JPH0737316Y2 - 基板搬送用ロボットチャックの洗浄装置 - Google Patents
基板搬送用ロボットチャックの洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0737316Y2 JPH0737316Y2 JP40631490U JP40631490U JPH0737316Y2 JP H0737316 Y2 JPH0737316 Y2 JP H0737316Y2 JP 40631490 U JP40631490 U JP 40631490U JP 40631490 U JP40631490 U JP 40631490U JP H0737316 Y2 JPH0737316 Y2 JP H0737316Y2
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- Japan
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- cleaning
- robot
- chuck
- robot chuck
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この考案は、半導体基板や液晶用
ガラス基板等の薄板状被処理基板(以下単に基板と称す
る)を現像液、エッチング液、レジスト剥離液、純水洗
浄液などの処理液槽内に順次浸漬して表面処理する浸漬
型基板処理装置において用いられる基板搬送用ロボット
チャックの洗浄装置に関し、特にキャリアを用いず、直
接複数枚の基板を挟持するロボットチャックの洗浄装置
に関するものである。
ガラス基板等の薄板状被処理基板(以下単に基板と称す
る)を現像液、エッチング液、レジスト剥離液、純水洗
浄液などの処理液槽内に順次浸漬して表面処理する浸漬
型基板処理装置において用いられる基板搬送用ロボット
チャックの洗浄装置に関し、特にキャリアを用いず、直
接複数枚の基板を挟持するロボットチャックの洗浄装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】上記のような浸漬型基板処理装置として
は、従来より例えば図7に示すものが知られており、こ
の装置においてはキャリア搬送用ロボット130a・1
30bを備え、多数の基板Wを収容したキャリアKを当
該ロボットの揺動可能なチャック131で挟持し、キャ
リアKを搬送、昇降して順次各処理槽41〜49内浸漬
して乾燥までの一環処理がなされるように構成されてい
る。
は、従来より例えば図7に示すものが知られており、こ
の装置においてはキャリア搬送用ロボット130a・1
30bを備え、多数の基板Wを収容したキャリアKを当
該ロボットの揺動可能なチャック131で挟持し、キャ
リアKを搬送、昇降して順次各処理槽41〜49内浸漬
して乾燥までの一環処理がなされるように構成されてい
る。
【0003】ところでこのような浸漬型基板処理装置に
おいては、キャリアKやチャック131に付着した前工
程の処理液が後工程の処理液中に混入することは望まし
くない。このため処理液の混入が許容される工程、例え
ば薬液処理工程42〜46に対しては1台のロボット1
30aを対応させるとともに、必要に応じてチャック1
31を洗浄し得るように1つの洗浄処理槽41を設けて
ある。また、処理槽46〜49に対しては別のロボット
130bを対応させるとともに、最終の薬液処理槽46
と超純水洗浄槽48の間に洗浄処理槽47を設け、最終
の薬液処理を終えたキャリアKをこの洗浄処理槽47で
洗浄し、あるいは乾燥機49からキャリアKを取り出す
際にチャック131から水滴が滴下して基板に付着する
のを避けるために、この洗浄処理槽47内に設けた液切
り手段でチャック131の水滴を吹き飛ばすように構成
されている。
おいては、キャリアKやチャック131に付着した前工
程の処理液が後工程の処理液中に混入することは望まし
くない。このため処理液の混入が許容される工程、例え
ば薬液処理工程42〜46に対しては1台のロボット1
30aを対応させるとともに、必要に応じてチャック1
31を洗浄し得るように1つの洗浄処理槽41を設けて
ある。また、処理槽46〜49に対しては別のロボット
