JPS61163131A - ガラス体の製造方法 - Google Patents
ガラス体の製造方法Info
- Publication number
- JPS61163131A JPS61163131A JP67585A JP67585A JPS61163131A JP S61163131 A JPS61163131 A JP S61163131A JP 67585 A JP67585 A JP 67585A JP 67585 A JP67585 A JP 67585A JP S61163131 A JPS61163131 A JP S61163131A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gel
- sol
- glass body
- inner mold
- shape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金属アルコキシドを主原料とするゾル−ゲル
法により、大型で任意の形状のガラス体を製造する方法
に関する。
法により、大型で任意の形状のガラス体を製造する方法
に関する。
金属アルコキシドを主原料にしたゾル−ゲル法によるガ
ラスの製造が種々試みられている。ゾル−ゲル法の利点
としては、0製造に必要な最高加熱温度が低い O純度
の高いガラスができる O均質性が高い などいくつかあげられる。特にアルキルシリケートを原
料とする石英ガラスの製造は工業的な見地からも、安価
に高品質なものが得られるという点において今後注目す
べき方法と思われる。
ラスの製造が種々試みられている。ゾル−ゲル法の利点
としては、0製造に必要な最高加熱温度が低い O純度
の高いガラスができる O均質性が高い などいくつかあげられる。特にアルキルシリケートを原
料とする石英ガラスの製造は工業的な見地からも、安価
に高品質なものが得られるという点において今後注目す
べき方法と思われる。
ところで、従来のゾル−ゲル法によるガラス製造は、ゾ
ルの仕込みの容易さ、あるいはその後の乾燥、焼結の容
易さから、板状9円柱状など、ごく限られた形状のもの
しか得られていない。
ルの仕込みの容易さ、あるいはその後の乾燥、焼結の容
易さから、板状9円柱状など、ごく限られた形状のもの
しか得られていない。
例えば、ある形状をした容器を作るためのゲルを得よう
とした場合、原料ゾルは液体であるから、内空部が所望
の容器の形状をした型の中で、その形状を保ったままゲ
ル化させなくてはならない。
とした場合、原料ゾルは液体であるから、内空部が所望
の容器の形状をした型の中で、その形状を保ったままゲ
ル化させなくてはならない。
ところが、ゾル−ゲル法のひとつの特徴としてゾルがゲ
ル化した瞬間から収縮が始まるため、この場合、構造上
、ゲル自身がゲルの内形状を決める型(内型)を圧迫し
、その抗力により自身の強度限界でゲルは破壊されてし
まう。
ル化した瞬間から収縮が始まるため、この場合、構造上
、ゲル自身がゲルの内形状を決める型(内型)を圧迫し
、その抗力により自身の強度限界でゲルは破壊されてし
まう。
また、大型のものが得られないというのは、ゾル−ゲル
法の最大の欠点であり、特に上述のように、形状的に複
雑なものになるほど、それは顕著である。そこで本発明
はこのような問題点を解決するもので、その目的とする
ところはゾル−ゲル法により大型で種々の形状のガラス
体を製造する方法を提供するところにある。
法の最大の欠点であり、特に上述のように、形状的に複
雑なものになるほど、それは顕著である。そこで本発明
はこのような問題点を解決するもので、その目的とする
ところはゾル−ゲル法により大型で種々の形状のガラス
体を製造する方法を提供するところにある。
本発明のゾル−ゲル法によるガラス体の製造方法は、任
意の形状をもつ外形と、同じく任意の形状をもつ脱着可
能で、必要ならば収縮可能な内型とを組み合わせた容器
中に、原料ゾルとして、シリコンアルコキシドの酸性触
媒加水分解液に微粉末シリpを添加したものを流し入れ
てゲル化させ、内型をとりはずして、ゲルを乾燥、焼結
してガラス体とすることを特徴とする。
意の形状をもつ外形と、同じく任意の形状をもつ脱着可
能で、必要ならば収縮可能な内型とを組み合わせた容器
中に、原料ゾルとして、シリコンアルコキシドの酸性触
媒加水分解液に微粉末シリpを添加したものを流し入れ
てゲル化させ、内型をとりはずして、ゲルを乾燥、焼結
してガラス体とすることを特徴とする。
本発明のごとく、ゾルの仕込み容器の内型が脱着可能で
あれば、ゾルがゲル化後それをとりはずすことによって
、前述したゲルの収縮による内型からのゲル自身への圧
迫抗力を避けられる。
あれば、ゾルがゲル化後それをとりはずすことによって
、前述したゲルの収縮による内型からのゲル自身への圧
迫抗力を避けられる。
またゲルと型との密着力の高い場合、特に底の深い容器
などを作ろうとした場合、ゲルと型との接触面積が大き
いほど型はとりはずすのが困難となるが、内型が収縮可
能なもので、ゲル化後、ゲルより剥離させることができ
