JPS61211643A - 空気調和装置 - Google Patents

空気調和装置

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Publication number
JPS61211643A
JPS61211643A JP61059218A JP5921886A JPS61211643A JP S61211643 A JPS61211643 A JP S61211643A JP 61059218 A JP61059218 A JP 61059218A JP 5921886 A JP5921886 A JP 5921886A JP S61211643 A JPS61211643 A JP S61211643A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
air
work space
room
area
duct
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61059218A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Maejima
前島 央
Hiroto Nagatomo
長友 宏人
Jun Suzuki
純 鈴木
Akira Tatsumi
辰見 昭
Noboru Nakajima
中島 登
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Plant Technologies Ltd
Hitachi Architects and Engineers Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Plant Technologies Ltd
Hitachi Architects and Engineers Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Plant Technologies Ltd, Hitachi Architects and Engineers Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61059218A priority Critical patent/JPS61211643A/ja
Publication of JPS61211643A publication Critical patent/JPS61211643A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Central Air Conditioning (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は空気調和装置に関する。
半導体装置等の製造において、半導体薄板(ウェハ)に
フォトリングラフィ処理や拡散処理等を行なういわゆる
ウェハ処理作業があるが、この作業は極端に塵埃の混入
を嫌い、また温度や湿度の変化を嫌う。このため、作業
室の空気清浄化(クリーン化)を主にした空気調整法は
、従来、(1)、室内全体を清浄度(クラス)1000
0程度にクリーン化し、作業する部分のみクリーンベン
チでクラス100に高清浄度化する空気清浄化機構、(
2)、室内の天井全体から清浄空気を吹き出し、すのこ
状の床全域から排気して室内全体をクラス100〜10
に高清浄度化するいわゆるダウンフロ一式空気清浄化機
構が採用されている。
以下余白 しかし、前者では清浄度の低い空間を作業者が動き回っ
て作業するため塵埃が舞い上がり、清浄度を高(してい
るクリーンペンチ内に入り込み、クリーンベンチはクラ
ス100を維持できなくなり、ウェハが汚染されウェハ
処理の歩留が低下する。また、後者のダウンフロ一式は
室内全体を高い清浄度と温度、湿度制御精度内に保つた
め、建屋および空気調整施設が高価となるとともに維持
費も高くなる。
したがって本発明の目的とするところは、上述したよう
な従来技術の諸欠点を解決し、設備費。
維持管理費が安価な空気調和装置を提供することにある
このような目的を達成するために本発明は作業空間を相
互に空気調整度の異なる複数の作業空間気清浄化及び温
度、湿度調整を作業目的に応じて適正に行なうようにし
てなる空気調和装置とするものである。このような空気
調和装置とすることにより、作業空間を空気清浄度や温
度、湿度調整度合の高低によって複数の作業空間に区分
し、空気清浄度や温度、湿度調整度合を高く必要とする
作業空間をそれよりも空気清浄度や温度、温度調整度合
をそれほど必要としない作業空間に比しその空間内を陽
圧とすることができ、またそれによって前者の排気を後
者に流し込み後者の空気清浄度並びに温度、湿度調整の
維持管理を行なうようにし得ることができ安価な維持管
理ができるなどの前記した本発明の種々の目的を達成で
きるものである。
以下、本発明にかかる実施例を用いて本発明を具体的に
説明する。
第1図は本発明の一実施例による空気調和装置の断面図
である。同図に示すように、建屋lはフォトリングラフ
ィ装置、拡散炉、熱酸化炉という熱処理装置等の各種の
処理装置2を配置する装置配置領域3と、これらの各処
理装置2のメインティナンスを行なう保全領域4と、作
業者5が移動する通路となるとともに各処理装置2を操
作する作業領域6とを有している。また、各保全領域る
は区分体?ICよって装置配置領域8および作業領域6
から区分されている。また、前記装置配置領域、3には
それぞれ空気清浄化装置8が配設されている。この空気
清浄化装置8は前記区分体7を兼ねる内部が中空となる
背面ダクト部9と、この背面ダクト部9の上端部に設け
られ処理装置2の上方に延在する気体吹出部10とから
なっている。
気体吹出部10には保全領域(建屋1の内壁、床。
天井および区分体7によりて保全室となる。)側の空気
吸入口11がら空気を吸い込み、フィルタ12で浄化し
て気体吹出部10の下面の吹出口13から清浄な空気を
吹き出すファン14を含む浄化ユニット15が配設され
ている。また、背面ダクト部9の下部には排気口16が
設けられ、処理装置2の下部背面の汚れた空気はこの排
気口16から背面ダクト部9内に入り、また保全室4の
一部の空気は、連通口17から背面ダクト部9内に入り
、両者の空気は再び浄化ユニット15の吸気側に流れ込
