JPS61280469A - 新規なβ−ラクタム化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式（Ｉ） 〔式中、Ｋエ　は２位が置換または無置換のビニル基、
水酸基が保護または無保護のヒドロキシメチル基、保護
または無保護のホルミルす。）で表わされる置換基を示
し、Ｒ２は水素原子またはカルボキシル基の保護基を示
し、Ｒ３は水素原子または水酸基の保護基を示す、〕で
表わされる新規なβ−ラクタム化合物に関する。

抗菌剤として有用な活性を有するチェナマイシン〔米国
特許第３９５０３５７号明細書；Ｊ、Ａｍ。

Ｃｈｅｍ、Ｓｏ、に、　、　　１００　、３１３（１９
７８）　）　　が天然から発見され、それが報告されて
以来、種々のカルバペネム化合物を純合成的に得る方法
が報告されている。

本発明者らも６位に１−とドロキシエチル基を有するカ
ルバペネム誘導体の有利な製造法を開発すべく種々検討
を行った結果本発明の化合物がカルバペネム誘導体の製
造上、重要な中間体となることを見い出し、本発明を完
成した。

本発明化合物における置換基に工、カルボキシル基の保
護基Ｒ２および水酸基の保護基Ｒ３について以下に詳細
に説明する。

Ｋよとしては２位が置換または無置換のビニル基、水酸
基が保護または無保護のヒドロキシメチル基、保護また
は無保護のホルミル基、アリール基または式　ＪＱ　　
＜式中、Ｘは前述と同じ意味を有する。）で表わされる
置換基を挙げることができる。

置換ビニル基は２位に例えば１個または２個の置換基を
有し、これらの置換基は同一あるいは相異なるものであ
る。この置換基としては例えばメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、２−メ
チルプロピル基、２−メチルブチル基、ｎ−ペンチル基
等の炭素原子数１〜５の直鎖状または分岐鎖状の低級ア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アラアルコキシ
基、ハロゲン原子等で置換されたＣ工〜Ｃ６の置換低級
アルキル基、二重結合を有する炭素数２以上のアルケニ
ル基で例えばビニル基、アリル基、２−メチルアリル基
、３−メチルアリル基等のアルケニル基、フェニル基あ
るいは例えばニトロ基、アミノ基、アルコキシ基、ハロ
ゲン原子等で置換されたフェニル基を挙げることができ
る。

保護されたホルミル基としては、例えばジメトキシメチ
ル基、ジェトキシメチル基、ジ−ｎ−プロピルオキシメ
チル基等のジ（Ｃ□〜Ｃ４）低級アルコキシメチル基、
例えばジ（トリクロロエトキシ）メチル基等のジ（ハロ
ゲノ置換低級アルコキシ）メチル基、ジベンジルオキシ
メチル基等のジ（アリールオキシ）メチル基１〔式中、
Ｙは酸素原子または硫黄原子を示し、ｎは２あるいは３
を示す。〕 で表わされる環状の基等を挙げることができる。

アリール基としてはフェニル基、例えばニトロ基、アミ
ノ基、アルコキシ基、ハロゲン原子等で置換されたフェ
ニル基等を挙げることができる。なお置換基のアルコキ
シ基としては例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロ
ピルオキシ基等の低級アルコキシ基を挙げることができ
、ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素等
を挙げることができる。

Ｋエ　中の水酸基の保護基および水酸基の保護基に、と
しては通常に用いられる保護基であれば特に限定はない
が、例えば【−ブチルオキシカルボニル基のような低級
アルコキシカルボニル基；例えば２−ヨウ化エチルオキ
シカルボニル基、２，２．２−トリクロロエチルオキシ
カルボニル基のようなハロゲン化アルキルオキシカルボ
ニル基；例えばベンジルオキシカルボニル基、Ｏ−ニト
ロベンジルオキシカルボニル基、Ｐ−ニトロベンジルオ
キシカルボニル基、Ｐ−メトキシベンジルオキシカルボ
ニル基のようなアラルキルオキシカルボニル基；例えば
トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基のよ
うなトリアルキルシリル基；例えばメトキシメチル基、
２−メトキシエトキシメチル基、メチルチオメチル基の
ような置換メチル基；テトラヒドロピラニル基等を好適
なものとして挙げることができる。

カルボキシル基の保護基Ｒ２としては、カルボキシル基
の保護基としての役割を果たす基であればよく特に限定
されないが、例えばアルキル基、アルケニル基、置換低
級アルキル基およびアリール基等を挙げることができる
。

アルキル基としてはたとえば、メチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、ｎ−ブチル基、２−メチルプロピル基、
ｎ−ペンチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチ
ル基、ｎ−ヘキシル基、２−エチルブチル基、２−メチ
ルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキ
シル基、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシルメチ
ル基、シクロペンチルメチル基等の直鎖状、分岐鎖状ま
たは環状アルカン構造を有するアルキル基であって、α
位の炭素が一級である炭素原子数１〜７の低級乃至中級
アルキル基を挙げることができる。また、アルキル基と
して、α位の炭素が二級のアルキル基、たとえばイソプ
ロピル基、１−メチルエチル基、１−メチルプロピル基
、１−メチルブチル基、１−メチルペンチル基、１−エ
チルプロピル基、１−エチルブチル基、１−シクロペン
チルエチル基、１−シクロヘキシルメチルエチル基等の
低級乃至中級アルキル基を挙げることができる。このよ
うなα位の炭素が二級であるアルキル基は、例えば一般
式 〔式中、Ｒ４，Ｒ，は低級アルキル基、環状低級アルキ
ル基または環状低級アルキル−低級アルキル基を示す。

〕 で表わすことができる。ここで、低級アルキル基として
は直鎖状または分岐鎖状の炭素原子数１〜５のアルキル
基を、環状低級アルキル基としては炭素原子数３〜６の
環状アルキル基を、環状低級アルキル−低級アルキル基
としては炭素原子数３〜６の環状アルキル基で置換され
た炭素原子数１〜５のアルキル基を挙げることができる
。

さらに、アルキル基として、シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、ビシクロ〔２，２，１
〕ヘプチル基、ビシクロ〔３゜１゜１〕へブチル基、ビ
シクロ（３，１゜０〕ヘキシル基、ビシクロ（２，２，
２３オクチル基および多環縮合アルキル基等の環状アル
キル基あるいはそれらの環状アルキル基に低級アルキル
基が置換した環状アルキル基を、また、ｔ−ブチル基等
のα位の炭素原子が三級のアルキル基等を挙げることが
できる。

アルケニル基としては、上述のアルキル基に対応する構
造を有するものであって、二重結合を有し、炭素原子数
３以上であり、通常の物理　。

化学的安定性を有するものならよく、特に限定はないが
具体的にはアリル基、２−メチルアリル基、３−メチル
アリル基等各種のアルケニル基を挙げることができる。

尚、上述のアルキル基あるいはアルケニル基には、Ｒ２
０Ｈで示されるアルコールがメントール、ボルネオール
、イソボルネオール、ピコカンフェオール、コレステロ
ール、テストステロン等のテルペンあるいはステロイド
類の骨格を有するアルコールであるようなアルキル基ま
たはアルケニル基を含んでいる。また、これらのアルキ
ル基、アルケニル基としては必要に応じ炭素原子数８〜
３０のアルキルあるいはアルケニル基を用いることも可
能である。

置換低級アルキル基における置換基としては特に限定は
ないが、置換低級アルキル基の好適な例としてモノある
いはジアリールアルキル基、ハロゲン置換アルキル基、
アルコキシあるいはアルアルコキシ置換アルキル基等を
挙げることができる。

モノあるいはジアリールアルキル基としては、一般式 〔式中、Ｒ６はアリール基を、Ｒ７は水素原子、低級ア
ルキル基またはアリール基を示す。〕で表わされる基を
挙げることができる。ここで、アリール基としては例え
ばフェニル基およびナフチル基を挙げることができ、さ
らに炭素原子数１〜４の低級アルキル基もしくは低級ア
ルコキシル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子等で
置換されたフェニル基を挙げることができる。Ｒ７にお
ける低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等
を挙げることができる。さらに具体的には、モノアリー
ルアルキル ンジル基、０−メチルベンジル基、２．４−ジメチルベ
ンジル基、Ｐ−メトキシベンジル基、０−メトキシベン
ジル基、２，４−ジメトキシベンジル基、Ｐ−ニトロベ
ンジル基、Ｏ−ニトロベンジル基、Ｐ−クロロベンジル
基、０−クロロベンジル基、２．４−ジクロロベンジル
基、Ｐ−シアノベンジル基、０−シアノベンジル基、２
−ナフチルメチル基、１−ｆメチルメチル基、１−フェ
ニルエチル基、１−（Ｏ−メチルフェニル）エチル基、
１−（Ｐ−メチルフェニル）エチル基，１−（２．４−
ジメチルフェニル）エチル基、１　　（ｏ−メトキシフ
ェニル）エチル基、１−（ｐ−メトキシフェニル）エチ
ル基、１−（Ｐ−ニトロフェニル）エチル基、１−（Ｏ
−ニトロフェニル）エチル基、１−（０−クロロフェニ
ル）エチル基、１−（　２　、　４−ジクロロフェニル
）エチル基、１−（Ｐ−シアノフェニル）エチル基、１
−（２−ナフチル）エチル基、１−（１−ナフチル）エ
チル基等、また１−フェニルプロピル基等の更に炭素が
増加した一連の置換基を挙げることができる。ジアリー
ルアルキル基の例としてはジフェニルメチル基、ジーＰ
ーアニシルメチル基等無置換または置換したジフェニル
メチル基を挙げることができる。さらにアリールアルキ
ル基の例として２−フェニルエチル基、３−フェニルプ
ロピル基あるいはフェニル基に前述の各種置換基が置換
した２−フェニルエチル、３−フェニルプロピル基等を
用いることも可能である。

次に、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシあるいはア
ルアルコキシ置換アルキル基についてであるが、例えば
２　、　２　、　２．−トリクロロエチル基、２−ヨー
ドエチル基のようなハロゲン原子で置換された炭素数１
〜３の低級アルキル基、ベンジルオキシメチル基、メト
キシメチル基のようなベンジルオキシ基もしくは炭素数
１〜３の低級アルコキシル基で置換された炭素数１〜３
の低級アルキル基等を挙げることができる。

カルボキシル基の保護基としてのアリール基としでは、
例えばフェニル基、Ｐ−ニトロフェニル基、Ｐ−メトキ
シフェニル基のような無置換または置換フェニル基等を
挙げることができる。

以下に本発明化合物の製造方法を工程毎にわけて詳細に
説明する。

■　一般式（ＩＩ） 〔式中、鼠、およびＲ２は前述と同じ意味を示す。〕 で表わされるシッフ塩基とジケテンをイミダゾール類の
存在下、不活性溶媒中で反応させて一般式（［ＩＩ） 〔式中、ＫよおよびＲ２　は前述と同じ意味を示す。〕 で表わされる３−アセチル−２−アゼチジノン−４−カ
ルボン酸エステル誘導体とし、■　次いでアセチル基を
還元して一般式（Ｉλ）〔式中、ＫよおよびＲ２は前述
と同じ意味を示す。〕 で表わされる３−（１−ヒドロキシエチル）−２−アゼ
チジノン−４−カルボン酸誘導体とし、さらに必要に応
じてカルボキシル基の保護基Ｒ２の除去反応、あるいは
水酸基の保護反応に付することによ？前記一般式（Ｉ）
で表わされる本発明化合物を製造することができる。

■の反応に使用されるイミダゾール類としては、イミダ
ゾール、または４−メチルイミダゾ−ル、２，４−ジメ
チルイミダゾール、２−メチルイミダゾール等の２位あ
るいは４位の低級アルキル置換イミダゾール類等、各種
のイミダゾール誘導体を挙げることができるが、イミダ
ゾールあるいは４−メチルイミダゾールが好適である。

イミダゾール類は触媒量から大過剰量の使用が可能であ
るが、シッフ塩基に対して０．１倍モル量から１．５倍
モル量を用いることが望ましい。

不活性溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム、
１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類また
はそれらの混合物が好適である。ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジ
メチルエーテル等のエーテル類、アセトニトリル等のニ
トリル類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ペン
タン等の脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシドまたは酢酸メチル、酢酸エチル等の
酢酸エステル類等、各種溶媒も用いることができる。

