JPS6167230A - ウエ−ハ乾燥器 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は半導体ウェーハを化学処理し、水洗した後に
その乾燥に用いられるウェーハ乾燥器に関するものであ
る。

［従来の技術〕 第２図は従来のウェーハ乾燥器の構成を示す断面図で、
ボール（１）、上蓋（２）、ター／テーブル（３）。

モータ（４）、排気口（５）、排水孔（６）から基本的
に構成されている。上蓋（２）の直下に＃″ｉｉ純水び
ガスの導入管（７）並びにノズル（８）が設けられ、こ
の部分から適宜純水およびガスを噴射させクレードル（
９）に装着されているシリコンウェーハα０を洗浄、乾
燥させる働きをする。また、この時ターンテーブル（３
）モモータ（４）によりシーケンスに従い回転運動を行
いシリコンウェーへ〇〇上の水切りスピンと乾燥を行う
。同図でα］）ｌ−ｔパツキン、（２）は上蓋取手、側
はベルト、Ｑ４は主ｉ、ａｓはキャリヤでシリコンウェ
ーハｃｏ　をｉ荷するものでちる。

次ＫｖＪ作について説明する。シリコンウェーハαｑを
装荷したキャリヤ（１玲ｔクレードル（９）に装着し、
上蓋（２）を閉じて洗浄、乾燥の準＠は完了する。次い
で、乾燥器のスイッチを入れると同時に七−タ（４）が
駆動され、ターンテーブル（３）の生釉ｑ４が回転し、
ターンテーブル（３）が１００ｒ、ｐ、ｍ、の速度で回
転を開始する。この時導入管（７）を通して純水がノズ
ル（８）に導かれる。この散水シャワーによってンリコ
ンウエーハＧ（Ｉが洗浄されるが、洗浄時、ボール（１
）内の底部に落下した洗浄済みの水は排水孔（６）を通
し排出される。またボール（１）で発生したミストは排
気孔（５）によって外気に排出される。このシーケンス
時間が終ると今度はターンテーブル（３）の回転数が自
動的にあげられ先のシーケンスで純水を供給した導入管
（７）からノズル＋８１を通して、窒素ガスを３分間流
すことによりウェーハｑＯのスピン乾燥が行われる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

従来の装置では密閉された容器の中で高速回転によるウ
ェーハの乾燥が行われるので、次に挙げるような問題点
がある。

■　ウェーハを装着するキャリヤ自身が静電気を帯び、
それによってボール内で発生した塵埃がキャリヤ周辺に
集められ、それがシリコンウニーハの表面を汚す。

■　純水洗浄のシーケンスから乾燥のスピンのノータン
スに入った時、シリコンウェーハ表面に水滴の飛跡が形
成され、後の成膜形成に悪い影響を与える。

この発明は以上のような問題点を解決するためになされ
たもので、静電気の帯電が生ぜず、従って塵埃の付着が
少なく、また、水滴の飛跡の形成のおそれのない静止形
乾燥器を得ることを目的としている。

〔問題点を解決するだめの手段〕

この発明に係るウェーハ乾燥器はキャリヤに装着された
ウエーノ・を固定し、空気を加熱したのち高性能フィル
タで純化し、この純化昇温空気を上記ウェーハに吹き付
けるようＫしたものである０〔作用〕 この発明ではウェーハを固定して回転させずに、高性能
フィルタで純化した昇温空気を吹きつけて乾＊ｇせるよ
うにしたから、ウェーハに帯ｔを生ぜず、また水滴の飛
跡が残ることもない○〔実施例〕 第１図はこの発明の一実施例の構成を示す模式図で、第
１図ＡＩ−を断面線図、第１図Ｂは正面図、第１図Ｃは
上面図である。図において、αΩは乾燥器本体でこの内
部にはキャリヤ受は台αη、排水ドレｙＱｅ　、　外Ｘ
　逆止弁Ｑ’Ｊ　、シロッコファン勾、コニカルヒータ
ｒ２Ｉ）、高性能（Ｈｉｇｈ　Ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ　
ＰａｒｔｉｃｌｅＡｉｒ：ＨＥＰＡ）フィルタ（イ）、
誘導筒＠、整流板＠が設けてあり、キャリヤ受は台α力
はウェーハ００に付着している水滴の水切りをよくする
た゛めパンチング状もしくは網状のものを用いる。排水
ドレン賭は水滴排水用であり、外気逆止弁０９はウエー
ノ・乾燥中外気から汚れた空気が流入しないようにする
ためのもので、７０ツコフアン（４）は高速回転を利用
し風速の速い空気を送るために用いる。ここで乾燥効ｉ
ｔ上げるためコニカルヒータ＠を用いて送気される空気
を加熱するも・のである。ＨＥＰＡフィルタ四は乾燥器
本体０Ｑ内部を環流する空気全清浄化する役割をする。