るようなものであればそのような困難は何ら伴わないこ
とは明らかである。そのため収縮可能な型としては、例
えばゴムのように弾力のあるもので、ゲルの収縮による
内型への圧迫力を充分緩和できる単純なゴム製型を含む
が、さらに容易な方法としては内型の構造として固気液
体いずれでもよいが、内部に包含させることで内型自身
を膨張させることができ、さらにゲル化後、内部固気液
体をとり出すことにより自身が収縮できるような構造を
もったものを利用するのがよい。
などを作ろうとした場合、ゲルと型との接触面積が大き
いほど型はとりはずすのが困難となるが、内型が収縮可
能なもので、ゲル化後、ゲルより剥離させることができ
るようなものであればそのような困難は何ら伴わないこ
とは明らかである。そのため収縮可能な型としては、例
えばゴムのように弾力のあるもので、ゲルの収縮による
内型への圧迫力を充分緩和できる単純なゴム製型を含む
が、さらに容易な方法としては内型の構造として固気液
体いずれでもよいが、内部に包含させることで内型自身
を膨張させることができ、さらにゲル化後、内部固気液
体をとり出すことにより自身が収縮できるような構造を
もったものを利用するのがよい。
また最近、ゾル−ゲル法により大型の石英ガラスを得る
方法が見出された(当社特許 土岐らガラス集大成)そ
れによると、エチルシリケートの酸性触媒加水分解液に
微粉末シリカを添加することにより、大きい細孔を有し
ながらも結合力の強いゲルが得られ、このことが大型の
石英ガラスの製造を可能にした。本発明に上記発明を応
用すれば大型で任意の形状のゲル、ひいてはガラス体が
製造できる。
方法が見出された(当社特許 土岐らガラス集大成)そ
れによると、エチルシリケートの酸性触媒加水分解液に
微粉末シリカを添加することにより、大きい細孔を有し
ながらも結合力の強いゲルが得られ、このことが大型の
石英ガラスの製造を可能にした。本発明に上記発明を応
用すれば大型で任意の形状のゲル、ひいてはガラス体が
製造できる。
〔実施例1〕
精製した市販のエチルシリケート10ofにα02規定
塩醗 35?を加え攪拌して加水分解させた。これに水
551を加えた後シリカ微粉末(Aerosil OX
50 degue8a社製) を29f加えて2時間
攪拌、2時間超音波振動を印加し、分散性の高いシリカ
ゾル溶液とした。
塩醗 35?を加え攪拌して加水分解させた。これに水
551を加えた後シリカ微粉末(Aerosil OX
50 degue8a社製) を29f加えて2時間
攪拌、2時間超音波振動を印加し、分散性の高いシリカ
ゾル溶液とした。
本実施例においては、図1に示すような石英ガラスセル
を製造することを目的とし、図2に示す仕込み容器を用
意した。この仕込み容器の外型はポリフロヒレ′ン製で
内寸法はタテ五ocINヨコ五〇画高さ10?M内型は
硬質ゴム製で外寸法はタテ2.0のヨコ2.0譚高さ1
0mのものである。
を製造することを目的とし、図2に示す仕込み容器を用
意した。この仕込み容器の外型はポリフロヒレ′ン製で
内寸法はタテ五ocINヨコ五〇画高さ10?M内型は
硬質ゴム製で外寸法はタテ2.0のヨコ2.0譚高さ1
0mのものである。
上記原料ゾルをl11規定アンモニア水により、PHを
4.5に調整した後、仕込み容器に仕込んだ。50分後
モニターサンプルがゲル化したことを確認した上で、仕
込み容器の内型をゲルを破損しないようゆっくりとりは
ずした。ゲルか外気にふれないよう7タをして一昼夜静
置したところ、ゲルはある程度収縮し外型から剥離した
。これを開口率1%のフタを有する別容器(ポリプロピ
レン製10mX 10t−InX 20crII高)に
移し替え、60℃の恒温槽内で乾燥させた。10日後後
外法1.8副X1.8cTnX6crIt高 3朋厚)
のドライゲルが得られ、これを電気炉で昇温速度1℃/
分で1000℃まで昇温し、1000℃で10時間保持
しさらに昇温速度1℃/分で1200℃亥で昇温120
0℃で2時間保持して透明ガラス化させた。できあがっ
た石英容器の大きさは外寸法1.5 cm Xt 5
cyr X 5 crs高 2.5廖厚 であった。品
質的には気泡、異物は全くなく、光学測定用セルとして
充分使用できるものであった。
4.5に調整した後、仕込み容器に仕込んだ。50分後
モニターサンプルがゲル化したことを確認した上で、仕
込み容器の内型をゲルを破損しないようゆっくりとりは
ずした。ゲルか外気にふれないよう7タをして一昼夜静
置したところ、ゲルはある程度収縮し外型から剥離した
。これを開口率1%のフタを有する別容器(ポリプロピ
レン製10mX 10t−InX 20crII高)に
移し替え、60℃の恒温槽内で乾燥させた。10日後後
外法1.8副X1.8cTnX6crIt高 3朋厚)
のドライゲルが得られ、これを電気炉で昇温速度1℃/
分で1000℃まで昇温し、1000℃で10時間保持
しさらに昇温速度1℃/分で1200℃亥で昇温120
0℃で2時間保持して透明ガラス化させた。できあがっ
た石英容器の大きさは外寸法1.5 cm Xt 5
cyr X 5 crs高 2.5廖厚 であった。品
