JPS6151692A - 記憶装置 - Google Patents

記憶装置

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JPS6151692A
JPS6151692A JP59173243A JP17324384A JPS6151692A JP S6151692 A JPS6151692 A JP S6151692A JP 59173243 A JP59173243 A JP 59173243A JP 17324384 A JP17324384 A JP 17324384A JP S6151692 A JPS6151692 A JP S6151692A
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JP
Japan
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data line
circuit
misfet
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column
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JP59173243A
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English (en)
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Kinya Mitsumoto
光本 欽哉
Shinji Nakazato
伸二 中里
Hideaki Uchida
英明 内田
Akira Ide
昭 井出
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Priority to DE19853530088 priority patent/DE3530088A1/de
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/10Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
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    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/41Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
    • G11C11/413Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction
    • G11C11/417Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing, timing or power reduction for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/419Read-write [R-W] circuits

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は記憶装置に関する。
〔背景技術〕
日経マグロウヒル社発行の1983年9月26日付、日
経エレクトロニクス誌125頁から139頁にも示され
るように、スタティックRAMの大容量化、高速化が進
んでいろ。
本出願人等は、スタティックRAMの大容量化。
高速化の観点から研究を進め、スタティックRAMをバ
イポーラトランジスタ、MOS)ランジスタの双方を用
い構成する技術を開発した。その概略を述べると以下の
ようなものである。
すなわち半導体メモリ内のアドレス回路、タイミング回
路゛などにおいて、長距離の信号線を充電および放電す
る出力トランジスタ及びファンアウトの大きな出力トラ
ンジスタはバイポーラトランジスタにより構成され、論
理処理、例えば反転。
非反転、NAND、NOR等の処理を行う論理回路は、
0M03回路より構成されている。CM O3回路によ
って構成された論理回路は低消費電力であり、この論理
回路の出力信号は低出力インピーダンスのバイポーラ出
力トランジスタを介して長距離の信号線に伝達される。
低比カイ/ビーダンスであるバイポーラ出力トランジス