冷却または加熱することにより、反応を抑制または促進
することが可能であるが、反応温度は一２０℃から１２
０℃の範囲で行われ、操作性等の面からは一１５°Ｃか
ら６０℃の範囲で実施するのが好ましい。

反応終了後、目的化合物は通常の有機化学的手法によっ
て取り出すことができる。

■の反応では、カルボニル基を水酸基に還元する際に一
般的に行われる各種の方法が実施できるが、例えば水素
化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホ
ウ素カリウム、水素化ホウ素亜鉛、ジボラン、ボランと
各種アミンとのコンプレックス（例えばジイソプロピル
アミン−ボランコンプレックス）等の水素化ホウ素化合
物を還元剤として用い、不活性溶媒中で還元することに
よって達成することができる。

またそれらの反応系にマグネシウム酢酸、マグネシウム
トリフルオロ酢酸、塩化亜鉛等の金属塩を反応補助剤と
して加えて還元反応を行うこともできる。還元剤は反応
が十分進行するだけの量が必要であり、反応は冷却また
は加熱することにより抑制または促進することが可能で
あるが、反応温度は一７８°Ｃから４０℃ということが
できる。

本還元反応で用いる溶媒としては、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール
ジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール等のアルコール系溶
媒、水及びこれらの混合溶媒を挙げることができるが、
ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系溶媒、シクロ
ヘキサン、ｎ−ヘキサン等の炭化水素系溶媒等を用いる
こともできる。

また、還元方法として白金系触媒、パラジウム系触媒等
を用いる接触還元法によっても目的１−ヒドロキシエチ
ル誘導体に誘導することも可能である。

反応終了後は、本反応の目的化合物を通常の有機化学的
手法によって取り出すことができる。

カルボキシル基の保護基Ｒ２の除去反応では、エステル
基をカルボン酸へ変換する際に一般的に行われる各種の
方法が可能であるが、例えば水の存在下にテトラヒドロ
フラン、ジオキサン、メタノール、エタノールあるいは
それらの混合溶媒等の不活性溶媒中で、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、
炭酸水素ナトリウム等の塩基と反応させるいわゆるアル
カリ加水分解法を用いることによって達成できる。冷却
または加熱することにより、反応を抑制または促進する
ことが可能であるが、反応温度としては一１５°Ｃ〜５
０℃ということができる。また、塩基の量としては触媒
量から過剰量の使用が可能であるが、エステル誘導体に
対して０．９〜１．５倍モル量を用いることが望ましい
。

また、本工程においてはアニソール、レゾルシンジメチ
ルエーテル、チオアニソール等の存在下あるいは非存在
下でトリフルオロ酢酸、ギ酸、三弗化硼素エーテレート
等の酸を用いる方法、あるいは白金系触媒、パラジウム
系触媒等を用いる接触還元方法等も必要に応じ用いるこ
とが可能である。

反応終了後は、目的化合物を通常の有機化学的手段によ
って取り出すことができる。

次に前記一般式（Ｉ［Ｉ）　、　（Ｉａ）　　で表わさ
れる化合物の立体構造について述べる。

前記一般式（ＩＩ）で示される化合物では、３−アセチ
ル基と４位のエステル基の間にシス、トランスの二つの
立体関係があるから立体異性体が存在し、また３位、４
位ともに不斉炭素であるから光学異性体が存在する。そ
れらの異性体全てが便宜上単一の式で示されているが、
これによって本発明の記載の範囲が限定されるものでは
ない。

しかしながら、化合物（ＩＦ）を用いる前記の製法から
は非常に高い選択性でβ−ラクタム環の３位アセチル基
と４位エステル基の立体関係がトランスの化合物を得る
ことができる。

次に光学異性体について記述すると、一般式（［１で表
わされるシッフ塩基におけるＲ２基内に不斉炭素を有さ
ない場合には、ジケテンとの反応によってラセミ体の３
−アセチル−２−アゼチジノン誘導体＠）が生成する。

一方、１□基内に不斉炭素を有する場合について、まず
Ｒ２が不斉炭素を有しかつラセミ体である場合について
述べる。

一般式 における３、４位の関係はトランス関係である場合に固
定して４位についてのみ説明すると、４位の不斉炭素に
はＳ配位とに配位が存在する。

一方Ｒ２についても不斉炭素が一つだけ存在する場合に
は、Ｓ配位とに配位の二つの配位がある。したがって、
この場合の生成物として、（ラクタム環４位の配位、Ｒ
２の配位）として表記すると、（Ｓ、Ｓ）、（Ｓ　、Ｒ
）、（Ｒ。

Ｓ）、（Ｒ，Ｒ）の４つの異性体が生成することになり
、（ｓ、ｓ）体と（Ｒ，Ｒ）体、（Ｓ。

Ｒ）体と（Ｒ，Ｓ）体は各々鏡像体の関係にあり、例え
ば（ｓ、ｓ）体と（Ｓ、Ｒ）体、（Ｒ９Ｓ）体と（Ｒ，
Ｒ）体はジアステレオマーの関係となる。したがって、
核磁気共鳴スペクトル、高速液体クロマトグラフィー（
ＨＰＬＣ）あるいはシリカゲル薄層クロマトグラフィー
等でジアステレオマーについては一般的に区別して認め
ることが可能であり、この場合には、例えばＨＰ　Ｌ　
Ｃで分離が可能な場合の例をあげると、（ｓ、ｓ）体−
（Ｒ−Ｒ）体の混合物と（ｓ。

Ｒ）体−（Ｒ，Ｓ）体の混合物が各々１ピ゛−りとして
表われ、結果としては２ビークを示すチャートが得られ
る。それらの二つのピーク″の比は用いるＲ２　基によ
って異なるが（Ｓ、Ｓ）体と（Ｒ，Ｒ）体の生成比及び
（Ｓ、Ｒ）体と（Ｒ，Ｓ）体の生成比は通常は１：１で
ある。

以上のことから、Ｒ２が光学活性体たとえばＳ配位のＲ
２基の場合は二つの異性体すなわち（Ｓ、Ｓ）体と（Ｒ
，Ｓ）体のジアステレオマーが得られ、先に述べた如＜
（５，５）体と（Ｒ，Ｓ）体の生成比がＲ２基の種類に
よって異なることから、一方のジアステレオマーをより
多く生成させることができることを示している。

次にＲ２基内に不斉炭素を有し、かつ光学活性なＲ２で
ある場合について説明する。すでに述べた如く、この場
合の生成物として一般式％式％［［） （［） 〔式中、Ｒ２は前述のＲ２の中で不斉炭素を有し、かつ
光学活性な置換基を示し、良□　は前述と同じ意味を示
す。〕 で表わされる二つの異性体を与え、（ｎ［ａ）　、　（
Ｉ［ｂ）は互いにジアステレオマーの関係にあり、通常
の有機化学的手段によって分離が可能である。

また、用いるλ２＊の種類あるいは、その立体配位によ
って（Ｉ［［ａ　）と（Ｔｕｂ）の生成比が異なり、そ
の比が一方にかだむいた混合物として得ることができる
。また、先に述べた如く、これらの混合物は通常の有機
化学的手段たとえばシリカゲル、アルミナ等を用いる薄
層クロマトグラフィーあるいはカラムクロマトグラフィ
ー、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）等のクロ
マトグラフィーによって、あるいは結晶化法等１こよっ
て分離することが可能である。また、これらのジアステ
レオマーを還元し、必要に応じて水酸基を保護すること
によって得られる一般式Ｃ式中、Ｒ１＊　、　Ｒ２およ
びＲ３は前述と同じ意味を示す。〕 で表わされる誘導体等に誘導後分離することも可能であ
る。

前記一般式（Ｉ）で表わされる本発明のβ−ラクタム化
合物は抗菌活性を有する各種のカルバペネム誘導体の製
造中間体として有用であり、以下にその例を示す。

例えばカルバペネム化合物製造の重要中間体として文献
上公知となっている化合物ｐ）は以下の方法で得ること
ができる。

（Ｉ）　　　　　　　　　　（Ａ） （Ｂ）　　　　　　　　　　（Ｃ） 〔式中、Ｒ１，Ｒ２およびＲ３は前述と同じ意味を示し
、４　および鴫は各々異なるカルボキシル基の保護基を
示し、２はカルボン酸の活性エステル、活性酸無水物あ
るいはチオエステルの残基を示す。〕 工程１　化合物（ハ））は例えば化合物工をアルント・
アインスター）　（Ａｒｎｄｔ−Ｅｉｎｓｃｅｒｔ）　
　反応あるいはジャーナル−オブ・アメリカン串ケミカ
ル・ソサエテ４　（Ｊ、Ａｍ、Ｃｈｅｍ、Ｓａｃ、）　
　１０２巻、６１６１頁〜６１６３頁（１９８０年）に
記載の方法等により増炭反応に付して得ることができる
。

工程２　化合物［Ｂ）は化合物（Ａ）をオゾン酸化、ク
ロム酸酸化等の公知の酸化反応および鉱酸、ルイス酸等
の酸を用いる方法や接触還元等の脱保護反応を組合わせ
ることによりカルボン酸へと誘導し、さらに一般によく
用いられるエステル化反応に付して得ることができる。

工程３　化合物書）のカルボキシル基の保護基。

鴎　を選択的に除去し、次にオキザリルクロリド、塩化
チオニル等のハロゲン化剤と、そのままかあるいは塩基
存在下処理して酸ハライド誘導体に導くか、クロルギ酸
エチル等のクロロホーメートエステルを塩基の存在下用
いて混合酸無水物誘導体に導くか、１．１’−カルボニ
ルジイミダゾール、チアゾリジン−２−千オン等と処理
することにょサアシルイミダゾール誘導体に導くか、ア
シルチアゾリジン−２−チオン誘導体等の活性エステル
あるいは活性塩無水物に導くことにより実施することが
できる。また化合物向の保護基に′２を除去後、チオフ
ェノール、４，６−シメチルー２−メルカプトピリミジ
ン、２−メルカプトピリジン等のメルカプト誘導体と通
常用いられるチオールのアシル化反応、例えば脱水剤と
ともに処理する反応あるいは前述の活性エステルあるい
は活性酸無水物に変換して処理する反応に付することに
よりチオールエステルに導くことができる。

工程４　化合物ｐ）は化合物（Ｃ）をテトラヘドロン・
レターズ（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ）
　　２’１巻、３８８３頁〜３８８６頁（１９８１年）
、テトラヘドロン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ）　３１３
巻、２６５９頁〜２６６５頁（１９８２年）等筈と記載
の文献上公知の方法によって、すなわちテトラヒドロフ
ラン等の不活性溶媒中、水素化ナトリウム、リチウムジ
イソプロピルアミド、リチウムビス（トリメチルシリル
）アミド等の塩基の存在下でディックマン（Ｄｉｅｃｋ
ｍａｎｎ）型の縮合反応に付すことによって得ることが
できる。

カルバペネム化合物については、最近に至りカルバペネ
ム骨格の１位メチレン基がアルキル基で置換された化合
物が合成され、特に１−メチルカルバペネム化合物は例
えば生体内安定性等において従来の１位無置換カルバペ
ネム化合物に比べてすぐれており抗菌剤として極めて有
用であることが報告されている。

本発明の化合物（Ｉ）は上述の１−メチルカルバペネム
化合物の製造中間体としても有用であり、以下にその例
を示す。

例えば１−メチルカルバペネム化合物製造の重要中間体
としてペテロサイクルズ （Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ　）第２１巻、２９頁（１
９８４年）等に記載の公知化合物（０１は以下の方法で
得ることができる。

（１）　　　　　　　　　（Ｅ） （ｐｏ）　　　　　　　　　　　（Ｇ）（Ｈ）　　　　
　　　　　　　（Ｊ） （Ｋ）　　　　　　　　　　　　（Ｌ）（Ｍ）　　　　
　　　　　　　　（Ｎ）〔式中、Ｋ工＊　ＲＱ　＊　Ｒ
３ｅ礼およびＺは前述と同じ意味を示し、礼　　はＲ６
とは異なる水酸基の保護基を示す。〕 工程５　化合物（Ｅ）は化合物（１）をメチルマグネシ
ウムハライド、メチルリチウム等の有機金属化合物と不
活性溶媒中で反応させることにより得ることができる。

