JP2022035313A - Release film and laminate - Google Patents

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Abstract

To provide a release film capable of suppressing a generation of repelling of a coating liquid when laminating an adherend on a release film and a transference of a release agent component to the adherend, and also having excellent peeling property, and to provide a laminate in which the release film is attached to the adherend.SOLUTION: There is provided a release film comprising a film substrate, and a release layer supported on at least one main surface of the film substrate, in which the release layer contains a copolymer composed of a mixture of a release agent (A) and a (meth)acrylic-based compound (B) obtained by a (meth)acrylic-based monomer and/or a (meth)acrylic-based oligomer, a solid content ratio of the release agent (A) is 3 mass% to 22 mass% based on a total of the release agent (A) and the (meth)acrylic-based compound (B), and a thickness of the release layer is 0.008 μm to 22 μm.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、剥離フィルムおよび積層体に関する。 The present invention relates to a release film and a laminate.

従来、フィルム基材の少なくとも一方の表面に剥離層を設けた剥離フィルムは、セラミックグリーンシートなどの製造工程用フィルム、粘着ラベル、粘着テープ、粘着フィルムなどの粘着層保護フィルム、液晶偏光板、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの粘着付き光学表示構成部材のセパレータフィルム、貼付型外用薬など医療用フィルムのセパレータフィルムなどとして、広く使用されている。これら剥離フィルムの剥離層は、シリコーン樹脂等のシリコーン化合物の硬化塗膜であることが多い。 Conventionally, a release film having a release layer provided on at least one surface of a film substrate has been used as a film for manufacturing processes such as a ceramic green sheet, an adhesive label, an adhesive tape, an adhesive layer protective film such as an adhesive film, a liquid crystal polarizing plate, and a plasma. It is widely used as a separator film for adhesive optical display components such as display panels (PDPs) and organic electroluminescence (EL), and as a separator film for medical films such as patch-type external medicines. The release layer of these release films is often a cured coating film of a silicone compound such as a silicone resin.

特開平１１－３００８９７号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-300897 特開平９－１５６０６０号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-156060

シリコーン化合物を剥離剤として用いた剥離フィルムでは、剥離層中の低分子量シリコーン樹脂、シロキサン、シリコーンオイル等のシリコーン化合物が、剥離フィルムが貼着している被着体の貼着面に移行することがある。 In a release film using a silicone compound as a release agent, the silicone compound such as low molecular weight silicone resin, siloxane, or silicone oil in the release layer is transferred to the adhered surface of the adherend to which the release film is attached. There is.

剥離フィルムが貼着している被着体（以下、「第１の被着体」又は単に「被着体」という。）の貼着面に移行したシリコーン化合物は、第１の被着体の機能を阻害したり、更には剥離フィルムが剥離された第１の被着体が貼着される被着体（以下、「第２の被着体」という。）の機能をも阻害することがある。例えば、剥離フィルムが剥離された液晶偏光板（第１の被着体）が、液晶ディスプレイ付き電子機器の液晶ディスプレイ（第２の被着体）に貼着された場合、剥離フィルムから第１の被着体に移行したシリコーン化合物が徐々に気化することがある。気化したシリコーン化合物は、例えば電子機器の電気接点部付近で発生するアーク等により、電気接点部の表面等に堆積し微小なシリコーン化合物層となって、電子機器に導電不良等を発生させることがある。 The silicone compound transferred to the adhered surface of the adherend to which the release film is adhered (hereinafter, referred to as “first adherend” or simply “adherent body”) is the first adherend. It may inhibit the function of the adherend to which the first adherend from which the release film has been peeled off (hereinafter referred to as "second adherend") is also inhibited. be. For example, when the liquid crystal polarizing plate (first adherend) from which the release film has been peeled off is attached to the liquid crystal display (second adherend) of an electronic device with a liquid crystal display, the first from the release film. The silicone compound transferred to the adherend may gradually vaporize. The vaporized silicone compound may be deposited on the surface of the electric contact portion or the like due to an arc generated near the electric contact portion of the electronic device to form a minute silicone compound layer, which may cause electrical defects in the electronic device. be.

また、剥離フィルムは、製造後ロール状に巻き取られるが、このとき、剥離フィルムの裏面と剥離層とが接触し、剥離層中のシリコーン化合物が、剥離フィルムの裏面にも移行することがある。剥離フィルムの裏面に移行したシリコーン化合物もまた上記のような問題を生じさせることがある。 Further, the release film is wound into a roll after production. At this time, the back surface of the release film and the release layer may come into contact with each other, and the silicone compound in the release layer may be transferred to the back surface of the release film. .. The silicone compound transferred to the back surface of the release film may also cause the above-mentioned problems.

また、剥離層にシリコーン系化合物を用いた剥離フィルムは、セラミックスラリーや接着樹脂に対する濡れ性が低く、これらを剥離層上に塗工する際にはじきを生じることがある。このため被着体の材料によっては使用できる剥離性フィルムが制限されたり、被着体の材料に応じたシリコーン樹脂を選定する必要がある。 Further, the release film using the silicone-based compound for the release layer has low wettability to the ceramic slurry and the adhesive resin, and may cause repelling when these are applied on the release layer. Therefore, the peelable film that can be used is limited depending on the material of the adherend, and it is necessary to select a silicone resin according to the material of the adherend.

本発明は、剥離フィルムへ被着体を積層する際の塗布液のはじきの発生、および、被着体への剥離剤成分の移行を抑制することができ、且つ、剥離性にも優れた剥離フィルムを提供することを目的とする。また、本発明は、上記剥離フィルムが被着体に貼着されてなる積層体を提供することを目的とする。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can suppress the generation of repelling of the coating liquid when laminating the adherend on the release film and the transfer of the release agent component to the adherend, and also has excellent peelability. The purpose is to provide a film. Another object of the present invention is to provide a laminated body in which the release film is attached to an adherend.

本発明の第１側面によると、フィルム基材と、上記フィルム基材の少なくとも一方の主面に支持された剥離層とを備えた剥離フィルムであって、上記剥離層が剥離剤（Ａ）と、（メタ）アクリル系モノマー及び／又は（メタ）アクリル系オリゴマーからなる（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）との混合物からなる共重合体を含み、上記剥離剤（Ａ）の固形分比が、上記剥離剤（Ａ）と上記（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）の合計に対し３質量％～２２質量％であり、上記剥離層の厚みが０．００８μｍ～２２μｍである剥離フィルムが提供される。 According to the first aspect of the present invention, the release film includes a film substrate and a release layer supported on at least one main surface of the film substrate, wherein the release layer is a release agent (A). , A copolymer composed of a mixture of a (meth) acrylic compound (B) composed of a (meth) acrylic monomer and / or a (meth) acrylic oligomer, and the solid content ratio of the release agent (A). Provided is a release film having a total of the release agent (A) and the (meth) acrylic compound (B) of 3% by mass to 22% by mass and a thickness of the release layer of 0.008 μm to 22 μm. ..

