JPS6116370B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6116370B2 JPS6116370B2 JP3362182A JP3362182A JPS6116370B2 JP S6116370 B2 JPS6116370 B2 JP S6116370B2 JP 3362182 A JP3362182 A JP 3362182A JP 3362182 A JP3362182 A JP 3362182A JP S6116370 B2 JPS6116370 B2 JP S6116370B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adsorbent
- heptane
- water
- adsorption
- adsorption tower
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
本発明は、粗ベンゾールの精製方法に関し、更
に詳しくは、ｎ−ヘプタンと水とを含有する粗ベ
ンゾールの精製方法に関する。 例えば石炭ガスの製造に際し副生する粗ベンゾ
ールからのｎ−ヘプタンの除去は、通常、高温高
圧下での水添分解、或いはスルホラン等による抽
出により行なわれている。しかしながら、これ等
の方法には、エネルギーコストが高いという欠点
がある。本発明者は、従来法の欠点を解消すべく
種々研究を進めるうちに、吸着法によりｎ−ヘプ
タンの除去を行なうことを着想した。一般に吸着
除去法を採用する場合には、例えば、モレキユラ
ーシーブ（商標）として知られているゼオライト
系吸着剤を充填した吸着塔に粗ベンゾールを通
し、ｎ−ヘプタンを吸着除去することになる。し
かるに、粗ベンゾールは水分をも含有しており、
吸着剤には水分とｎ−ヘプタンとが吸着される。
従つて、吸着剤の再生時には、ｎ−ヘプタンのコ
ーキングを防止すべく、先ず120〜150℃の比較的
低温に吸着剤を加熱してｎ−ヘプタンの脱着を行
ない、次いで吸着剤を250℃程度の高温に加熱し
て水分の脱着を行なう必要がある。従つて、この
方法には、(イ)脱着操作を２段階で行なう為、煩雑
である。(ロ)150℃までの低温での加熱ではｎ−ヘ
プタンの脱着が完全に行なわれない為、250℃近
傍の加熱によつて残存するｎ−ヘプタン（常温平
衡吸着量の２〜３℃程度）のコーキングが発生す
ることは避け難い。この為、吸着と脱着とを繰返
すにしたがつて吸着能が次第に低下し、吸着剤の
寿命が短いものとなる等の欠点があり、公知の吸
着法をｎ−ヘプタンの除去にそのまま転用するこ
とは不可能となることが判明した。 本発明者は、上記の如き現状に鑑みて更に種々
実験及び研究を重ねるうちに、水とｎ−ヘプタン
の吸着除去を順次別個に行なう場合には、吸着剤
の寿命が飛躍的に延長されることを見出し、本発
明を完成するにいたつた。即ち、本発明は、ｎ−
ヘプタンと水とを含有する粗ベンゾールを精製す
るに際し、細孔径４Å程度の細孔から主としてな
るゼオライト系吸着剤により水分を吸着除去した
後、細孔径５〜13Å程度の細孔から主としてなる
ゼオライト系吸着剤及び活性炭の少なくとも１種
によりｎ−ヘプタンを吸着除去し、次いで上記の
両吸着剤を加熱して水分及びｎ−ヘプタンを夫々
脱着することを特徴とする粗ベンゾールの精製方
法に係る。 以下、図面に示す実施態様を参照しつつ、本発
明を更に詳細に説明する。 第１図において、水分及びｎ−ヘプタンを含有
する粗ベンゾールは、ライン１から、水分を選択
的に吸着する第１の吸着剤３を充填する第１の吸
着塔５に供給される。水分を選択的に吸着する吸
着剤としては、細孔径４Å程度の細孔から主とし
てなるゼオライト系吸着剤を使用する。吸着時の
条件は、温度10〜50℃程度、圧力常圧近傍、線速
度１〜20cm／分程度とすることが好ましい。水分