工程２′　化合物（Ｆ）は化合物（Ｅ）を前述の工程２
と同様の反応に付すことにより得ることができる。

工程６　化合物ｐ）は化合物（Ｆｌを塩基の存在下ある
いは非存在下に塩化チオニル、塩化トシル等の脱水試剤
を用いて行われる脱水反応に付すことにより得ることが
できる。

工程７　化合物的は化合物ｔＧ）を不活性溶媒中、アリ
ルメチル基をクロル化する際に用いられる各種のクロル
化剤、例えば分子状塩素、Ｎ−クロルサクシイミド等と
反応させることにより得ることができる。

工程８　化合物Ｕｌは化合物的を銅、銀等の重金属の低
原子価イオン塩の存在下に加水分解することにより得る
ことができる。

工程９　化合物（Ｋ＋は化合物Ｕ）を一般的な水酸基の
保護反応に付すことにより得ることができる。

工程１０　　化合物（Ｌｌは化合物ト）を例えば不均一
系遷移金属触媒を用いる接触還元等の一般的な二重結合
への水素添加反応に付すことにより得ることができる。

工程１１　　化合物凹は化合物（Ｌｌを一般的な水酸基
の保護基の脱保護反応、続いて例えばクロム酸酸化等の
一部アルコールをカルボン酸に変換する各種の酸化反応
に付して得ることができる。なおこの場合、脱保護反応
は水酸基の保護基Ｒ３には影響のない条件を選択する。

工程１２　　化合物ぺは化合物關を前述の工程３で述べ
た活性エステル、活性酸無水物あるいはチオールエステ
ルの製造法と同様の方法によ同様の反応に付すことによ
り得ることができる。

次に実施例および参考例をあげて本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるもの
ではない。なお以下の実施例、参考例で用いた略号の意
味は次のとおりである。

Ｍｅｎ　　　：　　ｌ−−メンチル基 ＴＢＭＳ：ｔ−ブチルジメチルシリル基２　　　　：　
ベンジルオキシカルボニル基Ｐｈ：　フェニル基 ＭＣ：メチル基 ＤＡＭ　　：　　ジ（Ｐ−アニリル）メチル基実施例１
−１ アリルアミン２．１９　、Ｆ　（３８，５ｍＭ）　トク
ＩＪ　、ｔキシル酸−ｌ−メンチル１−水和物８．０５
　、Ｆ（３５ｍＭ）から乾燥ベンゼン３５−中で調製し
たシッフ塩基にイミダゾール２．３８ＪＦ（３５ｍＭ）
を加え、５０℃に保温しなから　ジケテ：／　３．５３
１　（４２ｍＭ）の乾燥ベンゼ：ｚ（３５ｍ／）溶液を
１時間で滴下し、更にそのまま５０°Ｃで１５分間攪拌
した。室温まで冷却後、酢酸エチル２００　ｒｎｌで希
釈し、希塩酸で洗浄した。

水層を酢酸エチルエ００−で再抽出し、有機層を合わせ
、重曽水、食塩水で順次洗浄した後芒硝乾燥、溶媒留去
し、得られた油状の残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ーにて精製することにより１−アリル−３−アセチル−
４−ｌ−メンチルオキシカルボニル−２−アゼチジノン
？、３９．Ｆ（６３％）を得た。本島はＮＭＲより得ら
れた４　（５１体と４（Ｒ）体の生成比は５対３であっ
た。

ＩＲｎｅａ＆（Ｃ１１−１）　：　１７？５　、１７２
３　、１３５８　。

ａｘ １２６５　、１２２０　　、１１８５　、１０３８　、
９８７ＮＭＲδ（Ｃ６Ｄ６）　：　１．８８（３Ｈ，ｓ
、　４（Ｓ鉢）。

１．９０　（３Ｈ，Ｓ　、　４（Ｒ林）、４．０１（１
Ｂ、ｄ。

Ｊ＝２．６Ｈｚ　、４（５８）　、　４．１．１（ＩＨ
，ｄ。

Ｊ＝２，４ＨＸ、４（Ｒ）体）、４．７１（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝２．４Ｈｚ） 実施例１−２ ＋１１　　乾燥テトラヒドロフラン２７ｉに水素化ホウ
素ナトリウム４７３■を加えて０〜１０℃に冷却し、三
フッ化ホウ素エーテレート２．６７　ｙを滴下して１時
間攪拌した。次いでベンジルエタノールアミン２．６６
　、ＳＦを加え、４時間そのまま攪拌してベンジルエタ
ノールアミンボラン−テトラヒドロフラン溶液を調製し
た。

＋２）４−１！−メンチルオキシカルボニル−３−アセ
チル−１−アリル−２−アゼチジノン３．３５　／と三
フフ化ホウ素エーテレート２．０９　、ＳＦのトルエン
（１９ｍ）溶液を−１０〜−５℃に冷却し、１時間攪拌
後同温度に冷却した上記（１１のベンジルエタノールア
ミンボラン液に３０分で滴下した。１．５時間攪拌後−
１０〜０℃で１．７Ｎ−塩酸４−を加え反応を停止した
。同温度で１時間攪拌した。反応液に氷水２０−１酢酸
エチル１００−を加えて抽出した。水層を酢酸エチル５
０ｒｎｌで２回抽出し、有機層を合わせ、食フィーに付
し、４−１！−メチルオキシカルボニル−３−（１−ヒ
ドロキシエチル）−１−アリル−２−アゼチジノンを得
た。

■Ｒｎ！”　（ＣＩ　”）　：　３４５０　ｅ　１７６
０（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）　。

ａｘ １７４０　、１４４５　、１２０７　、１１２０（３）
上記（２）で得たβ−ラクタム誘導体はＮＭＲより４種
の異性体の混合物でその生成比は４５体／４Ｒ体＝　１
．３　、スレオ体／エリスロ体−１，４であった。この
混合物２．５１１をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（シリカゲル２５Ｉ）に付し、ベンゼン−酢酸エチル
で溶出してスレオ体とエリスロ体を分離した。得られた
スレオ体をｎ−ヘキサンを用いて分別結晶化を行うこと
により（３５，４Ｓ）−４−１！−メンチルオキシカル
ボニル−３−（１−（Ｒ）−ヒドロキシエチル）−１−
アリル−２−７ゼチジノンを得た。　　ｍ−Ｐ、　　９
８〜１０１℃なおスレオ体とは（３Ｒ，４Ｒ，６Ｒ）体
と（３５，４５，６５）体の混合物であり、エリスロ体
とは（３Ｒ，４Ｒ，６５）体と（３５，４５，ＳＲ）体
の混合物である。

実施例ｌ−３ ４−Ｊ−メンチルオキシカルボニル−３−（１−ヒドロ
キシエチル）−１−アリル−２−アゼチジノン３３７　
Ｗ９のアセトン５ｒｒＬｔ−メタノール１．２４溶液に
８．０チ水酸化ナトリウム水溶液１−を加え３０℃で３
時間保温、攪拌した。原料の消失を確認後反応液を分液
ロートに移し、水０．２４で２回洗い込みジエチルエー
テル１０−を用いて抽出した。有機層を水１ｍ／で２回
洗浄し、水層を合した。水層を再びジエチルエーテル１
０ｒｎｌで洗浄し、６Ｎ−塩酸１−で酸性とした。メチ
ルイソブチルケトン５ｒｎｌを用いて抽出（５回）後、
有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去して４−カルボキシ−３−（１−ヒドロキシエチル）
−１−アリル−２−アゼチジノンを得た。

１ＲｎｅａＬ（０１１）　：　３４００（ｂｒｏａｄ）
　。

ａｘ １７６０（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）　、　１４０５　、１２
２０　。

１１９０　、９３０ 実施例１−４ （３５，４Ｓ）−３−（１−（Ｒ）−１−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−４−メトキシカルボニル−２
−アゼチジノン２．７１を塩化メチレン３０ｍ７に溶解
し、臭化アリル２．３．Ｆ１５０％水酸化ナトリウム水
溶液３１、次に塩化ベンジルトリエチルアンモニウム１
．１　！１を順次加え、１時間激しく攪拌した。

反応液を酢酸エチル２５０　ｍ／で希釈し水へ、芒硝乾
燥後溶媒留去し、得られた油状の残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し、（３５，４５）−１
−アリル−３−（１，−（Ｒ１−１−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−４−メトキシカルボニル−２−ア
ゼチジノンを得た。

ＩＲ”ｍ（Ｃ１１”）　：　２９６０　、２９００　、
２８６０　。

ａｘ １７６０　、１４６０　、１４４０　、１３９０　。

１２５０　、１２１０　、１１３５　、１１００　。

１０６０　、９８５　、９３０　、８３０　、７７ＯＮ
ＭＲδ（ＣＤＣｆｆ３）　：　０．０２（３Ｈ，ｓ）、
　０．０３（３Ｈ。

Ｓ）　、　０．８１（９Ｈ，！Ｉ）　、　１．１．５（
３Ｈ，ｄ。

Ｊ冨（３，３Ｈｚ）　、　３．７０（３Ｈ，、Ｓ）　。

４．１６　（ＬＨ、ｄ　、　Ｊ＝２．７Ｈｚ　）実施例
１−５ （３５，４５）−４−メトキシカルボニル臭化アリル４
８■の乾燥Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド０．４６４溶
液に６０チ水素化ナトリウム６ｒＩＩ９を２０〜３０℃
で加えた。３時間攪拌後反応液を飽和塩化アンモニウム
水溶液５−と塩水５−で希釈し酢酸エチル２０−を用い
て抽出した。水層を更に酢酸エチル８ｍｊで抽出後、有
機層を合し、塩水を用いて洗浄（５回）した。無水硫酸
マグネシウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去した。残渣
をシリカゲルクロマトグラフィー精製して（３５，４Ｓ
）−４−メトキシカルボニル−３−（１−（Ｒ１−ベン
ジルオキシカルボニルオキシエチル）−１−アリル−２
−アゼチジノンを得た。

ｎｅｌｔ　　　−１。

ＩＲ（ａｍ　　）　−１７６０（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）　
、　１７４０　。

ａｘ １２５０　、１１３０　、１０２０　、７７５　、７４
０　。

９Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＣ／３）　：　１．４４（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６．６Ｈ２）。

３．３５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．１と６．ＩＨ２）　。

３．７３（３Ｈ，Ｓ’）、４．２０（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２
．４Ｈ１）。

５．１６（２Ｈ，Ｓ）　、　７．３６（５Ｈ，３）参考
例１−１ （３５，４Ｓ）−１−アリル−３−（１−Ｒ１−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−メトキシカル
ボニル−２−アゼチジノン７５０　ｖ９を乾燥テトラヒ
ドロフラン６−に溶解し、氷冷した。窒素気流下ＩＭ−
メチルマグネシウムクロライド−テトラヒドロフラン溶
液６ｍＺを滴下し、１時間攪拌後、ＩＮ−塩酸６ｒｎｔ
を加え、室温まで昇温し、１時間攪拌した。次に酢酸エ
チル１５ｍ１を加えて抽出した。水層を酢酸エチル１ｏ
−で再抽出し、有機層を合わせ、飽和食塩水、１０％重
曹水、水で順次洗浄し、芒硝乾燥した。溶媒留去し、薄
層クロマトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン−酢酸エ
チル２：１）で精製しく３Ｓ。

４５）−１−アリル−３−（１−（８））−１−ブチル
ジメチルシリルオキシエチル）−４−（１−ヒドロキシ
−１−メチルエチル）−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲｆｆｌｍ（Ｃ１ｌ　１）　：　１７２５　、１４６
０　、１４００　。

ａｘ １３６５　、１２５０　、１０５５　、９８０　、９２
０　。

８２０　、７７Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＣＪ、）　：　０．００（３Ｈ，ｓ）　
、　０．０２（３Ｈ。