130bを対応させるとともに、最終の薬液処理槽46
と超純水洗浄槽48の間に洗浄処理槽47を設け、最終
の薬液処理を終えたキャリアKをこの洗浄処理槽47で
洗浄し、あるいは乾燥機49からキャリアKを取り出す
際にチャック131から水滴が滴下して基板に付着する
のを避けるために、この洗浄処理槽47内に設けた液切
り手段でチャック131の水滴を吹き飛ばすように構成
されている。
【0004】上記洗浄処理槽41・47内に設けられる
ロボットチャックの洗浄装置としては、従来より例えば
図8に示すものが本出願人により提案されている(実開
昭63−108630号公報)。それは図8に示すよう
に、昇降可能な一対のカセット搬送用チャック131に
対向して洗浄処理槽102内に配置された2個で一組の
固定ガスノズル105・105と、純水吐出ノズル10
8と、水平移動可能に設けられた2個で一組の移動ガス
ノズル110を具備して成り、純水吐出ノズル108よ
り純水を噴射してロボットチャック31を洗浄し、ロボ
ットチャック131を上昇させながら固定ガスノズル1
05・105よりN2ガスを噴射して当該ロボットチャッ
ク131の揺動縦腕部の液切りをし、引き続き図8の実
線位置で移動ガスノズル110よりN2ガスを噴射して
当該ロボットチャック131の挟持横腕部の液切りをす
るように構成されている。なお、同図中の符号104は
排液ドレン、112は移動ガスノズル110の中間支持
具、113は水平移動可能に設けられた移動基枠、11
4は移動基枠113を水平移動させるエアシリンダ、1
25は防水カバーである。
ロボットチャックの洗浄装置としては、従来より例えば
図8に示すものが本出願人により提案されている(実開
昭63−108630号公報)。それは図8に示すよう
に、昇降可能な一対のカセット搬送用チャック131に
対向して洗浄処理槽102内に配置された2個で一組の
固定ガスノズル105・105と、純水吐出ノズル10
8と、水平移動可能に設けられた2個で一組の移動ガス
ノズル110を具備して成り、純水吐出ノズル108よ
り純水を噴射してロボットチャック31を洗浄し、ロボ
ットチャック131を上昇させながら固定ガスノズル1
05・105よりN2ガスを噴射して当該ロボットチャッ
ク131の揺動縦腕部の液切りをし、引き続き図8の実
線位置で移動ガスノズル110よりN2ガスを噴射して
当該ロボットチャック131の挟持横腕部の液切りをす
るように構成されている。なお、同図中の符号104は
排液ドレン、112は移動ガスノズル110の中間支持
具、113は水平移動可能に設けられた移動基枠、11
4は移動基枠113を水平移動させるエアシリンダ、1
25は防水カバーである。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】近年、半導体基板の集
積度のアップ、ひいては基板サイズの大型化に伴って、
益々高い製造品質が要求されるようになった。このた
め、パーティクルの付着を極力排除するべく、基板搬送
用カセットキャリアを用いないで直接基板Wを基板搬送
用ロボットで保持して搬送するとともに、その基板を処
理槽内に浸漬してそのまま基板支持手段で支持させるキ
ャリアレス方式が採用されつつある。
積度のアップ、ひいては基板サイズの大型化に伴って、
益々高い製造品質が要求されるようになった。このた
め、パーティクルの付着を極力排除するべく、基板搬送
用カセットキャリアを用いないで直接基板Wを基板搬送
用ロボットで保持して搬送するとともに、その基板を処
理槽内に浸漬してそのまま基板支持手段で支持させるキ
ャリアレス方式が採用されつつある。
【0006】しかし上記従来のロボットチャック洗浄装
置は、キャリア搬送方式のロボットチャックの洗浄及び
液切りを意図したものであるから、多数の基板を直接保
持するキャリアレス型ロボットチャックの基板挟持溝を
スプレー洗浄のみで完全に洗浄するには不向きである。
即ち、複数枚の基板を一括挟持するロボットチャックの
基板挟持溝内の洗浄が不十分であれば、その溝内に汚れ
又は前処理の処理液が残留し、これが次の工程で塩を生
成し、パーティクルの原因になる。さらに処理液の混合
により液質が悪化する等の問題を生じる。本考案はこの
ような事情を考慮してなされたもので、キャリアレス型
