JPS6168725A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） 本発明は改良された磁気記録媒体およびその製造方法に
関するものであり、特（；磁性金属膜の表面にシラン化
合物のプラズマ重合保護膜およびその上Ｃニフツ累樹脂
潤滑膜を順次設けることにより、耐久性、走行性、耐候
性（耐酸化性）を格段に向上させた磁気記録媒体に関す
る。 （従来の技術） 従来よりコンピューターの発展とともにその周辺機器の
一つとして磁気ディスク、フレキシブルディスク等の磁
気記録媒体が発展してきた。近年、高密度化記録の要請
にともない、貰空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング等のベーバーデボジツション法あるいは電解メ
ッキ、無電解メッキ等のメッキ法により形成される磁性
金属薄模を磁ｚ記録層とする非バインダー型の磁気記録
媒体が注目されており、実用化への努力が種々行われて
いるう 磁性金属薄膜をポリエステルフィルム等の基体上に形成
する方法としては、真空蒸発、スパッタリング、イオン
ブレーティング等のペーパーデポクッション法と電解メ
ッキ、無電解メッキ等のメッキ法の２通りの方法がある
。これらのうちペーパーデボクッション法は真空雰囲気
内での処理を必要とするため、生産はパッチシステムに
なることおよび真空雰囲気を維持するための動力費が多
大Ｃ：かかる等の欠点を有している。これば二対し上記
メッキ法は常圧で行われるため、省エネルギー、生産性
の面で有利である特長をもっている。 他方、本発明者らは先（ニメチルハイドロジエンポリシ
ラン類の少なくとも１種と酸素とのガス状混合物を用い
てプラズマ気相沈積法により潤滑性のあるプラズマ重合
膜を各種基体の保護膜とじて形成する方法を提案した。 この方法Ｃ二よれば炭化けい素およびシラノールを含む
潤滑性のある硬化膜が容易ｆ二得られ、この薄膜はシラ
ノール基を含むため親水性の表面特性を示し、潤滑層の
接着、ぬれＣ良好な結果を示す。 本発明者らはこのような薄膜を前記メッキ法による磁性
金属薄膜の保護層として応用することを検討し本発明に
到達したものである。 （発明の構成） すなわち本発明は、基体上に、磁性金属膜、シラン化合
物のプラズマ重合膜およびフッ素樹脂膜を順次積層一体
化してなる磁気記録媒体Ｃ二関するものであり、本発明
はさらにこの製造方法を提供するものである。すなわち
、この製造方法は基体上に、無電解メッキもしくは電解
メッキ法により磁性金属膜を形成し、次にこの磁性金属
膜上（ニンラン化合物を用いてプラズマ気相沈積法Ｃ：
よりプラズマ重合膜を形成し、さらＣ二このプラズマ重
合膜上にフッ素樹脂の薄膜を形成することを特徴とする
。 本発明によれば、磁性金属膜の上にプラズマ気相沈積法
によりシラン化合物のプラズマ重合膜が均一にかつ強固
に形成され、この重合膜が主として炭化けい素からなる
シラノール結合な含むものであるので、磁性金属膜の保
護層としてきわめてすぐれた耐久性、耐候性（耐酸化性
）の威力を発揮するととも（二、この重合膜上へのフッ
素樹脂膜の形成がきわめて強固に行われ耐久性ある走行
性が達成される。 以下本発明の詳細な説明する。 本発明（：かかわる磁気記録媒体は、添付図面に示すと
おり、基体１の上に磁性金属膜２、シラン化合物のプラ
ズマ重合膜３、およびフッ素樹脂膜４を順次積層一体化
してなるものである。 基体１の材質としては非磁性材料から選択され、たとえ
ば銅、アルミニウム、ニッケルなどの非磁性金属材料、
ポリエステル、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイ
