JPS58129125A - 清浄作業室 - Google Patents

清浄作業室

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JPS58129125A
JPS58129125A JP57011674A JP1167482A JPS58129125A JP S58129125 A JPS58129125 A JP S58129125A JP 57011674 A JP57011674 A JP 57011674A JP 1167482 A JP1167482 A JP 1167482A JP S58129125 A JPS58129125 A JP S58129125A
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JP
Japan
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air
clean
floor
room
working
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JP57011674A
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Katsuto Yagi
八木 克人
Yuji Isayama
諌山 雄二
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/163Clean air work stations, i.e. selected areas within a space which filtered air is passed

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ventilation (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、半導体の製造などに必要とする清浄な作業環
境(i−作り出すためのln#作業室に関する。
従来、半導体製造上程に用いられていた清浄作業室の代
表的な例(全面ダウン70一式クリーンルーム)を第1
図に示す。
福闘拍州召沖ミ、1は建り糺 2はクリーンルーム室内
、5は局性能フィルタ、4は1!(イ明月、5は人外部
多孔板、6は木部多孔板、7は空調用#気ダクト、8は
空調用戻りダクト、9は露光、エツチング、拡散、メタ
ライズ等の製造ライン用Il器、10は製造ラインへ水
、ガス′等を供給する配管類である。
図中矢印で示すように高性能フィルタ3で処理された清
浄空気は天井全面より室内2に吹き出し、室内空気は床
下を通って排出される。これにより、室内全体を−はぼ
一部な高清浄度に維持し、全工程の作業をこの清浄雰囲
気中で行えるようにしている。この全面ダウンフa一式
クリーンルームは室全体の清浄度を高める上からは最良
の方式とされていたが、次のような欠点がある。
(1)清浄化区域および空調対象区域が広く、高価な高
性能フィルタを多量に使用しているため、設備費が非常
に高い。
(2)空調維持費、フィルタ交換費用などのランニング
コストが高い。
(5)室全体の空調を行うため、製造ライン別(工程別
)の空調温度側aができない。
<4)  製造ラインのメンテナンスをクリーンルーム
室内で行うため、それによる発塵が他の製造ライン(工
程)に及ぼす影tiiiが大きい。
(5)  床全面を多孔板としているため、床強度が弱
く、最近の微測パターンの半導体の製造には振動の点で
問題がある。
′これらの欠点を改善するため、クリーントンネルと称
する一トンネル状の清浄作業室が本発明者らによって考
え出された。
第2図はクリーントンネルの長手方向に直角な断面図で
、製造ラインの作業用機器9を床上に向い合せに設置し
、スライン(f−1組としてクリーントンネル室内に収
納した場合金示す。支柱10と横梁11とで門形フレー
ムを組み、これに天板12と両側の側板13を張ってト
ンネル状覆いを構成し、このトンネル状覆いとそれを設
置する床面とテ囲マれたクリーントンネル室内に作業用
機器9を設置する作業部14aと作業者が通行する通路
部14bとをトンネル状覆いの長手方向に連続して設け
る0作業部14aの天井部には空気浄化要素である送風
機15.1(S、送風チャンバ17゜18、高性能フィ
ルタ19.20と作業部照明灯21を収納し、その下部
の清浄空気吹出し口に格子状の散光板22會設置する。
また、通路部14bの天井部空間には通路部照明灯26
を収納し、その下部の清浄空気吹出し口に格子状の散光
板24を設置する。25は作業部天井と通路部天井との
間の仕切り用化粧板である。
通路部14bの天井高さは作業者が立って通行できる程
度に高くシ1作業部i4aの天井高さは作業に支障がな
い限り低くする(−例を示せば。
通路部天井高さ22001111、作業部天井高さ18
00絽)。作業部天井高さはできるだけ低くシ念方が、
作業部空間の気流の乱れが少なく、清浄度保持性能が良
くなる。
送風機15.16の運転により、外部空気はプレフィル
タ26全通して空気吸込み口27から吸込まれる。作業
部用送風機15から送風4−ヤニ/ハ17へ送り出され
な空気は作業部用高性能フィルタ19により清浄化され
た後、作業部天井の全面から室内の作業部1’4aへ吹
き出し、また、通路部用送風機16から送風チャンバ1
8へ送り出された空気は通疼部用制性能フィルタ20に
より清浄された後、通路部天井の全面から型内の通路部
14bへ吹き出す、fli光板22,24は照明の散光
と清浄気流の整流のために設けられたものである。
天井面か°ら吹き出された清浄気流は図の矢印で示すよ
うに室内を流れ、両側の側板16の下部に設けた側面排
気口28から外部の保全域へ排出される。室内圧力は排
気128での圧力損失分だけ外気に対し正圧となるので
、外部からの汚染空気の流入を防止できる。
側面排気口28は、製造ラインへの水、ガス等の配管類
や電線等の引込みにも利用される6側板13は、作業用
機器9の補修や配′R4:金外部の保全域から行えるよ
うに、ねじ止めあるいは引掛金具等を用いて部分的に取
りはずせるようにしておく。また、室内の作業環境の改
善と外部からの作業管理の必要上、側板13の一部を透
明板とすることがある。
第3図にはモジュール化したクリーントンネルを多数連
結してなる本方式による清浄作業室の外′lilを示す
しかし、この方式による清浄作業室の欠点は、排気口2
8が両側板13の下部のみであるなめ、すべての気流が
側面排気口28へ向って流れ、作業部14aと通路部1
4bの気流境界線29は図示のようになり、通路部を通
る作業者からの発塵の影−および作業部を斜めに流れる
気流のなめ作業用機器9の前面に生じるうす流などによ
り、作業部の清浄度保持性能が阻害されやすいことであ
る。
本発明は、第2.3図に示した清浄作業室の利点を生か
し、欠点を改善するなめになされなものである。すなわ
ち、その第1の発明は、作業部の清浄気流の平均風速を