本発明の第２側面によると、上記剥離フィルムと、上記剥離フィルム上に上記剥離層を介して剥離可能に積層された基体とを備えた積層体が提供される。 According to the second aspect of the present invention, there is provided a laminate comprising the release film and a substrate releasably laminated on the release film via the release layer.

本発明により、剥離フィルムへ被着体を積層する際の塗布液のはじきの発生、および、被着体への剥離剤成分の移行を抑制することができ、且つ、剥離性にも優れた剥離フィルムを提供することが可能となる。また、本発明により、上記剥離フィルムが被着体に貼着されてなる積層体を提供することが可能となる。 According to the present invention, it is possible to suppress the generation of repelling of the coating liquid when laminating the adherend on the release film and the transfer of the release agent component to the adherend, and the peeling property is also excellent. It becomes possible to provide a film. Further, according to the present invention, it is possible to provide a laminated body in which the release film is attached to an adherend.

図１は、本発明の第１実施形態に係る剥離フィルムの一例を概略的に示す部分断面図である。FIG. 1 is a partial cross-sectional view schematically showing an example of a release film according to the first embodiment of the present invention. 図２は、本発明の第１実施形態に係る剥離フィルムの他の例を概略的に示す部分断面図である。FIG. 2 is a partial cross-sectional view schematically showing another example of the release film according to the first embodiment of the present invention. 図３は、本発明の第２実施形態に係る積層体の一例を概略的に示す部分断面図である。FIG. 3 is a partial cross-sectional view schematically showing an example of a laminated body according to a second embodiment of the present invention.

以下に、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施形態は、上記側面の何れかをより具体化したものである。なお、同様又は類似した機能を有する要素については、同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The embodiments described below are more specific of any of the above aspects. Elements having similar or similar functions are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.

［第１実施形態］
図１は、本発明の第１実施形態に係る剥離フィルムの一例を概略的に示す部分断面図である。図１に示す剥離フィルム１は、フィルム基材１１と、フィルム基材１１の一方の主面（以下、「第１主面」という。）に支持された剥離層１２とを備える。 [First Embodiment]
FIG. 1 is a partial cross-sectional view schematically showing an example of a release film according to the first embodiment of the present invention. The release film 1 shown in FIG. 1 includes a film base material 11 and a release layer 12 supported on one main surface of the film base material 11 (hereinafter, referred to as “first main surface”).

剥離フィルム１は、フィルム基材１１の第１主面側の最表層に剥離層１２を備えていればよく、後述する図２に示す剥離フィルム１のように、フィルム基材１１と剥離層１２との間に他の層を含んでいてもよい。
また、剥離フィルム１は、フィルム基材１１の第１主面側と、第１主面の裏面である第２主面側各々の最表層として、剥離層１２を備えていてもよい。 The release film 1 may be provided with the release layer 12 on the outermost surface layer on the first main surface side of the film substrate 11, and the film substrate 11 and the release layer 12 may be provided as the release film 1 shown in FIG. 2 to be described later. Other layers may be included between and.
Further, the release film 1 may include a release layer 12 as the outermost surface layer of each of the first main surface side of the film base material 11 and the second main surface side which is the back surface of the first main surface.

（フィルム基材）
本実施形態において、フィルム基材１１としては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）フィルム等のポリオレフィン系フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステル系フィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、セロファンフィルム等のセルロース系フィルム、６－ナイロン、６，６－ナイロン等のポリアミド系フィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム等の（メタ）アクリル系フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリイミドフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリカーボネートフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム等の有機高分子からなるものを好適に用いることができる。 (Film base material)
In the present embodiment, the film base material 11 includes a polyolefin film such as a polyethylene film, a polypropylene film, and a stretched polypropylene (OPP) film, a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyester film such as a polyethylene naphthalate film, and triacetyl cellulose. Cellular films such as films, diacetyl cellulose films and cellophane films, polyamide films such as 6-nylon and 6,6-nylon, (meth) acrylic films such as polymethylmethacrylate films, polystyrene films, polyvinyl chloride films, etc. A film made of an organic polymer such as a polyimide film, a polyvinyl alcohol film, a polycarbonate film, and an ethylene vinyl alcohol film can be preferably used.

フィルム基材１１は、単層構造に限られず、積層構造であっても構わない。また、フィルム基材１１は、必要に応じて酸化防止剤、染料、顔料などの各種添加剤を含有することができる。 The film base material 11 is not limited to a single-layer structure, and may have a laminated structure. Further, the film base material 11 can contain various additives such as antioxidants, dyes and pigments, if necessary.

フィルム基材１１の厚みは、特に限定されるものではないが、例えば、１μｍ～２５０μｍであってよく、２５μｍ～１００μｍであってよい。 The thickness of the film substrate 11 is not particularly limited, but may be, for example, 1 μm to 250 μm, or 25 μm to 100 μm.

（剥離層）
剥離層１２は、本実施形態に係る剥離フィルムに剥離性を付与する機能を有する。剥離層１２は、以下に説明する剥離剤（Ａ）と（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）との混合物からなる共重合体を含む剥離層形成用組成物の硬化物からなる。 (Release layer)
The release layer 12 has a function of imparting releaseability to the release film according to the present embodiment. The release layer 12 is made of a cured product of a composition for forming a release layer containing a copolymer composed of a mixture of the release agent (A) and the (meth) acrylic compound (B) described below.

剥離層１２は、剥離剤（Ａ）とアクリル系モノマー及び／又はアクリル系オリゴマーからなるアクリル系化合物（Ｂ）との混合物からなる共重合体を含む。剥離剤（Ａ）を高分子量化することにより、剥離剤成分の被着体への移行をある程度抑制することは可能であるが十分ではなく、また、剥離剤（Ａ）の単一成分では剥離性及び濡れ性の双方に優れた剥離層を得ることは困難であることが、本発明者らにより明らかとなった。そして、本発明者らによる更なる鋭意研究の結果、剥離剤（Ａ）と（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）を混合して得られる共重合体において、その２成分の混合比を特定範囲に調整し、且つ剥離層１２の膜厚を特定範囲に調整することにより、剥離剤成分の被着体への移行を抑制しつつ、剥離性及び濡れ性にも優れた剥離層が得られることが見出された。 The release layer 12 contains a copolymer composed of a mixture of the release agent (A) and the acrylic compound (B) composed of an acrylic monomer and / or an acrylic oligomer. By increasing the molecular weight of the release agent (A), it is possible to suppress the transfer of the release agent component to the adherend to some extent, but it is not sufficient, and the single component of the release agent (A) is used for peeling. It has been clarified by the present inventors that it is difficult to obtain a peeling layer excellent in both property and wettability. Then, as a result of further diligent research by the present inventors, in the copolymer obtained by mixing the release agent (A) and the (meth) acrylic compound (B), the mixing ratio of the two components is set within a specific range. By adjusting and adjusting the film thickness of the release layer 12 to a specific range, it is possible to obtain a release layer having excellent peelability and wettability while suppressing the transfer of the release agent component to the adherend. Found.