ロボットチャックを短時間で洗浄するのに適するロボッ
トチャックの洗浄装置を提供することを技術課題とす
る。
置は、キャリア搬送方式のロボットチャックの洗浄及び
液切りを意図したものであるから、多数の基板を直接保
持するキャリアレス型ロボットチャックの基板挟持溝を
スプレー洗浄のみで完全に洗浄するには不向きである。
即ち、複数枚の基板を一括挟持するロボットチャックの
基板挟持溝内の洗浄が不十分であれば、その溝内に汚れ
又は前処理の処理液が残留し、これが次の工程で塩を生
成し、パーティクルの原因になる。さらに処理液の混合
により液質が悪化する等の問題を生じる。本考案はこの
ような事情を考慮してなされたもので、キャリアレス型
ロボットチャックを短時間で洗浄するのに適するロボッ
トチャックの洗浄装置を提供することを技術課題とす
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】本考案は上記課題を解決
するものとして、以下のように構成される。即ち、請求
項1に記載の考案は、昇降自在に設けられた一対の基板
搬送用ロボットチャックをそれぞれ洗浄して液切りする
ために、それぞれの基板搬送用ロボットチャックに対向
させて、それぞれ一対のガスノズルと一対の純水吐出ノ
ズルとを、洗浄処理槽内に上方より順次設けた基板搬送
用ロボットチャックの洗浄装置において、純水吐出ノズ
ルの下方に、ロボットチャックの基板挟持溝に純水を供
給する洗浄強化手段を設けたことを特徴とするものであ
る。請求項2に記載の考案は、請求項1に記載の基板搬
送用ロボットチャックの洗浄装置において、洗浄強化手
段が、回転支軸の一端部が駆動モータに伝動連結され、
他端部が洗浄液供給パイプに連結されている回転ブラシ
から成るものである。 請求項3に記載の考案は、請求項
1に記載の基板搬送用ロボットチャックの洗浄装置にお
いて、洗浄強化手段が、高圧洗浄液吐出ノズル、又は超
音波洗浄液を噴射するジェットノズルから成るものであ
る。 請求項4に記載の考案は、請求項1に記載の基板搬
送用ロボットチャックの洗浄装置において、洗浄強化手
段が、洗浄液を貯溜した洗浄液槽と、該洗浄液槽の下方
に付設された超音波発振器とを含んで成るものである。
するものとして、以下のように構成される。即ち、請求
項1に記載の考案は、昇降自在に設けられた一対の基板
搬送用ロボットチャックをそれぞれ洗浄して液切りする
ために、それぞれの基板搬送用ロボットチャックに対向
させて、それぞれ一対のガスノズルと一対の純水吐出ノ
ズルとを、洗浄処理槽内に上方より順次設けた基板搬送
用ロボットチャックの洗浄装置において、純水吐出ノズ
ルの下方に、ロボットチャックの基板挟持溝に純水を供
給する洗浄強化手段を設けたことを特徴とするものであ
る。請求項2に記載の考案は、請求項1に記載の基板搬
送用ロボットチャックの洗浄装置において、洗浄強化手
段が、回転支軸の一端部が駆動モータに伝動連結され、
他端部が洗浄液供給パイプに連結されている回転ブラシ
から成るものである。 請求項3に記載の考案は、請求項
1に記載の基板搬送用ロボットチャックの洗浄装置にお
いて、洗浄強化手段が、高圧洗浄液吐出ノズル、又は超
音波洗浄液を噴射するジェットノズルから成るものであ
る。 請求項4に記載の考案は、請求項1に記載の基板搬
送用ロボットチャックの洗浄装置において、洗浄強化手
段が、洗浄液を貯溜した洗浄液槽と、該洗浄液槽の下方
に付設された超音波発振器とを含んで成るものである。
【0008】
【作用】請求項1に記載の考案では、純水吐出ノズルの
下方に、ロボットチャックの基板挟持溝に純水を供給す
る洗浄強化手段を設けたことから、一対の基板搬送用ロ
ボットチャックを洗浄処理槽内へ下降させ、上記洗浄強
化手段により、キャリアレス型ロボットチャックの基板
挟持溝を強力に洗浄し、次いで当該ロボットチャックを
上昇させながら、純水吐出ノズルで当該ロボットチャッ
クにむけて純水を噴射させて洗浄し、さらに純水吐出ノ
ズルの上方に位置するガスノズルで当該ロボットチャッ
クに付着している水滴を液切りする。これによりロボッ
トチャックの基板挟持溝を短時間で強力に洗浄すること
ができる。請求項2に記載の考案では、純水吐出ノズル
の下方に設けた洗浄強化手段が、回転支軸の一端部が駆
