JPS58129125A - 清浄作業室 - Google Patents
清浄作業室Info
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- JPS58129125A JPS58129125A JP57011674A JP1167482A JPS58129125A JP S58129125 A JPS58129125 A JP S58129125A JP 57011674 A JP57011674 A JP 57011674A JP 1167482 A JP1167482 A JP 1167482A JP S58129125 A JPS58129125 A JP S58129125A
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- JP
- Japan
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- air
- clean
- floor
- room
- working
- Prior art date
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- Granted
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/163—Clean air work stations, i.e. selected areas within a space which filtered air is passed
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体の製造などに必要とする清浄な作業環
境(i−作り出すためのln#作業室に関する。
境(i−作り出すためのln#作業室に関する。
従来、半導体製造上程に用いられていた清浄作業室の代
表的な例(全面ダウン70一式クリーンルーム)を第1
図に示す。
表的な例(全面ダウン70一式クリーンルーム)を第1
図に示す。
福闘拍州召沖ミ、1は建り糺 2はクリーンルーム室内
、5は局性能フィルタ、4は1!(イ明月、5は人外部
多孔板、6は木部多孔板、7は空調用#気ダクト、8は
空調用戻りダクト、9は露光、エツチング、拡散、メタ
ライズ等の製造ライン用Il器、10は製造ラインへ水
、ガス′等を供給する配管類である。
、5は局性能フィルタ、4は1!(イ明月、5は人外部
多孔板、6は木部多孔板、7は空調用#気ダクト、8は
空調用戻りダクト、9は露光、エツチング、拡散、メタ
ライズ等の製造ライン用Il器、10は製造ラインへ水
、ガス′等を供給する配管類である。
図中矢印で示すように高性能フィルタ3で処理された清
浄空気は天井全面より室内2に吹き出し、室内空気は床
下を通って排出される。これにより、室内全体を−はぼ
一部な高清浄度に維持し、全工程の作業をこの清浄雰囲
気中で行えるようにしている。この全面ダウンフa一式
クリーンルームは室全体の清浄度を高める上からは最良
の方式とされていたが、次のような欠点がある。
浄空気は天井全面より室内2に吹き出し、室内空気は床
下を通って排出される。これにより、室内全体を−はぼ
一部な高清浄度に維持し、全工程の作業をこの清浄雰囲
気中で行えるようにしている。この全面ダウンフa一式
クリーンルームは室全体の清浄度を高める上からは最良
の方式とされていたが、次のような欠点がある。
(1)清浄化区域および空調対象区域が広く、高価な高
性能フィルタを多量に使用しているため、設備費が非常
に高い。
性能フィルタを多量に使用しているため、設備費が非常
に高い。
(2)空調維持費、フィルタ交換費用などのランニング
コストが高い。
コストが高い。
(5)室全体の空調を行うため、製造ライン別(工程別
)の空調温度側aができない。
)の空調温度側aができない。
<4) 製造ラインのメンテナンスをクリーンルーム
室内で行うため、それによる発塵が他の製造ライン(工
程)に及ぼす影tiiiが大きい。
室内で行うため、それによる発塵が他の製造ライン(工
程)に及ぼす影tiiiが大きい。
(5) 床全面を多孔板としているため、床強度が弱
く、最近の微測パターンの半導体の製造には振動の点で
問題がある。
く、最近の微測パターンの半導体の製造には振動の点で
問題がある。
′これらの欠点を改善するため、クリーントンネルと称
する一トンネル状の清浄作業室が本発明者らによって考
え出された。