すなわち、剥離層１２は、剥離剤（Ａ）と（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）を、剥離剤（Ａ）の固形分比が、剥離剤（Ａ）と（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）の合計に対し３質量％～２２質量％を満たす配合比で含有する。剥離剤（Ａ）の配合比が３質量％以上であることは、剥離フィルム１へ被着体を積層する際の塗布液のはじきの発生を抑制する観点から重要であり、２２質量％以下であることは、剥離性を好適な状態にし、被着体を剥離する際に被着体の一部が残る剥ぎ残りが発生することを抑制する観点から重要である。本発明の一形態において、剥離剤（Ａ）と（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）の配合比は、剥離剤（Ａ）の固形分比が、剥離剤（Ａ）と（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）の合計に対し５質量％～２０質量％であることがより好ましい。 That is, the release layer 12 has the release agent (A) and the (meth) acrylic compound (B), and the solid content ratio of the release agent (A) is the release agent (A) and the (meth) acrylic compound (B). It is contained in a compounding ratio satisfying 3% by mass to 22% by mass with respect to the total of. It is important that the compounding ratio of the release agent (A) is 3% by mass or more from the viewpoint of suppressing the generation of repelling of the coating liquid when laminating the adherend on the release film 1, and it is 22% by mass or less. It is important from the viewpoint of making the peelability into a suitable state and suppressing the occurrence of a peeling residue in which a part of the adherend remains when the adherend is peeled off. In one embodiment of the present invention, the compounding ratio of the release agent (A) and the (meth) acrylic compound (B) is such that the solid content ratio of the release agent (A) is the same as that of the release agent (A) and the (meth) acrylic compound. It is more preferably 5% by mass to 20% by mass with respect to the total of (B).

また、剥離層１２は、膜厚が０．００８μｍ～２２μｍである。剥離層１２の膜厚が０．００８μｍ以上であることは、被着体を剥離する際の剥ぎ残りを抑制する観点から重要であり、膜厚が２２μｍ以下であることは、剥離層１２が形成される際に硬化収縮により剥離層１２にクラック等が発生することを防止する観点から重要である。本発明の一形態において、剥離層１２の膜厚は、０．０１μｍ～２０μｍであることがより好ましく、０．１μｍ～５μｍであることが更に好ましい。 The release layer 12 has a film thickness of 0.008 μm to 22 μm. It is important that the film thickness of the release layer 12 is 0.008 μm or more from the viewpoint of suppressing the peeling residue when the adherend is peeled off, and that the film thickness is 22 μm or less is that the release layer 12 is formed. It is important from the viewpoint of preventing cracks and the like from being generated in the release layer 12 due to curing shrinkage. In one embodiment of the present invention, the film thickness of the release layer 12 is more preferably 0.01 μm to 20 μm, further preferably 0.1 μm to 5 μm.

本実施形態において、剥離層１２の濡れ張力は、２２．６乃至２５．４ｍＮ／ｍであることが望ましい。濡れ張力が２２．６ｍＮ／ｍ未満の場合、剥離フィルム１へ被着体を積層する際に、塗布液のはじきが発生する場合がある。また、濡れ張力が２５．４ｍＮ/ｍを超えると、剥離性が不十分となり、剥ぎ残りが発生する場合がある。ここで濡れ張力とは、後述する実施例に記載の方法により測定されるものである。 In the present embodiment, the wetting tension of the release layer 12 is preferably 22.6 to 25.4 mN / m. When the wetting tension is less than 22.6 mN / m, the coating liquid may be repelled when the adherend is laminated on the release film 1. Further, if the wetting tension exceeds 25.4 mN / m, the peelability becomes insufficient and peeling residue may occur. Here, the wetting tension is measured by the method described in Examples described later.

剥離剤（Ａ）としては、シリコーン系樹脂を好適に用いることができる。本実施形態に係る剥離フィルム１は、被着体を積層する際の樹脂やセラミックスラリーの塗布液のはじき抑制能に優れるため、広範囲のシリコーン系樹脂を使用することができる。例えば、剥離剤（Ａ）として、付加硬化型、ＵＶ硬化型などの硬化反応タイプの剥離フィルム用シリコーンコート材を用いることができる。具体的には東レ・ダウコーニング（株）製 ＳＲＸ２１１、ＬＴＣ７５０Ａ、ＬＴＣ７６０Ａ、ＢＹ２４－５１０、信越化学（株）製 ＫＳ３６０１、ＫＳ８８２、ＫＳ７７４、ＫＳ８４７、ＫＳ５５０８、Ｘ－６２－２８２５、モメンティブパフォーマンスマテリアルズ製 ＴＰＲ６７００、ＴＰＲ６７０２、ＴＰＲ６７１０、ＴＰＲ６７２１、ＴＰＲ６５００、荒川化学工業（株）製 ＵＶ―ＰＯＬＹ２００，ＵＶ－ＰＯＬＹ２０１などを用いることができ、これらは限定されるものではない。 As the release agent (A), a silicone-based resin can be preferably used. As the release film 1 according to the present embodiment, a wide range of silicone-based resins can be used because it is excellent in the ability to suppress the repelling of the resin or the coating liquid of the ceramic slurry when laminating the adherend. For example, as the release agent (A), a curing reaction type silicone coating material for a release film such as an addition curing type and a UV curing type can be used. Specifically, SRX211, LTC750A, LTC760A, BY24-510 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., KS3601, KS882, KS774, KS847, KS5508, X-62-2825, TPR6700 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. , TPR6702, TPR6710, TPR6721, TPR6500, UV-POLY200, UV-POLY201 manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., and the like can be used, and these are not limited.

また、剥離剤（Ａ）としては、フッ素系材料を用いることもできる。フッ素系材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、ＡＧＣセイミケミカル（株）ＭＲ Ｆ－６８１１－ＡＬ、ダイキン工業（株）ＭＳ－１７５、ＧＦ－７００、ＧＦ－７５０、ＭＳ－６００などを用いることができる。 Further, as the release agent (A), a fluorine-based material can also be used. The fluorine-based material is not particularly limited, and for example, AGC Seimi Chemical Co., Ltd. MR F-6811-AL, Daikin Industries, Ltd. MS-175, GF-700, GF-750, MS-600, etc. Can be used.