動モータに伝動連結され、他端部が洗浄液供給パイプに
連結されている回転ブラシにより構成されていることか
ら、その回転ブラシを介して洗浄液を供給しながら回転
ブラシを回転させてロボットチャックの基板挟持溝を強
力に洗浄する。 請求項3に記載の考案では、純水吐出ノ
ズルの下方に設けた洗浄強化手段が、高圧洗浄液吐出ノ
ズル、又は超音波洗浄液を噴射するジェットノズルによ
り構成されていることから、高圧洗浄液吐出ノズルによ
り高圧洗浄液を噴射させ、又はジェットノズルにより超
音波で励振させた洗浄液を噴射させてロボットチャック
の基板挟持溝を強力に洗浄する。 請求項4に記載の考案
では、純水吐出ノズルの下方に設けた洗浄強化手段が、
洗浄液を貯溜した洗浄液槽と、該洗浄液槽の下方に付設
された超音波発振器とを含んでいることから、超音波で
励振させた洗浄液中にロボットチャックを浸漬させて基
板挟持溝を強力に洗浄する。
下方に、ロボットチャックの基板挟持溝に純水を供給す
る洗浄強化手段を設けたことから、一対の基板搬送用ロ
ボットチャックを洗浄処理槽内へ下降させ、上記洗浄強
化手段により、キャリアレス型ロボットチャックの基板
挟持溝を強力に洗浄し、次いで当該ロボットチャックを
上昇させながら、純水吐出ノズルで当該ロボットチャッ
クにむけて純水を噴射させて洗浄し、さらに純水吐出ノ
ズルの上方に位置するガスノズルで当該ロボットチャッ
クに付着している水滴を液切りする。これによりロボッ
トチャックの基板挟持溝を短時間で強力に洗浄すること
ができる。請求項2に記載の考案では、純水吐出ノズル
の下方に設けた洗浄強化手段が、回転支軸の一端部が駆
動モータに伝動連結され、他端部が洗浄液供給パイプに
連結されている回転ブラシにより構成されていることか
ら、その回転ブラシを介して洗浄液を供給しながら回転
ブラシを回転させてロボットチャックの基板挟持溝を強
力に洗浄する。 請求項3に記載の考案では、純水吐出ノ
ズルの下方に設けた洗浄強化手段が、高圧洗浄液吐出ノ
ズル、又は超音波洗浄液を噴射するジェットノズルによ
り構成されていることから、高圧洗浄液吐出ノズルによ
り高圧洗浄液を噴射させ、又はジェットノズルにより超
音波で励振させた洗浄液を噴射させてロボットチャック
の基板挟持溝を強力に洗浄する。 請求項4に記載の考案
では、純水吐出ノズルの下方に設けた洗浄強化手段が、
洗浄液を貯溜した洗浄液槽と、該洗浄液槽の下方に付設
された超音波発振器とを含んでいることから、超音波で
励振させた洗浄液中にロボットチャックを浸漬させて基
板挟持溝を強力に洗浄する。
【0009】
【実施例】以下本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。図1は本考案に係る基板搬送用ロボットチャックの
洗浄装置の縦断正面図、図2はその縦断側面図である。
なお符号1はロボットチャックの洗浄装置全体を示す。
この実施例装置は図1で示すように、洗浄処理槽2と、
昇降自在に設けられた一対の基板搬送用ロボットチャッ
ク31・31に対応させて、それぞれ洗浄処理槽2内に
順次下方へ配置された2組で左右一対をなすガスノズル
5と、2組で左右一対をなす純水吐出ノズル10と、2
組で左右一対をなす洗浄強化手段15とを具備して成
り、当該ロボットチャック31・31を洗浄して液切り
するように構成されている。なお、図中の符号3は洗浄
処理槽2の前面壁に設けられた排気ダクト、4は洗浄処
理槽2の段落下壁に設けられた排液ドレン、25は防水
カバーである。である。
る。図1は本考案に係る基板搬送用ロボットチャックの
洗浄装置の縦断正面図、図2はその縦断側面図である。
なお符号1はロボットチャックの洗浄装置全体を示す。
この実施例装置は図1で示すように、洗浄処理槽2と、
昇降自在に設けられた一対の基板搬送用ロボットチャッ
ク31・31に対応させて、それぞれ洗浄処理槽2内に
順次下方へ配置された2組で左右一対をなすガスノズル
5と、2組で左右一対をなす純水吐出ノズル10と、2
組で左右一対をなす洗浄強化手段15とを具備して成
り、当該ロボットチャック31・31を洗浄して液切り
するように構成されている。なお、図中の符号3は洗浄
処理槽2の前面壁に設けられた排気ダクト、4は洗浄処
