JPS6169983A

JPS6169983A - 処理装置

Info

Publication number: JPS6169983A
Application number: JP18960284A
Authority: JP
Inventors: Kaname Kasama; 笠間　要; Yoshiki Yamaguchi; 良樹山口; Tetsuya Takagaki; 哲也高垣; Kazuaki Mizogami; 員章溝上; Keiji Watanabe; 慶二渡辺
Original assignee: Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd; Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Priority date: 1984-09-12
Filing date: 1984-09-12
Publication date: 1986-04-10

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔技術分野〕本発明は、処理技術、特に、被処理物をウェット処理す
る技術に関し、例えば、半導体装置（以下、ＩＣという
、）の製造において、ウェハにウェフトエツチング処理
を施すのに使用して有効な技術に関する。

〔背景技術〕

ウェハにウェフトエツチング処理を施す工程において、
エツチング処理後、ウェハを洗浄槽に浸漬して純水によ
りエツチング液を洗い落とすことが行われている（例え
ば、工業調査会発行［を子材料Ｊ　１９Ｂ１年１１月号
別冊、昭和５６年１１月１０日発行、Ｐ９５〜Ｐ１０２
）。

このような場合においては、ウェハのエツチング処理が
終了してから水洗処理をｊテうまでの間、ウェハにエン
チング液が付着している。このことより、ウェハのエツ
チングが進行し、しかも、このエツチング液がウェハに
不均一に付着しているため、ウェハのエツチング処理に
ばらつきが発生するという問題点があることが、本発明
者により明らかにされた。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、処理のばらつきを防止することができ
る処理技術を提供することにある。

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。

〔発明の概要〕

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、次の通りである。

すなわち、ウェット処理後に第１処理槽から取り出され
た被処理物が第２処理槽に移動する間に表面処理液を吹
き付けることにより、被処理物に付着ししている処理液
を洗い流すようにしたものである。

〔実施例〕

第１図は本発明の一実施例であるウェットエツチング処
理装置を示す縦断面図、第２図は拡大部分縦断面図、第
３図は拡大部分側面図である。

本実施例において、このウェットエツチング装置は、弗
素等のエツチング液１を貯留するエツチング処理槽２を
備えており、この槽２の底には、エアオペレイトバルブ
４．６をそれぞれ介設された供給路３および排出路５が
エツチング液ｌを給排し得るように接続されている。

エツチング処理槽２の片脇には、別の処理槽である洗浄
槽としての水洗槽７が設置されており、水洗槽７の底に
は、エアオペレイトバルブ１０と節水用ニードルバルブ
１１とを介設された給水路９が純水８を給水するように
接続されている。水洗槽７の外部には外槽１２が水洗槽
７から溢水する純水８を受けるように設けられており、
この外槽１２の底には排水口１３が開設されている。

処理槽２および水洗槽７の上方にはガイドレール１４が
両槽２．７間にわたって架設されており、このガイドレ
ール１４には移動体１５が往復移動するように設備され
ている。移動体１５にはフック１６が昇降するように吊
持されており、フック１６はキャリアカートリッジ１７
を吊り下げ得るようになっている。キャリアカートリッ
ジ１７は被処理物としてのウェハ１８を複数枚収容保持
し得るように形成されている。

また、処理槽２および水洗槽７の上方には、多数の噴孔
を開設されているシャワパイプ１９が複数本、両槽２．
７間にわたりて架設されており、シャツパイプ１９には
給水路２０が洗浄液としての純水８を給水し得るように
接続されている。

処理槽２の両側面上端部には、モータ２２により走行駆
動されるベルトコンベア２１がそれぞれ張設されており
、両コンベア２１．２１上には、処理槽２の開口を遮蔽
し得る蓋体２３がコンベアにより移送され得るように載
せられている。この蓋体２３はシャワパイプ１９の撒水
を受は得るように皿形状に形成されており、蓋体２３に
は排水口２４が蓋体と一体移動する排水樋２５に対向す
るように開設されている。

なお、処理槽２の外方には排気口２６が発生ガスを排気
するように開設されている。

次に作用を説明する。

複数枚のウェハ１８を収容保持されたキャリアカートリ
ッジ１７はフック１６に吊持され、移動体１５によりガ
イドレール１４に沿うて処理槽２の真上に移送される。

このとき、蓋体２３は後退されており、処理槽２はその
上面を開口した状態になっている。

続いて、フック１６が下降され、キャリアカートリッジ
１７は処理槽２内のエツチング液１に浸漬される。キャ
リアカートリッジ１７とともに浸漬されたウェハ１８は
エツチング液２によりエツチング処理を施される。