また、剥離剤（Ａ）にあっては、硬化タイプにあわせて、各種硬化触媒や光開始剤が用いられ、適宜添加される。例えば、剥離剤として剥離フィルム用シリコーンコート材を用いる場合には、東レ・ダウコーニング（株）製ＳＲＸ２１２、ＮＣ－２５、ＢＹ２４－８３５など、信越化学（株）製 ＰＬ－５０Ｔなど、モメンティブパフォーマンスマテリアルズ社製 ＣＭ６７０、ＵＶ９３８０、荒川化学工業（株）製ＵＶ―ＣＡＴＡ２１１などを硬化触媒、光開始剤として用いることができる。 Further, in the release agent (A), various curing catalysts and photoinitiators are used according to the curing type, and are appropriately added. For example, when a silicone coating material for a release film is used as a release agent, a momentive performance material such as SRX212, NC-25, BY24-835 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., PL-50T manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., etc. CM670, UV9380 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., UV-CATA211 manufactured by Arakawa Chemical Industry Co., Ltd., etc. can be used as a curing catalyst and a photoinitiator.

次に、剥離剤（Ａ）と混合する（メタ）アクリル系モノマー及び／又は（メタ）アクリル系オリゴマーからなる（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）について説明する。ここで、（メタ）アクリル系モノマーとは、メタクリル系モノマーとアクリル系モノマーの両方を含む概念であり、（メタ）アクリル系オリゴマーとは、メタクリル系オリゴマーとアクリル系オリゴマーの両方を含む概念である。 Next, the (meth) acrylic compound (B) composed of the (meth) acrylic monomer and / or the (meth) acrylic oligomer to be mixed with the release agent (A) will be described. Here, the (meth) acrylic monomer is a concept including both a methacrylic monomer and an acrylic monomer, and the (meth) acrylic oligomer is a concept including both a methacrylic oligomer and an acrylic oligomer. ..

（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）としては、反応性官能基を有する（メタ）アクリル系モノマー及び／又は（メタ）アクリル系オリゴマーを好適に用いることができる。このような（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）が剥離剤（Ａ）と、上記特定比率を満たす範囲で混合され共重合体となることにより、本実施形態に係る剥離フィルム１に剥離可能に積層される樹脂層やセラミック層に対する濡れ性や剥離性を好適な状態に制御することができる。例えば軽剥離性が要求される用途では、反応性官能基を有する（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）の割合を、上記特定比率を満たす範囲内で少なくすることで、剥離フィルムを軽剥離化することができる。 As the (meth) acrylic compound (B), a (meth) acrylic monomer and / or a (meth) acrylic oligomer having a reactive functional group can be preferably used. Such a (meth) acrylic compound (B) is mixed with the release agent (A) within a range satisfying the above-mentioned specific ratio to form a copolymer, whereby the (meth) acrylic compound (B) is releasably laminated on the release film 1 according to the present embodiment. It is possible to control the wettability and peelability of the resin layer and the ceramic layer to be formed in a suitable state. For example, in applications where light peelability is required, the release film can be lightly peeled off by reducing the proportion of the (meth) acrylic compound (B) having a reactive functional group within the range satisfying the above specific ratio. be able to.

上記した反応性官能基を含有する（メタ）アクリル系モノマーとしては、例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の水酸基含有（メタ）アクリレート；１，４－ジ（メタ）アクリロキシエチルピロメリット酸、４－（メタ）アクリロキシエチルトリメリット酸、２－（メタ）アクリロイルオキシ安息香酸等のカルボキシル基含有（メタ）アクリレート；アミノエチル（メタ）アクリレート、エチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アミノプロピル（メタ）アクリレート、エチルアミノプロピル（メタ）アクリレート等の第１級～第２級アミノ基含有（メタ）アクリレート；２－（メチルチオ）エチルメタクリレート等のチオール基含有（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル；Ｎ－（メタ）アクリロイル－ｐ－アミノ安息香酸、Ｎ－（メタ）アクリロイル－５－アミノサリチル酸、アクリル酸、メタクリル酸等のアクリルモノマーが挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the (meth) acrylic monomer containing the above-mentioned reactive functional group include hydroxyl group-containing (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate; , 4-Di (meth) acryloxyethyl pyromellitic acid, 4- (meth) acryloxyethyl trimellitic acid, 2- (meth) acryloyloxybenzoic acid and other carboxyl group-containing (meth) acrylates; aminoethyl (meth) Primary to secondary amino group-containing (meth) acrylates such as acrylates, ethylaminoethyl (meth) acrylates, aminopropyl (meth) acrylates, ethylaminopropyl (meth) acrylates; 2- (methylthio) ethyl methacrylates and the like. (Meta) acrylic acid esters such as thiol group-containing (meth) acrylates; acrylic monomers such as N- (meth) acryloyl-p-aminobenzoic acid, N- (meth) acryloyl-5-aminosalicylic acid, acrylic acid, and methacrylic acid. Can be mentioned. These may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.

（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）は、一形態において、エポキシ基を含まないことが好ましい。（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）がエポキシ基を含有する場合、剥離フィルム上に積層される被着体との剥離力が強くなり、好適な剥離性が得られない場合がある。このため高度の剥離性を求める場合にはエポキシ基を含まない（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）であることが好ましい。 The (meth) acrylic compound (B) preferably does not contain an epoxy group in one form. When the (meth) acrylic compound (B) contains an epoxy group, the peeling force from the adherend laminated on the peeling film becomes strong, and suitable peeling property may not be obtained. Therefore, when a high degree of peelability is required, the epoxy group-free (meth) acrylic compound (B) is preferable.

（メタ）アクリル系オリゴマーは、上記（メタ）アクリル系モノマーのホモポリマーであってもよく、コポリマーであってもよい。（メタ）アクリル系オリゴマーの質量平均分子量は特に限定されるものではないが、例えば、ＧＰＣ（Ｇｅｌ Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ）による質量平均分子量が１００ｇ／ｍｏｌ～１０００ｇ／ｍｏｌであることが好ましい。 The (meth) acrylic oligomer may be a homopolymer of the above (meth) acrylic monomer or a copolymer. The mass average molecular weight of the (meth) acrylic oligomer is not particularly limited, but for example, the mass average molecular weight by GPC (Gel Permeation Chromatography) is preferably 100 g / mol to 1000 g / mol.