理槽2の段落下壁に設けられた排液ドレン、25は防水
カバーである。である。
【0010】各ガスノズル5は図2で示すように、その
両端を固定具7・7によって水平に支持されたエアパイ
プ6と、このエアパイプ6に沿って横長に付設され、ロ
ボットチャック31の横全長に亙って斜め下向きへN2
ガスを吹き出すように設けられたエア噴出具8とから成
り、エアパイプ6の一端部よりN2ガスが供給されるよ
うになっている。
両端を固定具7・7によって水平に支持されたエアパイ
プ6と、このエアパイプ6に沿って横長に付設され、ロ
ボットチャック31の横全長に亙って斜め下向きへN2
ガスを吹き出すように設けられたエア噴出具8とから成
り、エアパイプ6の一端部よりN2ガスが供給されるよ
うになっている。
【0011】各純水吐出ノズル10は図1〜図2で示す
ように、各1組(10・10)がそれぞれ左右一対の各
ノズル固定具11に固設された短パイプ10aと、この
短パイプに付設され斜め下向きへ純水を噴射すように設
けられた純水噴射具10bとから成り、後述するように
ロボットチャック31のチャック本体31bを仮想線で
示す高さに位置させ、純水吐出ノズル10を水平移動し
ながら純水をロボットチャック31へ向けて噴射するよ
うに構成されている。即ち、各ノズル固定具11・11
はそれぞれ中間支持具12を介して水平移動可能に設け
られた移動基枠13の上端部に固定され、移動基枠13
をエアシリンダ14で作動させて当該左右一対の純水吐
出ノズル(10・10)、(10・10)を同時に水平移
動するように構成されている。なお、この純水吐出ノズ
ル10に代えて上記ガスノズル5と同様、横長に固定し
た純水吐出ノズルを設け、ロボットチャック31の横全
長に亙って斜め下向きへ純水を噴射するように構成して
もよい。
ように、各1組(10・10)がそれぞれ左右一対の各
ノズル固定具11に固設された短パイプ10aと、この
短パイプに付設され斜め下向きへ純水を噴射すように設
けられた純水噴射具10bとから成り、後述するように
ロボットチャック31のチャック本体31bを仮想線で
示す高さに位置させ、純水吐出ノズル10を水平移動し
ながら純水をロボットチャック31へ向けて噴射するよ
うに構成されている。即ち、各ノズル固定具11・11
はそれぞれ中間支持具12を介して水平移動可能に設け
られた移動基枠13の上端部に固定され、移動基枠13
をエアシリンダ14で作動させて当該左右一対の純水吐
出ノズル(10・10)、(10・10)を同時に水平移
動するように構成されている。なお、この純水吐出ノズ
ル10に代えて上記ガスノズル5と同様、横長に固定し
た純水吐出ノズルを設け、ロボットチャック31の横全
長に亙って斜め下向きへ純水を噴射するように構成して
もよい。
【0012】各洗浄強化手段15は回転ブラシ15aで
構成され、キャリアレス型ロボットチャック31の基板
挟持溝(図3符号32)を洗浄し得るように構成されて
いる。この回転ブラシ15aは図2で示すように、回転
支軸16の一端部がカップリング17を介して駆動モー
タ18に伝動連結され、他端部がロータリージョイント
19を介して洗浄液供給パイプ20に連結されている。
なお、洗浄液としては前処理工程で付着した薬液の種類
に応じて、適宜純水中に過水(H2O2)やアンモニア
(HNO3)等の組み合わせ又はその他を添加したもの
が用いられる。
構成され、キャリアレス型ロボットチャック31の基板
挟持溝(図3符号32)を洗浄し得るように構成されて
いる。この回転ブラシ15aは図2で示すように、回転
支軸16の一端部がカップリング17を介して駆動モー
タ18に伝動連結され、他端部がロータリージョイント
19を介して洗浄液供給パイプ20に連結されている。
なお、洗浄液としては前処理工程で付着した薬液の種類
に応じて、適宜純水中に過水(H2O2)やアンモニア
(HNO3)等の組み合わせ又はその他を添加したもの
が用いられる。
【0013】上記キャリアレス型ロボットチャック31
は各挟持アーム31aが2個のチャック本体31bを有
して成り、チャック本体31bに切設した基板挟持溝
(図3符号32)で多数の基板を直立状に整列して一括
保持するように構成されている。ここで図3は図2にお
けるチャック本体31bの要部IIIの拡大断面図であ