Ｓ）　、　０．８１（９Ｈ，Ｓ）　、　３．６３（ＩＨ
，ｄ。

Ｊ＝２．０Ｈｚ） 参考例１−２ ＴＢＭＳ−０ （３Ｓ　、　４　Ｓ　’）−１−アリル−３−（１−（
Ｒ１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−
（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−アゼチジ
ノン４５１ｖを塩化メチレン−メタノール（１：１）混
液２ｍｊに溶解し、−７８℃まで冷却後オゾンを含有す
る酸素ガスを吹込んだ。原料消失後窒素ガスを吹込みな
がら室温まで昇温した。トリフェニルホスフィン４０ｍ
９を加え、１５分攪拌した後、溶媒留去し残渣を薄層ク
ロマトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン−酢酸エチル
１：１）で精製し、（６５，７５）−３−ヒドロキシ−
４−オキサ−５，５−ジメチル−７−（１−（Ｒ）−１
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−８−オキソ−
１−アザビシクロ（４，２゜Ｏ〕オクタン（化合物Ａ）
と（３５，４Ｓ）−１−ホルミルメチル−３−（１−（
Ｒ）−１−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−
（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−アゼチジ
ノン（化合物Ｂ）を混合物として得た。

化合物Ａ ｆｉｌｍ　　−１。

ＩＲ（ｃｌｍ　　）　、　３４００　、１７３５　、１
２５０ａｘ ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ！、）　　：　　２．７６と２．９
５（あわせてＩＨ。

各ｄｄ、　Ｊ＝２．３Ｈｚと４　、３Ｈ２、Ｊ＝１　、
５Ｈｚと３．６Ｈｚ）、３．４４と３．４６（あわせて
３Ｈ。

Ｓ） 化合物Ｂ ＩＲ””　（Ｃ１１″１）　：　１７５０ａＸ ＮＭＲδ（ｃＤＣＩ！３　）　”、　３．０２　（ＩＨ
、ｄ　ｄ　、　Ｊ−２、３Ｈ２と４．９Ｈｚ）　、　３
．４６（３Ｈ，Ｓ）参考例１−３ ＋１）　　（６Ｓ　、　７　Ｓ　）　−３−ヒドロキシ
−４−オキサ−５，５−ジメチル−７−（１−（８）−
１−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−８−オキソ
−１−アザビシクロ［４，２゜０］オクタンと（３８，
４５）−１−ホルミルメチル−３−（１−（Ｒ）−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４−（１−ヒド
ロキシ−１−メチルエチル）−２−アゼチジノンの混合
物６５■をアセトン２−にとかし水冷下にジッーンズ（
Ｊｏｎｅｓ）試薬を橙黄色が消えなくなるまで少しづつ
加え、１０分間攪拌後イソプロピルアルコール２滴を加
えて過剰のジッーンズ試薬を分解した。反応液に酢酸エ
チル１５−１氷水１５五 −を加えて分液し、水層辱酢酸エチル１０−で再抽出し
、有機層を中性まで水洗した。

芒硝乾燥、溶媒留去し油状の（３５，４５）−１−カル
ボキシメチル−３−（１−匹）−Ｌ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−４−（１−ヒドロキシ−１−メチ
ルエチル）−２−アゼチジノンを得た。

ＮＭＲδ（ＣＤＣｆ３）　：　０．０４Ｃ３Ｈ，Ｓ）　
、　０．０８（３Ｈ。

ＩＩ）　、　０．８５（９Ｈ，ｓ）　、　５．３（ＩＨ
，ｂｓ）（２）上記（１）で得たカルボン酸をエチルエ
ーテル３−、メタノール０．５艷に溶解し、水冷下ジア
ゾメタンーエーテル溶液を淡黄色が消えなくなるまで滴
下した。そのまま１０分間攪拌後、１０％酢酸−エーテ
ル溶液１滴を加えた。溶媒を減圧留去し、得られた油状
の残渣を薄層シリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲ
ル；ベンゼン−酢酸エチル１：１）に付し、（３８，４
８）−１−メトキシカルボニルメチル−３−（１−１）
−【−ブチルジメチルシリルオキシ）−４−（１−ヒド
ロキシ−１−メチルエチル）−２−アゼチジノンを得た
。

ＩＲ””　（ｃＩｌ”）　：　３４５０　、１７４０　
、１４８０　。

ａｘ １４４０−、１４０５　、１３７０　、１２５０　。

１２０５　、１１３０　、１０６０　、９８ＯＮＭＲａ
　（ｃ］）ｃＪ３）　：　０．０６（３Ｈ，ｓ）　−０
−０８（３Ｈ２り　、　０．８６（９Ｈ，Ｓ）　、　３
．７８（３Ｈ，す。

４．２２（ＩＨ，ｍ） 参考例１−４ （３５，４５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−
（１−（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル
）−４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−２−
アゼチジノン７０１１９を乾燥ピリジン０．３５−に溶
解し、水冷上塩化チオニル３０■を加え、室温で５時間
攪拌した。反応液を酢酸エチル５．ｎｌで希釈し、冷Ｉ
Ｎ−塩酸で洗浄後、次に水洗をくり返し、芒硝乾燥、溶
媒留去し得られた油状の残渣を薄層クロマトグラフィー
（シリカゲル；ベンゼン−酢酸エチル９：１）で精製し
く３ｓ、４ｓ）　　１−メトキシカルボニルメチル−３
−（１−（Ｉｆ、）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）−４−（１−メチルエチニル）−２−アゼチジ
ノンを得た。

ＩＲ４’、１ｍ（ｃＩｌ−１）　：　１７７０　、１７
５０　、１４４０　。

１４１０　、１３８０　、１２５０　、１２１０　。

１１４０　、１０６０　、９８０　、８３ＯＮＭＲδ（
ＣＤＣｊ’　）　：　０．０９（３Ｈ，ｆｆ１）　、　
０．１０（３Ｈ，ｓ）。

０．８８（９Ｈ，ｓ）　、　１．２６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
２，０Ｈｚ）。

１．７５（３Ｈ，＄）、３．７３（３Ｈ，ＩＩ）参考例
１−５ （３５，４５）−１−メトキシカルボニル）　チル−３
−（１−（Ｒ）　−Ｌ−ブチルジメチルシリルオキシエ
チル）−４−（１−メチルエチニル）−２−アゼチジノ
ン１５０■をメタノール１．５−にとかし水冷下に６Ｎ
−塩酸０．１５−を加え、室温で３時間攪拌した。反応
液を酢酸エチル３０ｒｎｌで希釈し、５％重曹水、水で
順光洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去し、残渣
を薄層クロマトグラフィー（シリカゲル；ベンゼン−酢
酸エチル１：２）に付して（３Ｓ、４３）−１−メトキ
シカルボニルメチル−３−（１−（Ｒ）−ヒドロキシエ
チル）−４−（１−メチルエチニル）−２−アゼチジノ
ンを得た。

ＩＲ”ｍ（ｃＩｌ　１）　：　１７４０　、１４２５　
、１４０５ａｘ １３５０　、１２０５　、１１２５ ＮＭＲδ（ＣＤＣＪ３）　：　１．３３（３Ｈ，ｄ、Ｊ
＝６，６ｉ−ｉｚ）　。

１．７８　（３Ｈ，す、　３．７５（３１−１，３＞参
考例１−６ （３５，４５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−
（１４）−ヒドロキシエチル）−４−（１−メチルエチ
ニル）−２−アゼチジノン５２■を乾燥塩化メチレン２
ｒｎｌにとかし、Ｎ−ジメチルアミノピリジン３０■を
加えて氷冷した。窒素気流下ベンジルクロロホーメート
４０■を滴下し、そのまま２時間攪拌した。その後室温
で一夜放置し、酢酸エチル１５−で希釈し、５％塩酸、
次に水で順次洗浄し芒硝乾燥、溶媒留去し、得られた残
渣を薄層シリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル；
ベンゼン−酢酸エチル２：１）に付し、（３Ｓ、４５）
−１−メトキシカルボニルメチル−３−（１−（Ｒ）−
ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−（１−
メチルエチニル）−２−アゼチジノンを得た。

ｆｉｌｍ　　−１。

ＩＲ（ＣＩ　　）　、　１７６５　、１７４５　、１４
４０　。

ａｘ １３８０　、１２６０　、１２０５　、１０１０４ＯＮ
δ（ＣＤＣＩ！３）’：　１．４６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝５
．５Ｈｚ）　。

２．０４（３Ｈ，Ｓ）　、　３．７２（３Ｈ，Ｓ）　。

５．１６（２Ｈ，ｌ）　、　７．３６（５Ｈ，り参考側
１−７ （３Ｓ、４５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−
（１−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル
）−４−（１−メチルエチニル）−２−アゼチジノン１
８０■ヲ酢酸−！−チル４−にとかし、水冷下に３％塩
素−四塩化炭素溶液１．５Ｉを加え、そのまま１時間攪
拌した。反応液に飽和重曹水３ｒｎｌと酢酸エチル７−
を加え、分液し、有機層を１０％チオ硫酸ナトリウム水
溶液で洗浄し、更に水洗して硫酸マグネシウム乾燥、溶
媒留去し、油状の残渣を得た。これを薄層クロマトグラ
フィー（シリカゲル；ベンゼン−酢酸エチル４：１）に
付し、（３５，４５）−１−メトキシカルボニルメチル
−３−（１−（ｉ）−）−ベンジルオキシカルボニルオ
キシエチル）−４−（１−クロルメチルエチニル）−２
−アゼチジノンを得た。

ＩＲ”ｍ（Ｃ１１１）　：　１７７０　、１７４０　、
１４３５　。

ａｘ １４１０　、１３７５　、１２５０　、１２１０　。

１１７０　、１１４０　、１０４０　、９６ＯＮＭＲδ
（ＣＤＣＩ！３）　：　１．４７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．
０Ｈ２）　。

３．７４（３Ｈ，Ｓ）　、　４．０３（２Ｈ，ｓ）　。

５．１７（２Ｈ，ｆｉ）、７．３７（５Ｈ，Ｓ）参考例
１−８ （３５，４５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−
（１−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル
）−４−（１−クロルメチルエチニル）−２−アゼチジ
ノン１．５５．Ｆをジメチルスルホキシド１７−に溶解
し、水４−を加え、次に酸化第１銅０．７３３　、Ｆ　
、　Ｐ　−トルエンスルホン酸１水塩０．８４８　、Ｆ
を加え、５０〜・５５℃で２時間攪拌した。反応液に塩
化メチレン１０−、セライト２ｙ加え、３０、分攪拌し
た後、押退し、押退残渣を塩化メチレン３−で２回洗浄
し、沖液と合わせ、２０−食塩水１５ｒｎｌ、５チ塩酸
１．５４を加えて分液、水層を塩化メチレン１０−で再
抽出し、有機層を水洗、芒硝乾燥、溶媒留去し、得られ
た油状の残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、（３５，４５）−１−メトキシカルボニルメチル
−３−（１４）−ベンジルオキシカルボニルオキシエチ
ル）−４−（１−ヒドロキシメチルエチニル）−２−ア
ゼチジノン１．１１　、Ｆを得た。（７５％）ＩＲ”ｎ
１ｌ（０１１）　：　３４５０　、１７４０　、１３７
５　。

ｍλＸ １２６０　、１２１０　、１１３５　、１０１０４ＯＮ
δＣＣＤＣｌ！３）　：　１．４７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝５
．３Ｈｚ）　。

３．７２（３Ｈ，Ｓ）　、　５．１６（２Ｈ−）　。

７．３７（５Ｈ，Ｓ） 参考例１−９ （３Ｓ、４５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−
（１４）−ペンジルオキシカルボニルオキシエチル）−
４−（１−ヒドロキシメチルエチニル）−２−アゼチジ
ノン１．ＯＩとイミダゾール０．４１をジメチルホルム
アミド３．５ｒｎｌに溶解し、室温で１−ブチルジメチ
ルクロルシラン０．４５１１を加え、３時間攪拌後、氷
水１４−を加え、次にベンゼン１〇−を加えて分液し、
水層をベンゼン１０−で再抽出後、有機層を食塩水（１
０％）で洗浄をくり返し、硫酸マグネシウム乾燥、溶媒
留去し、得られた油状の残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、（３５，４５）−１−メトキシカ
ルボニルメチル−３−（１−（Ｒ）−ベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル）−４−（１−ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシメチルエチニル）−２−アゼチジノン１
．１２　、Ｆを得た。