所定時間のエツチング処理が終了すると、フック１６が
上昇され、キャリアカートリッジ１７は処理槽２内から
引き上げられる。キャリアカートリッジ１７が引き上げ
られるのに追従するように、蓋体２３がベルトコンベア
２１により移動されて処理槽２の上面開口が閉塞されて
行（。

蓋体２３が処理ｆＷ２を閉塞すると、給水路２０から純
水８が供給され、シャワパイプ１９の多数の噴孔から純
水８が撒水される。撒水された純水８はキャリアカート
リッジ１７に収容されているウェハ１８に吹き付けられ
、ウェハ１８に残留付着しているエツチング液ｌを洗い
流し始めることになる。

撒水されてエツチング液１を洗い流した純水８は、処理
槽２を閉塞している蓋体２３に降り注いで回収され、排
水口２４、排水樋２５を経て排水されて行＜、シたがっ
て、撒水が処理槽１の内部に降り注ぐことは防止され、
エツチング液ｌは所定の濃度等を維持することになる。

キャリアカートリッジ１７が処理槽２がら引き上げられ
ると、移動体１５がガイドレール１４に沿って移動され
、キャリアカートリッジ１７は水洗槽７の真上まで移送
される。この移送中において、シャワパイプ１９の撒水
によるウェハ１８についての水洗は継続されている。

キャリアカートリッジ１７が水洗槽７の真上に達すると
、フック１６が下降され、キャリアカートリッジＩ７に
収容保持されているウニハエ８は水洗槽７内の純水８内
に浸漬される。

この純水８への浸漬により、ウェハ１８は水洗されるこ
とになる。このとき、純水８は給水路９により常時給水
され、水洗槽７から溢水されているため、洗水は常に清
浄な状態を維持することになる。

所定の水洗が終了すると、キャリアカートリッジ１７は
水洗槽７から引き上げられ、移動体１５によりアンロー
ダ部（図示せず）へと移送されて行く。

その後、移動体１５はローダ部（図示せず）へ戻り、次
のウェハ１８群を収容保持したキャリアカートリッジ１
７を吊持し、処理槽２の真上まで移送する。

以降、前記作動を繰り返すことにより、ウェットエツチ
ング処理が継続して実施されて行く。

〔効果〕

（１）　　ウェット処理後に処理槽から取り出された被
処理物が洗浄槽に移動する間に洗浄液を吹き付けること
により、被処理物に残留付着している処理液を洗い流す
ことができるため、残留付着した処理液により処理が進
行してしまうことを防止することができ、処理状態のば
らつきを抑制することができる。

（２）　ンヤワ装置の撒水により処理液を洗い流すよう
にすることにより、洗い流しを効果的かつ均一に行うこ
とができる。

（３）洗浄液として純水を使用することにより、水洗用
のものと共用することができる。

（４）　　処理槽の開口を蓋体により開閉するように構
成することにより、洗浄液の吹き付けを早く開始すると
ともに、吹き付けを長期化することができる。

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではな（、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。

例えば、被処理物に吹き付ける洗浄液は純水に限らず、
メタノール等を使用してもよい。

処理槽を開閉する蓋体は省略することができ、被処理物
が処理槽の真上から離脱すると同時に吹き付けを開始す
るように構成してもよい。

〔利用分野〕

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるウェハのウェットエ
ツチング処理装置に適用した場合について説明したが、
それに限定されるものではなく、現像処理、レジスト除
去処理、メッキ処理等にも適用することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例であるウェットエツチング処
理装置を示す縦断面図、第２図は拡大部分縦断面図、第３図は拡大部分側面図である。１・・・エツチング液、２・・・処理槽、３・・・エツ
チング液供給路、４．６．１０・・・エアオペレイトパ
ルプ、５・・・エツチング液排出路、７・・・水洗槽（
洗浄槽）、８・・・純水（洗浄液）、９・・・給水路、
１１・・・節水用ニードルパルプ、１２・・・外槽、１
３・・・排水口、１４・・・ガイドレール、１５・・・
移動体、１６・・・フック、１７・・・キャリアカート
リッジ、１８・・・ウェハ（被処理物）、１９・・・ン
ヤワパイブ（シャツ装置）、２０・・・給水路、２１・
・・ベルトコンヘア、２２・・・モ−夕、２３・・・蓋
体、２４・・・排水口、２５・第　　１　　図

Claims

【特許請求の範囲】１、ウェット処理後に第１処理槽から取り出された被処
理物が第２処理槽に移動する間に表面処理液を吹き付け
る吹き付け手段を備えている処理装置。２、吹き付け手段が、シャワ装置から構成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の処理装置。３、表面処理液が、純水であることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の処理装置。４、第１処理槽が、上面開口を開閉される蓋体を備えて
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の処理
装置。