を除去された粗ベンゾールは、ライン７を経てｎ
−ヘプタンの吸着能を有する第２の吸着剤９を充
填された第２の吸着塔１１に送られ、ここでｎ−
ヘプタンが吸着除去される。第２の吸着剤として
は、ｎ−ヘプタンを選択的に吸着し得るものが好
ましいが、すでに粗ベンゾール中の水分が十分に
除去されているので、水分吸着能をも併有するも
のであつても使用可能である。第２の吸着剤とし
ては、細孔径５Å乃至13Å程度の細孔から主とし
てなる吸着剤、より具体的には、細孔５〜13Å程
度の細孔から主としてなるゼオライト系吸着剤及
び活性炭の少なくとも１種が使用される。第２の
吸着塔１１における吸着条件は、温度10〜50℃程
度、圧力常圧近傍、線速度１〜20cm／分程度とす
ることが好ましい。第２の吸着塔１１においてｎ
−ヘプタンの除去を終えたベンゾールは、ライン
１３から系外に取り出される。 所定時間の運転後に行なわれる吸着剤の再生処
理は、第１の吸着剤の場合には、200〜300℃程度
に加熱して水撫を脱着させ、又第２の吸着剤の場
合には、90〜150℃程度に加熱するとともに100〜
200mmHg（絶対圧）程度に吸着塔１１内を減圧す
ることにより、行なうのが好ましい。 尚、第１の吸着塔５と第２の吸着塔１１を１セ
ツトとし、同様のセツトを複数個設けて粗ベンゾ
ールの供給を順次切りかえる場合には、粗ベンゾ
ールの精製を連続的に行なうことが出来る。 本発明によれば、以下の如き効果が達成され
る。 (a) 水分とｎ−ヘプタンの吸着が別個に行なわれ
るので、再生間隔が延長される。 (b) 各吸着塔の再生が一段階で行なわれるので、
再生時間の短縮及び所要エネルギーの節減が可
能となる。 (c) 吸着剤の寿命が著るしく延長される。 (d) 吸着剤の使用量が減少する。 実施例 １ 水800ppm及びｎ−ヘプタン1000ppmを含む粗
ベンゾールを、ゼオライト吸着剤（商標：モレキ
ユラーシーブ4A、米国リンデ社製）２m3を充填
させた内径1.2mの第１吸着塔に供給し水分の除
去を行なつた。吸着条件は、常温、常圧で線速度
８cm／minであつた。次いで、第１吸着塔を出た
粗ベンゾールを、ゼオライト吸着剤（商標モレキ
ユラーシーブ5A、米国リンデ社製）４m3を充填
させた内径1.2mの第２吸着塔に送り、ｎ−ヘプ
タンの吸着除去を行なつた。吸着条件は、常温、
常圧で線速度８cm／minであつた。 第１表に本実施例の結果を示す。 比較例 １ 内径1.2mの単一の吸着塔にゼオライト吸着剤
（モレキユラーシーブ5A）10m3を充填し、実施例
１と同様の粗ベンゾールを常温、常圧下に線速度
８cm／minで吸着処理した。 結果は、第１表に示す通りである。
に詳しくは、ｎ−ヘプタンと水とを含有する粗ベ
ンゾールの精製方法に関する。 例えば石炭ガスの製造に際し副生する粗ベンゾ
ールからのｎ−ヘプタンの除去は、通常、高温高
圧下での水添分解、或いはスルホラン等による抽
出により行なわれている。しかしながら、これ等
の方法には、エネルギーコストが高いという欠点
がある。本発明者は、従来法の欠点を解消すべく
種々研究を進めるうちに、吸着法によりｎ−ヘプ
タンの除去を行なうことを着想した。一般に吸着
除去法を採用する場合には、例えば、モレキユラ
ーシーブ（商標）として知られているゼオライト
系吸着剤を充填した吸着塔に粗ベンゾールを通
し、ｎ−ヘプタンを吸着除去することになる。し
かるに、粗ベンゾールは水分をも含有しており、
吸着剤には水分とｎ−ヘプタンとが吸着される。
従つて、吸着剤の再生時には、ｎ−ヘプタンのコ
ーキングを防止すべく、先ず120〜150℃の比較的
低温に吸着剤を加熱してｎ−ヘプタンの脱着を行
ない、次いで吸着剤を250℃程度の高温に加熱し
て水分の脱着を行なう必要がある。従つて、この
方法には、(イ)脱着操作を２段階で行なう為、煩雑
である。(ロ)150℃までの低温での加熱ではｎ−ヘ
プタンの脱着が完全に行なわれない為、250℃近