る。このキャリアレス型ロボットチャック31によれば
キャリアを用いない分だけ洗浄処理時間を短縮でき、ま
た処理槽の容積を小さくできる等のメリットがある。
なお、チャック本体31bの形状は上記実施例のよう
に、断面円形のものに限らず、断面矩形のものに基板挟
持溝を切設しても良い。
は各挟持アーム31aが2個のチャック本体31bを有
して成り、チャック本体31bに切設した基板挟持溝
(図3符号32)で多数の基板を直立状に整列して一括
保持するように構成されている。ここで図3は図2にお
けるチャック本体31bの要部IIIの拡大断面図であ
る。このキャリアレス型ロボットチャック31によれば
キャリアを用いない分だけ洗浄処理時間を短縮でき、ま
た処理槽の容積を小さくできる等のメリットがある。
なお、チャック本体31bの形状は上記実施例のよう
に、断面円形のものに限らず、断面矩形のものに基板挟
持溝を切設しても良い。
【0014】次に上記実施例装置の動作について説明す
る。先ずロボットチャック31の挟持アーム31aを最
下降位置まで下降させながら回転ブラシ15aを回転さ
せるとともに、その回転ブラシ15aを介して洗浄液を
供給しながら挟持アーム31aを洗浄する。次いでロボ
ットチャック31を上昇させて各チャック本体31bを
順次回転ブラシ15aの高さに位置させ、それらの基板
挟持溝32を洗浄する。さらにロボットチャック31を
上昇させて各チャック本体31bを順次仮想線で示す高
さに位置させ、純水吐出ノズル10を水平移動しながら
(又は横長に固定した純水吐出ノズルから)純水をチャ
ック本体31bへ向けて噴射し、同様に基板挟持溝32
を洗浄する。一方ではロボットチャック31の上昇時に
ガスノズル5よりロボットチャック31の横全長に亙っ
て斜め下向きにN2ガスを吹き出し、挟持アーム31a
及びチャック本体31bに付着した水滴を吹き飛ばす。
る。先ずロボットチャック31の挟持アーム31aを最
下降位置まで下降させながら回転ブラシ15aを回転さ
せるとともに、その回転ブラシ15aを介して洗浄液を
供給しながら挟持アーム31aを洗浄する。次いでロボ
ットチャック31を上昇させて各チャック本体31bを
順次回転ブラシ15aの高さに位置させ、それらの基板
挟持溝32を洗浄する。さらにロボットチャック31を
上昇させて各チャック本体31bを順次仮想線で示す高
さに位置させ、純水吐出ノズル10を水平移動しながら
(又は横長に固定した純水吐出ノズルから)純水をチャ
ック本体31bへ向けて噴射し、同様に基板挟持溝32
を洗浄する。一方ではロボットチャック31の上昇時に
ガスノズル5よりロボットチャック31の横全長に亙っ
て斜め下向きにN2ガスを吹き出し、挟持アーム31a
及びチャック本体31bに付着した水滴を吹き飛ばす。
【0015】本考案は上記実施例に限るものではなく、
例えばガスノズル5についても固定型のものに代えて水
平移動型のものを設けても良く、また以下のように多様
な変形を加えて実施することができる。即ち、図4〜図
6はそれぞれ実施例2〜実施例4を示す要部正面図であ
り、ガスノズル5、純水吐出ノズル10、洗浄強化手段
15はそれぞれ左右2組のうち一方のみを示している。
例えばガスノズル5についても固定型のものに代えて水
平移動型のものを設けても良く、また以下のように多様
な変形を加えて実施することができる。即ち、図4〜図
6はそれぞれ実施例2〜実施例4を示す要部正面図であ
り、ガスノズル5、純水吐出ノズル10、洗浄強化手段
15はそれぞれ左右2組のうち一方のみを示している。
【0016】図4の実施例2では、移動型の純水吐出ノ
ズル10に代えて横長に固定した純水吐出ノズル10A
を設け、さらに回転ブラシ15aの下側に洗浄液吐出ノ
ズル10Bを付設し、洗浄力を強化したものである。こ
の場合洗浄強化のため、チャック挟持アーム31aを適
宜上下に揺動させても良い。図5の実施例では、洗浄強
化手段15である回転ブラシ15aに代えて横長に固定
した高圧洗浄液吐出ノズル、あるいは1MHz前後の周
波数の超音波を加えた洗浄液を噴射するジェットノズル
15bを少なくとも基板Wの挟持側に設け、洗浄力を強
化したものである。図6の実施例では、洗浄強化手段1
5である回転ブラシ15aに代えて最下位置に洗浄液Q
