JPS61294789A - 高周波加熱装置 - Google Patents
高周波加熱装置Info
- Publication number
- JPS61294789A JPS61294789A JP13720985A JP13720985A JPS61294789A JP S61294789 A JPS61294789 A JP S61294789A JP 13720985 A JP13720985 A JP 13720985A JP 13720985 A JP13720985 A JP 13720985A JP S61294789 A JPS61294789 A JP S61294789A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguide
- heating chamber
- frequency
- power supply
- supply port
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/64—Heating using microwaves
- H05B6/70—Feed lines
- H05B6/707—Feed lines using waveguides
- H05B6/708—Feed lines using waveguides in particular slotted waveguides
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は食品などの被加熱物を電波を用いて高周波加熱
する高周波加熱装置に関するものである。
する高周波加熱装置に関するものである。
従来の技術
一般に高周波加熱装置は被加熱物を加熱する際に最も重
要な点はむらなく一様に加熱されるか否かである。従来
より均一な加熱特性を得るために加熱室内に入射された
電波を攪拌するスタラ一方式や被加熱物を加熱室内で回
転させるターンテーブル方式や、第５図に示す様に導波
管１の加熱室２に対向する壁面の給電口（開口）１＆に
２次放射アンテナ３を設け、加熱室２に放射され電界パ
ターンを変化させるもの（例えば特公昭５９−２１１５
０号公報）であった。
要な点はむらなく一様に加熱されるか否かである。従来
より均一な加熱特性を得るために加熱室内に入射された
電波を攪拌するスタラ一方式や被加熱物を加熱室内で回
転させるターンテーブル方式や、第５図に示す様に導波
管１の加熱室２に対向する壁面の給電口（開口）１＆に
２次放射アンテナ３を設け、加熱室２に放射され電界パ
ターンを変化させるもの（例えば特公昭５９−２１１５
０号公報）であった。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら上記のような構成では、ターンテーブルや
スタラ一方式等はモーターや風力等で回転させるもので
、その均一加熱特性は良好ではあるが構造が複雑で高価
となり又、加熱室内の有効容積も制限される。一方２次
放射アンテナ方式のものは導波管開口部より直接加熱室
内に放射される電波と２次放射アンテナより放射される
電波の強度が被加熱物の誘電率や形状などにより実効的
に負荷のインピーダンス（加熱室を含む）が大きく変わ
るため、例え給電口を加熱室中央に設けたとしても加熱
室の前後左右に電界のアンバランスが生じ前述のターン
テーブル方式やスタラ一方式等の電波攪拌構造を併用し
なければ実用に耐えない等の問題点を有していた。
スタラ一方式等はモーターや風力等で回転させるもので
、その均一加熱特性は良好ではあるが構造が複雑で高価
となり又、加熱室内の有効容積も制限される。一方２次
放射アンテナ方式のものは導波管開口部より直接加熱室
内に放射される電波と２次放射アンテナより放射される
電波の強度が被加熱物の誘電率や形状などにより実効的
に負荷のインピーダンス（加熱室を含む）が大きく変わ
るため、例え給電口を加熱室中央に設けたとしても加熱
室の前後左右に電界のアンバランスが生じ前述のターン
テーブル方式やスタラ一方式等の電波攪拌構造を併用し
なければ実用に耐えない等の問題点を有していた。
本発明はこの様な従来の問題点を解消するものであり、
簡単な構成でしかも被加熱物を均一に加熱することを目
的とする。
簡単な構成でしかも被加熱物を均一に加熱することを目
的とする。
問題点を解決する九めの手段
上記問題点を解決する念めに本発明の高周波加熱装置は
ＴＥ１０の励振モードとＨ面に略矩形状の加熱室給電口
を有する導波管と、前記加熱室給電口を導波管の電波進
行方向に複数個に分割する桟を配設する構成を備えたも
のである。
ＴＥ１０の励振モードとＨ面に略矩形状の加熱室給電口
を有する導波管と、前記加熱室給電口を導波管の電波進
行方向に複数個に分割する桟を配設する構成を備えたも
のである。
作 用