ＩＲ”ｆｆｌ（ｃｍ　”）　：　１７４０　、１３７５
　、１２５０　。

ａｘ １１００　、８３Ｏ ＮＭＲδｅ”’／３）　：　０−０４（６Ｈ，ｓ）　、
　Ｑ、１３９（９１（、ｓ）　。

１．４６（３Ｈ，ｄ、、Ｊ＝６．３８Ｚ）、３．７１（
３Ｈ。

Ｓ’）、４．１０（２Ｈ，り、７．３６（５Ｈ，ｊ）参
考例１−１０ （３５，４５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−
（１−（ＲＪ−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル
）−４−（１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル
エチニル）−２−アゼチジノン３６０■をアセトニトリ
ル６−に溶解し、窒素雰囲気下で５％白金−活性炭（５
０％水分含有品）１８０”Ｗを加え、室温で水素置換後
、常圧水素添加を行った。触媒を沖去し沖液を濃縮し得
られた油状の残渣を＊ａクロマトグラフィー（シリカゲ
ル；ベンゼン−酢酸エチル４：１）で精製し、（３ｓ。

４５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−（１−（
ＲＪ−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−４−
（１−メチル−２−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエ
チル）　−２−７ゼチジノンを得た。

本島はＮＭＲより、４位側鎖上のメチル基の立体異性体
５Ｒ体と５ｓ体の生成比は３対２であった。

５Ｈ体および５５体 ＩＲｆｉｌ”（ｃｍ−”）　：　１７７０　、１７５０
　、１４６０　。

ａｘ １３８０　、１２６０　、１２２０　、１０９０　。

１０５０　、１０１０　、９６０　、８４０　。

７８０　、７００ ５Ｈ体 ＮＭＲδ（ＣＤＣ／３）　：　０．０２（３Ｈ，Ｓ）　
、　０．０３（３Ｈ。

Ｓ）　、　０．８７（９Ｈ，り　、　０．９１（３Ｈ，
ｄ。

Ｊ＝（３，９Ｈｚ）　、　３．２１（ＩＨ，ａｄ、Ｊ＝
２．３Ｈ１と８．６Ｈり　、　３．９２（３Ｈ，Ｓ）　
　。

５．１４（２Ｈ，５）　、　７．３５（５Ｈ，３）５５
体 ＮＭＲｌ　　（ＣＤｃｌ！３　）　　　：　　　Ｑ　、
１３９　（３Ｈ，ｄ　、Ｊ＝３．５Ｈｚ　）　　　。

３．１０（１１（、ｄｄ、Ｊ＝２，３ｔ−１ｚと３　、
５ｔｌｚ　）参考例１−１１ （３５，４５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−
（１−１＋−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）
−４−（１−メチル−２−１−ブチルジメチルシリルオ
キシエチル）−２−アゼチジノン１６０■をメタノール
２−に溶解し、水冷下６Ｎ−塩酸０．１６４を加え室温
で３時間攪拌した。水冷上反応液に０．ＩＮ−重背水１
３−を加え、次いで酢酸エチル３０−を加えて分液し、
有機層を水洗、芒硝乾燥、溶媒留去し、得られた残渣を
薄層クロマトグラフィー（シリカゲル：ベンゼン−酢酸
エチル１：１）に付し、（３５，４５）−１−メトキシ
カルボニルメチル−３−（１−ＧＲＩ−ベンジルオキシ
カルボニルオキシエチル）−４−（１−メチル−２−ヒ
ドロキシエチル）−２−アゼチジノン１２０■を得た。

ＩＲ”１−　（ａｍ　１）　：　３４５０　、１°７４
０　、１３８０　。

ａｘ １２６０　、１２１０．１１８０　、１０５０　、９５
５１．４８（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，３Ｈり　、　３．２０
（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ−２，７Ｈｚと９．５Ｈり　、　３．７４（３
Ｈ，ｓ）　、　５．１６（２Ｈ，ｓ）　、　７．３７（
５Ｈ。

５５体　　　０．８９（３Ｈ，ｄ、Ｊ−７，２Ｈ２）　
、　１．４９（３Ｈ。

ｄ、Ｊ−６，３Ｈり　、　３．１２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−
２，６Ｈｚと８．９Ｈｚ　） 参考例１−１２ （３８，４８）−１−メトキシカルボニルメチル−３−
（１−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル
）−４−（１−メチル−２−ヒドロキシエチル）−２−
アゼチジノン１２０■を参考例１−３の（１）の方法に
準じてジ、−ンズ酸化に付し、（３Ｓ、４５）−１−メ
トキシカルボニルメチル−３−（１１１−ベンジルオキ
シカルボニルオキシエチル）−４−（１−カルボキシエ
チル）−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲ”ｎｌ（０１１）　：　１７４０　、１４５０　、
１４３０　。

ａｘ １３８０　、１２６０　、１２２０　、１１８０　。

１１５０　、１０５０　、９６０ ５Ｒ体 ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ！、）　：　１．１３（３Ｈ，ｄ、
Ｊ−２，１Ｈ２）　。

１．３９（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，３Ｈり　。

３．２１（ＩＨ，ｄｄ、Ｊｚ２．３Ｈｚと８，２Ｈｚ）
　。

３．６７（３Ｈ，ｌ）　、　５．０９（２Ｈ，８）　。

７．２９（５Ｈ，５） ５８体 ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ！３）　：　１．４０（３Ｈ，ｄ、
Ｊ＝６．３Ｈｚ）　。

３．００　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．３Ｈｚと８．５Ｈｚ
）参考例１−１３ （： （１）　　（３Ｓ　、　４　Ｓ　）　−１−メトキシカ
ルボニルメチル−３−（１−（ｉｔ−ベンジルオキシカ
ルボニルオキシエチル）−４−（１−カルボキシエチル
）−２−アゼチジノン１１０キをエタノール２．２１ｎ
ｌに溶解し、窒素雰囲気下で１０％パラジウム−活性炭
２２ｔＩ９を加え、室温で水素置換後、常圧上水素添加
を行った。触媒を沖去し、沖液を濃縮し、粗（３８，４
５）−１−メトキシカルボニルメチル−３−（１−（Ｒ
）−ヒドロキシエチル）−４−（１−カルボキシエチル
）−２−アゼチジノンを得た。

２）上記（１）で得たカルボン酸７０■とイミダゾール
１１０■をジメチルホルムアミド２．、Ｉ／に溶解し、
ｔ−ブチルジメチルクロルシラン１Ｂ（１１Ｐを加え、
室温で１５時間攪拌した。

反応液を酢酸エチル１０−で希釈し、水洗をくり返し、
硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去して油状の残渣を得た
。この残渣をメタノール−テトラヒドロフラン（３：１
）混液１．２−にとかし、１０チ炭酸カリウム水溶液１
．２−を加え、室温で３０分間攪拌した。反応液に水１
０−を加え、次にエチルエーテル１０−を加えて分液し
、水層を水冷下ＩＮ−塩酸で酸性とし、酢酸エチル１０
−で２回抽出し、硫酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去し
、（３５，４Ｓ）　−１−メトキシカルボニルメチル−
３−（１−（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエ
チル）−４−（１−カルボキシエチル）−２−アゼチジ
ノンを得た。

ＩＲ，ｆｆｆｉ］ｍ（ＣＩ−１）　：　１７４０　、１
４６０　、１４３０　。

ａｘ １３７０　、１２５０　、１２１０　、１１４０　。

１１００　、１０００　、９８０　、９３５　。

５Ｈ体 ＮＭＲＪ　（ＣＤＣＪ３）　：　０．８２（９Ｈ，Ｓ）
　。

３．６９（３Ｈ，５） ５５体 ＮＭＲＪ（ＣＤＣＩ！、）　：　０．８３（９Ｈ，１１
）　。

３．６６（３Ｈ，ｆｉ） 参考例１−１４ （３５，４Ｓ）−３−（（ＩＲ）−１−ｔ−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル〕−４−（（Ｉｓ）−１−カル
ボキシエチル〕−１−（１−メトキシカルボニルメチル
）−２−アゼチジノンａ２ｔ＋ｙ、Ｎ、ｍ−カルボニル
ジイミダゾール１６７Ｔ９の乾燥アセトニトリル８−溶
液を室温で１時間攪拌した。これにチオフェノール１１
３■の乾燥アセトニトリル２．３ｄ溶液、次いでトリエ
チルアミン１０４■の乾！ 燥アセトニトリル１．７噌溶液を加え、室温で３０分間
攪拌した。反応混合物を酢酸エチルと食塩水で希釈し分
液した。水層を酢酸エチルで更に２回抽出し、先の有機
層と合わせ、希塩酸、食塩水、炭酸水素ナトリウム飽和
水溶液、食塩水（３回）でそれぞれ洗浄した後芒硝乾燥
、溶媒留去し、残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに
て精製して（３５，４Ｓ）−３−（（ＩＬ）−１−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチルＥ−４−（（Ｉ　Ｓ
　）　−１−フェニルチオカルボニルエチル）−１−（
１−メトキシカルボニルメチル）−２−アゼチジノンを
得た。

ＩＲ””（ａｍ　’）　：　１７５０　、１６９５　、
１４３７　。

ａｘ １４０５　．１２４７　．１２０２　．９５０　　。

８３０　．７７０　．７４Ｏ ＮＭＲ＋ｊ（ＣＤＣＩ！３）　：　Ｑ、Ｑ７（３Ｈ，ｓ
）、　Ｑ、Ｑｇ（３Ｈ，ｓ）　。

０゜８７（９Ｈ，り　、　２．８８（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝
２．３と６．６Ｈり、３．０３（ＩＨ，ｍ）。

３．７０（３Ｈ，Ｓ）　、　４．０２（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ
＝２．０と９．２Ｈ１）、４．１９（ＩＨ，ｍ）。

７．４１（５Ｈ，ｍ） 参考例１−１５ （３５，４５）−３−（（ＩＲ）−１−を−ブチルジメ
チルシリルオキシエチル〕−４−（（Ｉｓ）−１−フェ
ニルチオカルボニルエチル）−１−（１−メトキシカル
ボニルメチル）−２−アゼチジノン５０■を乾燥ヘキサ
メチルホスホリックトリアミド−テトラヒドロフラン（
１：　１００　）混合溶媒０．６ｒｎｌに溶かし、−３
０℃にてリチウムビス（トリメチルシリル）ア疋ドの１
Ｍテトラヒドロフラン溶液０．４４−を滴下した。反応
液を室温まで昇温し、原料消失後反応液を水冷した。反
応混合物に中性（ｐＨａ、ｓａ　＞リン酸緩衝液を加え
た後、ジエチルエーテルで希釈した。分液浸水層をジエ
チルエーテルで更に２回抽出し先の有機層と合わせ、食
塩水で５回洗浄した後、芒硝乾燥、溶媒留去し、残渣を
シリカゲルクロマトグラフィーにて精製して（４Ｓ。

５Ｒ，６５，８Ｒ）−メチル−４−メチル−６−Ｃ（Ｉ
Ｒ）−１−１−ブチルジメチルシリルオキシエチル〕−
１−アザビシクロ〔３゜２．０〕−ヘプト−３，７−シ
オンー２−カルボキシレートを得た。