タを用いて出力信号を信号線に伝えるようにしたことに
より信号線の浮遊容量に対する信号伝播遅延時間の依存
性を小さくすることができる作用でもって、低消費電力
で高速匹の半導体メモリが得られるというものである。
上記したバイポーラ・0MO3混在技術を用℃・た高速
、低消費電力のSRAM技術にもとづき、本発明者等は
さらにアクセスタイムの高速化を検討した。この結果、
データ読出し時においてワード線およびデータ線を同時
に切換えると、ワード線の切替りにくらべ、データ酷の
切替りがおくれ、このことがアクセスタイムを遅延させ
る原因となることが明らかとなった。
第5図は、本発明前に本発明者によって検討されたスタ
ティックRAMのメモリ・セル部分の回路図であるが、
例えば今、メモリ・セJvM5が選択されており、次に
メモリ・セルM8を選択する場合を考えろ。
メモリ・セルM5が選択されている時は、ワード線W1
がハイレベル(H)となっており、このためにメモリ・
セルM7において、トランスファMO3FETml 8
0.ml 90がオンし’−Cいる。こ−のためデータ
線D2.D2は、メモリ・七NM7の情報に応じてそれ
ぞれノ・イ(H)、ロー(L)レベルとなり、相補デー
タ線対D2. D2の電位差が大きい。次にメモリ・セ
ルM8を選択するためにワード線およびデータ線を切換
えたとすると、同図かられかるようにメモリ・セ/I/
M8に記憶されたデータは、メモリ・セルM7に記憶さ
れたデータとは逆のために、今夏は相補データ線対D2
.D2の電位は、メモリ・セルM8のデータに応じて、
それぞれロー(L)、 ノ・イ(H)レベルへとゆっく
りと反転する。
このために、データ編電位が安定に切替るまでの時間が
遅れアクセスタイムが遅くなるのである。
本発明は、上記した問題点にかんがみてなされたもので
ある。
し発明の目的〕 本発明の目的は、記憶装置の構成をさほど複雑化するこ
となく、アクセス速度を速めた、記憶装置を提供するこ
とにある。
この発明の前記ならびに、そのほかの目的と新規な特徴
については本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。 。
〔発明の概要〕
本発明の代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記の
とおりである。
すなわち、谷相補データ線対に、電位等化用のスイッチ
ング回路を設け、これをY選択(カラム)選択信号でも
って制御するようになし、非還択状悪にあろ相補データ
線対の電位差を縮小することにより、相補データ線の切
替り速度を速め、これによりアクセスタイムの高速化を
達成するものである。
〔実施例〕
以下、この発明の代表的な実施例を図面を参照しながら
説明する。
第1図には、記憶容量が64にピットで、入出力が1ビ
ット単位で行なわれるスタティックRAMの内部構成が
示されている。破線ICで囲まれた各回路ブロックは、
半導体集積回路技術によって、1個のシリコンチップに
形成され′1:℃・る。
本実施例のスタティックRAMは、それぞれが16にビ
y ト(=16384ピット)の記憶容量を持つ4つの
マトリックス(メモリ・アレイM−ARYI〜M−AR
Y4)を有し、これにより合計で64にビット(=65
536ビツト)の記憶容量を持つようにされている。4
つのメモリ・アレイM−ARYI〜M−ARY4は、互
いに同様な構成にされており、それぞれに&”!、メモ
リ・セルが128列(ロウ)X128行(カラム)に配
置されている。
複数のメモリ・セルを有するメモリ・アレイから/N望
のメモリ・セルを選択するためのアドレス回路は、アド
レスバッファADB、  ロウデコーダR−DCRO,
R−I)CRI、 R−DCR2,カラムテコ−タC−
D CR1〜C−D CR4、カラムスイッチC−3W
I〜C−3W4等から構成されて(・る。
情報の読出し・啓込みを扱う信号回路は、特に制限され
ないが、データ人カバッファDIB、データ入力中間ア
ンプDIIAI〜DIIA4.データ出力バンファDO
B、データ出力中間アンプDOIA、センスアンプSA
I〜5A16から構成されて℃・る。
情報の読出し・各込みの動作を制御するためのタイミン
グ回路は、特に制限されないが、内部制御信号発生回路
COM  GE、センスアンプ選択回路5ASCから構
成されている。
ロウ系のアドレス選択縁(ワードaWL11〜WL11
28.WL21〜WL2128.WRI 1〜WR11
28,WR21〜WR2128)には、アドレス信号A