通路部の清浄気流の平均風速以上とし、室内床面のうち
通路部床面に設は九床排気口と両側板の下部に設けな側
面排気口の合計6個所から室内空気を排出することによ
って、作業部の床強度を弱めることなく、室内の気流状
態を改善して、作業部の清浄度保持性能の向上をはかっ
たものモあり、第2の発明は、両側板および床を二重構
造として、還気ダクトを形成し、この還気ダクトにより
前記各排気口からの排気を合流し、その大部分を天井部
の空気浄化要素へ還流させるようにして、室内lI#浄
度e−ffと向上させたものであ°る。
以下、本発明の実施例を図面によって説明する。
第4図は第1の発明t、g体1ヒした実施例バトンネル
長手方向に直角な断面図である。
符号9〜28は第2.3図と対1+cAする部分金示す
が、本発明では、両側板13のF部の1目1囲排気口2
8のほかに、通路部14bの床間にもトンネル長手方向
に連続またI′i断続した木排気D 3 U 2設ける
。床31は二重構造として、床下還気ダクト62を形成
し、床排気[」30からの排気を床下還気ダクト31と
還気1−133を通じて外部の保全域へ流す。
送風機15.16の運転により、空調給気ダクト接続口
34から流入する空調給気と保全域からプレフィルタ2
6全通して空気吸込み口27へ還流する空気はミキシン
グチャンバ65で合流シ、送風機15.16から送風チ
ャンバ17.18へ送り出された空気は高性能フィルタ
19.20で清浄化された後、室内の作業部14aと通
路部14bへそれぞれの天井部から吹き出す。ここで、
清浄気流の風速は、念とえば作業部14aでは0.4m
 / s、通路部14bでは0.2 m / sという
ように、作業部平均風速)通路部平均風速の関係に保つ
ようにする。
こうすることによって、吹き出された清浄気流は室内を
図の矢印で示すように流れ、作業部14aと通路部14
bの気流境界#1129は図示のようになる。この状態
では1作業部14aの気流は二方向に分かれて床排気口
30と側面排気口28から排出され1通路部141)の
気流は床排気口30からのみ排出されるので、通路部1
4bを通る作業者からの発塵が作業部14aへ影響を及
ぼすことがない。また、作業部14aに設置された機器
9の前後にそって清浄気流が下降するため、うす流もで
きにくく、うす流が塵埃を巻き込んで作業部の清浄度t
−抵ドさせることもない。
しかも、床排気1] 50は通路部床面にのみ設けられ
ており、機器を設置する作業部床面はフラットであちか
ら、床全面を多孔板とした全面ダウンフロ一式クリーン
ルームに比べ、床強度を上げることができ、倣動防止の
点でもすぐれている。
第5図は、第2の発明金具体化した実施例のトンネル長
手方向に直角な断面図、第6図はその外観を示す斜視図
で、第4図に対応する部分は同一符号を付して示す。
この実施例では、両側板16の外側に、さらに側板36
を設け、その間に0Ill而還気ダクト37金床下還気
ダクト62および側面排メ(口28に接続して設けであ
る。この側面還気ダクト67と床下還気ダクト52によ
り、側面排気口28および床排気口50からの排気は合
流してプレフィルタ26を通り空気吸込み口27へ還流
する。この場合、室内に吹き出された清浄空気のうち、
空調給気ダクト接続口34から供給される空気琺に見合
つ部分だけ、側板66の下部に設けた排気口68から外
部(保全域)へ排出されるが、他の大部分の空気は天井
部の空気浄化要素へ還流し、再度清浄化して室内へ供給
される。側板13および側板36は、ねじ止めまたは引
掛金具等により取りはずし1’T能にして、製造ライン
のメンテナンスを保全域から行えるようにする。
第5.6図に示した発明は、超LSI等の製造に必要と
される。01μm粒子等の超饋粒子を対象とした清浄化
に特に効果がある。
すなわち、一般大気中の粒径別塵埃濃度を第7図に示す
が、これからも分るように、従来のクリーンルームの清
浄度の基準である[1.5μm粒子に比べ、0.1μm
粒子は約100倍の濃度を有し、現用の高性能フィルタ
(HEPAフィルタ)の集塵効率9999〜99999
%程度では、0.1μm粒子で100個/fも”以下の
超清浄空気を供給することは難しい。第5.6図に示し
た発明は、室内から排出される比較的清浄度の高い空気
を、外部の汚染空気を混入することなく、局所的に循環
使用することによって、上記のような超清浄空気の供給
を=sdとしたもので、第4図の実施例で述べ冷室内の
気流状態の改善と相まって、最も重要な作業部の清浄度
については全面ダウンフロ一式クリ−I−′7′ルーム
以上の超高性能が期待できる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、従来最
良の方式とされていた全面ダウンフロ一式クリーンルー
ムに比べ、次の効果が得られる。
(1ン  清浄化区域および空調対象区域が大幅に減少
するため、設備費が約半分で済む。
(2)ランニ7グコスH−約半分に低減する、(3)全
面ダウンフロ一方式では難しかった製造ライン別の空調
温度制御かり能となる。
(4)  ffaラインのメンテナンスが外部の保全域
から行えるので、メンテナンス作業による発塵が他の製
aラインに影響を及ぼすことを防止できる。
(5)製造ラインの機器を設置する作業部の床強度を上
げることができるので、thl細加主加工うliI造ラ
インの振動防止の点でも゛すぐれている。
また、本発明の基礎となった第4図の方式と比べても次
のような効果がある。
(6)室内の気流状態の改善により1通路部を通る作業
者からの発塵の影響やうす流などによる作業部の清浄度
低下を防止できる。
(7)局所的な清浄空気の循環使用により、最も重要な
作業部の清浄度をさらに高めることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は先行技術である全面ダウンフロ一式クリーンル
ームを示す側断面図、第2図は本発明の基礎となったト
ンネル式清浄作業室のトンネル長手方向に直角な断面図
、第6図はその外観を示す斜視図、第4図は本願の第1
の発明全具体化した実施例のトンネル長手方向に直角な
断面図、第5図は本願の第2の発明を具体化した実施例
のトンネル長手方向に直角な断面図、s6図はその外観
を示す斜視図、$7図は大気中の粒径別塵埃濃度を示す
図である。 9:作業用機器、12;)ンネル状覆いの天板、13:
側板、14a:室内の作業部、14b二室内の通路部、
15,16:送風機、19.20;高性能フィルタ、2
2.24:天井部の清浄空気吹出し口に設置した敢光徹
、27:空メを吸込み口、28:側面排気1上30:木
排気L]、32:床下還気ダクト、64:空調給気ダク
ト接続口、56:外部の側板、37:側面還気ダクト、
68:外部への排気口 手続補正書(方式) 事件の表示 昭和57 年特許願第  11674号発明の名称 清浄作業室 補正をする者 名  !1(510)株式会ンL   El   立 
 製  作  所代 表 t   E   1)  勝
   茂代   理   人 補正の対象 図面