を貯溜した洗浄液槽15cを横設し、数10KHzの周
波数の超音波を加えた洗浄液でチャック本体31bを強
力に洗浄するように構成したものである。なお洗浄液槽
15cには自動開閉蓋15dを付設しても良く、同図中
の符号15eは超音波発振器である。また洗浄液Qには
アンモニア過水(NH4OH+H2O2)を70〜80℃
に昇温し、あるいは硫酸過水(H2SO4+H2O2)を所
要温度に昇温して用いることができる。
ズル10に代えて横長に固定した純水吐出ノズル10A
を設け、さらに回転ブラシ15aの下側に洗浄液吐出ノ
ズル10Bを付設し、洗浄力を強化したものである。こ
の場合洗浄強化のため、チャック挟持アーム31aを適
宜上下に揺動させても良い。図5の実施例では、洗浄強
化手段15である回転ブラシ15aに代えて横長に固定
した高圧洗浄液吐出ノズル、あるいは1MHz前後の周
波数の超音波を加えた洗浄液を噴射するジェットノズル
15bを少なくとも基板Wの挟持側に設け、洗浄力を強
化したものである。図6の実施例では、洗浄強化手段1
5である回転ブラシ15aに代えて最下位置に洗浄液Q
を貯溜した洗浄液槽15cを横設し、数10KHzの周
波数の超音波を加えた洗浄液でチャック本体31bを強
力に洗浄するように構成したものである。なお洗浄液槽
15cには自動開閉蓋15dを付設しても良く、同図中
の符号15eは超音波発振器である。また洗浄液Qには
アンモニア過水(NH4OH+H2O2)を70〜80℃
に昇温し、あるいは硫酸過水(H2SO4+H2O2)を所
要温度に昇温して用いることができる。
【0017】
【考案の効果】請求項1の考案では純水吐出ノズルの下
方に、ロボットチャックの基板挟持溝に純水を供給する
洗浄強化手段を設け、キャリアレス型ロボットチャック
の基板挟持溝を洗浄するように構成したので、ロボット
チャックの基板挟持溝を短時間で強力に洗浄することが
でき、チャックの挟持溝に付着した汚れや表面処理液を
他の表面処理液に持ち込むのを避けることができ、表面
処理液の液質が悪化する等の不都合を解消することがで
きる。また、請求項2に記載の考案では、回転ブラシを
介して洗浄液を供給しながら回転ブラシを回転させてロ
ボットチャックの基板挟持溝を洗浄するので、基板挟持
溝を短時間で強力に洗浄することができる。 請求項3に
記載の考案では、高圧洗浄液吐出ノズルにより高圧洗浄
液を噴射させ、又はジェットノズルにより超音波で励振
させた洗浄液を噴射させてロボットチャックの基板挟持
溝を洗浄するので、基板挟持溝を短時間で強力に洗浄す
ることができる。 請求項4に記載の考案では、超音波で
励振させた洗浄液中にロボットチャックを浸漬させて基
板挟持溝を洗浄するので、基板挟持溝を短時間で強力に
洗浄することができる。
方に、ロボットチャックの基板挟持溝に純水を供給する
洗浄強化手段を設け、キャリアレス型ロボットチャック
の基板挟持溝を洗浄するように構成したので、ロボット
チャックの基板挟持溝を短時間で強力に洗浄することが
でき、チャックの挟持溝に付着した汚れや表面処理液を
他の表面処理液に持ち込むのを避けることができ、表面
処理液の液質が悪化する等の不都合を解消することがで
きる。また、請求項2に記載の考案では、回転ブラシを
介して洗浄液を供給しながら回転ブラシを回転させてロ
ボットチャックの基板挟持溝を洗浄するので、基板挟持
溝を短時間で強力に洗浄することができる。 請求項3に
記載の考案では、高圧洗浄液吐出ノズルにより高圧洗浄
液を噴射させ、又はジェットノズルにより超音波で励振
させた洗浄液を噴射させてロボットチャックの基板挟持
溝を洗浄するので、基板挟持溝を短時間で強力に洗浄す
ることができる。 請求項4に記載の考案では、超音波で
励振させた洗浄液中にロボットチャックを浸漬させて基
板挟持溝を洗浄するので、基板挟持溝を短時間で強力に
洗浄することができる。
【図1】本考案に係る基板搬送用ロボットチャックの洗
浄装置の縦断正面である。
浄装置の縦断正面である。
【図2】本考案に係る基板搬送用ロボットチャックの洗
浄装置の縦断側面図である。
浄装置の縦断側面図である。
【図3】図2におけるチャック本体31bの要部IIIの
拡大断面図である。
拡大断面図である。
【図4】実施例2を示す要部正面図である。