O〜A8に基づ(・て得られるデコード出力信号がロー
デコーダ)t−DCRI、R−DCR2より送出される
。上記アドレス信号AO〜A8のうち、アドレス信号A
7.A8は、4つのメモリ・マトリックスM−ARYI
〜M−ARY4から1つのメモリ・マトリックスを選択
するために用〜・られる。
アドレスバッファADHは、アドレス信号AO〜A15
を受け、これに基づいた内部相補アドレス信号aO−a
15を形成する。なお、内部相補アドレス信号aOは、
アドレス信号AOと同相の内部アドレス信号aQと、ア
ドレス信号AOに対して位相反転された内部アドレス信
号aQとによって構成され′″CL・る。残りの内部相
補アドレス信号a1〜a15についても、同様に、内部
アドレス信号a1〜a15と内部アドレス信号a1〜a
15とによって構成されて℃・る。
アドレスバッファADBによって形成された内部相補ア
ドレス信号a O−215のうち、内部相補アドレス信
号a7.a8.a9〜a15は、カラムデコーダC−D
CRI〜C−DCR4に供給される。カラムデコーダC
−DCRI〜C−D(44は、これらの内部相補アドレ
ス信号を解読(デコード)し、このドコードによって得
られた選択信号(デコード出力信号)を、カラムスイッ
チC−3WI〜C−S W 4内のスイッチ用絶縁ゲー
ト型電界効果トランジスタ(以下、MISFETと称す
る)Q100I、Q100I、Q1128゜Q1128
.Q200I、Q200I、  Q3oo1゜Q、30
01.  Q400I、Q400I等のゲート電極に供
給する。
ワード線WLII〜WL 1128.WL 21〜WL
2128.WRl 1〜WR1128,WR21〜WR
2128のうち、外部からのアドレス信号AO〜A8の
組合わせによって指定された1本のワード線が上述した
ロウデコーダR−DCRI、R−DCR2によって選択
され、上述したカラムデコダC−DCRI〜C−DCR
4及びカラムスイッチC−8WI〜C75W4によりて
、外部からのアドレス信号A7.A8.A9〜A15の
組合わせによって指定された1対の相補データ線対が、
複数ノ相補データi対D100I、D100I 〜D4
128.D4128のなかから選択されろ。これにより
、選択されたワード線と選択された相補データ線対との
叉点に位置されたメモリ・セルM−CELが選択される
読み出し動作においては、スイッチ用MI SF内部制
御信号発生回路COM−GEから出力された制御信号に
よりオフ状態にされる。これにより、コモンデー1ic
DL1.CDLI〜CDL4゜CDL4と書き込み信号
入力中間アンプDI工A1〜DIIA4とが電気的に分
離される。選択されたメモリ・セルの情報は、選択され
た相補データ線対を介してコモンデータ線に伝えられる
。コモンデータ線に伝えられたメモリ・セルの情報は、
センスアンプSAI〜SAI 6によりセンスされ、デ
ータ出力中間アンプDOIA及びデータ出力バノファD
OBを介して外部に出力される。
なお、本実施例では、卆ンスアンブが16個設ゆられて
−・るが、これらのセンスアンプSAI〜5A16のう
ち、1つのセンスアンプ、スなわちその入力端子がコモ
ンデータ線を介して選択された相補データ線対に結合さ
れたセンスアンプがセンスアンプ選択回路5ASCから
のセンスアンプ選択信号により選択されて、センス動作
を実行する。
書キ込み動作においては、スイッチ用MISFETQI
、Ql〜Q41 Q4. Q、s、 Qs、 Ql2゜
Ql 2. Ql 6. Ql 6が内部制御信号発生
回路COM−GEからの制御信号によってオン状態にさ
れる。アドレス信号A7〜A15に従って、例えば、カ
ラムデコーダC−DCRIがスイッチ用MISFETQ
、1001.Q100Iをオン状態にした場合、データ
入力中間アンプDIIAIの出力信号は、コモ/データ
線対CDLI、CDLI。
MISFETQI、Ql、Q100I、Q100Iを介
して相補データ線対D1001.−D1001に伝えら
れる。このとき、ロウデコーダ)t−DCRIによって
ワード線WLIIが選択されていれば、このワード線W
LIIと相補データiD 1001゜Dloolとの叉
点に設けられたメモリ・セルにデータ入力中間アンプD
IIAIの出力信号に応じた留保が書き込まれる。
コモンデータ線対CDLL、CDLLは、特に制限され
ないが、本実施例においては、4組のコモ/データ線対
(サブコモンデータ線対)により構成されている。同図
には、これら4組のコモンデータ線対のうち、2組のコ