する一トンネル状の清浄作業室が本発明者らによって考
え出された。
第2図はクリーントンネルの長手方向に直角な断面図で
、製造ラインの作業用機器9を床上に向い合せに設置し
、スライン(f−1組としてクリーントンネル室内に収
納した場合金示す。支柱10と横梁11とで門形フレー
ムを組み、これに天板12と両側の側板13を張ってト
ンネル状覆いを構成し、このトンネル状覆いとそれを設
置する床面とテ囲マれたクリーントンネル室内に作業用
機器9を設置する作業部14aと作業者が通行する通路
部14bとをトンネル状覆いの長手方向に連続して設け
る0作業部14aの天井部には空気浄化要素である送風
機15.1(S、送風チャンバ17゜18、高性能フィ
ルタ19.20と作業部照明灯21を収納し、その下部
の清浄空気吹出し口に格子状の散光板22會設置する。
、製造ラインの作業用機器9を床上に向い合せに設置し
、スライン(f−1組としてクリーントンネル室内に収
納した場合金示す。支柱10と横梁11とで門形フレー
ムを組み、これに天板12と両側の側板13を張ってト
ンネル状覆いを構成し、このトンネル状覆いとそれを設
置する床面とテ囲マれたクリーントンネル室内に作業用
機器9を設置する作業部14aと作業者が通行する通路
部14bとをトンネル状覆いの長手方向に連続して設け
る0作業部14aの天井部には空気浄化要素である送風
機15.1(S、送風チャンバ17゜18、高性能フィ
ルタ19.20と作業部照明灯21を収納し、その下部
の清浄空気吹出し口に格子状の散光板22會設置する。
また、通路部14bの天井部空間には通路部照明灯26
を収納し、その下部の清浄空気吹出し口に格子状の散光
板24を設置する。25は作業部天井と通路部天井との
間の仕切り用化粧板である。
を収納し、その下部の清浄空気吹出し口に格子状の散光
板24を設置する。25は作業部天井と通路部天井との
間の仕切り用化粧板である。
通路部14bの天井高さは作業者が立って通行できる程
度に高くシ1作業部i4aの天井高さは作業に支障がな
い限り低くする(−例を示せば。
度に高くシ1作業部i4aの天井高さは作業に支障がな
い限り低くする(−例を示せば。
通路部天井高さ22001111、作業部天井高さ18
00絽)。作業部天井高さはできるだけ低くシ念方が、
作業部空間の気流の乱れが少なく、清浄度保持性能が良
くなる。
00絽)。作業部天井高さはできるだけ低くシ念方が、
作業部空間の気流の乱れが少なく、清浄度保持性能が良
くなる。
送風機15.16の運転により、外部空気はプレフィル
タ26全通して空気吸込み口27から吸込まれる。作業
部用送風機15から送風4−ヤニ/ハ17へ送り出され
な空気は作業部用高性能フィルタ19により清浄化され
た後、作業部天井の全面から室内の作業部1’4aへ吹
き出し、また、通路部用送風機16から送風チャンバ1
8へ送り出された空気は通疼部用制性能フィルタ20に
より清浄された後、通路部天井の全面から型内の通路部
14bへ吹き出す、fli光板22,24は照明の散光
と清浄気流の整流のために設けられたものである。
タ26全通して空気吸込み口27から吸込まれる。作業
部用送風機15から送風4−ヤニ/ハ17へ送り出され
な空気は作業部用高性能フィルタ19により清浄化され
た後、作業部天井の全面から室内の作業部1’4aへ吹
き出し、また、通路部用送風機16から送風チャンバ1
8へ送り出された空気は通疼部用制性能フィルタ20に
より清浄された後、通路部天井の全面から型内の通路部
14bへ吹き出す、fli光板22,24は照明の散光
と清浄気流の整流のために設けられたものである。
天井面か°ら吹き出された清浄気流は図の矢印で示すよ
うに室内を流れ、両側の側板16の下部に設けた側面排
気口28から外部の保全域へ排出される。室内圧力は排
気128での圧力損失分だけ外気に対し正圧となるので
、外部からの汚染空気の流入を防止できる。
うに室内を流れ、両側の側板16の下部に設けた側面排
気口28から外部の保全域へ排出される。室内圧力は排
気128での圧力損失分だけ外気に対し正圧となるので
、外部からの汚染空気の流入を防止できる。
側面排気口28は、製造ラインへの水、ガス等の配管類
や電線等の引込みにも利用される6側板13は、作業用
機器9の補修や配′R4:金外部の保全域から行えるよ
うに、ねじ止めあるいは引掛金具等を用いて部分的に取
りはずせるようにしておく。また、室内の作業環境の改
善と外部からの作業管理の必要上、側板13の一部を透
明板とすることがある。