ＩＲ””　（ｅｌｌ−１）　：　１７？０　、１７６０
　、１７４０　。

ａｘ １４３５　、１２４５　、１１２０　、８２５ＮＭＲδ
（ＣＤＣＪ３）　：　０．１０（６Ｈ，Ｓ）　、　０．
９０（９Ｈ。

Ｓ’）　、　１．２７（３Ｈ，ｄ、Ｊ−７，ＯＨり　。

１．３０（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６，２Ｈり、２．２９（ＩＨ
，ｍ）。

３．１４（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝１．５と５．７Ｈｚ）　。

３．７７（３Ｈ，Ｓ）、４．３１（ＩＨ，ｍ）。

４．７１（ＩＨ，り 実施例１−６ （３５，４Ｓ）−４−メトキシカルボニル−３−（１−
（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−１
−アリル−２−アゼチジノン１．１１を乾ｆｉｌ、２−
ジクロロエタン６０−に溶解し、氷冷した。窒素気流下
１．５Ｍ三臭化ホウ素−１，２−ジクロロエタン溶液７
−を滴下し、１時間攪拌した。飽和重曹水２０−を加え
、次に水洗をくり返し硫酸マグネシウム乾燥、溶媒留去
した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付しく３５．４５）−４−メトキシカルボニル−
３−（１−四−ヒドロキシエチル）−１−アリル−２−
アゼチジノンを得た。

ｆｉｌｍ　　−１。

ＩＲ（３）　、　３４５０　、１７７０　、１７５０　
。

ｎａｘ １６５０　、１４４０　、１４００　、１２２０　。

１１４０　、１０７０　、９３５ ＮＭＲδ（ＣＤＣｒ３）　：　１．３０（３Ｈ，ｄ、６
．６Ｈ２）３．７８（３Ｈ，Ｓ） 実施例１−７ （３５，４８）−４−メトキシカルボニル−３−（１−
Ｎ−ヒドロキシエチル）−１−アリル−２−７ゼチジノ
ン１００■、イミダゾール７０■、【−ブチルジメチル
クロルシラン１００ａＦを用い、参考例５−２の方法に
準じて反応、後処理を行ない（３５，４５）−４−メト
キシカルボニル−３−（１−（へ）−を−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−１−アリル−２−アゼチジノ
ンを得た。氷晶は実施例１−４の方法で得たものと　Ｉ
Ｒ，ＮＭＲで一致した。

実施例２−１ ２−ベンジルオキシエチルアミン１．３３．Ｆ（３，８
ｍＭ）　　とグリオキシル酸−ｌ−メンチル１永和物１
．８３　ｊＩ（８，０ｍＭ）をトルエン５〇−中で共沸
脱水してシッフ塩基を生成せしめ、留去量と同量のトル
エンを加え、室温でイミダゾール０．５５　／（８，０
ｍＭ）　　を加えて溶解後水冷した。ジケテン０．８ｊ
ｉ（９，６ｍＭ）の乾燥トルエン（８−）溶液を３０分
で滴下しその後室温で２時間攪拌した。反応液を酢酸エ
チル６０−で希釈し、冷希塩酸、水で順次洗浄し、硫酸
マグネシウム乾燥、溶媒留去し、得られた油状の残渣を
シリカゲルクロマトグラフィーにより精製し、１−（２
−ベンジルオキシエチル）−３−アセチル−４−１！−
メンチルオキシカルボニル−２−アゼチジノン２．９４
　、Ｆ　（８７，５％）を得た。

ＩＲ”ｍ（Ｃ３１”）　：　１７７０　、１７２０　、
１４５０　。

ａｘ １３５０　、１２６０　、１２１０　、１１８０　。

１１００　、１０２０ 実施例２−２ （１）乾燥テトラヒドロフラン１１−に水素化ホウ素ナ
トリウム０．１９　Ｆ　（５ｍＭ）を加え、０〜１０°
Ｃに冷却し、三フッ化ホウ素エーテレート１．０？　、
Ｆ　（７，５２ｍＮｔ　）を同温度で加え、１時間攪拌
した。次にベンジルエタノールアミン１．０６　Ｊ　（
７，０２ｍＭ　）　　を加え、１０時間そのまま攪拌し
ベンジルエタノールアミンボランを調製した。別に１−
（２−ベンジルオキシエチル）−３−アセチル−４−２
−メンチルオキシカルボニル−２−アゼチジノン１．６
７　Ｆ　（４ｍＭ）　　を乾燥トルエン７．６ｉ１こと
かし、−１０〜−５℃に冷却後、三フフ化ホウ素エーテ
レート０．８４１１（５，８８ｍＭ）を滴下し、同温度
で１時間攪拌し先のベンジルエタノールアミンボラン液
に３０分で滴下後、更に１．５時間攪拌した。次に５％
塩酸２．０−を加えｔこ後、４０℃まで昇温し、更に５
チ塩酸６．５−を加え、１時間攪拌した。酢酸エチル３
０．ｎｌ、氷水１０Ｔｎｌを加えて分液し水層を酢酸エ
チル１５ｒｎｌで再抽出し、有機層を合わせ水洗し芒硝
乾燥、溶媒留去し、１−（２−ベンジルオキシエチル）
−３−（１−ヒドロキシエチル）−４−Ｊ−メンチルオ
キシカルボニル−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲｆｌｌ”　（ＣＩ−１）　：　３４３０　、１７５
０　、１７３５　。

ａｘ １４４５　、１４００　、１，３６０　、１２５０　。

１２００　、１１４０　、１０９０　、１０２０　。

７３０　、６９０ （２）上記（１）で得たβ−ラクタム誘導体はＮＭＲよ
り４種の異性体の混合物でその生成比は４５体／４Ｒ体
＝１．１５、スレオ体／エリスロ体−２，２であった。

この混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、ペンセン−酢酸エチルで溶出してスレオ体トエリス
ロ体を分離した。得られたスレオ体をｎ−ヘキサンより
分別結晶化して（３Ｓ。

４５）−４−Ｊ−メンチルオキシカルボニル１−（２−
ベンジルオキシエチル）−２−アゼチジノンを得た。

ｍ．Ｐ．　　６７　〜６８°Ｃ 実施例２−３ （３’Ｓ，４５）−４−メトキシカルボニル−３−（１
−（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−
２−アゼチジノン２８０ηを乾燥ジメチルホルムアミド
１２−に溶解し、臭化−２−ベンジルオキシエチル７０
０■を加え水冷した。窒素気流下５０％水素化ナトリウ
ム５０ηを加え、１時間攪拌後、酢酸エチル５０ｒｎｔ
１冷水３０ｍｌを加えて分液した。

水層を酢酸エチル３　０　ｔｎｌで再抽出し、有機層を
合わせ、飽和食塩水で洗浄し芒硝乾燥、溶媒留去した。

得られた残渣を薄層クロマトグラフィー（シリカゲル；
ベンゼン−酢酸エチル９：１）で精製しく３Ｓ，４５）
−４−メトキシカルボニル−３−（１−匹１−１−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル）−１−（２−ベンジル
オキシエチル）−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲｆｉｌｒｎ　　（Ｃｍ−１，　　二　１７５５　　
、　　１４３０　　、　　１３９０　　。

ａｘ １３４０　、　１３００　、　！２４０　、　１２００
　。

１０９０　、　１０５０　、　８２０　、　７６０４、
４７（２Ｈ，ｉ） 参考例２−１ （３５，４５）−４−メトキシカルボニル−３−（１−
ＩＲＩ−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１
−（２−ベンジルオキシエチル）−２−アゼチジノン５
６１！！Ｉｉを乾燥テトラヒドロフラン１ｍｌにとかし
、１Ｍ−メチルマグネシウムクロリド−テトラヒドロフ
ラン溶液０．２７−を用いて参考例１−１の方法に準じ
て反応、後処理を行ない（３５，４５）−４−（１−ヒ
ドロキシ−１−メチルエチル）−３−（１−ｆＲｌ−１
−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１−（２−ベ
ンジルオキシエチル）−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲ”１ｍ（０１−１）　：　３４３０　、１７３０　
、１４６０　。

ｚｘ １４００　、１３６０　、１３２０　、１２５０　。

１２００　、１０９０　、１０５０　、８３０　。

７７０　、７３Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＣＩ！、）　：　ｏ、ｏｓ（ａＨ，ｓ）
　、　０．０７（３Ｈ，ｓ）。

０．８６（９Ｈ，ｉ）　、　２．７６（ＩＨ，ａｄ、Ｊ
＝２．３Ｈｚと６．６Ｈ１）　、　３．６６（２Ｈ，ｄ
、Ｊ＝２．３８り 参考例２−２ （３Ｓ、４５）−４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエ
チル）−３−（１−Ｎ−【−ブチルジメチルシリルオキ
シエチル）−１−（２−ベンジルオキシエチル）−２−
７ゼチジノン３０■をエタノール１艷にとかし窒素雰囲
気下に１０％パラジウム−活性炭３０ηを加え、水素置
換後室温で８時間、常圧上水素添加を行なうた。触媒を
戸去し、沖液を濃縮して残渣を薄層クロマトグラフィー
（シリカゲル；クロロホルム−メタノール９：１）チル
ジメチルシリルオキシエチル）−１−（２−ヒドロキシ
エチル）−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲ”１ｍ（Ｃ１１１）　：　１７２０　、１２５０　
、１０５０　。

ｍλＸ ８３０　．７７Ｏ ＮＮ（Ｒａ　（ｃＤｃｌａ　）　：　Ｏ−０７（３Ｈ，
ｓ　）　−０−０，９（３Ｈ−’　）　−０，８８（９
Ｈ，３）　、　１．２２（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．６Ｈｚ）
　、　１，２５（３１（、Ｓ）　、　１．３０（３Ｈ。

り　、　３．６４（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．３８Ｚ）参考例
２−３ （３５，４５）−４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエ
チル）−３−（１−（Ｒ１−１−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）−１−（２−ヒドロキシエチル）−２−
アゼチジノン２４巧を参考例１−３の（１）及び（２）
の方法：こ準じて反応、後処理を行ない、（３Ｓ、４Ｓ
）−４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−３−
（１−（Ｒ）−’−ブチルジメチルオキシエチル）−１
−メトキシカルボニルメチル−２−アゼチジノンを得た
。本島は参考例１−３で得たものとＩＲ、ＮＭＲで一致
した。

実施例２−４ （３５，４５）−４−１！−メンチルオキシカルボニル
−３−（１−（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル）−２−アゼチジノン３４０■、ヨウ化−２−ベ
ンジルオキシエチル８５０■、５０％水素化ナトリウム
４３ηを用い実施例２−３の方法に準じて反応、後処理
を行ない、（３５，４５）−４−／−メンチルオキシカ
ルボニル−３−（１−１１−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）　−１−（２−ベンジルオキシエチル）
−２−７ゼチジノンを得た。

ＩＲ罎ｒｒｘ（ｃｍ−１）　：　１７６０　、１７３０
　、１４５０　。

１４００　、１３６０　、１３００　、１２５０　。

１２１０　、１１００　、１０６０　、８３０　。

７７０　、７３Ｏ ＮＮイｆ（δ　（ＣＤＣｒ３）　　：　　０．０６（３
Ｈ，り　　、　　０．０８（３ＨＩ）。

０．８７（９Ｈ，ｊ）　、　３．０９（ｌＨ，ｔ、Ｊ−
２ｖ３Ｈχ）４．３１（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２．３Ｈり 実施例２−５ （３５，４５）−４−１’−メンチルオキシカルボニル
−３−（１−例）−【−ブチルジメチルシリルオキシエ
チル）−１−（２−ベンジルオキシエチル）−２−アゼ
チジノン３００６Ｆ、５％パラジウム−活性炭３０”１
ｌｆ１い、参考例２−２の方法に準じて反応、後処理を
行ない、（３５，４Ｓ）−４−Ｉ！−メンチルオキシカ
ルボニル−３−（１−ｐｉ−１−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）−１−（２−ヒドロキシエチル）−２−
７ゼチジノンを得た。

ＪＲ”ｍ（ｃｍ−１）　：　３４００　、１７４０　、
１４６０　。

ａｘ １４００　、１３６０　、１２５０　、１２１０　。

１１４０　、１０６０　、８３０　、７７ＯＮＭＲａ　
（ｃＤＣｚ３）　：　０−０８　（３Ｈ，ｓ　）　、　
０−１０　（３Ｈ２’　）　−０，８８（９Ｈ，Ｓ）　
、　３．１３（ＩＨ，ｔ、Ｊゴ２．６Ｈ２）　、　４．
２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．６Ｈｚ）参考例２−４ （３５，４Ｓ）−４−１−メンチルオキシカルボニル−
３−（１−（Ｒ１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエ
チル）−１−（２−ヒドロキシエチル）−２−アゼチジ
ノン１３０■とＩＭ−メチルマグネシウムクロリド−テ
トラヒドロフラン溶液１−を用いてぴ考例１−１の方法
に準じて反応、後処理を行ない、（３Ｓ、４５）−４−
（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−３−（１−匹
）−１−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１−（
２−ヒドロキシエチル）−２−アゼチジノンを得ｔこ。