モ/データ線対が示され℃いる。残りの2組のコモンデ
ータ線対も、図示されているコモンデータ線対と同様に
、それぞれスイッチ用MISFETQ2.Q2.Q3゜
ξ3を介してデータ入力中間アンプDiIA1に結合さ
れるようにされて−・る。この4組のコモ/データ線対
のそれぞれには、1個のセンスアンプの入力端子と、3
2組のスイッチ用MISFETの一方の入出力電極が結
合されている。すなわち、第1のコモ/データ線対には
、センスアンプSAIの入力端子と、スイッチ用MIS
FETQ100I。
Q1001〜Q1032.Q1032の入出力端子が結
合すれ、第2のコモンデータ線対には、センスアンプS
A2の入力端子と、スイッチ用MISFETQ1033
.Q1033〜Q1064.Q1064の入出力端子が
結合され、第3のコモンデータ線対にレマ、センスアン
プSA3の入力端子と、スイッチ用MISFETQ10
65.Q1065〜Q1096゜Q1096の入出力端
子が結合され、第4のコモンデータ線対には、センスア
ンプSA4の入力端子と、スイッチ用MISFETQ1
097.Q1097〜Q1128.Q1128の入出力
端子が結合されている。書き込み動作においては、これ
ら4組のコモ/データ線対は、スイッチ用MISFET
QI。
Q1〜Q4.Q4を介して互いに電気的に結合されるが
、読み出し動作においては、互いに電気的に分離される
。これにより、読み出し動作のとき、センスアンプの入
力端子に結合される浮遊容量を減らすことが可能であり
、読み出し動作の高速化を図ることができる。なお、読
み出し動作においては、スイッチ用M I S F E
 Tを介して選択されたメモリ・セルからの情報が伝え
られたサブコモンデータ線対に、その入力端子が結合さ
れたところのセンスアンプのみが選択されて、センス動
作を実行するようにされている。他のコモンデータ線対
CDL2.CDL2〜CDL4.CDL4についても、
上述したコモンデータ線対CDLL。
CDLlと同様な構成にされて℃・る。内部?til制
御信号発生回路COM−C)Eは、2つの外部制御信号
イトイネーブル信号)を受けて、複数の制御信号C8I
、C32,C33,WEC3,WEC8゜DOC等を発
生する。
センスアンプ選択回路5ASCは、チップセレクト信号
C3と、内部相補アドレス信号37〜a15を受ゆて、
上述したセンスアンプ選択信号と、内部チップセレクト
信号cs、csを形成する。
以上簡単に、スタティックRAMの全体構成につき説明
した。ここで江目すべきことは、各相補データ線にデー
タ線間電位差を縮小するためのMI SFETQgl〜
QE4128が設けられており、その導通制御がカラム
デコーダ(C−DCRI〜C−DCR4)から発生する
カラム選択信号によって行なわれるようになっているこ
とである。またカラムスイッチとしてのMI 5FET
Q100I。
Q100I 〜Q4128.Q4128は、nチャンネ
ルMI 5FET (n−MI S )であるのに対し
、データ線間電位差を縮小するためのMISFETQE
I 〜QB4128 は、9fヤンネIMI SFET
(p−MIS)となっていることである。
すなわち、カラム選択信号によってp−MISF E 
TQEI 〜QE4128 トn −MI S Q 1
001゜Q1001〜Q4001.Q4128は、相補
的に導通制御されろ。
従って、その相補データ線対が非選択のときは(すなわ
ちカラム選択信号がローCL)レベルの時は)、データ
線間電位差を縮小するためのp−MISFETQEI〜
QB4128のいずれかがオンし、非選択の相補データ
線対の電位差を縮小する。−万、カラムデコーダ(C−
DCRI〜C−DCR4)から発生するカラム選択信号
がハイ0レベルになると、カラムスイッチであるn−M
ISFETQ100I、Q1001〜Q4001.Q4
128がオンすると、同時に上記データ線間電位差を縮
小するためのMISFETQKI〜Qg4128はオフ
し、これにより相補データ線対の電位等化動作が自動的
に終了するのである。
第2図は、第1図に示される記憶装置の一部をより具体
的に示す回路図である。
同図に示す実施例は、選択された記憶セルに書込まれた
記憶情報を共通データ線LL、L2および読出センス回
路SA50を介して読出すように構成するとともに、上
記共通データ線I、1.  L2および読出センス回路
5A50を複数系列に分割して設けている。すなわち、
この64にビットRAMでは、上記共通データ服L1.
