された前記装置に伝達し解像力の劣化の原因とな
る。
そこで、第２図に示される如く、真空槽１の底面に長尺
状のへローズ２を取り付け、このベローズ２の先端を台
座に固定されたタライオンポンプ３に接続して、クライ
オンポンプの振動をベローズ、２で吸収させる方法が試
みられた。この方法でタライオンポンプ３の振動はかな
り吸収されるが、ベローズ２の長さを大にするので、ベ
ローズの価格がクライオンポンプの価格と同等またはそ
れよりもより高価なものとなる問題があった。
状のへローズ２を取り付け、このベローズ２の先端を台
座に固定されたタライオンポンプ３に接続して、クライ
オンポンプの振動をベローズ、２で吸収させる方法が試
みられた。この方法でタライオンポンプ３の振動はかな
り吸収されるが、ベローズ２の長さを大にするので、ベ
ローズの価格がクライオンポンプの価格と同等またはそ
れよりもより高価なものとなる問題があった。
本出願人は上記の問題を解決すべく、真空機器と真空ポ
ンプとの間に、ベローズと、このベローズに接続された
真空排気管とを配設し、この真空排気管に前記真空ポン
プを取り付けて、真空排気管と真空ポンプとで前記ベロ
ーズを支点とする振子を構成したことを特徴とする真空
機器の防振構造を開発した。
ンプとの間に、ベローズと、このベローズに接続された
真空排気管とを配設し、この真空排気管に前記真空ポン
プを取り付けて、真空排気管と真空ポンプとで前記ベロ
ーズを支点とする振子を構成したことを特徴とする真空
機器の防振構造を開発した。
かかる構造は第２図の部分的に断面を示す正面図に示さ
れ、図において、１０は基台構造体、１１は真空機器（
以下には真空室という）、１２は排気機構、１３は電子
ビーム発生手段を示す。基台構造体１０は定盤１５から
成り、定盤１５上に真空室１１がセントされ、定ｌｌ１
１５は防振部材１７を介して脚１６によって支持され、
脚１６は床１９に固定された合板１８上に固着され、真
空室１１内には調整可能なテーブル２０が配置され、テ
ーブル２０には電子ビームにさらされる試料２２が配置
され、電子ビームは真空室１１の上面２３に設けた開孔
２４を通過する。
れ、図において、１０は基台構造体、１１は真空機器（
以下には真空室という）、１２は排気機構、１３は電子
ビーム発生手段を示す。基台構造体１０は定盤１５から
成り、定盤１５上に真空室１１がセントされ、定ｌｌ１
１５は防振部材１７を介して脚１６によって支持され、
脚１６は床１９に固定された合板１８上に固着され、真
空室１１内には調整可能なテーブル２０が配置され、テ
ーブル２０には電子ビームにさらされる試料２２が配置
され、電子ビームは真空室１１の上面２３に設けた開孔
２４を通過する。
排気機構１２は真空室１１を排気するためのもので、ベ
ローズ２６、真空排気管（以下には排気管という）２７
〜クライオンポンプ２８から成り、ベローズ２６の両端
にはフランジ２９と３０が配置され、上方のフランジ２
９で真空室１１の底部２１に連結し、ベローズ２６は底
部２１に設けた開孔２５を通って真空室１１につながる
。排気管２７は金属パイプであり、底の端部分は閉じて
おり、上方フランジ３１がベローズ２６につながる。タ
ライオンポンプ２８は排気管２７の下方部分の側部に取
り付けられ、かかる構成によって真空室１１内の空気は
、開孔２５、ベローズ２６、排気管２７、クライオンポ
ンプ２８の順に排気され、前記構造においては、ベロー
ズ２６のほぼ中心に当る点を支点Ａとする振子が構成さ
れる。
ローズ２６、真空排気管（以下には排気管という）２７
〜クライオンポンプ２８から成り、ベローズ２６の両端
にはフランジ２９と３０が配置され、上方のフランジ２
９で真空室１１の底部２１に連結し、ベローズ２６は底
部２１に設けた開孔２５を通って真空室１１につながる
。排気管２７は金属パイプであり、底の端部分は閉じて
おり、上方フランジ３１がベローズ２６につながる。タ
ライオンポンプ２８は排気管２７の下方部分の側部に取
り付けられ、かかる構成によって真空室１１内の空気は
、開孔２５、ベローズ２６、排気管２７、クライオンポ
ンプ２８の順に排気され、前記構造においては、ベロー
ズ２６のほぼ中心に当る点を支点Ａとする振子が構成さ
れる。
タライオンポンプ２８の重量に比べ排気管２７は軽いの
で前記した振子の重心はほぼタライオンポンプ２８の重
心の位置Ｂとみてよく、前記Ａ点とＢ点間の距離が振子
の長さしとなる。従って前記振子の固有振動数ｆｎは ｆｎ＝ １／ ２ π（ｈｚ） となり、振子の長さしを５０ｃｍとすると、固有振動数
は０．７ ｈｚとなり、前記したタライオンポンプの振
動数３ｈｚに比べ著しく小になった。