本発明の高周波加熱装置は導波管内の励振モードをＴＥ
１０とし、導波管の加熱室に対向する壁面をＨ面となる
様に配置し、更に前記Ｈ面に略矩形の給電口を設け、前
記給電口には導波管内の電波進行方向に複数個分割する
桟を設ける事により、導波管に複数個のスリットアンテ
ナを形成出来、そして、各スリットアンテナより放射さ
れる高周波電波の電界は同一の位相を有し、前後衣ル等
に於いて均一１．加熱特性を得るものである。
１０とし、導波管の加熱室に対向する壁面をＨ面となる
様に配置し、更に前記Ｈ面に略矩形の給電口を設け、前
記給電口には導波管内の電波進行方向に複数個分割する
桟を設ける事により、導波管に複数個のスリットアンテ
ナを形成出来、そして、各スリットアンテナより放射さ
れる高周波電波の電界は同一の位相を有し、前後衣ル等
に於いて均一１．加熱特性を得るものである。
実施例
以下、本発明の一実施例の高周波加熱装置を図面を参照
にして説明する。
にして説明する。
第１図において高周波発振器３で発振された高周波電磁
波は導波管４内にＴＥ１０のモードを励振している。Ｔ
Ｅ１０モードにおいて加熱室５に対向する導波管壁がＨ
面となる様に導波管４は配設されている。前記導波管Ｈ
面の加熱室５の略中央部には導波管４ｔ−伝播してき念
電波を加熱室に放射する給電口６が略矩形状で設けられ
ており、給電口６は、電波進行方向に一体的に形成した
桟部７により２つに分割されている。
波は導波管４内にＴＥ１０のモードを励振している。Ｔ
Ｅ１０モードにおいて加熱室５に対向する導波管壁がＨ
面となる様に導波管４は配設されている。前記導波管Ｈ
面の加熱室５の略中央部には導波管４ｔ−伝播してき念
電波を加熱室に放射する給電口６が略矩形状で設けられ
ており、給電口６は、電波進行方向に一体的に形成した
桟部７により２つに分割されている。
この分割された給電口（スリットアンテナ）６ａ、６ｂ
より加熱室５に供給された高周波電磁波は。
より加熱室５に供給された高周波電磁波は。
加熱室壁に支持された低誘電体で形成された棚板８に置
載された被加熱物９に高周波エネルギーを放出する構成
となっている。
載された被加熱物９に高周波エネルギーを放出する構成
となっている。
上記！！成に於いて、 ＴＥ１０ モードに励振された
導波管４の壁面電流の分布は第２図に実線矢印で示す様
になっている。導波管４に給電口をあける場合、壁面電
流を切りその通路を変え高周波電磁波を外部に放射する
方向に配置する必要がある。
導波管４の壁面電流の分布は第２図に実線矢印で示す様
になっている。導波管４に給電口をあける場合、壁面電
流を切りその通路を変え高周波電磁波を外部に放射する
方向に配置する必要がある。
°したがって２通常、Ｈ面に給電口をあける場合。
図中Ａの様に電波進行方向に垂直にあけている。
本発明の給電部は桟７により複数個に分割され、それぞ
れの給電口（スリットアンテナ） ６ ａ 、 ６ｂは
電波進行方向に対して平行となっており壁面電流の分布
からも解かる様に垂直方向に複数個に分割した給電口に
対して給電口より放射される高周波の電界は同一の位相
を有し、加熱室の前後左右に均一な強度となり、ムラな
く被加熱物を加熱出来ると云う効果がある。尚、壁面電
流をきり高周波電磁波を放射する給電口はスリットアン
テナとして作用し、給電口の周囲長を使用電波（一般に
２４５０ＭＨｚが用いられている）の略１波長（約１２
α）に選べばもっとも良く放射される。
れの給電口（スリットアンテナ） ６ ａ 、 ６ｂは
電波進行方向に対して平行となっており壁面電流の分布
からも解かる様に垂直方向に複数個に分割した給電口に
対して給電口より放射される高周波の電界は同一の位相
を有し、加熱室の前後左右に均一な強度となり、ムラな
く被加熱物を加熱出来ると云う効果がある。尚、壁面電
流をきり高周波電磁波を放射する給電口はスリットアン
テナとして作用し、給電口の周囲長を使用電波（一般に
２４５０ＭＨｚが用いられている）の略１波長（約１２
α）に選べばもっとも良く放射される。
次に本発明の第２の実施例を第３図を用いて説明する。
第３図において前記第１実施例と相違する点は、給電口
６を桟部７により４つに分割した構成にあり、この構成
によれば前述のスリットアンテナの最大放射寸法１波長
に選ぶと個々の給電口（スリットアンテナ）６１１．６
ｂ、６ｃ、６ｄが加熱室の広い範囲に位置する事になり
更に均一加熱特性が向上するという効果がある。
６を桟部７により４つに分割した構成にあり、この構成
によれば前述のスリットアンテナの最大放射寸法１波長
に選ぶと個々の給電口（スリットアンテナ）６１１．６
ｂ、６ｃ、６ｄが加熱室の広い範囲に位置する事になり
更に均一加熱特性が向上するという効果がある。
次に本発明の第３の実施例を第４図を用いて説明する。
第４図において前述の第１の実施例と相違する点は給電
口６を複数に分割６ｅ、６ｆする桟部７ａが電波進行方