L2および上記読出センス回路50が16系列に分割さ
れて設ゆられ、そのいずれか1つの系列が選択されて能
動化されるようになっている。第2図における出力側が
黒くマークされた論理シンボルの回路は、出力信号線の
浮遊容量を充電および放電する出方トランジスタがバイ
ポーラトランジスタにより構成され、反転、非反転、N
AND、NOR等の論理処理がCMO3回路により実行
される準CMO8回路であり、通常の論理シンボルの回
路は純CMO3回路であることを示している。第2図に
示されるようにアドレスバッファADBKは、例えば外
部からTTLレベルのアドレス信号A7〜A15をその
入力に受け、非反転出力a7〜a15と反転出力a7〜
a15を相補出力信号線に送出するための非反転9反転
回路07〜G15が配置されている。非反転1反転回路
07〜G15の出力トランジスタは、上述した如く、バ
イポーラトランジスタにより構成されているため、非反
転。
反転回路07〜G15の出力信号線が半導体チップ表面
上で長距離にわたり配置されるとしても、非反転2反転
回路07〜G15を高速度で動作させることが可能であ
る。
次にYデコーダY−DCRIについて簡単に説明する。
アドレスバッファADBから得られた内部アドレス信号
a7〜a15.a7〜a15が印加される2人力NAN
D回路074〜G77.078〜C)81,082〜G
85と、3人力NAND回路086〜G93とを含む。
さらに、YデコーダY−DCRI内において、これらの
NAND回路074〜G93の出力信号線は、長距離で
配置されるとともに多くのNOR回路094〜G950
入力端子に接続されて〜・るため、これらNAND回路
074〜G93の出力信号線の浮遊容量は大きな容量値
となる。
従って、3人力NAND回路086〜G93は、その出
力トランジスタがバイポーラである準CMO8・3人力
NAND回路によって構成され、2人力NAND回路0
74〜G85は、その出力トランジスタがバイポーラで
ある準CMO8・2人力NAND回路によって構成され
て℃・る。
−万、3人力NOR回路G94.G95の出力信号線は
短距離でインバータG100.GIOIの入力に接続さ
れているため、これらの3人力NOR回路094〜G9
5の出力信号線の浮遊容量の容量値は小さい。従って、
これらの3人力NOR回路094〜G95は純CMO3
・3人力NOR回路により構成されている。
さらに、インバータG100.GIOIの出力信号線は
短距離で2人力NOR回路G98.G99の入力端子に
接続されているため、これらのインバータG100. 
GIOIの出力信号組の浮遊容量の容量値は小さい。従
って、これらのインバータG100.GIOIは周知の
純CM C) S・インバータにより構成されている。
次にメモリ・アレイM−ARYを構成する1ビツトのメ
モリ・セ#M−CELにつぎ説明する。
例えばメモリ・セルM1を例にとると負荷抵抗R1,R
2とnチャ7ネ#MI S FETm 15゜m16か
らなる1対のインバータの入出力を又差結合したスリッ
プ・フロップと、トランスミッション・ゲート用nチャ
ンネルM I S F E T m 13 。
m14とにより構成されている。
フリップ・70ンプは情報の記憶手段として用℃・られ
る。トランスミッション・ゲートはXデコーダ(ロウデ
コーダ)に接続されたワード線X1にEl]7111さ
れるアドレス信号によって制#され、相補データ線対D
100I、D100Iとフリップ・フロップとの間の情
報伝達がこのトランスミッション・ゲートによって制御
されろ。
読出し動作時には、書き込み制御信号WEC3によりM
O8電界効果トランジスタml、m2がオフ状態になさ
れメモリセルに記憶され℃いる情報が、読出しセンス回
路選択回路5ASCから発生する読出しセンス回路選択
信号Ys(およびチップセレクト信号C8)により能動
化された、読出しセンス回路5A50.データアウトプ
ノトバノファDOBを介して読出される。
また書込み動作時には、MO8電界効果トランジスタm
l、m2がオン状態となり、−万、読出センス回路選択
信号Ys’により読出センス回路5A50はオフ状態と
なり、入力データが、データインプットバッファD I
 B、データ入力中間増幅回路DIIAを介して所定の
メモリ・セルに書込まれる。
今、メモリ・セ/I/M1が選択されており、次にメモ
リ・セルm4を選択する場合を考える。メモリ・セルM
1が選択されている時は、2人力NOR回路G99の出
力(カラム選択信号)はロー化)レベルとなっており、
相補データ線対の電位差縮小用p−MI SFETm3
がオンし非選択のデータ線D1002.D1002の電
位差を縮小する。
次に2人力NOR回路G99の出力がノ・イ矧になると
相補データ線対D1002.D1002に接続するn−
MISFETm30.m、32が導通し、これとほぼ同
時にデータ線電位縮小用p−MISFETm31はオフ
し、データの読出しが行なわれる。
第3図は、第2図に示した記憶装置の読出時におけろ動
作例をタイミングチャートによって示すものである。
第3図において、Aロ1アドレス選択信号、XI、X2
はワード線Wl、W2を選択するX選択信号、Yl、Y
2はデータ線を選択するX選択信号を示す。ここで、選
択信号Y2で選択されるデータ線D1002.D100
2に着目してみると、先ず、このデータ線D1002.
