JPS61258746A - Silicone coated base body - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、剥離特性、殊にその剥離速度に対応させるべ
（剥離特性のコントロールを可能としたシリコーンコー
ティング基体に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a silicone coated substrate whose release properties, particularly its release rate, can be controlled.

従来の技術及び問題点 薄葉基材の少な（とも片面にシリコーン系離形皮膜が設
けられた例えば粘着テープ用の剥離紙、あるいはセパレ
ータなどのシリコーンコーティング基体の用途の多様化
、あるいは要求性能の精密化などに伴って、従来の単層
コーテイング物では充分にその用途、要求性能に対応で
きないという問題が発生している。粘着テープを高速度
で巻戻す際に剥離紙の背面側に粘着剤層が残存する現象
やテープ基材と剥離紙との間で剥がれたりする現象など
がその例である。Conventional technology and problems: Few thin substrates (for example, release paper for adhesive tapes with a silicone release film on one side, separators, etc.), diversification of uses, or precision of required performance. As the technology advances, the problem has arisen that conventional single-layer coatings cannot adequately meet the applications and performance requirements. Examples include the phenomenon that the tape remains or the peeling between the tape base material and the release paper.

上記の問題に対処するため、軽剥離乃至重剥離あるいは
、剥離速度に対応した剥離特性を付与すべ（剥離力のコ
ントロール化を可能とするために、シリコーン系離形処
理剤の組成の観点より研究がなされているが、未だ満足
できるものは提案されるに至っていない。すなわち、そ
れらのシリコーンコーティング皮膜はその架橋密度が高
い場合、低速剥離領域で重剥離、高速剥離領域で軽剥離
の傾向にあり、架橋密度が低い場合にはその傾向が逆転
する。そのため、剥離速度に応じた剥離力を設計通りに
発現せしめることができなかったり、表裏の両面にコー
ティング処理を施したセパレータのその表裏における剥
離力に有意な差を付与することができなかったりして満
足できる状態には至っていない。In order to deal with the above problems, it is necessary to provide release characteristics that correspond to light release, heavy release, or release speed. However, no satisfactory solution has yet been proposed.In other words, when these silicone coatings have a high crosslinking density, they tend to have heavy peeling in the low-speed peeling region and light peeling in the high-speed peeling region. When the crosslinking density is low, this tendency is reversed.As a result, it may not be possible to develop the peeling force according to the peeling speed as designed, or the separator may not peel on the front and back sides of a separator that has been coated on both sides. A satisfactory state has not been reached as it has not been possible to impart a significant difference in force.

問題点を解決するための手段 本発明者は、上記の問題を克服し、剥離力のコントロー
ル化が可能でかつ容易にそれを行いつるシリコーンコー
ティング基体を開発するために鋭意研究を重ねた結果、
シリコーンコーティング皮膜をその架橋密度が異なる状
態に積層することにより該目的を達成しうろことを見出
し、本発明をなすに至った。Means for Solving the Problems The present inventor has conducted intensive research to overcome the above problems and to develop a silicone coated substrate that allows control of peeling force and does so easily.
It was discovered that the object could be achieved by laminating silicone coating films with different crosslinking densities, and the present invention was completed.

すなわち、本発明は薄葉基材の少な（とも片面に架橋密
度が異なる２層以上の積重層からなるシリコーン系離形
皮膜を有するシリコーンコーティング基体を提供するも
のである。That is, the present invention provides a silicone-coated substrate having a silicone-based release film consisting of two or more laminated layers having different crosslinking densities on one side with a small amount of thin substrate.

本発明においてｍいられる薄葉基材としては、紙、プラ
スチック、金属箔等の単層物、積層物などからなり厚さ
が通常０．０１〜ｌｎｗａのものをその代表例としてあ
げることができる。Typical examples of the thin substrate used in the present invention include those made of paper, plastic, single-layer materials such as metal foils, laminates, etc., and having a thickness of usually 0.01 to 100 nm.