で前記した振子の重心はほぼタライオンポンプ２８の重
心の位置Ｂとみてよく、前記Ａ点とＢ点間の距離が振子
の長さしとなる。従って前記振子の固有振動数ｆｎは ｆｎ＝ １／ ２ π（ｈｚ） となり、振子の長さしを５０ｃｍとすると、固有振動数
は０．７ ｈｚとなり、前記したタライオンポンプの振
動数３ｈｚに比べ著しく小になった。
（３）従来技術と問題点
しかし、上記の構造はスペースを多くとり、機構が振子
、逆さ振子の方式で複雑であり、既存の真空装置に取り
付は難く、ＸＹ方向の防振が難しい問題が発生した。
、逆さ振子の方式で複雑であり、既存の真空装置に取り
付は難く、ＸＹ方向の防振が難しい問題が発生した。
（４）発明の目的
本発明は上記従来の問題に鑑み、電子ビーム露光装置、
ＳＥＭなどの如き高真空、高精度が要求される機構にお
いて、タライオンポンプ、ターボポンプの如きポンプそ
のものの振動が前記した露光装置などに伝達することの
ない防振構造をもった真空装置を提供することを目的と
する。
ＳＥＭなどの如き高真空、高精度が要求される機構にお
いて、タライオンポンプ、ターボポンプの如きポンプそ
のものの振動が前記した露光装置などに伝達することの
ない防振構造をもった真空装置を提供することを目的と
する。
（５）発明の構成
そしてこの目的は本発明によれば、処理室と真空ポンプ
との間に、ベローズとへローズに接続された真空排気管
とを配設し、真空排気管に真空ポンプを取り付け、前記
真空排気管と真空ポンプとで前記へローズを支点とする
振子を構成してなる真空装置において、ベローズ内に真
空機器の底部に一体的に固定された第１フレームと、第
１フレームの外部に配置され第１フレームに相対的に摺
動可能な第２フレームとを設け、第２フレームにはそれ
の下降を制御する第１フレームと接触可能なストッパを
形成し、第１フレームの底部と第２フレームの上側とは
可撓性部材により連結されたことを特徴とする真空装置
を提供することによって達成される。
との間に、ベローズとへローズに接続された真空排気管
とを配設し、真空排気管に真空ポンプを取り付け、前記
真空排気管と真空ポンプとで前記へローズを支点とする
振子を構成してなる真空装置において、ベローズ内に真
空機器の底部に一体的に固定された第１フレームと、第
１フレームの外部に配置され第１フレームに相対的に摺
動可能な第２フレームとを設け、第２フレームにはそれ
の下降を制御する第１フレームと接触可能なストッパを
形成し、第１フレームの底部と第２フレームの上側とは
可撓性部材により連結されたことを特徴とする真空装置
を提供することによって達成される。
（６）発明の実施例
以下本発明の実施例を図面によって詳述する。
第１図に本発明実施例が一部切欠した正面図で示され、
同図と第４図において既に図示した部分と同じ部分は同
一符号を付して表示するとして、３２は第２フレームに
設けたストッパを示し、第１フレームと第２フレームは
へローズ２６内に配置される。
同図と第４図において既に図示した部分と同じ部分は同
一符号を付して表示するとして、３２は第２フレームに
設けたストッパを示し、第１フレームと第２フレームは
へローズ２６内に配置される。
第１フレーム３２は真空室の底部２１と一体化されたフ
ランジ２９に固定され、第１フレーム外部に配置される
第２フレーム３４は排気管２７に固着されたフランジ３
０に固定され、第２フレームの天井３３ａには穴が開け
てあってこの穴を第１フレームが通り、それによって第
２フレーム３３は第１フレーム３２に相対的に摺動可能
である。そして第１フレーム３２の底部と第２フレーム
３３の上面の間には鎖３５が取り付けられている。なお
図において３６はおもり、Ｙ方向はタライオンポンプ２
８の振動方向、Ｘ方向は紙面の垂直方向、Ｚ方向はＸと
Ｙに垂直な方向（上下方向）を示す。
ランジ２９に固定され、第１フレーム外部に配置される
第２フレーム３４は排気管２７に固着されたフランジ３
０に固定され、第２フレームの天井３３ａには穴が開け
てあってこの穴を第１フレームが通り、それによって第
２フレーム３３は第１フレーム３２に相対的に摺動可能
である。そして第１フレーム３２の底部と第２フレーム
３３の上面の間には鎖３５が取り付けられている。なお
図において３６はおもり、Ｙ方向はタライオンポンプ２
８の振動方向、Ｘ方向は紙面の垂直方向、Ｚ方向はＸと
Ｙに垂直な方向（上下方向）を示す。
排気管２７の内部が大気のときは、おもり３６とクライ
オンポンプ２８の重量によってフランジ３０は下がり、
それと共に第２フレーム３４が下がる。その際にストッ
パ３３も第２フレーム３４と共に下がるが、ストッパ３