D1002が非選択状態にあるときは、上述した電位等
化が定常的に行なわれている。これにより、その非選択
状態にあるデータ線D1002.D1002の線間電位
差がVw’からV、wまで縮小される(図中点線は、本
発明を用いない場合のデータ線の電位変化を示す)。
次に、このデータ1D1002.D1002が選択され
ろと、これと同時に上記電位等化動作が終了させられる
とともにカラムスイッチが導通する。そして、この選択
データ線D1002..D1002の各電位が選択記憶
セルM4の記憶内容に応じて相補的に変化させられる。
このとき、その選択データ線D1002.D1002&
!、−tの、vi間’l差VWが、非選択時にて予め十
分に縮小されて℃・たことによって、小さな電位振暢で
もって選択記憶セルM4の記憶内容に応じて、それぞれ
ローの)、ノ・イ(5)しベルへ速やかに変化する。
以上のようにして、非選択状態にあるデータ線だけに電
位等化の操作を行なうことによって、コモンデータ組L
L、L2の電位VLI、VL2は、第3図に示す如(切
替り、選択されたときのデータ線の電位切換わりに要す
る時間をTpd3からTpdlにまで短gaさせること
ができる。そして、これによって、読出アクセス時間T
aaの短縮が可能になる。さらに、ここで注目すべきこ
とは、その電位等化の動作を行なうための時間が特別に
挿入された時間ではなく、データ線が非選択状態にある
いわゆる遊び時間を利用して行なわれるということであ
る。これにより、電位等化のための時間損失をなくして
、読出アクセス時間Taaを大幅に短縮することができ
るようになる。また、電位等化の動作タイミング制御は
、特別なタイミング信号によらずに、データ法を選択す
るためのY選択信号によって自動的に行なわせることが
できろ。
これによって、そのタイミング制御のための構成を大幅
に簡略化することができるようになる。又このデータ線
電位等化用MISFETのスイッチングのために、特別
のマージンを設けろ必要がなくこれを設けたからとも・
って何らアクセスタイムが遅くなることがない。
第4図は、この発明の別の実施例を示す。
同図に示す実施例では、電位等化を行なうために、各デ
ータ線対ごとにそれぞれ2つのpチ・トンネ/L/MO
8’Fi界効果トランジスタm 200.m200を使
用している。そして、非選択状態のデータ線対D1.D
だ汁を例えば電源Vccに接続することによっ℃、その
線間電位罷を縮小させるようにしている。このように、
選択データ線対を固定電位に接続するような構成であっ
ても、上述した実施例と同様の効果を得ることができる
〔効果〕
(1)選択されたデータ線に現われる電位を検出するこ
とによって選択記憶セルの記憶同容を読出す記憶装置で
あって、非選択状態にあるデータ線の電位を縮小する電
位等化回路を各データ線ごとに設け、これをY選択信号
によつ導通制御することにより、比較的簡単な付加的構
成でもって、また電位等化のだめの時間を特に挿入しな
(とも、選択されたデータ線の状態の切換わり時間を短
縮させることができ、これにより読出アクセス時間を効
果的に短縮することができる、という効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例にもとづき
具体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定され
るものではな(、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更
可能であることはいうまでもない。例えば、上記データ
線対は、そのいずれか−万だけの電位が選択記憶セルの
記憶内容に応じて変化し、その他方は基準電位が与えら
れろダミーであってもよい。
〔利用分野〕
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野であるMO8型スタチック
RAM技術に適用した場合について説明したが、それに
限定されるものではなく、例えば、ROMある(・はダ
イナミックRAMなどにも適用できる。少なくとも電位
変化から2択記憶セルの記憶内容を読取る条件のものに
は適用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係る記憶装置の全体回路構成を示す
回路図、 第2図は、第1図に示されろ記憶装置における、要部の
回路構成をより具体的に示す回路図、第3図は、第2図
に示される記憶装置の動作例を示すタイミングチャート
、 第4図は、この発明の他の実施例を示す、記憶装置の要
部の回路図、 第5図は、本発明前に本発明者によって検討された記憶
装置のメモリ・セル部分の回路図である。 M−CEL・・・メモリ・セル、ADB、R−DCRO
,R−DCRI、)L−DOB2.C−。 DCRI〜C−DOB4.C−3WI〜C−3W4・・