また、シリコーン系離形皮膜を形成するためのシリコー
ン系離形処理剤としては、市販のポリジメチルシロキサ
ン系離形処理剤などで代表されるシリコーン系硬化皮膜
形成性のものをあげることができる。もちろん、プラス
チック、ゴム等の剥離力調整剤や充填剤などの添加剤を
含有するものであってもよい。Further, examples of the silicone mold release treatment agent for forming a silicone mold release film include those capable of forming a cured silicone film, such as commercially available polydimethylsiloxane mold release treatment agents. Of course, it may contain additives such as a release force regulator for plastics, rubber, etc., and fillers.

本発明のシリコーンコーティング基体は、薄葉基材の片
面あるいは表裏の両面に、シリコーン系離形皮膜からな
り、各層の架橋密度が異なる２層又は３層以上の複数層
からなる一重層を有するものである。シリコーン系離形
皮膜における各層の厚さは、０．０５〜１００μｍ１積
重層全体としては０．１〜１５０ｕｎ＋が一般であるが
これに限定するものでない。The silicone coated substrate of the present invention has a single layer consisting of a silicone release film on one side or both the front and back sides of the thin substrate, and each layer is composed of two or more layers with different crosslinking densities. be. The thickness of each layer in the silicone release film is generally 0.05 to 100 μm and 0.1 to 150 μm for one stacked layer as a whole, but is not limited to this.

本発明におけるシリコーン系離形皮膜においては、積重
層における薄葉基材側の層の架橋密度を低いものとし、
表面側の層の架橋密度を高いものとすることにより低速
領域から高速領域まで軽く低い〉剥離力の状態のものと
することができ、反対に薄葉基材側の層の架橋密度を高
いものとし、表面側の層の架橋密度を低いものとするこ
とにより低速領域から高速領域まで重（高い）剥離力の
状態のものとすることができる。このようにシリコーン
系離形皮膜を架橋密度が異なる状態に積層化することに
よりその剥離力の剥離速度依存性が緩和される理由につ
いて、本発明者は次のように考えている。すなわち、低
速剥離領域においてはシリコーン系離形皮膜とその上に
設けられた接着剤ないし粘着剤等との界面における相互
作用が剥離特性ないし剥離力を左右し、高速剥離領域で
はシリコーン系離形皮膜の架橋密度と密接に関係する弾
性率が剥離特性ないし剥離力を左右することとなる結果
、上記した積重層における各層の架橋密度の組み合わせ
、すなわち各層のシリコーン系離形皮膜の弾性率の組み
合わせとすることによりかかる結果を生じさせうるもの
と考える。In the silicone release film of the present invention, the layer on the thin base material side in the stacked layers has a low crosslinking density,
By increasing the crosslinking density of the layer on the surface side, it is possible to achieve a state of light and low peeling force from the low speed range to the high speed range, and conversely, by increasing the crosslinking density of the layer on the thin substrate side, By lowering the crosslinking density of the surface layer, it is possible to achieve a heavy (high) peeling force from a low speed range to a high speed range. The reason why the dependence of the peeling force on the peeling rate is alleviated by laminating silicone release films with different crosslinking densities as described above is considered by the present inventors as follows. In other words, in the low-speed peeling range, the interaction at the interface between the silicone-based release film and the adhesive or pressure-sensitive adhesive provided thereon determines the release properties or peeling force, whereas in the high-speed peeling range, the silicone-based release film As a result, the elastic modulus, which is closely related to the crosslinking density of We believe that such a result can be caused by doing so.