剥離層形成用組成物は、剥離剤（Ａ）及び（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）に加え、必要に応じて溶媒を含有する。溶媒を加えることにより、剥離層１２の塗布液の塗工性を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ－ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ－ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ－ペンチル、およびγ－プチロラクトン等のエステル類の中から塗工性等を考慮して適宜選択される。 The composition for forming a release layer contains a solvent in addition to the release agent (A) and the (meth) acrylic compound (B), if necessary. By adding a solvent, the coatability of the coating liquid of the release layer 12 can be improved. The solvent includes aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxy ethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane and trioxane. , Tetras such as tetrahydrofuran, anisole and phenetol, and ketones such as methylisobutylketone, methylbutylketone, acetone, methylethylketone, diethylketone, dipropylketone, diisobutylketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone. Considering the coatability, etc. from among the esters such as ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, n-pentyl acetate, and γ-petitrolactone. Is selected as appropriate.

また、剥離層形成用組成物には、添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。 Further, as an additive, a surface adjusting agent, a leveling agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improving agent, a photosensitizer and the like can be added to the composition for forming a release layer.

また、剥離層形成用組成物は、フィルム基材１１との屈折率調整のために、硬化膜の屈折率を調整するための添加剤を更に含有していてもよい。すなわち、上記剥離層形成用組成物の硬化膜の屈折率は、通常、汎用のプラスチック基材に比べ低い屈折率であるが、フィルム基材１１との屈折率調整のために、低屈折率剤としてのフッ化マグネシウム微粒子や多孔質シリカ微粒子、高屈折率剤としてアルミナ微粒子や酸化チタン微粒子などを更に含有してもよい。 Further, the composition for forming a release layer may further contain an additive for adjusting the refractive index of the cured film in order to adjust the refractive index with the film substrate 11. That is, the refractive index of the cured film of the composition for forming a release layer is usually lower than that of a general-purpose plastic base material, but a low refractive index agent is used to adjust the refractive index with the film base material 11. Magnesium fluoride fine particles and porous silica fine particles may be further contained, and alumina fine particles and titanium oxide fine particles may be further contained as a high refractive index agent.

剥離層１２は、一形態において、剥離層形成用組成物をフィルム基材１１上に塗布し、硬化することにより形成される。 The release layer 12 is formed by applying the release layer forming composition on the film base material 11 and curing the release layer 12 in one form.

塗布工程では、剥離層形成用組成物は、湿式成膜法によりフィルム基材１１上に塗布されることが好ましい。剥離層形成用組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター等を用いることができる。
必要に応じて、塗布工程後に溶媒を除去するための乾燥工程が設けられる。
硬化工程として、電離放射線照射工程、又は加熱工程が設けられる。 In the coating step, the composition for forming a release layer is preferably applied onto the film substrate 11 by a wet film forming method. As a method for applying the composition for forming a release layer, for example, a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a microgravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, a dip coater and the like can be used.
If necessary, a drying step is provided to remove the solvent after the coating step.
As the curing step, an ionizing radiation irradiation step or a heating step is provided.

図２は、本発明の第１実施形態に係る剥離フィルムの他の例を概略的に示す部分断面図である。図２に示される剥離フィルム１は、フィルム基材１１と、フィルム基材１１の第１主面に支持されたアンカー層１３と剥離層１２をこの順序で備える。 FIG. 2 is a partial cross-sectional view schematically showing another example of the release film according to the first embodiment of the present invention. The release film 1 shown in FIG. 2 includes a film base material 11, an anchor layer 13 supported on the first main surface of the film base material 11, and a release layer 12 in this order.

アンカー層１３は、フィルム基材１１と剥離層１２の間にアンカー層１３を含むこと以外は、図１に示される剥離フィルム１と同じである。アンカー層１３は、層間の密着性を向上させる機能を有する。 The anchor layer 13 is the same as the release film 1 shown in FIG. 1 except that the anchor layer 13 is included between the film base material 11 and the release layer 12. The anchor layer 13 has a function of improving the adhesion between layers.

アンカー層１３を形成する材料としては、例えば、エポキシ系、ポリエステルウレタン系、アクリルウレタン系、シランカップリング剤系、チタンキレート系などプラスチックフィルムのプライマーとして用いられているものを適宜選択できる。具体例としては大日精化工業社製のセイカダインＰＥＴプライマー、大日本インキ製のＧ５８８グロス、東洋モートン社製のＢＬＳ－ＰＣ５０、東洋紡社製のバイロンＵＲ１３５０ ＵＲ３２００などのポリエステル系やアクリル系などの樹脂等が挙げられる。これらを単独で用いてもよいし、あるいはイソシアネート硬化剤と組み合わせたものを用いてもよい。またシランカップリング剤の例として東レダウコーニング社製ＢＹ－２４６、チタンキレート系の例としては松本製薬社製ＴＣ１００などを用いることができる。 As the material for forming the anchor layer 13, for example, an epoxy-based, polyester-urethane-based, acrylic-urethane-based, silane coupling agent-based, titanium chelate-based, or other material used as a primer for a plastic film can be appropriately selected. Specific examples include Seikadain PET primer manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd., G588 gloss manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., BLS-PC50 manufactured by Toyobo Co., Ltd., and polyester-based and acrylic-based resins such as Byron UR1350 UR3200 manufactured by Toyobo Co., Ltd. Can be mentioned. These may be used alone or in combination with an isocyanate curing agent. Further, BY-246 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. can be used as an example of the silane coupling agent, and TC100 manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd. can be used as an example of the titanium chelate system.

アンカー層１３は、一形態において、アンカー層形成用組成物をフィルム基材１１上に塗布し、硬化することにより形成される。 The anchor layer 13 is formed by applying the composition for forming an anchor layer on the film base material 11 and curing the composition in one form.

塗布工程では、アンカー層形成用組成物は、湿式成膜法によりフィルム基材１１上に塗布されることが好ましい。アンカー層形成用組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター等を用いることができる。
必要に応じて、塗布工程後に溶媒を除去するための乾燥工程が設けられる。
硬化工程として、電離放射線照射工程、又は加熱工程が設けられる。 In the coating step, the composition for forming the anchor layer is preferably coated on the film substrate 11 by a wet film forming method. As a method for applying the composition for forming the anchor layer, for example, a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a microgravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, a dip coater and the like can be used.
If necessary, a drying step is provided to remove the solvent after the coating step.
As the curing step, an ionizing radiation irradiation step or a heating step is provided.

［第２実施形態］
図３は、本発明の第２実施形態に係る積層体の一例を概略的に示す部分断面図である。図３に示される積層体２は、フィルム基材１１と、フィルム基材１１の第１主面に支持された剥離層１２からなる剥離フィルム１上に、基体１４が剥離層１２を介して剥離可能に積層されている。基体１４は、本実施形態に係る剥離フィルムが貼着／保護する被着体であり、例えば、粘着ラベル、粘着テープ、粘着フィルムなどの粘着シートや、表面に粘着層を有する液晶偏光板、ＰＤＰ、有機ＥＬなどの表示部材や、貼付型外用薬など医療用シートや、セラミックグリーンシート等を挙げることができる。 [Second Embodiment]
FIG. 3 is a partial cross-sectional view schematically showing an example of a laminated body according to a second embodiment of the present invention. In the laminate 2 shown in FIG. 3, the substrate 14 is peeled off via the release layer 12 on the release film 1 composed of the film base material 11 and the release layer 12 supported on the first main surface of the film base material 11. It is possible to stack. The substrate 14 is an adherend to which the release film according to the present embodiment is attached / protected. For example, an adhesive sheet such as an adhesive label, an adhesive tape, or an adhesive film, a liquid crystal display plate having an adhesive layer on the surface, or a PDP. , Display members such as organic EL, medical sheets such as adhesive adhesives, ceramic green sheets and the like can be mentioned.