質的には気泡、異物は全くなく、光学測定用セルとして
充分使用できるものであった。
〔実施例2〕
精製した市販のエチルシリケート512fに0.02規
定の塩酸192tを加えて加水分解させた(A液)。一
方、エチルシリケートqaat。
定の塩酸192tを加えて加水分解させた(A液)。一
方、エチルシリケートqaat。
エタノール2569t、水5359.29%アンモニア
水103tを混合し、2時間攪拌した後−夜装置したと
ころ平均粒径が114μmのシリカ粒子(アンモニア合
成シリカ)を含むゾル溶液となった。これをシリカ濃度
が[152@ / ccになるまで濃縮し、1規定塩酸
によりPHを一〇に調整した後、上記A液と混合して原
料ゾルとした。
水103tを混合し、2時間攪拌した後−夜装置したと
ころ平均粒径が114μmのシリカ粒子(アンモニア合
成シリカ)を含むゾル溶液となった。これをシリカ濃度
が[152@ / ccになるまで濃縮し、1規定塩酸
によりPHを一〇に調整した後、上記A液と混合して原
料ゾルとした。
図5に本実施例における仕込み容器を示した。
外型はポリプロピレン製で内寸法が20αφ×20c1
n高内型は図4に示したように外部が硬質ゴム、内部に
軟質ゴムの2重構造をもつ円筒容器で軟質ゴムには圧力
調整器をつけて内部の圧力を自由に調節できるようにし
た。°内圧が1気圧の時、この内型の外寸法は18αφ
X20eM高であり、これに窒素を吹き込み内圧を3気
圧にしたところ膨張して外寸法は19cniφ×21m
高になった。
n高内型は図4に示したように外部が硬質ゴム、内部に
軟質ゴムの2重構造をもつ円筒容器で軟質ゴムには圧力
調整器をつけて内部の圧力を自由に調節できるようにし
た。°内圧が1気圧の時、この内型の外寸法は18αφ
X20eM高であり、これに窒素を吹き込み内圧を3気
圧にしたところ膨張して外寸法は19cniφ×21m
高になった。
これを図3のように固定して仕込み容器とした。
上記原料ゾルを(L1規定アンモニア水によりPE[値
4.8に調整した後、仕込み容器に仕込んだ。
4.8に調整した後、仕込み容器に仕込んだ。
55分後モニターサンプルがゲル化したことを確認した
上で、仕込み容器内型の内圧を1気圧に戻し、内型を収
縮させたところ、内型はゲルを破損させることなくゲル
より剥離した。内型をとりはずし、その後のゲルの乾燥
および焼結は実施例1と同様に行なりたところ外寸法1
0anφ×10副高の透明石英ガラス容器が得られた。
上で、仕込み容器内型の内圧を1気圧に戻し、内型を収
縮させたところ、内型はゲルを破損させることなくゲル
より剥離した。内型をとりはずし、その後のゲルの乾燥
および焼結は実施例1と同様に行なりたところ外寸法1
0anφ×10副高の透明石英ガラス容器が得られた。
〔実施例3〕
実施例2において内型として同様に18cInφX20
cIn高のポリプロピレン製の円筒容器を用いたところ
、ゲル化後内型をとりはずすことができずに、まもなく
ゲルは破壊された。
cIn高のポリプロピレン製の円筒容器を用いたところ
、ゲル化後内型をとりはずすことができずに、まもなく
ゲルは破壊された。
〔実施例4〕
実施例2において、原料ゾルとして微粉末シリカを含ま
ないエチルシリケートの塩酸触媒加水分解液のみを用い
、同様な形状のゲルを得たが、ゲル化後2時間でゲルは
破壊された。
ないエチルシリケートの塩酸触媒加水分解液のみを用い
、同様な形状のゲルを得たが、ゲル化後2時間でゲルは
破壊された。
本発明のごとく、原料ゾルとして、微粒子シリカを含む
アルキルシリケートの加水分解液を用い、ゲル化時の仕
込み容器を工夫することにより、任意の形状のゲル、ひ
いてはガラス体を製造することができる。このように、
熔融状態を経ないゾル−ゲル法によるガラス体において
自由に形状を選べるなら、本発明のような石英セル、ピ
ー力等の理化学品のみならず、半導体製造用の反応管等
電子工業分野や、さらに高品質なものが要求される各種
光学部品などに、低価格で石英ガラス製品を提供できる
。
アルキルシリケートの加水分解液を用い、ゲル化時の仕
込み容器を工夫することにより、任意の形状のゲル、ひ
いてはガラス体を製造することができる。このように、
熔融状態を経ないゾル−ゲル法によるガラス体において
自由に形状を選べるなら、本発明のような石英セル、ピ
ー力等の理化学品のみならず、半導体製造用の反応管等
電子工業分野や、さらに高品質なものが要求される各種
光学部品などに、低価格で石英ガラス製品を提供できる
。
第1図は、所望の石英ガラスセルの図
画2図は、仕込み容器の断面図
■・・・外型(ポリプロピレン製ン
■・・・内型(硬質ゴム製)
第5図は、仕込み容器断面図
■・・・外型(ポリプロピレン製)
■・・・内型
■・・・フタ
■・・・圧力調整器
第4図は、1lE3図における内型の断面図と内面図
■・・・硬質ゴム製
■・・・軟質ゴム製
第3図
第4図
λ
Claims (4)
- (1)金属アルコキシドを主原料とするゾル−ゲル法に
よるガラス体の製造方法において、任意の形状をもつ外
型と、同じく任意の形状をもつ脱着可能の内型とを組み