向に対して不均一なＦＩｌ成とした事にあり、この構成
によれば導波管４内に於ける伝送ロス（伝送経路が長い
程大きい）を高周波発振器３に遠くなる程、壁面電流の
切る割合を大きくして、放射される高周波の電界の強さ
を均一に補正するという効果がある。
口６を複数に分割６ｅ、６ｆする桟部７ａが電波進行方
向に対して不均一なＦＩｌ成とした事にあり、この構成
によれば導波管４内に於ける伝送ロス（伝送経路が長い
程大きい）を高周波発振器３に遠くなる程、壁面電流の
切る割合を大きくして、放射される高周波の電界の強さ
を均一に補正するという効果がある。
尚１本発明の構成にスタラ一方式やターンテーブル方式
等の電波攪拌構造を併用しても、木発明■効果を損ねる
事が無いのは言うまでもない。
等の電波攪拌構造を併用しても、木発明■効果を損ねる
事が無いのは言うまでもない。
発明の効果
以上の様に本発明の高周波加熱装置によれば次の効果が
得られる。
得られる。
（１）複数個の給電口が導波管のＨ面に管軸方向に直交
して配置されているのでスリットアンテナとして放射さ
れる高周波電磁波が同一の位相１強度を有しており、均
一な加熱特性が得られる。
して配置されているのでスリットアンテナとして放射さ
れる高周波電磁波が同一の位相１強度を有しており、均
一な加熱特性が得られる。
（，２導波管壁に複数個の給電口を一体的に設けるだけ
で何ら部品、構造を追加する事なく簡単な構成であるた
め、安価で均一な加熱特性を有する高周波加熱装置を提
供出来る。
で何ら部品、構造を追加する事なく簡単な構成であるた
め、安価で均一な加熱特性を有する高周波加熱装置を提
供出来る。
第１図は本発明の第１の実施例における高周波加熱装置
の透視斜視図、第２図はその導波管内の壁面電流の分布
を示す斜視図、第３図は本発明の第２の実施例を示す導
波管の斜視図、第４図は本発明の第３の実施例を示す導
波管の平面図、第５図は従来の高周波加熱装置の正面断
面図である。 ３・・・・・・高周波発振器、４・・・・・・導波管、
５・・・・・・加熱室、６・・・・・・給電口、６ａ、
６ｂ、６ｃ１６ｄ・・・・・・スリットアンテナ、７・
・・・・・桟部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名３−
一一南用及発策各 ４−一一導２Ｌｆ ５−一一力ｔｒ 売〜 １【 第１図 ｇ−、＠−をロ ム、 ６ｔ、−−一入りγＦアンチｒ ７−−−挽 φ−−−導：ＬＹ； ｆ−−一磯
の透視斜視図、第２図はその導波管内の壁面電流の分布
を示す斜視図、第３図は本発明の第２の実施例を示す導
波管の斜視図、第４図は本発明の第３の実施例を示す導
波管の平面図、第５図は従来の高周波加熱装置の正面断
面図である。 ３・・・・・・高周波発振器、４・・・・・・導波管、
５・・・・・・加熱室、６・・・・・・給電口、６ａ、
６ｂ、６ｃ１６ｄ・・・・・・スリットアンテナ、７・
・・・・・桟部。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名３−
一一南用及発策各 ４−一一導２Ｌｆ ５−一一力ｔｒ 売〜 １【 第１図 ｇ−、＠−をロ ム、 ６ｔ、−−一入りγＦアンチｒ ７−−−挽 φ−−−導：ＬＹ； ｆ−−一磯
Claims (3)
- （１）加熱室と、この加熱室に高周波エネルギーを供給
する高周波発振器と、この高周波発振器よりの高周波を
前記加熱室に伝播させる導波管を備え、前記導波管はＴ
Ｅ＿１＿０の励振モードとＨ面に略矩形状の加熱室給電
口を有し、前記加熱室給電口を導波管の電波進行方向に
複数個に分割する桟を配設した高周波加熱装置。 - （２）桟は電波進行方向に対して不均一に構成された特
許請求の範囲第１項記載の高周波加熱装置。 - （３）桟により分割した複数個の給電口個々の周囲長を
使用する電波の略１波長に構成された特許請求の範囲第
１項記載の高周波加熱装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13720985A JPS61294789A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 高周波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13720985A JPS61294789A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 高周波加熱装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61294789A true JPS61294789A (ja) | 1986-12-25 |
Family
ID=15193337