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、 少なくとも両側の側板と天井を有し、その天井部
    に空気浄化要素を内蔵するトンネル状覆いと、それを設
    置する床面とで囲まれた型内に、作業用81器を設置す
    る作業部と作業者が通行する通路部とをトンネル状覆い
    の長手方向に連続して設け、その作業部と通路部にそれ
    ぞれの天井部から清浄空気を吹き出して、室内を清浄化
    する清浄作業室において、作業部の清浄気流の平均風速
    を通路部の清浄気流の平均風速以上に保ち、室内床面の
    うち通路部床面に設けな床排気口と両側板の下部に設け
    た側面排気口から室内空気を排出するようにしたことを
    特徴とする清浄作業室。 2、少なくとも両面の側板と天井を有し、その天井部に
    空気浄化要素を内蔵するトンネル状覆いと、それを設置
    する床面とで囲まれた室内に、作業用ft1ii5を設
    置する作業部と作業者が通行する通路部とをトンネル状
    覆いの長手方向に連続して設け、その作業部と一路部に
    それぞれの大ノド部から清浄空気を吹き出して、室内を
    清浄化する清浄作業室において、作業部の清浄気流の平
    均風速を通路部の清浄気流の平均風速以上に保ち、¥内
    床間のうち通路部砂面に設けた床排気日と11111面
    板のF部に設けた側面排気口から至内空気を排出し、ざ
    らに床および両側板で二重構造として、床ド還気ダクト
    および側l還気ダクl−i形成し、これら還気ダクトに
    より前記各排気口からの排気を合流して。 その大部分を天井部の空:A浄化要素へ還流させるよう
    にしたことを特徴とする清浄作業室。
JP57011674A 1982-01-29 1982-01-29 清浄作業室 Granted JPS58129125A (ja)