誘導筒ΦはＨＥＰＡフィルタ＠を通過して来た空気をウ
ェーハ乾燥藁■９まで醇くもので、整流板（ハ）は環流
する空気がキャリヤ０Ｑに均一に当るように制御するも
のである。

この実施例のウェーハ乾燥器は次のようにして使用され
る。例えば、シリコンウェー八の表面に配化膜を区長さ
せるような場合の前処理を例にとって説明する。まず、
シリコンウェー八ｏＯがキャリヤαＱに装荷された状態
でライトエツチング（例えば液成分ＨＦ’　：　ｕ２ｏ
＝ユニ５ｏのエツチング液を用いて）を３０秒間施した
後、純水による水洗を５分間以上行い、シリコ／ウェー
ハ表面に付いた薬品を除去する。その後シリコンウェー
／冶が装荷されたキャリヤαυをウェーハ乾燥室（１）
に入れ扉（２）を閉じる。続いてシロッコファン（１）
のスタートボタンを押し乾燥器運転全開始する。このシ
ロッコファン（７）で加速された空気はコニカルヒータ
Ｑυ→ＨＥＰＡフィルタ（イ）→誘専筒翰→整流板（ハ
）→ウェーハ乾燥室（１）の経路で空気が循環し、ウェ
ーハｏ０を乾燥させる。乾燥後、扉（ハ）を開いてキャ
リヤＱ５を取り出し、ウェーハの乾燥工程は終了する。

ここで使用するＨＥＰＡフィルタ＠は直径０．３μｍ以
上の微粒子を９９，９７％除去できる性能以上のものを
用いる他、温風処理となるので高温に耐えうる材質が好
ましい。また、誘導筒＠等、加速空気の通過する部分は
錆びることなく、かつ靜［気発生の少ない材料を使用す
ることは言うまでもない。

なお上記実施例では、１バッチ通常（ウェーハ２４枚）
処理の場合に付いて説明したが、シロンコアアン（４）
の容量、ＨＥＰＡフィルタ（イ）、乾燥室四の大容量化
を計れば、複数バッチの処理は可能である。また乾燥空
気としてクリーン・ルーム（クラス１０００）内の清浄
度空気を用いて説明したが■２ガス等を導入しても同様
な効果が得られるＯ〔発明の効果〕 以上説明したように、この発明によれば乾燥時に見られ
る水の飛跡がウエーノ・表面に残らない他、静電気誘起
による塵埃の付着も皆無となった。これにより乾燥後の
シリコンウエーノ・表面の清浄度は飛躍的に向上した。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例の構成を示す模式図で、第
ユ図ＡＶｉその断面図、第１図Ｂは正面図、第１図Ｃは
上面図である。第２図は従来のウェーハ乾燥器の構成を
示す断面図でらる０ 図において、頭はウェーハ、αＱはキャリヤ、（至）は
高速送風機（シロッコファン）、２υは昇温部（コニカ
ルヒータ）、に）は高性能フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ
）、に）は乾燥室である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）高速送風機、この高速送風機によつて送気された
   空気を加熱昇温させる昇温部、この昇温部で昇温された
   空気を純化する高性能フィルタ、及びキャリヤに装荷さ
   れた複数枚のウェーハを収容し上記高性能フィルタを経
   て得られる純化された高速高温空気を吹きつけて上記ウ
   ェーハを乾燥させる乾燥室を備えたウェーハ乾燥器。
2. （２）乾燥室で使用した空気を再び高速送風機に戻して
   器内で空気を循環させるようにした特許請求の範囲第１
   項記載のウェーハ乾燥器