や電線等の引込みにも利用される6側板13は、作業用
機器9の補修や配′R4:金外部の保全域から行えるよ
うに、ねじ止めあるいは引掛金具等を用いて部分的に取
りはずせるようにしておく。また、室内の作業環境の改
善と外部からの作業管理の必要上、側板13の一部を透
明板とすることがある。
第3図にはモジュール化したクリーントンネルを多数連
結してなる本方式による清浄作業室の外′lilを示す
。
結してなる本方式による清浄作業室の外′lilを示す
。
しかし、この方式による清浄作業室の欠点は、排気口2
8が両側板13の下部のみであるなめ、すべての気流が
側面排気口28へ向って流れ、作業部14aと通路部1
4bの気流境界線29は図示のようになり、通路部を通
る作業者からの発塵の影−および作業部を斜めに流れる
気流のなめ作業用機器9の前面に生じるうす流などによ
り、作業部の清浄度保持性能が阻害されやすいことであ
る。
8が両側板13の下部のみであるなめ、すべての気流が
側面排気口28へ向って流れ、作業部14aと通路部1
4bの気流境界線29は図示のようになり、通路部を通
る作業者からの発塵の影−および作業部を斜めに流れる
気流のなめ作業用機器9の前面に生じるうす流などによ
り、作業部の清浄度保持性能が阻害されやすいことであ
る。
本発明は、第2.3図に示した清浄作業室の利点を生か
し、欠点を改善するなめになされなものである。すなわ
ち、その第1の発明は、作業部の清浄気流の平均風速を
通路部の清浄気流の平均風速以上とし、室内床面のうち
通路部床面に設は九床排気口と両側板の下部に設けな側
面排気口の合計6個所から室内空気を排出することによ
って、作業部の床強度を弱めることなく、室内の気流状
態を改善して、作業部の清浄度保持性能の向上をはかっ
たものモあり、第2の発明は、両側板および床を二重構
造として、還気ダクトを形成し、この還気ダクトにより
前記各排気口からの排気を合流し、その大部分を天井部
の空気浄化要素へ還流させるようにして、室内lI#浄
度e−ffと向上させたものであ°る。
し、欠点を改善するなめになされなものである。すなわ
ち、その第1の発明は、作業部の清浄気流の平均風速を
通路部の清浄気流の平均風速以上とし、室内床面のうち
通路部床面に設は九床排気口と両側板の下部に設けな側
面排気口の合計6個所から室内空気を排出することによ
って、作業部の床強度を弱めることなく、室内の気流状
態を改善して、作業部の清浄度保持性能の向上をはかっ
たものモあり、第2の発明は、両側板および床を二重構
造として、還気ダクトを形成し、この還気ダクトにより
前記各排気口からの排気を合流し、その大部分を天井部
の空気浄化要素へ還流させるようにして、室内lI#浄
度e−ffと向上させたものであ°る。
以下、本発明の実施例を図面によって説明する。
第4図は第1の発明t、g体1ヒした実施例バトンネル
長手方向に直角な断面図である。
長手方向に直角な断面図である。
符号9〜28は第2.3図と対1+cAする部分金示す
が、本発明では、両側板13のF部の1目1囲排気口2
8のほかに、通路部14bの床間にもトンネル長手方向
に連続またI′i断続した木排気D 3 U 2設ける
。床31は二重構造として、床下還気ダクト62を形成
し、床排気[」30からの排気を床下還気ダクト31と
還気1−133を通じて外部の保全域へ流す。
が、本発明では、両側板13のF部の1目1囲排気口2
8のほかに、通路部14bの床間にもトンネル長手方向
に連続またI′i断続した木排気D 3 U 2設ける
。床31は二重構造として、床下還気ダクト62を形成
し、床排気[」30からの排気を床下還気ダクト31と
還気1−133を通じて外部の保全域へ流す。
送風機15.16の運転により、空調給気ダクト接続口
34から流入する空調給気と保全域からプレフィルタ2
6全通して空気吸込み口27へ還流する空気はミキシン
グチャンバ65で合流シ、送風機15.16から送風チ
ャンバ17.18へ送り出された空気は高性能フィルタ
19.20で清浄化された後、室内の作業部14aと通
路部14bへそれぞれの天井部から吹き出す。ここで、
清浄気流の風速は、念とえば作業部14aでは0.4m
/ s、通路部14bでは0.2 m / sという
ように、作業部平均風速)通路部平均風速の関係に保つ
ようにする。
34から流入する空調給気と保全域からプレフィルタ2
6全通して空気吸込み口27へ還流する空気はミキシン
グチャンバ65で合流シ、送風機15.16から送風チ
ャンバ17.18へ送り出された空気は高性能フィルタ