・アドレス回路、DIB、DIIAI〜DIIA4゜S
AI〜SAI 6.DOIA、DOB・・・信号回路、
COM−GE、5ASC・・・タイミング回路、。 代理人 弁理士  高 橋 明 夫 第  3  図 ’t= 7−h 一方 第  4  図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、情報が記憶された複数のメモリ・セルと前記複数の
    メモリ・セルの中から特定のメモリ・セルを選択するた
    めのアドレス回路と前記複数のメモリ・セルに、その一
    端が接続され、他の一端が前記アドレス回路に接続され
    た複数のワード線および複数の相補データ線対とを有し
    、前記アドレス回路から発生する相補データ線対選択信
    号により制御される、非選択状態にある相補データ線対
    の電位差を縮小するための電位差縮小回路を前記各相補
    データ線対ごとに設けたことを特徴とする記憶装置。 2、相補データ線対を構成する、2本のデータ線の一方
    に、その1端が接続され、その他端がもう一方のデータ
    線に接続されたスイッチング素子によって、電位差縮小
    回路が構成されていることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の記憶装置。 3、スイッチング素子は、絶縁ゲート型電界効果トラン
    ジスタである特許請求の範囲第2項記載の記憶装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63144488A (ja) * 1986-12-06 1988-06-16 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPH01158692A (ja) * 1987-09-04 1989-06-21 Hitachi Ltd 半導体メモリ
JPH0636556A (ja) * 1992-07-16 1994-02-10 Nec Corp ダイナミックram
JPH0718194U (ja) * 1993-08-27 1995-03-31 ロザイ工業株式会社 缶ドライヤオーブン

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5305268A (en) * 1990-12-13 1994-04-19 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Semiconductor memory with column equilibrate on change of data during a write cycle
US5297090A (en) * 1990-12-13 1994-03-22 Sgs-Thomson Microelectronics, Inc. Semiconductor memory with column decoded bit line equilibrate

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2712735B1 (de) * 1977-03-23 1978-09-14 Ibm Deutschland Lese-/Schreibzugriffschaltung zu Speicherzellen eines Speichers und Verfahren zu ihrem Betrieb
JPS5827915B2 (ja) * 1978-07-28 1983-06-13 富士通株式会社 リセット回路
JPS5782279A (en) * 1980-11-04 1982-05-22 Fujitsu Ltd Semiconductor storage device
JPS5956292A (ja) * 1982-09-24 1984-03-31 Hitachi Ltd 半導体記憶装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63144488A (ja) * 1986-12-06 1988-06-16 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPH01158692A (ja) * 1987-09-04 1989-06-21 Hitachi Ltd 半導体メモリ
JPH0636556A (ja) * 1992-07-16 1994-02-10 Nec Corp ダイナミックram
JPH0718194U (ja) * 1993-08-27 1995-03-31 ロザイ工業株式会社 缶ドライヤオーブン

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