む。なお、背面ダクト部9の中途部に温度湿度調節器2
3が組込まれており、これにより背面ダクト部9内を流
れる空気の温度及び湿度を所望の値に制御することがで
きるようになっている。
また、別の空気清浄化装置8においては排気口16から
出た空気は、保全室4の空気とまざり合って、空気吸入
口11に流れ込むよ5になっている。この気体の流れ方
向は7アン14によって装置配置領域3の空気圧が保全
室4の空気圧よりも高くなるよう罠なっているすなわち
装置配置領域3が保全室4より陽圧状態になっているこ
とから変化することはない。
一方、作業領域6の天井には給気ダクト18が接続され
、この給気ダクト18によって供給される空気はフィル
タ19を通ってさらに清浄化され、天井全域から床に向
かって吹き出される。また、床はすのこ状となり排気ダ
クト20に連通し、かつ負圧に引かれるようになってい
る。このため、作業領域6では空気は天井から床に向か
ってあたかも従来のダウンフロ一式の空気清浄化機構の
ように層流となって流れる。また、排気ダクト20に流
れ込んだ空気は排気ダクトの一端側から空気調整装置2
4の吸気側25に流れ込み、清浄化および温度、湿度が
調整された後は空気調整装置2手の吐出口側z6から吐
き出されて再び前記給気ダクト18に送り込まれる。
他方、前記排気ダク)20に流れ込んだ空気の一部は保
全室仝に繋がる環流ダク)21に流れ込むようになって
いる。また、保全室4には給気ダクトからも清浄な空気
が給気分岐管22を通って送り込まれ、浄化ユニット1
5の空気吸入口11から吸入される空気の清浄度を高め
ると共に温度湿度の調整を行なう。なお、図中で示す矢
印群は空気の流れ方向を示すとともに、その太さによっ
て流量の大小の概略を示す。
つぎに、建屋内の空気清浄について説明する。
清浄化装置8により空気の循環回数が多くなることによ
って、クラス100〜10程度の清浄度を維持できるよ
うになりている。また、装置配置領域8の空気圧は作業
領域6の空気圧よりも高くなっている(陽圧状態となっ
ている)ため、作業領域6の空気が装置配置領域8、す
なわち作業者の作業操作領域に入りにく(なっており、
また、作業領域6の空気のほとんどは浄化ユニツ)15
の吹出口13から出る空気で占められ、またその清浄度
は装置配置領域3と近似しているため、たとえ作業者の
移動による乱流が生じたとしても装置配置領域3の清浄
度は高く維持され、ワークの汚染が防止される。また、
保全室鴫にも直接給気ダク)18から清浄な空気が一部
送り込まれるが、保全室4の清浄度は作業領域6の排気
空気の多量導入によって維持され、たとえばクラス10
0程度に維持されるようになっている。また、前記作業
領域6の清浄化機構、すなわちフィルタ19から供給さ
れる空気は作業によって排気される空気の補充以外に室
内の温度、湿度等のコントロールの役割を果たす。した
がって、空気の供給量等は作業目的に合せて決定する。
このよ5な実施例によれば、処理装置2周辺はクラス1
00〜10に維持されるとともに、作業者が動きまわる
作業領域6も常にクラス100に維持されるため、ワー
クの汚染は極めて少なくなり、歩留が向上する。また、
高い清浄度を必要とする領域(作業領域)を主として清
浄化するだけで、する構造となっているため、設備の維
持管理費は従来のダウンフロ一式に較べて約30〜50
チ低減できる。また、同じ理由により空気調整設備設置
面積も約80チ低減できる。
なお、本発明は前記実施例に限定されない。たとえば、
第2図に示すように、処理装置2の清浄化は空気清浄化
袋[8により背面で行なうようにしてもよい。また、本
発明は相互に空気清浄度の異なる複数の作業空間を必要
とする作業室の空気清浄化に適用できる。
以上のように、本発明の空気清浄化機構によれば所望空
間をそれぞれ所望の清浄度に保つことができるとともに
、設備費、維持費を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例による空気調和装置の断面図
、第2図は本発明の他の実施例による空気調和装置の一
部断面図である。 l・・・建屋、2・・・処理装置、8・・・装置配置領
域、4・・・保全領域、5・・・作業者、6・・・作業
領域、?・・・区分体、8・・・空気清浄化装置、9・
・・背面ダクト部、10・・・気体吹出部、11・・・
空気吸入口、12・・・フィルタ、13・・・吹出口、
14・・・ファン、15・・・浄化ユニット、16・・
:排気口、17・・・連通口、18・・・給気ダクト、
19・・・フィルタ、20・・・排気ダクト、21・・
・環流ダクト、22・・・給気分岐管、28・・・温度
・湿度調節器、24・・・空気調整装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、少なくとも2区分されてなりそれらのそれぞれが空
    気調和を必要とする作業空間を有し、少なくとも1つの
    作業空間に清浄化され温度及び湿度が調製された空気を
    流入しうる空気調整装置がその作業空間の上方部に連通
    されていると共に、その作業空間の下方部に設けられた
    排気口が他の作業空間の下方部に設けられた吸気口に連
    通されてなり、前者の作業空間の空気圧が後者の作業空
    間の空気圧より陽圧となっており、また後者の作業空間
    の空気の一部の空気清浄並びに温度及び湿度調整を行な
    ったのち前者の作業空間にその空気を流出させる空気調
    整装置を前記空気調整装置とは別個に備えてなることを
    特徴とする空気調和装置。 2、少なくとも2区分されてなる作業空間における陽圧
    状態の作業空間にはワークを処理する処理装置が設置さ
    れてなり、前記作業空間よりも負圧状態の作業空間は前
    記処理装置のメンテナンスを行なう室として使用されて
    いる特許請求の範囲第1項記載の空気調和装置。 3、少なくとも2区分されてなる作業空間における陽圧
    状態の作業空間にはワークを処理する処理装置が設置さ
    れてなり、その処理装置の少なくとも1つの処理装置に
    は空気調整装置が付加されてなる特許請求の範囲第1項
    又は第2項記載の空気調和装置。
JP61059218A 1986-03-19 1986-03-19 空気調和装置 Pending JPS61211643A (ja)

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