図３に示される積層体２において、被着体を表す基体１４は単層構造であるが、基体１４は積層構造であってもよい。基体１４（基体１４が積層構造である場合は、剥離層１２と接する層）は、例えば、樹脂層又はセラミック層である。基体１４を構成し得る材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）樹脂、アクリロニトリルスチレン（ＡＳ）樹脂、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、カルボキシメチルセルロース、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、エチレン酢酸ビニル共重合体、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、フッ素樹脂、銅、アルミニウム、ＳＵＳ等が挙げられる。 In the laminated body 2 shown in FIG. 3, the substrate 14 representing the adherend has a single-layer structure, but the substrate 14 may have a laminated structure. The substrate 14 (when the substrate 14 has a laminated structure, the layer in contact with the release layer 12) is, for example, a resin layer or a ceramic layer. The material that can form the substrate 14 is not particularly limited, and for example, acrylonitrile butadiene styrene (ABS) resin, acrylonitrile styrene (AS) resin, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, carboxymethyl cellulose, acrylic resin, and epoxy. Examples thereof include resins, urethane resins, ethylene vinyl acetate copolymers, melamine resins, polyamide resins, polyimide resins, vinyl chloride resins, polyvinyl alcohol resins, fluororesins, copper, aluminum and SUS.

基体１４（基体１４が積層構造である場合は、剥離層１２と接する層）は、ウレタン結合を有する樹脂を含まないことが好ましい。ウレタン結合を有する樹脂が含まれる場合、剥離力が高くなる傾向にあるため、高度の剥離性を求める場合には、ウレタン結合を有する樹脂は使用しないことが好ましい。 The substrate 14 (when the substrate 14 has a laminated structure, the layer in contact with the release layer 12) preferably does not contain a resin having a urethane bond. When a resin having a urethane bond is contained, the peeling force tends to be high. Therefore, when a high degree of peeling property is required, it is preferable not to use the resin having a urethane bond.

基体１４は、一形態において、基体形成用組成物を剥離層１２上に塗布し、硬化することにより形成される。 The substrate 14 is formed by applying a substrate-forming composition on the release layer 12 and curing the substrate 14 in one form.

塗布工程では、基体形成用組成物は、湿式成膜法により剥離層１２上に塗布されることが好ましい。基体形成用組成物の塗布方法としては、例えば、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーター等を用いることができる。
必要に応じて、塗布工程後に溶媒を除去するための乾燥工程が設けられる。
硬化工程として、電離放射線照射工程、又は加熱工程が設けられる。 In the coating step, the composition for forming a substrate is preferably coated on the release layer 12 by a wet film forming method. As a method for applying the composition for forming a substrate, for example, a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a microgravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, a dip coater and the like can be used.
If necessary, a drying step is provided to remove the solvent after the coating step.
As the curing step, an ionizing radiation irradiation step or a heating step is provided.

本実施形態に係る剥離フィルム１は、樹脂やセラミックスラリーの塗布液に対するはじきの抑制能に優れるため、基体１４の材料に制限されることなく剥離フィルムとして使用することができる。 Since the release film 1 according to the present embodiment has an excellent ability to suppress repelling of the resin or ceramic slurry to the coating liquid, it can be used as a release film without being limited by the material of the substrate 14.

以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
＜実施例１＞
［剥離層形成用組成物（塗液）の調製］
・化合物（Ａ）：ＫＳ－３６０１（シリコーンコート材／信越化学社製）
・化合物（Ｂ）：ＰＥ－３Ａ（ペンタエリスリトールトリアクリレート／共栄社化学社製）
・硬化剤：ナイパー（登録商標）－ＢＭＴ－Ｋ４０（有機過酸化物／日油社製）
・溶剤：トルエン／メチルエチルケトン（ＭＥＫ）＝５０／５０（質量比）
上記化合物（Ａ）と化合物（Ｂ）の混合物（固形分質量比：（Ａ）／［（Ａ）＋（Ｂ）］＝５／１００）の全質量に対し、固形分比で上記硬化剤を１０質量％添加し、上記溶剤で希釈することにより、剥離層形成用組成物（固形分濃度４０質量％）を得た。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples.
<Example 1>
[Preparation of composition (coating liquid) for forming a release layer]
-Compound (A): KS-3601 (silicone coating material / manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
-Compound (B): PE-3A (pentaerythritol triacrylate / manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
-Curing agent: Niper (registered trademark) -BMT-K40 (organic peroxide / manufactured by NOF CORPORATION)
-Solvent: Toluene / Methyl ethyl ketone (MEK) = 50/50 (mass ratio)
The curing agent is added in terms of solid content ratio to the total mass of the mixture of the compound (A) and the compound (B) (solid content mass ratio: (A) / [(A) + (B)] = 5/100). By adding 10% by mass and diluting with the above solvent, a composition for forming a release layer (solid content concentration 40% by mass) was obtained.

［基体形成用組成物（塗液）の調製］
・アクリルモノマー：ＢＰ－４ＰＡ（ビスフェノールＡのＰＯ付加物ジアクリレート／共栄社化学社製）
・光開始剤：Ｓｐｅｅｄｃｕｒｅ８４（ＤＫＳＨジャパン社製）
上記アクリルモノマーに対し、光開始剤を固形分比で５質量％添加することにより、基体形成用組成物を得た。 [Preparation of composition (coating liquid) for forming a substrate]
-Acrylic monomer: BP-4PA (PO adduct diacrylate of bisphenol A / manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
-Light initiator: Speedcure84 (manufactured by DKSH Japan)
A composition for forming a substrate was obtained by adding 5% by mass of a photoinitiator to the acrylic monomer in terms of solid content ratio.

［剥離フィルムの製造］
フィルム基材として厚さ７５μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｔ６０）を用いた。上記で得た剥離層形成用組成物（塗液）をバーコーターによりフィルム基材上に塗布し、１４０℃で１分間乾燥し硬化させることにより、膜厚０．０１μｍの剥離層を有する剥離フィルムを製造した。 [Manufacturing of release film]
A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (T60 manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 75 μm was used as the film substrate. The release layer forming composition (coating liquid) obtained above is applied onto a film substrate by a bar coater, dried at 140 ° C. for 1 minute and cured to form a release film having a release layer having a film thickness of 0.01 μm. Manufactured.