３が第１フレーム３２の底に接すると、第２フレーム３
４、従って排気管２７の下降が妨げら−れ、おもりとク
ライオンポンプの重量が支えられてベローズ２６が延び
きることが防止される。
オンポンプ２８の重量によってフランジ３０は下がり、
それと共に第２フレーム３４が下がる。その際にストッ
パ３３も第２フレーム３４と共に下がるが、ストッパ３
３が第１フレーム３２の底に接すると、第２フレーム３
４、従って排気管２７の下降が妨げら−れ、おもりとク
ライオンポンプの重量が支えられてベローズ２６が延び
きることが防止される。
真空室１１内の操作のために排気が開始し真空室１１内
が真空になると、排気管２７は強く上方に押され、第２
フレーム３４も上方に押される。しかし、このとき双方
のフレーム３２．３４の間に取り付けられた鎖３５が引
っ張られる、すなわち、鎖３５が可撓性をもっているた
めに、ベローズ２６の中心点Ａを支点とする運動に対し
て自由に追従すると共に鎖の長さを限度として排気管２
７の上方向動きを制御する。
が真空になると、排気管２７は強く上方に押され、第２
フレーム３４も上方に押される。しかし、このとき双方
のフレーム３２．３４の間に取り付けられた鎖３５が引
っ張られる、すなわち、鎖３５が可撓性をもっているた
めに、ベローズ２６の中心点Ａを支点とする運動に対し
て自由に追従すると共に鎖の長さを限度として排気管２
７の上方向動きを制御する。
本発明の他の実施例は第４図に示され、この実施例にお
いても前記した振子部分は排気管２７内に設けられ、か
つ、真空中に振子部分を配置するため可動部分を少なく
しである。この実施例においては、ＸＹ方向に対し自由
であるので、防振効果は更に高められる。ただ、タライ
オンポンプのＺ方向振動は第２フレーム３４．鎮３５．
第１のフレーム３２に伝達するが、Ｚ方向の振動は現実
には問題となる程度に大でないので、第５図に示される
如く、鎖の連結部にゴム板３７を設けて振動を吸収させ
その影響を減少することができる。
いても前記した振子部分は排気管２７内に設けられ、か
つ、真空中に振子部分を配置するため可動部分を少なく
しである。この実施例においては、ＸＹ方向に対し自由
であるので、防振効果は更に高められる。ただ、タライ
オンポンプのＺ方向振動は第２フレーム３４．鎮３５．
第１のフレーム３２に伝達するが、Ｚ方向の振動は現実
には問題となる程度に大でないので、第５図に示される
如く、鎖の連結部にゴム板３７を設けて振動を吸収させ
その影響を減少することができる。
（７）発明の効果
以上詳細に説明した如く本発明によれば、クライオンポ
ンプの振動を振子系を用いて吸収する構造において、ス
ペースをとることなく、複雑でない構造で既存の電子ビ
ーム露光装置に取イ」けが容易な真空機器の防振構造が
得られ、また本発明は上記実施例に限定されることなく
更に変形が可能である。また真空機器は上記の例に限定
されるものではなく、真空蒸着装置、スパンタリング装
置などが含まれる。鎖はワイヤに代えてもよいが、ワイ
ヤを用いるときは高真空中でその内に含まれる水分、空
気がしみ出る点に注意する必要がある。
ンプの振動を振子系を用いて吸収する構造において、ス
ペースをとることなく、複雑でない構造で既存の電子ビ
ーム露光装置に取イ」けが容易な真空機器の防振構造が
得られ、また本発明は上記実施例に限定されることなく
更に変形が可能である。また真空機器は上記の例に限定
されるものではなく、真空蒸着装置、スパンタリング装
置などが含まれる。鎖はワイヤに代えてもよいが、ワイ
ヤを用いるときは高真空中でその内に含まれる水分、空
気がしみ出る点に注意する必要がある。
第１図は本発明実施例の一部切欠した正面図、第２図と
第３図は従来例の正面図、第４図は本発明の他の実施例
の正面図、第５図は第４図の装置の一部の変形例を示す
正面図である。 １〇−基台構造体、１１−真空室、 １２−排気機構、１３−電子ビーム発生手段、１５一定
盤、１６−脚、 １７−防振部材、１８一台板、 １９−床、２０−テーブル、 ２１−底部、２２−試料、 ２３−上面、２４−開孔、 ２５−開孔、２６−ベローズ、 ２７−排気管、２８− タライオンポンプ、２９、３０
．３１−・−フランジ、 ３２−第１フレーム、３３−第２フレーム、３４− ス
トッパ、３５− 鎖、 ３６−おもり、３７− ゴム板 第２図 第３図
第３図は従来例の正面図、第４図は本発明の他の実施例
の正面図、第５図は第４図の装置の一部の変形例を示す
正面図である。 １〇−基台構造体、１１−真空室、 １２−排気機構、１３−電子ビーム発生手段、１５一定