ドなどのプラスチックフィルム等、これらプラスチック
フィルムの表面に無電解メッキ、電解メッキ、蒸着、ス
パッタリング等の方法により非磁性金属の膜を形成した
ものが使用される。 この基体ｌ上に、コバルト・リン、コバルト・ニッケル
・リン等の磁性金属膜２を、無電解メッキあるいは電解
メッキの方法Ｃ：より形成する。この場合のメッキ浴と
しては、塩化コバルト、硫酸コバルト、塩化ニッケル、
硫酸ニッケル、次亜リン酸ナトリウム等から選ばれた必
要成分の混合溶液が使用される。形成されるメッキ膜（
磁性膜）の厚さは、磁気記録の高密度化、表面の平滑化
および磁性粒子の高配向化を可能とするうえがらおおむ
ね０．１〜２μｍ（特（二は０．５〜１μｍ）とするこ
とが望ましい。 次に上記磁性金属膜２のうえにプラズマ気相沈積法によ
りシラン化合物のプラズマ重合膜を形成するランラン化
合物は酸素ガスとの混合物として用いることが望ましく
、たとえばシラン化合物のガスと酸素ガスのモル比１：
０．５〜１：８　（好ましくは］：１〜１：３）からな
る混合ガスを用いて１反応器内（；設置した前述の磁性
金属膜２を有する基体１に対し、器内雰囲気圧力１トル
以下の条件で高周波電力を与えるいわゆるプラズマ気相
沈積法によりプラズマ１合膜３を形成する。このプラズ
マ重合膜（保護膜）の厚さはおおむね０．Ｏ２Ｎ２．５
μｍ（特には０．０２〜０．１ａｍ）とすることが望ま
しく、０．０１μｍ以下では保護獲表面ｌ二おける平滑
性を十分Ｃ二出すの１；難点がある。０．５ｊＩｍ以上
としても効果がそれ以上Ｉ：は向上しないのみならず磁
性膜と磁気ヘッドとの距離が大きくなり記録・再生時に
不具合を生じる。 上記プラズマ気相沈積法において重合膜３を形成するた
めの原料ガスであるシラン化合物に酸素ガスを混合する
こと（二より、フレキシブルディスクを製造する際、原
反上り型抜きした際に、発生する切断面である磁性膜の
切り口の表面酸化、腐蝕等が防止されるようｆ二なる。 本発明に使用されるシラン化合物としては一般式　（Ｏ
Ｈ，）ａ８１．Ｈｏ　（式中のａ、ｂ、ｃは、１＜ｂ＜
４、ａ＋１≦２ｂ＋１．１く。≦２ｂ＋１、ａ＋ｏ　ｗ
　Ｚｂ＋２を首足する数）で示されるメチルハイドロジ
エンポリシラン類が好適とされ、具体的例示をあげれば
次のとおりである。 ）（ＨＨｌｌ Ｍｅ　　Ｍｅ　　Ｍｅ　　　　　　　　　　　Ｍｓ　　
　ＨＭｅＨＨＩ’ｌ　　　　　　　　　　　ＨＭ＊Ｈ（
Ｍｅはメチル基を示す］ プラズマ気相沈積法に上り形成

【また重合Ｍ３の上Ｃ；
充分な走行性をもたせるためＣ：フッ素樹脂膜４を形成
する。ここ（二使用されるフッ素樹脂としては王妃式で
示されるパーフロロアルキルポリエーテル等のような耐
熱性、化学安定性にすぐれているものがよいつ これらのフッ素樹脂を用いて膜を形成する方法としては
、上記フッ素樹脂をフレオン１１３等で希釈したものを
スプレーまたは梗漬する等して塗布する。膜厚はおおむ
ね０．０１〜０．２ａｍ望ましくは０．０３〜０．０８
μｍである。 なお、塗布後、不織布、羊毛等（二よるパフがけを行う
ことによりフッ素樹脂の偏析を防止するとともにフッ素
樹脂の潤滑性の向上を図るものである。 次に具体的実施例をあげる。 実施例 表面相面化処理および活性化処仰を施した厚さ約７５μ
ｍのポリエステルフィルムを硫酸銅溶液に入れて無電解
メッキを行わせメッキ膜の厚さが約０．５ａｍｌ二なっ
た時点で次工程に移して電解銅メッキを継続して行わせ
、厚さ約８μｍの電解銅メッキを形成した。 次に硫酸コバルト、硫酸ニッケルおよび次亜すン酸すｌ
ラムを含む溶液からなるコバルト合金メッキ浴に、上記
銅メッキを施したポリエステルフィルムを浸漬し、銅薄