本発明において２層の積重層でシリコーン系硬化皮膜を
形成する場合、その架橋密度の組み合わせは軽剥離タイ
プのもので、薄葉基材側の層の架橋密度を２０　Ｘ　１
０　　（社）Ｉ／ｇ以下とし、表面側の層の架橋密度を
０．Ｉ　Ｘ　１０　　ｍｏｌ／ｇ以上とし、なおかつ表
面側の層の架橋密度が薄葉基材側の層のそれよりも高い
もの、なかんづく５倍以上高いものとすることが適当で
ある。他方、重剥離タイプのものでは薄葉基材側の層の
架橋密度をｏ、１ｘｉｏ−５（２）ｌ／ｇ以上とし、表
面側の層の架橋密度を２０ＸｌＯ−５ｍｏｌ／ｇ以下と
し、なおかつ薄葉基材側の層の架橋密度を表面側の層の
それよりも高いもの、なかんづく５倍以上高いものとす
ることが適当である。In the present invention, when forming a silicone-based cured film with two laminated layers, the combination of crosslinking densities is a light peel type, and the crosslinking density of the layer on the thin substrate side is 20 x 1.
0 I/g or less, and the crosslinking density of the surface layer is 0. I x 10 mol/g or more, and the crosslinking density of the layer on the surface side is preferably higher than that of the layer on the thin base material side, especially at least 5 times higher. On the other hand, in the heavy release type, the crosslinking density of the layer on the thin sheet substrate side is 0,1xio-5 (2) l/g or more, the crosslinking density of the surface side layer is no more than 20XlO-5 mol/g, and It is appropriate that the crosslinking density of the layer on the substrate side is higher than that of the layer on the surface side, especially at least 5 times higher.

発明の効果 本発明によれば２層以上の積重層からなり、かつ、各層
の架橋密度が異なるシリコーン系離形皮膜としたので、
剥離特性のコントロール化、殊に剥離速度に対応させる
ための剥離特性のコントロール化が可能となり、剥離特
性ないし剥離力の剥離速度依存性が緩和されたシリコー
ンコーティング基体とすることができ、低速領域から高
速領域にわたって軽剥離性ないし貫刺離性を示す該コー
ティング基体を得ることができる。Effects of the Invention According to the present invention, the silicone release film is composed of two or more stacked layers and each layer has a different crosslinking density.
It is possible to control the peeling properties, especially to match the peeling speed, and it is possible to create a silicone coated substrate whose peeling properties or peeling force are less dependent on the peeling rate. The coated substrate can be obtained which exhibits light releasability or puncture resistance over a high speed range.

実施例 実施例１ ７０ｇ／ｄ　の晒しクラフト紙の両面に厚さ２１μｓの
ポリエチレンフィルムをラミネートして得た薄葉基材の
片面に架橋密度が５　Ｘ　１Ｏ−５１１ｏｌ／ｇで厚さ
が１μｍのポリジメチルシロキサン系離形処理剤の硬化
皮膜を設け、さらにその上に架橋密度が０．０６１１ｏ
ｌ／ｇで厚さが０．１μｍのポリジメチルシロキサン系
離形処理剤の硬化皮膜を積層して剥離紙を得た。Examples Example 1 One side of a thin base material obtained by laminating a 21 μs thick polyethylene film on both sides of a 70 g/d bleached kraft paper with a crosslinking density of 5×1O-511 ol/g and a 1 μm thick polyethylene film. A cured film of dimethylsiloxane-based mold release agent is provided, and a crosslinking density of 0.0611o is further applied on top of the cured film.
A release paper was obtained by laminating a cured film of a polydimethylsiloxane release agent having a thickness of 0.1 μm in l/g.

次に、この剥離紙の該シリコーン系硬化皮膜上にアクリ
ル系粘着剤を乾燥後の厚さが５０１となるように塗布し
て乾燥させ、その上に厚さ２５ｕｓのポリエステルフィ
ルムをラミネートし、得られたシートより５０ｍ幅のテ
ープを切り出してこれにつき、２０℃、６５％Ｒ，Ｈの
恒温恒湿雰囲気下に該ポリエステルフィルムの１８０度
剥離をその剥離速度を変えて行って、その剥離抵抗値を
調べた。結果を第１表に示した。Next, an acrylic adhesive was applied onto the cured silicone film of the release paper so that the thickness after drying was 501, and dried, and a polyester film with a thickness of 25 us was laminated thereon. A tape with a width of 50 m was cut out from the sheet, and the polyester film was peeled 180 degrees under a constant temperature and humidity atmosphere of 20°C and 65% R and H by changing the peeling speed, and the peeling resistance value was determined. I looked into it. The results are shown in Table 1.