盤、１６−脚、 １７−防振部材、１８一台板、 １９−床、２０−テーブル、 ２１−底部、２２−試料、 ２３−上面、２４−開孔、 ２５−開孔、２６−ベローズ、 ２７−排気管、２８− タライオンポンプ、２９、３０
．３１−・−フランジ、 ３２−第１フレーム、３３−第２フレーム、３４− ス
トッパ、３５− 鎖、 ３６−おもり、３７− ゴム板 第２図 第３図
Claims (1)
- 処理室と真空ポンプとの間に、ベローズとベローズに
接続された真空排気管とを配設し、真空排気管に真空ポ
ンプを取り付け、前記真空排気管と真空ポンプとで前記
ベローズを支点とする振子を構成してなる真空装置にお
いて、ベローズ内に真空機器の底部に一体的に固定され
た第１フレームと、第１フレームの外部に配置され第１
フレームに相対的に摺動可能な第２フレームとを設け、
第２フレームにはそれの下降を制御する第１フレームと
接触可能なストッパを形成し、第１フレームの底部と第
２フレームの上側とは可撓性部材により連結されたこと
を特徴とする真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13043284A JPS618479A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13043284A JPS618479A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 真空装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS618479A true JPS618479A (ja) | 1986-01-16 |
Family
ID=15034096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13043284A Pending JPS618479A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS618479A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1201927A2 (en) * | 2000-10-23 | 2002-05-02 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Vacuum pump |
| JP2003049771A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Boc Edwards Technologies Ltd | 真空ポンプの接続構造及び真空ポンプ |
| US7879149B2 (en) | 2003-03-11 | 2011-02-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vacuum processing apparatus |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP13043284A patent/JPS618479A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1201927A2 (en) * | 2000-10-23 | 2002-05-02 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Vacuum pump |
| EP1201927A3 (en) * | 2000-10-23 | 2003-01-22 | Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki | Vacuum pump |
| JP2003049771A (ja) * | 2001-08-03 | 2003-02-21 | Boc Edwards Technologies Ltd | 真空ポンプの接続構造及び真空ポンプ |
| JP4672204B2 (ja) * | 2001-08-03 | 2011-04-20 | エドワーズ株式会社 | 真空ポンプの接続構造及び真空ポンプ |
| US7879149B2 (en) | 2003-03-11 | 2011-02-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Vacuum processing apparatus |
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