膜上にＣｏ−Ｎ１−Ｐ　からなるゴパルト合金薄Ｍ　（
ＭＩ磁性金属膜を膜厚的０．８ａｍとなるようＣ二形成
した。 内部ｌ；放？！電極対を有する反応装置内に上記磁性金
Ｒ膜を形成したフィルムを設置し、器内を５Ｘ１０−”
）ルまで排気したのちテトラメチルジシランガスと酸素
ガスとのモル比】：２の混合ガスを導入し流通させなが
ら器内を０．１トルに調整保持し、この雰囲気下で電極
間に１３．５６ＭＨｚの高周波電力（３０Ｗ）を印加し
てグロー放電を行わせることによりプラズマ気相沈積反
応を行わせ、フィルムの磁性金ｌｌ１Ｍ上Ｃ二厚さ約０
．２μｍのプラズマ重合膜を形成させた。 次１；このプラズマ重合膜の表面に、パーフロロアルキ
ルポリエーテルをフレオン１１３に約０．３％の濃度で
溶解した溶液を塗布し、乾燥後この塗布面を不織布でパ
フかけし厚さ約０８０３μｍの潤滑膜を形成した。 以上のようイニして製造した磁気記録媒体ｌ二ついて、
下記に示す■初期動摩擦係数、■＊擦耐久性、■耐候性
を試験するとともＣ二、■耐候性試験後の外観だよび■
摩擦耐久性試験後の加圧圧子の表面状態を調べた。結果
はそれぞれ第１表（：示すとおりであった。 ■初期動ｊ！！擦係数：被試験体を温度２３±２℃、相
対湿度４０〜６０％、試験前放置時 間最低２４時間の状態に置いて、動摩 擦係数を測定する。 ■摩擦耐久性：被試験体を温度２３±２℃、相対温度４
０〜６０１１！ろ、試験前放置時間最低２４時間放置し
、これを回転数 ３００±７　ｒｐｍ　（ｍｉｎ−’　）、２８０±１０
−の圧子を０．７０±００５Ｎの力で押しつけた状態で
１００万回回転 させた後に動摩擦係数を測定する。 ■耐候性：被試験体を温度５ｏｄ３℃、相対湿度８０％
の環境（ニア２時間放置後直ちｌ；温度０土３℃、相対
湿度２０％以下の環境に７２時間放置し、ついで室内 に開放状態で２４時間放置したのち、 動摩擦係数を測定 比較例 実施例と同様にして＠薄膜上Ｃｏｏ−Ｎ１−Ｐからなる
コバルト合金薄膜（磁性金属膜）を形成したちのＣ二対
し、スピンナーＣ二より二酸化けい素の薄膜よりなる保
護膜（厚さ約０．２μｍ）を形成し、その表面に従来か
ら使用されているシリコーンオイルを塗布し潤滑膜（厚
さ約０．０３μｍ）を形成し、磁気記録媒体を作成した
。 このものについて実施例と同様に試験した結果を第１表
「二併記した。 第１表 第１表の結果から、比較例に比べ本発明は動摩擦抵抗の
劣化がなく、耐久性、走行性、耐候性Ｃ：すぐれている
ことがわかる。 ４図面の１４＃４な説１明 図面は本発明にかかわる磁気記録媒体の断面構造を示し
たものである。 】・・・・　基体　、　　２・・・・磁性金属膜　。 ３・・・・　シラン化合物のプラズマ重合膜、４・・・
・　フッ素樹ｎ旨ｇＩｉ！。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基体上に、磁性金属膜、シラン化合物のプラズマ重
   合膜およびフッ素樹脂膜を順次積層一体化してなる磁気
   記録媒体 ２、基体上に、無電解メッキもしくは電解メッキ法によ
   り磁性金属膜を形成し、次にこの磁性金属膜上にシラン
   化合物を用いてプラズマ気相沈積法によりプラズマ重合
   膜を形成し、さらにこのプラズマ重合膜上にフッ素樹脂
   の薄膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造
   方法３、シラン化合物が一般式（ＣＨ＿３）＿ａＳｉ＿
   ｂＨ＿ｃ（式中のａ、ｂ、ｃは、１＜ｂ＜４、 ａ＋１≦２ｂ＋１、１＜ｃ≦２ｂ＋１、 ａ＋ｃ＝２ｂ＋２を満足する数）で示され るメチルハイドロジエンポリシランである特許請求の範
   囲第２項記載の製造方法