傍の加熱によつて残存するｎ−ヘプタン（常温平
衡吸着量の２〜３℃程度）のコーキングが発生す
ることは避け難い。この為、吸着と脱着とを繰返
すにしたがつて吸着能が次第に低下し、吸着剤の
寿命が短いものとなる等の欠点があり、公知の吸
着法をｎ−ヘプタンの除去にそのまま転用するこ
とは不可能となることが判明した。 本発明者は、上記の如き現状に鑑みて更に種々
実験及び研究を重ねるうちに、水とｎ−ヘプタン
の吸着除去を順次別個に行なう場合には、吸着剤
の寿命が飛躍的に延長されることを見出し、本発
明を完成するにいたつた。即ち、本発明は、ｎ−
ヘプタンと水とを含有する粗ベンゾールを精製す
るに際し、細孔径４Å程度の細孔から主としてな
るゼオライト系吸着剤により水分を吸着除去した
後、細孔径５〜13Å程度の細孔から主としてなる
ゼオライト系吸着剤及び活性炭の少なくとも１種
によりｎ−ヘプタンを吸着除去し、次いで上記の
両吸着剤を加熱して水分及びｎ−ヘプタンを夫々
脱着することを特徴とする粗ベンゾールの精製方
法に係る。 以下、図面に示す実施態様を参照しつつ、本発
明を更に詳細に説明する。 第１図において、水分及びｎ−ヘプタンを含有
する粗ベンゾールは、ライン１から、水分を選択
的に吸着する第１の吸着剤３を充填する第１の吸
着塔５に供給される。水分を選択的に吸着する吸
着剤としては、細孔径４Å程度の細孔から主とし
てなるゼオライト系吸着剤を使用する。吸着時の
条件は、温度10〜50℃程度、圧力常圧近傍、線速
度１〜20cm／分程度とすることが好ましい。水分
を除去された粗ベンゾールは、ライン７を経てｎ
−ヘプタンの吸着能を有する第２の吸着剤９を充
填された第２の吸着塔１１に送られ、ここでｎ−
ヘプタンが吸着除去される。第２の吸着剤として
は、ｎ−ヘプタンを選択的に吸着し得るものが好
ましいが、すでに粗ベンゾール中の水分が十分に
除去されているので、水分吸着能をも併有するも
のであつても使用可能である。第２の吸着剤とし
ては、細孔径５Å乃至13Å程度の細孔から主とし
てなる吸着剤、より具体的には、細孔５〜13Å程
度の細孔から主としてなるゼオライト系吸着剤及
び活性炭の少なくとも１種が使用される。第２の
吸着塔１１における吸着条件は、温度10〜50℃程
度、圧力常圧近傍、線速度１〜20cm／分程度とす
ることが好ましい。第２の吸着塔１１においてｎ
−ヘプタンの除去を終えたベンゾールは、ライン
１３から系外に取り出される。 所定時間の運転後に行なわれる吸着剤の再生処
理は、第１の吸着剤の場合には、200〜300℃程度
に加熱して水撫を脱着させ、又第２の吸着剤の場
合には、90〜150℃程度に加熱するとともに100〜
200mmHg（絶対圧）程度に吸着塔１１内を減圧す
ることにより、行なうのが好ましい。 尚、第１の吸着塔５と第２の吸着塔１１を１セ
ツトとし、同様のセツトを複数個設けて粗ベンゾ
ールの供給を順次切りかえる場合には、粗ベンゾ
ールの精製を連続的に行なうことが出来る。 本発明によれば、以下の如き効果が達成され
る。 (a) 水分とｎ−ヘプタンの吸着が別個に行なわれ
るので、再生間隔が延長される。 (b) 各吸着塔の再生が一段階で行なわれるので、
再生時間の短縮及び所要エネルギーの節減が可
能となる。 (c) 吸着剤の寿命が著るしく延長される。 (d) 吸着剤の使用量が減少する。 実施例 １ 水800ppm及びｎ−ヘプタン1000ppmを含む粗
ベンゾールを、ゼオライト吸着剤（商標：モレキ
ユラーシーブ4A、米国リンデ社製）２m3を充填
させた内径1.2mの第１吸着塔に供給し水分の除
去を行なつた。吸着条件は、常温、常圧で線速度
８cm／minであつた。次いで、第１吸着塔を出た
粗ベンゾールを、ゼオライト吸着剤（商標モレキ
ユラーシーブ5A、米国リンデ社製）４m3を充填
させた内径1.2mの第２吸着塔に送り、ｎ−ヘプ
タンの吸着除去を行なつた。吸着条件は、常温、
