JPH01275438A - ガラス成形体の製造方法 - Google Patents
ガラス成形体の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
- C03B19/1065—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/12—Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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-
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- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/24—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkali silicate solutions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラス成形体、特に石英ガラス成形体の製造
方法に関する。
方法に関する。
本発明の方法は、透明、半透明、不透明、あるいは多孔
質の石英ガラス成形体あるいは、強化ガラス、ドープド
ガラスなどのガラス成形体の製造に適用することができ
る。
質の石英ガラス成形体あるいは、強化ガラス、ドープド
ガラスなどのガラス成形体の製造に適用することができ
る。
従来、・石英ガラスは、珪石、珪砂、水晶などを190
0〜2000°Cの高温度で溶融する方法によって製造
されている。しかし、溶融物の粘度が高いことから石英
ガラスの製造はむづかしく、また、これらの原料をその
まま溶融して石英ガラス成形体を直接製造することは困
難である。
0〜2000°Cの高温度で溶融する方法によって製造
されている。しかし、溶融物の粘度が高いことから石英
ガラスの製造はむづかしく、また、これらの原料をその
まま溶融して石英ガラス成形体を直接製造することは困
難である。
石英ガラス成形体の製法としては、石英ガラスの粉砕物
を水と混合し、鋳込み成形後、乾燥し焼成する方法が知
られているが、この方法では粉砕工程における不純物の
混入による汚染が避けられず、焼成中に結晶化する傾向
があり、得られた鋳込み溶融石英の嵩密度は、理論値の
80〜85%と低いものしか得られないという難点があ
る。
を水と混合し、鋳込み成形後、乾燥し焼成する方法が知
られているが、この方法では粉砕工程における不純物の
混入による汚染が避けられず、焼成中に結晶化する傾向
があり、得られた鋳込み溶融石英の嵩密度は、理論値の
80〜85%と低いものしか得られないという難点があ
る。
(Journal of the An+erican
Ceramic 5ociety、 66漱10.6
83〜688. (1983)、)また、ケイ酸ソーダ
を原料とするン冨弐法によって得られた超微粉末シリカ
とシリコンアルコキシドとを原料とするゾル−ゲル法が
提案されているが(特開昭60−131833号公報)
、ケイ酸ソーダを原料として湿式法によって得られた市
販されているシリカには、シリカに対して数百〜数千p
pm相当量のナトリウムが含有されているため、この方
法ではゲルを焼成した際にクリストバライト化し易く、
焼成品を室温に冷却したとき無数の亀裂が生じることを
避けるため低温で焼成することを要し、充分な焼結がで
きないという難点がある。
Ceramic 5ociety、 66漱10.6
83〜688. (1983)、)また、ケイ酸ソーダ
を原料とするン冨弐法によって得られた超微粉末シリカ
とシリコンアルコキシドとを原料とするゾル−ゲル法が
提案されているが(特開昭60−131833号公報)
、ケイ酸ソーダを原料として湿式法によって得られた市
販されているシリカには、シリカに対して数百〜数千p
pm相当量のナトリウムが含有されているため、この方
法ではゲルを焼成した際にクリストバライト化し易く、
焼成品を室温に冷却したとき無数の亀裂が生じることを
避けるため低温で焼成することを要し、充分な焼結がで
きないという難点がある。
本発明は従来技術の問題点を解決し、入手の容易なアル
カリ金属けい酸塩水溶液を原料として得られた微粒子シ
リカを比較的低温度で焼成し、Naなどアルカリ金属や
その他の不純物含量の少ない高純度で、かつ、密度の高
いガラス成形体、特に石英ガラス成形体を製造するもの
である。
カリ金属けい酸塩水溶液を原料として得られた微粒子シ
リカを比較的低温度で焼成し、Naなどアルカリ金属や
その他の不純物含量の少ない高純度で、かつ、密度の高
いガラス成形体、特に石英ガラス成形体を製造するもの
である。
本発明の目的は、アルカリ金属けい酸塩水溶液を原料さ
して、高純度で、かつ、密度の高いガラス成形体、特に
石英ガラス成形体を製造する方法を提供することにある