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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6127435A (ja) * 1984-07-18 1986-02-06 Seiken:Kk 空気清浄化システムに於る汚染空気の誘引混入防止装置
JPS61104102U (ja) * 1984-12-13 1986-07-02
JPS62178824A (ja) * 1986-02-03 1987-08-05 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd クリ−ンル−ム
US4890780A (en) * 1984-11-22 1990-01-02 Hitachi, Ltd. Manufacturing apparatus
JPH0296543U (ja) * 1989-01-19 1990-08-01
NL2000530C2 (nl) * 2007-03-08 2008-09-09 Martin Van Schaik Gebouw voorzien van een werkplek, alsmede systeem en werkwijze voor het stofarm houden van de werkplek.
CN112229012A (zh) * 2020-10-16 2021-01-15 安徽倍净环境科技有限公司 一种组合空调箱式电子除尘空气净化装置
JP2021156524A (ja) * 2020-03-27 2021-10-07 三機工業株式会社 クリーンルームの空調システム
JP2021156519A (ja) * 2020-03-27 2021-10-07 三機工業株式会社 クリーンルームの空調システム

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4532066Y1 (ja) * 1967-04-27 1970-12-08
JPS56162335A (en) * 1980-05-16 1981-12-14 Hitachi Ltd Air conditioner

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4532066Y1 (ja) * 1967-04-27 1970-12-08
JPS56162335A (en) * 1980-05-16 1981-12-14 Hitachi Ltd Air conditioner

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6127435A (ja) * 1984-07-18 1986-02-06 Seiken:Kk 空気清浄化システムに於る汚染空気の誘引混入防止装置
US4890780A (en) * 1984-11-22 1990-01-02 Hitachi, Ltd. Manufacturing apparatus
US5015425A (en) * 1984-11-22 1991-05-14 Hitachi, Ltd. Manufacturing apparatus
JPS61104102U (ja) * 1984-12-13 1986-07-02
JPS62178824A (ja) * 1986-02-03 1987-08-05 Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd クリ−ンル−ム
JPH0296543U (ja) * 1989-01-19 1990-08-01
NL2000530C2 (nl) * 2007-03-08 2008-09-09 Martin Van Schaik Gebouw voorzien van een werkplek, alsmede systeem en werkwijze voor het stofarm houden van de werkplek.
JP2021156524A (ja) * 2020-03-27 2021-10-07 三機工業株式会社 クリーンルームの空調システム
JP2021156519A (ja) * 2020-03-27 2021-10-07 三機工業株式会社 クリーンルームの空調システム
CN112229012A (zh) * 2020-10-16 2021-01-15 安徽倍净环境科技有限公司 一种组合空调箱式电子除尘空气净化装置

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