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13720985A Pending JPS61294789A (ja) | 1985-06-24 | 1985-06-24 | 高周波加熱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61294789A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000003564A1 (fr) * | 1998-07-08 | 2000-01-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Unite a impedance variable, dispositif l'utilisant, et four a micro-ondes |
| JP2001332380A (ja) * | 2000-05-25 | 2001-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波加熱装置 |
| US6469286B1 (en) | 1997-11-13 | 2002-10-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Variable-impedance unit, microwave device using the unit, and microwave heater |
| WO2013005438A1 (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-10 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
| WO2013094175A1 (ja) * | 2011-12-19 | 2013-06-27 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
-
1985
- 1985-06-24 JP JP13720985A patent/JPS61294789A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6469286B1 (en) | 1997-11-13 | 2002-10-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Variable-impedance unit, microwave device using the unit, and microwave heater |
| WO2000003564A1 (fr) * | 1998-07-08 | 2000-01-20 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Unite a impedance variable, dispositif l'utilisant, et four a micro-ondes |
| JP2001332380A (ja) * | 2000-05-25 | 2001-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 高周波加熱装置 |
| JP4524857B2 (ja) * | 2000-05-25 | 2010-08-18 | パナソニック株式会社 | 高周波加熱装置 |
| WO2013005438A1 (ja) * | 2011-07-07 | 2013-01-10 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
| CN103609197A (zh) * | 2011-07-07 | 2014-02-26 | 松下电器产业株式会社 | 微波加热装置 |
| CN103609197B (zh) * | 2011-07-07 | 2016-09-28 | 松下电器产业株式会社 | 微波加热装置 |
| WO2013094175A1 (ja) * | 2011-12-19 | 2013-06-27 | パナソニック株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
| CN104186024A (zh) * | 2011-12-19 | 2014-12-03 | 松下电器产业株式会社 | 微波加热装置 |
| JPWO2013094175A1 (ja) * | 2011-12-19 | 2015-04-27 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | マイクロ波加熱装置 |
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