合わせた容器中に原料ゾルを流し入れてゲル化させ、所
定の形状のゲルを作製し、内型をとりはずしゲルを乾燥
、焼結して透明ガラス化させることを特徴とするガラス
体の製造方法。 - (2)前記内型として、脱着可能でしかも収縮可能な内
型を用いることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
のガラス体の製造方法。 - (3)前記金属アルコキシドとしてシリコンアルコキシ
ド(Si(OR)_4;Rはアルキル基)を用いること
を特徴とする特許請求の範囲第1項および第2項記載の
ガラス体の製造方法。 - (4)前記原料ゾルとして、シリコンアルコキシドの酸
性触媒による加水分解液と微粉末シリカ、あるいはシリ
カ微粒子を含むゾル液とを混合したゾル溶液を用いるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項記載のガラス
体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP67585A JPS61163131A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | ガラス体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP67585A JPS61163131A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | ガラス体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61163131A true JPS61163131A (ja) | 1986-07-23 |
Family
ID=11480319
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP67585A Pending JPS61163131A (ja) | 1985-01-07 | 1985-01-07 | ガラス体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61163131A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004083138A1 (en) * | 2003-03-21 | 2004-09-30 | Dagussa Novara Technology S.P.A. | Silicon oxide based articles |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55140516A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-04 | Yokohama Rubber Co Ltd | Core for manufacturing hollow concrete body and its use |
EP0040579A1 (de) * | 1980-05-19 | 1981-11-25 | Arbed S.A. | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Hohlkörpern |
JPS58194747A (ja) * | 1982-05-06 | 1983-11-12 | Seiko Epson Corp | 石英ガラス製品の製造法 |
-
1985
- 1985-01-07 JP JP67585A patent/JPS61163131A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55140516A (en) * | 1979-04-20 | 1980-11-04 | Yokohama Rubber Co Ltd | Core for manufacturing hollow concrete body and its use |
EP0040579A1 (de) * | 1980-05-19 | 1981-11-25 | Arbed S.A. | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Hohlkörpern |
JPS58194747A (ja) * | 1982-05-06 | 1983-11-12 | Seiko Epson Corp | 石英ガラス製品の製造法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004083138A1 (en) * | 2003-03-21 | 2004-09-30 | Dagussa Novara Technology S.P.A. | Silicon oxide based articles |
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