［積層体の製造］
上記剥離フィルムを形成した後、上記で得た基体形成用組成物（塗液）を、膜厚５０μｍとなるようアプリケーターで剥離層上に塗布し、高圧水銀ランプにて５００ｍＪ／ｃｍ２を照射し硬化することにより、剥離フィルム上に基体が積層された積層体を製造した。 [Manufacturing of laminated body]
After forming the release film, the substrate-forming composition (coating solution) obtained above is applied onto the release layer with an applicator so as to have a film thickness of 50 μm, and irradiated with 500 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. By curing, a laminated body in which a substrate was laminated on a release film was produced.

＜実施例２～４、比較例１～８＞
実施例１に対し、上記剥離剤（Ａ）と（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）の混合比、又は、剥離層の厚みを後掲の表１に記載のとおりに変更した以外は、実施例１と同様の方法で各積層体を製造した。 <Examples 2 to 4, Comparative Examples 1 to 8>
Example except that the mixing ratio of the release agent (A) and the (meth) acrylic compound (B) or the thickness of the release layer was changed as shown in Table 1 below with respect to Example 1. Each laminated body was manufactured by the same method as in 1.

＜実施例５乃至６、比較例９乃至１０＞
実施例５、６、比較例９および１０は、化合物（Ｂ）をＵＡ－３０６Ｈ（ウレタンアクリレートモノマー／共栄社化学社製）に変更した以外は、それぞれ実施例１、３、比較例１および３と同様の方法で製造した積層体である。 <Examples 5 to 6, Comparative Examples 9 to 10>
Examples 5 and 6 and Comparative Examples 9 and 10 are the same as Examples 1 and 3, Comparative Examples 1 and 3, respectively, except that the compound (B) was changed to UA-306H (urethane acrylate monomer / manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). It is a laminate manufactured by the same method.

＜実施例７乃至８、比較例１１乃至１２＞
実施例７、８、比較例１１および１２は、化合物（Ａ）をＫＳ－８８２（シリコーンコート材／信越化学社製）に変更した以外は、それぞれ実施例１、３、比較例１および３と同様の方法で製造した積層体である。 <Examples 7 to 8, Comparative Examples 11 to 12>
Examples 7 and 8 and Comparative Examples 11 and 12 are the same as Examples 1 and 3, Comparative Examples 1 and 3, respectively, except that the compound (A) was changed to KS-882 (silicone coating material / manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). It is a laminate manufactured by the same method.

＜実施例９乃至１０、比較例１３乃至１４＞
実施例９、１０、比較例１３および１４は、化合物（Ａ）をＫＳ－８８２（シリコーンコート材／信越化学社製）に変更し、化合物（Ｂ）をＵＡ－３０６Ｈ（ウレタンアクリレートモノマー／共栄社化学社製）に変更した以外は、それぞれ実施例１、３、比較例１および３と同様の方法で製造した積層体である。 <Examples 9 to 10, Comparative Examples 13 to 14>
In Examples 9 and 10, Comparative Examples 13 and 14 changed the compound (A) to KS-882 (silicone coating material / manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and changed the compound (B) to UA-306H (urethane acrylate monomer / Kyoeisha Chemical Co., Ltd.). It is a laminate manufactured by the same method as in Examples 1 and 3, Comparative Examples 1 and 3, respectively, except that it is changed to (manufactured by the company).

＜実施例１１＞
実施例１に対し、化合物（Ｂ）をＵＡ－３０６Ｈ（ウレタンアクリレートモノマー／共栄社化学社製）に変更し、基体形成用組成物で使用したアクリルモノマー（ＢＰ－４ＰＡ）を下記アクリルモノマーの混合物に変更した以外は、実施例１と同様の方法で実施例１１の積層体を製造した。
・アクリルモノマーの混合物
ＢＰ－４ＰＡ（ビスフェノールＡのＰＯ付加物ジアクリレート／共栄社化学社製）とＵＡ－３０６Ｈ（ウレタンアクリレートモノマー／共栄社化学社製）の７０／３０（質量比）混合物。 <Example 11>
For Example 1, the compound (B) was changed to UA-306H (urethane acrylate monomer / manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), and the acrylic monomer (BP-4PA) used in the substrate forming composition was used as a mixture of the following acrylic monomers. The laminate of Example 11 was produced in the same manner as in Example 1 except that it was changed.
-Mixture of acrylic monomer A 70/30 (mass ratio) mixture of BP-4PA (PO adduct diacrylate of bisphenol A / manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and UA-306H (urethane acrylate monomer / manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).

＜評価方法＞
［濡れ張力］
各剥離フィルムについて、ＪＩＳ Ｋ ６７６８に準じ、濡れ試薬（関東化学社製）を用いて剥離層の濡れ張力を測定した。 <Evaluation method>
[Wet tension]
For each release film, the wetting tension of the release layer was measured using a wetting reagent (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) according to JIS K 6768.

［剥離層の膜厚］
剥離層の膜厚をＦ２０－ＵＶ（フィルメトリクス社製）を用い測定した。 [Film thickness of release layer]
The film thickness of the release layer was measured using F20-UV (manufactured by Filmometrics).

［濡れ性］
各剥離フィルムの剥離層上に基体形成用組成物を７５ｍｍ幅のアプリケーターにて塗布し、塗膜を形成した。次いで、塗膜を（１６０℃）で（３０分間）乾燥した。乾燥による塗膜の端部の収縮が７５ｍｍ幅に対し１０％未満だった場合を「Ａ」、１０％以上だった場合を「Ｂ」とした。 [Wetability]
The composition for forming a substrate was applied on the release layer of each release film with an applicator having a width of 75 mm to form a coating film. The coating was then dried at (160 ° C.) (30 minutes). The case where the shrinkage of the edge of the coating film due to drying was less than 10% with respect to the width of 75 mm was designated as "A", and the case where the shrinkage was 10% or more was designated as "B".