比較例１ 架橋密度が０．０６　ｍｏｌ／ｇで厚さが１．ｌｕｉの
ポリジメチルシロキサン系離形処理剤（同前）の硬化皮
膜を単層で設けたほがは実施例１に準じてシートを得、
これより切り出したテープについてその剥離抵抗値を調
べた。結果を第１表に示した。Comparative Example 1 Crosslinking density was 0.06 mol/g and thickness was 1. A sheet with a single layer of cured film of LUI's polydimethylsiloxane mold release agent (same as above) was obtained according to Example 1,
The tape cut out from this was examined for its peel resistance value. The results are shown in Table 1.

実施例２ 架橋密度が０．０８　Ｘ　１０−５ｍｏｌ／　ｇのシリ
コーン系硬化皮膜の上に架橋密度が９５　Ｘ　１０−’
ｍｏｌ　／　ｇのシリコ　　　　ゞ・−ン系硬化皮膜を
積層したほがは実施例１に準じてシートを得、これより
切り出したテープについてその剥離抵抗値を調べた。結
果を第２表に示した。Example 2 A silicone-based cured film with a crosslink density of 0.08 x 10-5 mol/g was coated with a crosslink density of 95 x 10-'
A hardwood sheet laminated with a silicone-based cured film of mol/g was obtained in accordance with Example 1, and tapes cut from the sheet were examined for peel resistance. The results are shown in Table 2.

比較例２ 架橋密度が０．０８　ｘｉｏ−５ｍｏｌ／ｇで厚さが０
．５ｕｎ＋のポリジメチルシロキサン系離形処理剤（同
前〉の硬化皮膜を単層で設けたほかは実施例２に準じて
シートを得、これより切り出したテープについてその剥
離抵抗値を調べた。結果を第２表に示した。Comparative Example 2 Crosslink density is 0.08 xio-5 mol/g and thickness is 0
．． A sheet was obtained according to Example 2 except that a single layer of the cured film of 5un+ polydimethylsiloxane mold release agent (same as above) was provided, and the peel resistance value of the tape cut from this was examined.Results are shown in Table 2.

第１表、第２表より実施例における剥離力の剥離速度依
存性が大きく緩和されていることがわかる。It can be seen from Tables 1 and 2 that the dependence of the peeling force on the peeling rate in the Examples is greatly relaxed.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １、薄葉基材の少なくとも片面に架橋密度が異なる２層
以上の積重層からなるシリコーン系離形皮膜を有するシ
リコーンコーティング基体。 ２、積重層における薄葉基材側の層の架橋密度が２０×
１０＾−＾５ｍｏｌ／ｇ以下であり、表面側の層の架橋
密度が０．１×１０＾−＾５ｍｏｌ／ｇ以上である特許
請求の範囲第１項記載の基体。 ３、積重層における薄葉基材側の層の架橋密度が０．１
×１０＾−＾５ｍｏｌ／ｇ以上であり、表面側の層の架
橋密度が２０×１０＾−＾５ｍｏｌ／ｇ以下である特許
請求の範囲第１項記載の基体。[Scope of Claims] 1. A silicone coated substrate having a silicone release film consisting of two or more laminated layers having different crosslinking densities on at least one side of a thin substrate. 2. The crosslinking density of the layer on the thin leaf base material side in the stacked layer is 20×
10^-^5 mol/g or less, and the crosslinking density of the surface layer is 0.1 x 10^-^5 mol/g or more. 3. The crosslink density of the layer on the thin base material side in the stacked layer is 0.1
The substrate according to claim 1, wherein the crosslinking density of the layer on the surface side is 20×10^-^5 mol/g or less.