水晶は参考例２−２で得られたものと　Ｉλ。

ＮＭＲで一致した。

実施例３−１ フルフリルアミン１．８７　／　（１９，２５ｍＭ）　
、グリオキシル酸−ｊ−メンチル１水和物４．０２５、
Ｆ　（１７，５ｍＭ　）、ジケテンＬ７７、Ｆ（２１ｍ
Ｍ）、イミダゾ−／ｌ／　１．２Ｊ’　（１７，５ｍＭ
　）を各々用い実施例２−１の方法に準じて反応、後処
理を行ない１−（２−フリルメチル）−３−アセチル−
４−１−メンチルオキシカルボニル−２−アゼチジノン
を得た。

ＩＲ””（Ｃ１１”）　冒７Ｂ０　、１７３０　、１４
５０　。

ａｘ １３６０　、１２７０　、１２１０　、１０７０　。

１０４０　、１０１０　、９８０　、９５０　、９１０
゜実施例３−２ （１）水素化ホウ素ナトリウム０．３８．Ｆ、三フッ化
ホウ素千−テレート２．１４．Ｆ、ベンジルエタノール
アミン２．１２　、Ｆ及び乾燥テトラヒドロフラン２２
−の各々を用いて得たベンジルエタノールアミンボラン
溶液で実施例２−２の方法に準じて１−（２−フリルメ
チル）−３−アセチル−４−１！−メンチルオキシカル
ボニル−２−アゼチジノン３．０３．Ｆ（８ｍＭ）と三
フッ化ホウ素エーテレート１．６８．Ｆの乾燥トルエン
１５．２−溶液を処理し、１−（２−フリルメチル）−
３−（１−ヒドロキシエチル）−４−１’−メンチルオ
キシカルボニル−２−アゼチジノン２．５９．Ｆを得た
。　収率　８５％ ＩＲＮｕ”１（Ｃ１ｌ　”）　：　３３３０　、１７５
０　、１４５５　。

ａｘ １４０５　、１３７０　、１３１０　、１２８０　。

１２００　、１２２５　、１０６０　、１０３０　。

１０００　、９８０．９５０　、９００　、７３０（２
）上記（１）で得たβ−ラクタム誘導体はＮＭＲより４
種の異性体の混合物でその生成比は４５体／４Ｒ＝１．
２、スレオ体／エリスロ体＝２．５であった。この混合
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベン
ゼン−酢酸エチルで溶出してスレオ体とエリスロ体を分
離した。得られたスレオ体をｎ−ヘキサンより分別形晶
化し、更にその結晶をｎ−ヘキサン−ジエチルエーテル
で再結晶した。（結晶工） 再結晶沖液を濃縮し薄層クロマトグラフィー（シリカゲ
ル）に付して高極性部分をかき取り、再びｎ−ヘキサン
にて結晶化した。（結晶■） 結晶■および結晶■は後述する実施例３−３、参考例３
−３の方法により４−１！−メンチルオキシカルボニル
−３−（１−１−ブチルジメチルシリルオキシエチル）
−１−メトキシカルボニルメチル−２−アゼチジノンに
誘導し、ＮＭＲより構造確認した。　その結果、結晶工
は（３Ｒ，４Ｒ）−４−７−メンチルオキシカルボニル
−３−（１−（Ｓ）−ヒドロキシエチル）−１−（２−
フリルメチル）−２−アゼチジノン（ｍ、Ｐ、　　１１
７〜１１９．５℃〕と結晶■は（３Ｓ　、　４　Ｓ　）
−４−１’−メンチルオキシカルボニル−３−（１−（
Ｒ）−ヒドロキシエチル）−１−（２−フリルメチル）
−２−アゼチジノン［ｍ、Ｐ、　８８〜９０．５℃〕と
判明した。

実施例３−３ ４−１！−メンチルオキシカルボニル−３−（１−ヒド
ロキシエチル）−１−（２−フリルメチル）−２−アゼ
チジノン１１０ｍ９、イミダゾール４５■、【−ブチル
ジメチルクロルシラン６１■を用い、後述する参考例５
−２の方法と同様に反応、後処理を行ない、４−ｌ−メ
ンチルオキシカルボニル−３−（１−ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−１−（２−フリルメチル）−
２−アゼチジノンを得た。

ＩＲ”ｍ（３１）　：　１７６５　、１７３５　、１４
５０　。

ａｘ １３６０　、１２５０　、１２０５　、１１３０　。

１０６０　、１００５　、８３０　、７７０参考例３−
１ ４−１！−メンチルオキシカルボニル−３−（１−ｔ−
ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１−（２−フリ
ルメチル）−２−アゼチジノン４０■、ＩＭ−メチルマ
グネシウムクロリド−テトラヒドロフラン溶液０．２−
を用い参考例１−１に記載の方法と同様に反応、後処理
を行ない４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−
３−（１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−
１−（２−）１ノルメチル）−２−アゼチジノンを得た
。

ＩＲ，”ｍ（ｃｍ　１）　：　３３７０　、１７３０　
、１４６０　。

ａｘ １４１０　、１３７０　、１２８０　、１２５０　。

１２００　、１１４０　、１１３０　、１０６０　。

１００５　、９６０　、９４０　、８３０　、７７５　
。

参考例３−２ ＋１１４−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−３
−（１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１
−（２−フリルメチル）−２−アゼチジノン１０■を塩
化メチレン−メタノール（１：１）２１ｎ７に溶解し参
考例１−２の方法に準じてオゾン分解反応を行ない、ト
リフェニルホスフィン１０ηを加えて後処理して４−（
１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−３−（１−１−
ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１−カルボキシ
メチル−２−アゼチジノンを得た。氷晶は参考例１−３
の（１）で得られたものと薄層クロマトグラフィー上で
一致した。（シリカゲル；クロロホルム−メタノール４
：１） （２）上記（１）で得られたカルボン酸を参考例１−３
の（２）と同様の処理に付し、４−（１−ヒドロキシ−
１−メチルエチル）−３−（１−ｔ−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−１−メトキシカルボニルメチル−
２−アゼチジノンを得た。氷晶は参考例１−３の（２）
で得られたものと薄層クロマトグラフィー及びＩＲで一
致した。ＮＭＲから４種の異性体の混合物であった。

参考例３−３ ４−Ｊ−メンチルオキシカルボニル−３−（１−ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル理に付し、４−ｌ−メ
ンチルオキシカルボニル−３−（１−ｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシエチル）−１−メトキシカルボニルメチ
ル−２−アゼチジノンを得た。

氷晶は後述の参考例６−３で得られたものとＩＲが一致
した。

実施例４−１ アミノアセトアルデヒドジメチルアセタール１．１６Ｊ
’　（１１ｍＭ）、グリオキシル酸−ｌ−メンチル１水
和物２．：ｌ（１０ｍＭ）、ジケテン１．０１　、Ｆ　
（１２ｍＭ）、イミダゾール０．６８　／（１０ｍＭ）
を各々用い、実施例２−１の方法に準じて反応、後処理
を行ない、１−（２゜２−ジメトキシエチル）−３−ア
セチル−４−ｌ−メンチルオキシカルボニル−２−アゼ
チジノン３．（１（８０％）を得た。

ＩＲ””　（Ｑｌ　”）　：　１７７０　、１７２０　
、１４５０　。

ａｘ １３５５　、１２６０　、１２１０　、１１８０　。

１１４５　、１１２５　、１０７５ 実施例４−２ 水素化ホウ素ナトリウム９５ｍ９、三フッ化ホウ素ニー
テレ−）　０．４７　ｍｌ、ベンジルエタノールアミン
５４０　ｍ９及び乾燥テトラヒドロフラン５．５１ｎｌ
の各々を用い、実施例２−２の方法に準じて得られたベ
ンジルエタノールアミンボラン液で、１−（２，２−ジ
メトキシエチル）−３−アセチル−４−１！−メンチル
オキシカルボニル−２−アゼチジノン０．７５．Ｆと三
フッ化ホウ素エーテレート０．３７−の乾燥トルエン３
．８４液を実施例２の方法と同様の処理に付し、１−（
２，２−ジメトキシエチル）−３−（１−ヒドロキシエ
チル）−４−２−メンチルオキシカルボニル−２−アゼ
チジノンを得た。

ＩＲｆｆｌｍ（ｃａ＋　１）　：　３４２０　、１７４
０　、１４４０　。

ａｘ １３６０　．１２０５　．１１２０ 本品はＮＭＲから４種の異性体の混合物であり、その生
成比は後述の参考例４−５により４−１！−メンチルオ
キシカルボニル−３−（１−【−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）−１−メトキシカルボニルメチル−２−
アゼチジノンに誘導して決定した。その結果４５体／４
Ｒ体−１，２、スレオ体／エリスロ体−１，３であった
。

実施例４−３ ４−１−メンチルオキシカルボニル−３−（１−ヒドロ
キシエチル）−１−（２，２−ジメトキシエチル）−２
−アゼチジノン１８６岬とイミダゾール７５Ｐ、ｔ−ブ
チルジメチルクロルシラン１０６ηを用い、後述する参
考例５−２に記載の方法と同様に反応、後処理ヲ行ない
、４−１！−メンチルオキシカルボニル−・３−（１−
１−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１−（２，
２−ジメトキシエチル）−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲ””　（２１）　：　１７６０　、１７３０　、１
４４０　。

ａｘ １３５０　、１２４５　、１２００　、１１２０　。

１０５０　、８２０　、７６５ 実施例４−４ ヨウ素６０Ｉｌｖにヘキサメチルジシラン０．０５−を
加え、５０〜６０℃で１時間攪拌した。

これに４−１！−メンチルオキシカルボニル−３−（１
−ｔ−ブチルジメチルシリ・ルオキシエチル）−１−（
２，２−ジメトキシエチル）−２−アゼチジノン６０１
１ｇの乾燥塩化メチレン（０，５ｍｊ　）溶液を室温で
加え、そのまま１時間攪拌した。反応液を酢酸エチル５
ｒＩＬｌで希釈し、１０％重曹水、水、５チチオ硫酸ナ
トリウム水溶液、次いで食塩水で順次洗浄し硫酸マグネ
シウム乾燥、溶媒留去した。得られた残渣を薄層クロマ
トグラフィー（シリカゲル；ベンゼン−酢酸エチル５：
１）で精製し４−ｌ！−メンチルオキシカルボニル−３
−（１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１
−ホルミルメチル−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲ”ｍ（ａｍ−１）　：　３４００　、１７３５　、
１４４０　。

１ｘ １４００　、１３６０　、１２６０　、１２０５　。

１１７０　、１０３０ 実施例４−５ ４−Ｊ−メンチルオキシカルボニル−３−（１−【−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−１−ホルミルメチ
ル−２−アゼチジノン１５■をイソプロピルアルコール
２−にとかし水０．５．Ｊを加え、水冷した。水素化ホ
ウ素ナトリウム３■を加え、２０分間攪拌し、酢酸エチ
ル１５ｉを加え、次いでＩＮ−塩酸５ｒｎｌを加えて分
液した。有機層を水洗し硫酸マグネシウムで乾燥したの
ち溶媒留去して得られた残渣を薄層クロマトグラフィー
（シリカゲル；ベンゼン−酢酸エチル４：１）で精製し
て４−ｌ！−メンチルオキシカルボニル−３−（１−ｔ
〜ブチルジメチルシリルオキシエチル）−１−（２−ヒ
ドロキシエチル）−２−アゼチジノンを得た。氷晶は実
施例２−５で得られたものと薄層クロマトグラフィー、
及びＩＲで一致した。ＮＭＲでは４種の異性体の混合物
であることが判明した。