19.20で清浄化された後、室内の作業部14aと通
路部14bへそれぞれの天井部から吹き出す。ここで、
清浄気流の風速は、念とえば作業部14aでは0.4m
/ s、通路部14bでは0.2 m / sという
ように、作業部平均風速)通路部平均風速の関係に保つ
ようにする。
こうすることによって、吹き出された清浄気流は室内を
図の矢印で示すように流れ、作業部14aと通路部14
bの気流境界#1129は図示のようになる。この状態
では1作業部14aの気流は二方向に分かれて床排気口
30と側面排気口28から排出され1通路部141)の
気流は床排気口30からのみ排出されるので、通路部1
4bを通る作業者からの発塵が作業部14aへ影響を及
ぼすことがない。また、作業部14aに設置された機器
9の前後にそって清浄気流が下降するため、うす流もで
きにくく、うす流が塵埃を巻き込んで作業部の清浄度t
−抵ドさせることもない。
図の矢印で示すように流れ、作業部14aと通路部14
bの気流境界#1129は図示のようになる。この状態
では1作業部14aの気流は二方向に分かれて床排気口
30と側面排気口28から排出され1通路部141)の
気流は床排気口30からのみ排出されるので、通路部1
4bを通る作業者からの発塵が作業部14aへ影響を及
ぼすことがない。また、作業部14aに設置された機器
9の前後にそって清浄気流が下降するため、うす流もで
きにくく、うす流が塵埃を巻き込んで作業部の清浄度t
−抵ドさせることもない。
しかも、床排気1] 50は通路部床面にのみ設けられ
ており、機器を設置する作業部床面はフラットであちか
ら、床全面を多孔板とした全面ダウンフロ一式クリーン
ルームに比べ、床強度を上げることができ、倣動防止の
点でもすぐれている。
ており、機器を設置する作業部床面はフラットであちか
ら、床全面を多孔板とした全面ダウンフロ一式クリーン
ルームに比べ、床強度を上げることができ、倣動防止の
点でもすぐれている。
第5図は、第2の発明金具体化した実施例のトンネル長
手方向に直角な断面図、第6図はその外観を示す斜視図
で、第4図に対応する部分は同一符号を付して示す。
手方向に直角な断面図、第6図はその外観を示す斜視図
で、第4図に対応する部分は同一符号を付して示す。
この実施例では、両側板16の外側に、さらに側板36
を設け、その間に0Ill而還気ダクト37金床下還気
ダクト62および側面排メ(口28に接続して設けであ
る。この側面還気ダクト67と床下還気ダクト52によ
り、側面排気口28および床排気口50からの排気は合
流してプレフィルタ26を通り空気吸込み口27へ還流
する。この場合、室内に吹き出された清浄空気のうち、
空調給気ダクト接続口34から供給される空気琺に見合
つ部分だけ、側板66の下部に設けた排気口68から外
部(保全域)へ排出されるが、他の大部分の空気は天井
部の空気浄化要素へ還流し、再度清浄化して室内へ供給
される。側板13および側板36は、ねじ止めまたは引
掛金具等により取りはずし1’T能にして、製造ライン
のメンテナンスを保全域から行えるようにする。
を設け、その間に0Ill而還気ダクト37金床下還気
ダクト62および側面排メ(口28に接続して設けであ
る。この側面還気ダクト67と床下還気ダクト52によ
り、側面排気口28および床排気口50からの排気は合
流してプレフィルタ26を通り空気吸込み口27へ還流
する。この場合、室内に吹き出された清浄空気のうち、
空調給気ダクト接続口34から供給される空気琺に見合
つ部分だけ、側板66の下部に設けた排気口68から外
部(保全域)へ排出されるが、他の大部分の空気は天井
部の空気浄化要素へ還流し、再度清浄化して室内へ供給
される。側板13および側板36は、ねじ止めまたは引
掛金具等により取りはずし1’T能にして、製造ライン
のメンテナンスを保全域から行えるようにする。
第5.6図に示した発明は、超LSI等の製造に必要と
される。01μm粒子等の超饋粒子を対象とした清浄化
に特に効果がある。
される。01μm粒子等の超饋粒子を対象とした清浄化
に特に効果がある。
すなわち、一般大気中の粒径別塵埃濃度を第7図に示す
が、これからも分るように、従来のクリーンルームの清
浄度の基準である[1.5μm粒子に比べ、0.1μm
粒子は約100倍の濃度を有し、現用の高性能フィルタ
(HEPAフィルタ)の集塵効率9999〜99999
%程度では、0.1μm粒子で100個/fも”以下の
超清浄空気を供給することは難しい。第5.6図に示し