［剥離性］
各積層体に対し、剥離層へ積層した基体（樹脂層）の剥離強度を、以下の方法で測定し、下記基準に基づき剥離性を評価した。すなわち、オートグラフ（ＡＧＳ－Ｘ、島津製作所社製）を用いて剥離基材と基体（樹脂層）の剥離強度を測定した。測定条件はサンプル幅２５ｍｍ、剥離速度５０ｍｍ／ｍｉｎ、１８０°剥離、ロードセル１００Ｎとした。
以下に上記剥離強度の評価基準を示す。
Ａ：０．２Ｎ／２５ｍｍ未満
Ｂ：０．２乃至０．４Ｎ／２５ｍｍ未満
Ｃ：０．４Ｎ／２５ｍｍ以上 [Removability]
For each laminated body, the peel strength of the substrate (resin layer) laminated on the peeling layer was measured by the following method, and the peelability was evaluated based on the following criteria. That is, the peel strength between the peeling substrate and the substrate (resin layer) was measured using an autograph (AGS-X, manufactured by Shimadzu Corporation). The measurement conditions were a sample width of 25 mm, a peeling speed of 50 mm / min, 180 ° peeling, and a load cell of 100N.
The evaluation criteria for the peel strength are shown below.
A: Less than 0.2N / 25mm B: 0.2 to less than 0.4N / 25mm C: 0.4N / 25mm or more

評価「Ａ」については、生産を想定した場合、問題なく剥離可能な領域となる。評価「Ｂ」については、剥離工程でジッピング等につながる恐れのある領域であり、剥離角度や速度等の制約が出てくる。評価「Ｃ」については、剥ぎ残りが発生してしまい、回避困難な領域となる。 The evaluation "A" is a region that can be peeled off without any problem when production is assumed. The evaluation "B" is a region that may lead to zipping or the like in the peeling process, and there are restrictions on the peeling angle, speed, and the like. The evaluation "C" is an area that is difficult to avoid due to the occurrence of unpeeled residue.

［剥離層に含有されるシリコーン成分の転移］
剥離層から剥離した基体の樹脂層の剥離面について、上記方法で濡れ張力を測定した。測定結果が、樹脂層の形成に使用した材料（ＢＰ－４ＰＡ）の正常時の濡れ張力４０．０ｍＮ／ｍから変化がなかった場合を「Ａ」、４０．０ｍＮ／ｍ未満となった場合を「Ｂ」とした。
以下の表１に、評価結果を纏める。 [Transition of silicone component contained in the release layer]
The wetting tension of the peeled surface of the resin layer of the substrate peeled from the peeled layer was measured by the above method. When the measurement result is "A" when there is no change from the normal wetting tension of 40.0 mN / m of the material (BP-4PA) used to form the resin layer, and when it is less than 40.0 mN / m. It was set to "B".
The evaluation results are summarized in Table 1 below.

Figure 2022035313000002
Figure 2022035313000002

表１に示すように、実施例１乃至１０に係る剥離フィルムは、「濡れ性」、「剥離性」、「シリコーン転移」の全てについて優れた性能を示した。これに対し、比較例１乃至１５に係る剥離フィルムは、「濡れ性」、「剥離性」、「シリコーン転移」の少なくとも１つの性能が不十分であった。 As shown in Table 1, the release films according to Examples 1 to 10 showed excellent performance in all of "wetting property", "peeling property", and "silicone transfer". On the other hand, the release films according to Comparative Examples 1 to 15 had insufficient performance of at least one of "wetting property", "peeling property", and "silicone transfer".

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施形態は適宜組み合わせて実施してもよく、その場合組み合わせた効果が得られる。更に、上記実施形態には種々の発明が含まれており、開示される複数の構成要件から選択された組み合わせにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、課題が解決でき、効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成が発明として抽出され得る。 The present invention is not limited to the above embodiment, and can be variously modified at the implementation stage without departing from the gist thereof. In addition, each embodiment may be carried out in combination as appropriate, in which case the combined effect can be obtained. Further, the above-described embodiment includes various inventions, and various inventions can be extracted by a combination selected from a plurality of disclosed constituent requirements. For example, even if some constituent elements are deleted from all the constituent elements shown in the embodiment, if the problem can be solved and the effect is obtained, the configuration in which the constituent elements are deleted can be extracted as an invention.

本発明の剥離フィルムは、液晶偏光板やＰＤＰ、有機ＥＬなどの表示部材用の剥離フィルム、貼付型外用薬などの医療用の剥離フィルム、セラミックグリーンシートのキャリアフィルム等に使用することができる。 The release film of the present invention can be used as a release film for display members such as liquid crystal polarizing plates, PDPs, and organic ELs, medical release films such as patch-type external medicines, and carrier films for ceramic green sheets.

１ 剥離フィルム
２ 積層体
１１ フィルム基材
１２ 剥離層
１３ アンカー層
１４ 基体
1 Release film 2 Laminated body 11 Film base material 12 Release layer 13 Anchor layer 14 Base material

Claims (7)

フィルム基材と、前記フィルム基材の少なくとも一方の主面に支持された剥離層とを備えた剥離フィルムであって、前記剥離層が剥離剤（Ａ）と、（メタ）アクリル系モノマー及び／又は（メタ）アクリル系オリゴマーからなる（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）との混合物からなる共重合体を含み、前記剥離剤（Ａ）の固形分比が、前記剥離剤（Ａ）と前記（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）との合計に対し３質量％～２２質量％であり、前記剥離層の厚みが０．００８μｍ～２２μｍである剥離フィルム。 A release film comprising a film substrate and a release layer supported on at least one main surface of the film substrate, wherein the release layer is a release agent (A), a (meth) acrylic monomer, and /. Alternatively, it contains a copolymer composed of a mixture of a (meth) acrylic compound (B) composed of a (meth) acrylic oligomer, and the solid content ratio of the release agent (A) is the same as that of the release agent (A). A release film having a total of 3% by mass to 22% by mass and a thickness of the release layer of 0.008 μm to 22 μm with respect to the total amount of the meta) acrylic compound (B). 前記剥離剤（Ａ）がシリコーン系樹脂である、請求項１に記載の剥離フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the release agent (A) is a silicone-based resin. 前記剥離層が湿式膜である、請求項１又は２に記載の剥離フィルム。 The release film according to claim 1 or 2, wherein the release layer is a wet film. 前記剥離層と前記フィルム基材との間にアンカー層を備える、請求項１～３のいずれか１項に記載の剥離フィルム。 The release film according to any one of claims 1 to 3, wherein an anchor layer is provided between the release layer and the film substrate. 前記（メタ）アクリル系化合物（Ｂ）がエポキシ基を含まない、請求項１～４のいずれか１項に記載の剥離フィルム。 The release film according to any one of claims 1 to 4, wherein the (meth) acrylic compound (B) does not contain an epoxy group. 請求項１～５のいずれか１項に記載の剥離フィルムと、前記剥離フィルム上に前記剥離層を介して剥離可能に積層された基体とを備えた積層体。 A laminate comprising the release film according to any one of claims 1 to 5 and a substrate releasably laminated on the release film via the release layer. 前記基体が前記剥離層に接する樹脂層を少なくとも含み、前記樹脂層がウレタン結合を有する樹脂を含まない、請求項６に記載の積層体。
The laminate according to claim 6, wherein the substrate contains at least a resin layer in contact with the release layer, and the resin layer does not contain a resin having a urethane bond.
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