参考例５−１ （３５，４Ｓ）−４−カルボキシ−３−（１−匹）−ヒ
ドロキシエチル）−１−ジ（Ｐ−アニリル）メチル−２
−アゼチジノン３４１をメタノール３１０　ｒｒＬｔに
溶解し、次に濃硫酸２．９ｙを加え、６５℃で３時間攪
拌した後、４０℃まで冷却して８俤水酸化ナトリウム水
し、有機層を合わせ水洗、芒硝乾燥後溶媒留去し、（ａ
ｓ、４ｓ）　　４−メトキシカルボニル−３−（１−（
Ｒ１−ヒドロキシエチル）−１−ジ（ｐ−アニリル）メ
チル−２−アゼチジノンを得た。

ｍ、ｐ、　　１０２〜１０４°Ｃ 参考例５−２ （３Ｓ、４５）−１−ジ（Ｐ−アニリル）メチル−３−
（１−Ｒ＋−ヒドロキシエチル）−４〜メトキシカルボ
ニル−２−アゼチジノン１．８．Ｆを乾燥ジメチルホル
ムアミド１８艷に溶解し、イミダゾール０．６７ｊｉ、
次に【−ブチルジメチルクロルシラン０．９３１を加え
、室温で２１時間攪拌した。反応液に冷水１００ｄ１酢
酸エチル１００ｄを加えて分液し、水層を酢酸エチルｉ
ｏｏ　ｍｌで再抽出した。有機層を飽和食塩水でくり返
し洗浄し、芒硝乾燥、溶媒留去した。得られた油状の残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、（３
ｓ　。

４Ｓ）−１−ジ（Ｐ−アニリル）メチル−３−（１−１
ｔＬｌ−１−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−４
−メトキシカルボニル−２−アゼチジノンを得た。

Ｉ　ＲＡノツ（ロー１）　：　１７４０　、１６０５　
、１５８０　。

１５００　．１４５５　．１３７０　．１３００　　。

デ １２４０　．１２０５　．１１７合、１１３５　　。

１０６０　．１０３０　．９３０　．８２０　　。

７７０　．７３Ｏ ＮＭＲδ（ＣＤＣ：／３）　：　０．２２（３Ｈ，１１
）　、　０．２４（３Ｈ。

Ｓ）、１．０３（９Ｈ，ｊ）、１．３４（３Ｈ，ｄ。

Ｊ＝６．３Ｈｚ）　、　３．６７（３Ｈ，Ｓ）　。

３．９５（６Ｈ，ｊ） 参考例５−３ （３５，４５）−１−ジ（Ｐ−アニリル）メチル−３−
（１−１１−１−ブチルジメチルシリルオキシエチル）
−４−メトキシカルボニル−２−アゼチジノン８．２３
　ｌｉをアセトニトリル−水（９：　ｌ　）　２００−
に溶解し、水冷下に硝酸セリウムアンモニウム１９１１
ｒ３回に分けて加え、５℃以下で１時間攪拌した。

酢酸エチル５００ｉ、水５００　ｒｎｌを加えて分液し
た。水層を酢酸エチル２５０　、ｎｌで再抽出し、有機
層を合わせ、水、１０チ重曹水、飽和食塩水で順次洗浄
し、芒硝乾燥、溶媒留去し、残渣をメタノール３０−に
溶解し、水冷下に攪拌した。生じた結晶を戸別し、炉液
を減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに
て精製し、（３５，４５）−３−（１−ｆＲ）−【−ブ
チルジメチルシリルオキシエチル）−４−メトキシカル
ボニル−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲ””　（Ｑｌ−”）　：　１７７０　、１７４０　
、１２４０　。

ａｘ １２０５　、１１３０　、１０５０　、９６０　。

８２０　、７６５ ＮＭＲδ（ＣＤＣ！！３）　：　０．８３（３Ｈ，ｌ）
　、　０．８９（３Ｈ。

Ｓ）　、　０．８８（９Ｈ，ｊ）　、　１．２５（３Ｈ
，ｄ。

Ｊ＝６．３８Ｚ）　、　３．８３（３Ｈ，ｓ）参考例６
−１ （３５，４５）−１−ジ（Ｐ−アニリル）メチル−３−
（１−（Ｒ１−ヒドロキシエチル）−４−１−メンチル
オキシカルボニル−２−アゼチジノン（特開昭６０−３
２７６５号公報に記載’）　１１．８　／、イミダゾー
ル３，３５　ｊ；！および【−ブチルジメチルクロルシ
ラン４．６５　／を用い、参考例５−２に記載の方法と
同様の処理により、（３Ｓ、４５）−１−ジ（ｐ−アニ
リル）メチル−３−（１−ト）−１−ブチルジメチルシ
リルオキシエチル）−４−１！−メンチルオキシカルボ
ニル−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲｎｅ”　　（Ｃ１１−１）　　：　　１７６０　　
、　１７３５（ｌｈ）　　、　　１６１０　　。

里ｎａｘ １５１０　、１４６０　、１３００　、１２５０　。

１１７５　、１１４０　、１０３０　、８２５　、７７
ＯＮＭ’Ｂ−ａ　（ＣＤｃｌｚ）　：　０．０９（６Ｈ
，ｓ、）　、　０−６６（３Ｈ１ｄ−Ｊ＝８．９ｔＩｚ
）　、　１．１８（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．３Ｈ１）　。

３．１０（ＩＨ，ｍ）、３．７８（ＯＨ，ｌ）。

４．０１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．６Ｈｚ）。

４．２５（ＩＨ，ｍ）。

４．６２（ＩＨ，ｄｔ　、　Ｊ＝４．３Ｈｚと１０．９
Ｈｚ）５．８１（ＩＨ，り 参考例６−２ （３Ｓ　、　４　Ｓ　）−４１−ｊ　メチルオキシカル
ボニル−３−（１−（Ｒ）−ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシエチル）−１−ジ（ｐ−アニリル）メチル−２−
アゼチジノン６．７ｇをアセトニトリル−水（９：１）
２４０ｍＺに溶解し、水冷上硝酸セリウムアンモニウム
１７．２６Ｉを加え、３０分間攪拌した。酢酸エチル５
００ｒｒｌ１１水５００　ｍｌを加えて分液し、水層を
酢酸エチル２５０−で再抽出後、有機層を合わせ、水、
５％重曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、芒硝乾燥。溶媒
留去して得た残渣をメタノール３０−に溶解し、攪拌下
に水冷した。生じた結晶を戸別し、沖液を濃縮して、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、（３ｓ。

４５）−４−／−メンチルオキシカルボニル−３−（１
−（Ｒ１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエチル）−
２−アゼチジノンを得た。

ＮＭＲδ（”’／３）　：　０−７７（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝
６．９Ｈｚ）　。

１．２４（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．３Ｈ１）　。

３．２１（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝１．７と２．６Ｈ２）。

４．２６（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２．８Ｈｚ）　。

４．７７（ＩＨ，ｄＬ　、Ｊ＝４．８とＩ　ＩＨｚ　）
　。

５．９５（ｌＨ，ｂｒｏａｄｓ　） 参考例６−３ （３Ｓ、４Ｓ）−４−１−メンチルオキシカルボニル−
３−（１−（Ｒ１−ｔ−ブチルジメチルシリルオキシエ
チル）−２−アゼチジノン２１０■を塩化メチレン５−
にとかし、ブロム酢酸メチル１６０η、５０％水酸化ナ
トリウム水溶液８０■を加え、最後にベンジントリエチ
ルアンモニウムクロライド６０〜を加、を室温で３０分
間攪拌し、反応液を酢酸エチルで希釈後、希塩酸、水で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、残渣をｖ４層シリ
カゲルクロマｔ−１ｃでｌｌ製シ、（３５，４５）−４
−ｇ−メンチルオキシカルボニル−３−（１−（Ｒ１−
（−ブチルジメチルシリルオキシエチル）＝１−メトキ
シカルボニルメチル−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲｎｅ”　（ｃｍ−１）　：　１７７０　、１７５０
　、１４５０　。

ａｘ １４００　、１３６０　、１２５０　、１２１０　。

１１３５　、１０６５　、９８５　、８３０　、７７Ｏ
ＮＭＲδ（ＣＤＣｌ！３）　　：　０−７６（３Ｈ，ｄ
、Ｊ＝５．９Ｈｚ）　。

１．２６（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．３８Ｚ）　、　３．１８
（ＩＨ，ｍ）。

３．７３（３［■、Ｓ）。

４．１１（２Ｈ，Ａ、Ｂｑ、Ｊ＝１７．８Ｈｚ）。

４．２６（ＩＨ，ｍ）　　　、　　４．５０（１夏（、
ｄ、Ｊ＝２．３Ｈｚ）　。

４．７７（ＩＨ，ｄＬ　、Ｊ＝４．３とＩＱ、９１（ｚ
）参考例７−１ ｉ（ＯＺＯ （３Ｓ、４５）−４−メトキシカルボニル−３−（１−
匹）−ヒドロキシエチル）−１−ジ（ｐ−アニリル）メ
チル−２−アゼチジノン２０．７　ｊ！と４−ジメチル
アミノピリジン１２．６６１を乾燥塩化メチレン５１９
　、、Ｌｔ溶液とし、水冷下に塩化ベンジルオキシカル
ボニル１５．９２　、Ｆを滴下した。２０〜３０°Ｃで
一夜放置後、反応液をクロロホルムと水で希釈した。

分液した後、水層を更にクロロホルムで抽出した。有機
層を合わせ、水（２回）及び塩水で洗浄し、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。

溶媒を減圧留去した残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー精製して（３Ｓ、４５）−４−メトキシカルボニル−
３−（１−（Ｒ）−ベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル）−１−ジ（ｐ−アニリル）メチル−２−アゼチジ
ノンを得た。

■Ｒ””　（０１”）　：　１７７０（ｓｈｏｕｌｄｅ
ｒ）　、　１７５０　。

ａｘ １６１５　、１５１０　、１３８０　、１１７８　。

１１４０　、１０２５　、８２５　、７５５ＮＭＲδ（
ＣＤＣＪ３）　：　１．４１（３Ｈ，ｄ、Ｊ＝６．４Ｈ
ｚ）　。

３．３２（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝２．３と５．ＱＨｚ）　。

３．４９（３）（、Ｓ）　、　３．６９（３Ｈ，り　。

３．７４（３Ｈ，Ｓ）　、　４．１３（１１−Ｉ、ｄ、
Ｊ＝２．４Ｈｚ）　、　５．１９（２Ｈ，ｓ）　、　５
．３５（ＩＨ。

’）　、　７．３９（５Ｈ，ｓ） 参考例７−２ （３５，４５）−４−メトキシカルボニル−３−（１−
（Ｒ１−ベンジルオキシカルボニルオキシエチル）−１
−ジ（ｐ−アニリル）メチル−２−アゼチジノン２４．
４３　ｇと硝酸セリウムアンモニウム６２．８４　、Ｆ
を用い、参考例５−３に記載の方法と同様に反応、後処
理を行ない（３５，４３）−４−メトキシカルボニル−
３−（１−（Ｒ１−ベンジルオキシカルボニルオキシエ
チル）−２−アゼチジノンを得た。

ＩＲｎｅ”　　（Ｑｘ　”）　：　３３２５　、１７８
０（ｓｈｏｕｌｄｅｒ）　。

ａｘ １４４５　、１３８０　、１１３５　、１０３８　。

７８２　、６９Ｏ ＮＭＲδ（ｃＤＣｌ　３）　：ｌ　、　４５　（３Ｈ、
ｄ　、　Ｊ＝５　、４）１ｚ　）。

３．４３（ＩＨ，ｍ）　　、　３，７３（３Ｈ，Ｉ）　
　。

４．２８（１夏−１，ｄ、Ｊ＝２．５Ｈｚ）　　　、　
　　５．１８（２ｔｌ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１は２位が置換または無置換のビニル基、
   水酸基が保護または無保護のヒ ドロキシメチル基、保護あるいは無保護の ホルミル基、アリール基または式▲数式、化学式、表等
   があります▼ （式中、Ｘは酸素原子、硫黄原子またはイ ミノ基を示す。）で表わされる置換基を示 し、Ｒ＿２は水素原子またはカルボキシル基の保護基を
   示し、Ｒ＿３は水素原子または水酸基の保護基を示す。 〕 で表わされるβ−ラクタム化合物。