た発明は、室内から排出される比較的清浄度の高い空気
を、外部の汚染空気を混入することなく、局所的に循環
使用することによって、上記のような超清浄空気の供給
を=sdとしたもので、第4図の実施例で述べ冷室内の
気流状態の改善と相まって、最も重要な作業部の清浄度
については全面ダウンフロ一式クリ−I−′7′ルーム
以上の超高性能が期待できる。
が、これからも分るように、従来のクリーンルームの清
浄度の基準である[1.5μm粒子に比べ、0.1μm
粒子は約100倍の濃度を有し、現用の高性能フィルタ
(HEPAフィルタ)の集塵効率9999〜99999
%程度では、0.1μm粒子で100個/fも”以下の
超清浄空気を供給することは難しい。第5.6図に示し
た発明は、室内から排出される比較的清浄度の高い空気
を、外部の汚染空気を混入することなく、局所的に循環
使用することによって、上記のような超清浄空気の供給
を=sdとしたもので、第4図の実施例で述べ冷室内の
気流状態の改善と相まって、最も重要な作業部の清浄度
については全面ダウンフロ一式クリ−I−′7′ルーム
以上の超高性能が期待できる。
以上の説明から明らかなように本発明によれば、従来最
良の方式とされていた全面ダウンフロ一式クリーンルー
ムに比べ、次の効果が得られる。
良の方式とされていた全面ダウンフロ一式クリーンルー
ムに比べ、次の効果が得られる。
(1ン 清浄化区域および空調対象区域が大幅に減少
するため、設備費が約半分で済む。
するため、設備費が約半分で済む。
(2)ランニ7グコスH−約半分に低減する、(3)全
面ダウンフロ一方式では難しかった製造ライン別の空調
温度制御かり能となる。
面ダウンフロ一方式では難しかった製造ライン別の空調
温度制御かり能となる。
(4) ffaラインのメンテナンスが外部の保全域
から行えるので、メンテナンス作業による発塵が他の製
aラインに影響を及ぼすことを防止できる。
から行えるので、メンテナンス作業による発塵が他の製
aラインに影響を及ぼすことを防止できる。
(5)製造ラインの機器を設置する作業部の床強度を上
げることができるので、thl細加主加工うliI造ラ
インの振動防止の点でも゛すぐれている。
げることができるので、thl細加主加工うliI造ラ
インの振動防止の点でも゛すぐれている。
また、本発明の基礎となった第4図の方式と比べても次
のような効果がある。
のような効果がある。
(6)室内の気流状態の改善により1通路部を通る作業
者からの発塵の影響やうす流などによる作業部の清浄度
低下を防止できる。
者からの発塵の影響やうす流などによる作業部の清浄度
低下を防止できる。
(7)局所的な清浄空気の循環使用により、最も重要な
作業部の清浄度をさらに高めることができる。
作業部の清浄度をさらに高めることができる。
第1図は先行技術である全面ダウンフロ一式クリーンル
ームを示す側断面図、第2図は本発明の基礎となったト
ンネル式清浄作業室のトンネル長手方向に直角な断面図
、第6図はその外観を示す斜視図、第4図は本願の第1
の発明全具体化した実施例のトンネル長手方向に直角な
断面図、第5図は本願の第2の発明を具体化した実施例
のトンネル長手方向に直角な断面図、s6図はその外観
を示す斜視図、$7図は大気中の粒径別塵埃濃度を示す
図である。 9:作業用機器、12;)ンネル状覆いの天板、13:
側板、14a:室内の作業部、14b二室内の通路部、
15,16:送風機、19.20;高性能フィルタ、2
2.24:天井部の清浄空気吹出し口に設置した敢光徹
、27:空メを吸込み口、28:側面排気1上30:木
排気L]、32:床下還気ダクト、64:空調給気ダク
ト接続口、56:外部の側板、37:側面還気ダクト、
68:外部への排気口 手続補正書(方式) 事件の表示 昭和57 年特許願第 11674号発明の名称 清浄作業室 補正をする者 名 !1(510)株式会ンL El 立
製 作 所代 表 t E 1) 勝
茂代 理 人 補正の対象 図面
ームを示す側断面図、第2図は本発明の基礎となったト
ンネル式清浄作業室のトンネル長手方向に直角な断面図
、第6図はその外観を示す斜視図、第4図は本願の第1
の発明全具体化した実施例のトンネル長手方向に直角な
断面図、第5図は本願の第2の発明を具体化した実施例
のトンネル長手方向に直角な断面図、s6図はその外観
を示す斜視図、$7図は大気中の粒径別塵埃濃度を示す
図である。 9:作業用機器、12;)ンネル状覆いの天板、13:
側板、14a:室内の作業部、14b二室内の通路部、