【図5】実施例3を示す要部正面図である。
【図6】実施例4を示す要部正面図である。
【図7】浸漬型基板処理装置の斜視図である。
【図8】従来例に係る基板搬送用ロボットチャックの洗
浄装置の縦断正面である。
浄装置の縦断正面である。
2…洗浄処理槽、 5…ガスノズル、 10・10A…
純水吐出ノズル、 15・15a・15b・15c…洗浄
強化手段(回転ブラシ・高圧洗浄液吐出ノズルあるいは
ジェットノズル・洗浄液槽)、 W…基板。
純水吐出ノズル、 15・15a・15b・15c…洗浄
強化手段(回転ブラシ・高圧洗浄液吐出ノズルあるいは
ジェットノズル・洗浄液槽)、 W…基板。
Claims (4)
- 【請求項1】 昇降自在に設けられた一対の基板搬送用
ロボットチャックをそれぞれ洗浄して液切りするため
に、それぞれの基板搬送用ロボットチャックに対向させ
て、それぞれ一対のガスノズルと一対の純水吐出ノズル
とを、洗浄処理槽内に上方より順次設けた基板搬送用ロ
ボットチャックの洗浄装置において、 純水吐出ノズルの下方に、ロボットチャックの基板挟持
溝に純水を供給する洗浄強化手段を設けたことを特徴と
する基板搬送用ロボットチャックの洗浄装置。 - 【請求項2】 洗浄強化手段が、回転支軸の一端部が駆
動モータに伝動連結され、他端部が洗浄液供給パイプに
連結されている回転ブラシである請求項1に記載の基板
搬送用ロボットチャックの洗浄装置。 - 【請求項3】 洗浄強化手段が、高圧洗浄液吐出ノズ
ル、又は超音波洗浄液を噴射するジェットノズルである
請求項1に記載の基板搬送用ロボットチャックの洗浄装
置。 - 【請求項4】 洗浄強化手段が、洗浄液を貯溜した洗浄
液槽と、該洗浄液槽の下方に付設された超音波発振器と
を含んで成る請求項1に記載の基板搬送用ロボットチャ
ックの洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40631490U JPH0737316Y2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 基板搬送用ロボットチャックの洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40631490U JPH0737316Y2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 基板搬送用ロボットチャックの洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0492644U JPH0492644U (ja) | 1992-08-12 |
JPH0737316Y2 true JPH0737316Y2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=31883591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40631490U Expired - Lifetime JPH0737316Y2 (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 基板搬送用ロボットチャックの洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0737316Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6473353B2 (ja) * | 2015-03-10 | 2019-02-20 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理装置及びそのチャック洗浄方法 |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP40631490U patent/JPH0737316Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0492644U (ja) | 1992-08-12 |
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