常圧で線速度８cm／minであつた。 第１表に本実施例の結果を示す。 比較例 １ 内径1.2mの単一の吸着塔にゼオライト吸着剤
（モレキユラーシーブ5A）10m3を充填し、実施例
１と同様の粗ベンゾールを常温、常圧下に線速度
８cm／minで吸着処理した。 結果は、第１表に示す通りである。
【表】
第１表に示す結果から、本発明方法の優れた効
果が明らかである。
果が明らかである。
第１図は、本発明方法の一実施態様を示すフロ
ーチヤートである。 ３……第１の吸着剤、５……第１の吸着塔、９
……第２の吸着剤、１１……第２の吸着塔。
ーチヤートである。 ３……第１の吸着剤、５……第１の吸着塔、９
……第２の吸着剤、１１……第２の吸着塔。
Claims (1)
- １ ｎ−ヘプタンと水とを含有する粗ベンゾール
を精製するに際し、細孔径４Å程度の細孔から主
としてなるゼオライト系吸着剤により水分を吸着
除去した後、細孔径５〜13Å程度の細孔から主と
してなるゼオライト系吸着剤及び活性炭の少なく
とも１種によりｎ−ヘプタンを吸着除去し、次い
で上記の両吸着剤を加熱して水分及びｎ−ヘプタ
ンを夫々脱着することを特徴とする粗ベンゾール
の精製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3362182A JPS58150522A (ja) | 1982-03-02 | 1982-03-02 | 粗ベンゾ−ルの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3362182A JPS58150522A (ja) | 1982-03-02 | 1982-03-02 | 粗ベンゾ−ルの精製方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58150522A JPS58150522A (ja) | 1983-09-07 |
| JPS6116370B2 true JPS6116370B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=12391515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3362182A Granted JPS58150522A (ja) | 1982-03-02 | 1982-03-02 | 粗ベンゾ−ルの精製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58150522A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5210333A (en) * | 1992-09-30 | 1993-05-11 | Exxon Research And Engineering Company | Benzene removal from hydrocarbon streams |
| KR101728595B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2017-04-19 | 유오피 엘엘씨 | 탄화수소 스트림의 처리 방법 및 장치 |
| WO2016094249A2 (en) * | 2014-12-12 | 2016-06-16 | Uop Llc | Processes for adsorptive separation of benzene |
-
1982
- 1982-03-02 JP JP3362182A patent/JPS58150522A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58150522A (ja) | 1983-09-07 |
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