15,16:送風機、19.20;高性能フィルタ、2
2.24:天井部の清浄空気吹出し口に設置した敢光徹
、27:空メを吸込み口、28:側面排気1上30:木
排気L]、32:床下還気ダクト、64:空調給気ダク
ト接続口、56:外部の側板、37:側面還気ダクト、
68:外部への排気口 手続補正書(方式) 事件の表示 昭和57 年特許願第 11674号発明の名称 清浄作業室 補正をする者 名 !1(510)株式会ンL El 立
製 作 所代 表 t E 1) 勝
茂代 理 人 補正の対象 図面
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、 少なくとも両側の側板と天井を有し、その天井部
に空気浄化要素を内蔵するトンネル状覆いと、それを設
置する床面とで囲まれた型内に、作業用81器を設置す
る作業部と作業者が通行する通路部とをトンネル状覆い
の長手方向に連続して設け、その作業部と通路部にそれ
ぞれの天井部から清浄空気を吹き出して、室内を清浄化
する清浄作業室において、作業部の清浄気流の平均風速
を通路部の清浄気流の平均風速以上に保ち、室内床面の
うち通路部床面に設けな床排気口と両側板の下部に設け
た側面排気口から室内空気を排出するようにしたことを
特徴とする清浄作業室。 2、少なくとも両面の側板と天井を有し、その天井部に
空気浄化要素を内蔵するトンネル状覆いと、それを設置
する床面とで囲まれた室内に、作業用ft1ii5を設
置する作業部と作業者が通行する通路部とをトンネル状
覆いの長手方向に連続して設け、その作業部と一路部に
それぞれの大ノド部から清浄空気を吹き出して、室内を
清浄化する清浄作業室において、作業部の清浄気流の平
均風速を通路部の清浄気流の平均風速以上に保ち、¥内
床間のうち通路部砂面に設けた床排気日と11111面
板のF部に設けた側面排気口から至内空気を排出し、ざ
らに床および両側板で二重構造として、床ド還気ダクト
および側l還気ダクl−i形成し、これら還気ダクトに
より前記各排気口からの排気を合流して。 その大部分を天井部の空:A浄化要素へ還流させるよう
にしたことを特徴とする清浄作業室。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57011674A JPS58129125A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 清浄作業室 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57011674A JPS58129125A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 清浄作業室 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2825691A Division JPH0830598B2 (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | 清浄作業室 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58129125A true JPS58129125A (ja) | 1983-08-02 |
JPH0223776B2 JPH0223776B2 (ja) | 1990-05-25 |
Family
ID=11784531
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57011674A Granted JPS58129125A (ja) | 1982-01-29 | 1982-01-29 | 清浄作業室 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58129125A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1982-01-29 JP JP57011674A patent/JPS58129125A/ja active Granted
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0223776B2 (ja) | 1990-05-25 |
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