。
して、高純度で、かつ、密度の高いガラス成形体、特に
石英ガラス成形体を製造する方法を提供することにある
。
本発明者らは、アルカリ金属けい酸塩水溶液と酸とを反
応させて得たシリカを精製して得られた ”アルカリ金
属やその他の不純物含量が少なく、平均粒径が20μm
以上ないし1ml11以下の範囲であるシリカを、焼成
した後、粉砕することによって、アルカリ金属含有率が
10ppm以下、更にはlppm以下であり、比表面積
が0.01〜700nf/Hの範囲で、平均粒径が20
μm未満である、不純物含量の少ない高純度の微粒子シ
リカを得ることができ、これを成形し、焼成することに
よってガラス成形体を得ることができることを見出し、
本発明を完成させた。
応させて得たシリカを精製して得られた ”アルカリ金
属やその他の不純物含量が少なく、平均粒径が20μm
以上ないし1ml11以下の範囲であるシリカを、焼成
した後、粉砕することによって、アルカリ金属含有率が
10ppm以下、更にはlppm以下であり、比表面積
が0.01〜700nf/Hの範囲で、平均粒径が20
μm未満である、不純物含量の少ない高純度の微粒子シ
リカを得ることができ、これを成形し、焼成することに
よってガラス成形体を得ることができることを見出し、
本発明を完成させた。
以下、本発明の詳細について説明する。
本発明の方法で用いられる粉砕用原料(以下、砕料とい
う)シリカを得るための原料として用いられるアルカリ
けい酸塩水溶液は、−数式;M!0・n5io□ (た
だし、Mはアルカリ金属元素、nはSiO□のモル数で
0.5〜5を示す)で表されるアルカリ金属けい酸塩の
水溶液で、けい酸のナトリウム塩、カリウム塩、リチウ
ム塩などの水溶液を用いることができる。
う)シリカを得るための原料として用いられるアルカリ
けい酸塩水溶液は、−数式;M!0・n5io□ (た
だし、Mはアルカリ金属元素、nはSiO□のモル数で
0.5〜5を示す)で表されるアルカリ金属けい酸塩の
水溶液で、けい酸のナトリウム塩、カリウム塩、リチウ
ム塩などの水溶液を用いることができる。
その5tozi4度は20重量%以上、好ましくは25
重重量以上であることが望ましい、 Stow濃度が低
い場合には、酸と反応させて得られたシリカがゾル状に
分散したり、あるいは反応生成物が軟質のゲル状に固ま
り、シリカの精製が困難になる傾向がある。
重重量以上であることが望ましい、 Stow濃度が低
い場合には、酸と反応させて得られたシリカがゾル状に
分散したり、あるいは反応生成物が軟質のゲル状に固ま
り、シリカの精製が困難になる傾向がある。
アルカリ金属けい酸塩水溶液と反応させる酸としては硫
酸、硝酸、塩酸などの鉱酸が用いられ、硫酸、硝酸が好
ましい。
酸、硝酸、塩酸などの鉱酸が用いられ、硫酸、硝酸が好
ましい。
鉱酸のほかに有機酸を用いることもできる。
本発明の方法において用いられる砕料シリカの要件は、
平均粒径が20μm以上ないしlllIn1以下の範囲
であることである。
平均粒径が20μm以上ないしlllIn1以下の範囲
であることである。
本発明の方法で用いられる砕料シリカは、その平均粒径
が20〜300 μmの範囲で、比表面積(BET法に
よる。以下、同じ)が0.01〜700nf/gの範囲
であることが好ましい。また、そのアルカリ金属含有率
はできるだけ少ないことが望ましく、好ましくは519
1m以下、更に好ましくは1ppI11以下であること
が望ましい。
が20〜300 μmの範囲で、比表面積(BET法に
よる。以下、同じ)が0.01〜700nf/gの範囲
であることが好ましい。また、そのアルカリ金属含有率
はできるだけ少ないことが望ましく、好ましくは519
1m以下、更に好ましくは1ppI11以下であること
が望ましい。
アルカリ金属けい酸塩水溶液と酸とを反応させて得られ
たシリカの平均粒径が20μm以上であると精製工程に
おける不純物の抽出に悪影響を及ぼすことなく、洗浄・
脱水処理が容易であり不純物含量を少なくすることがで
きるのに対し、シリカの平均粒径が20μm未満である
と精製工程における洗浄・脱水処理が困難となり、また
、1mmを超えると精製工程における不純物の抽出が困
難となり、いづれも高純度のシリカを得ることが困難で
あるので好ましくない。
たシリカの平均粒径が20μm以上であると精製工程に
おける不純物の抽出に悪影響を及ぼすことなく、洗浄・
脱水処理が容易であり不純物含量を少なくすることがで
きるのに対し、シリカの平均粒径が20μm未満である
と精製工程における洗浄・脱水処理が困難となり、また
、1mmを超えると精製工程における不純物の抽出が困
難となり、いづれも高純度のシリカを得ることが困難で
あるので好ましくない。
本発明の方法で砕料として用いられるシリカの比表面積
は0.01〜700r4/gの範囲であることが望まし
く、好ましくは0.1〜’b 更に好ましくは20〜600rrf/gの範囲である。
は0.01〜700r4/gの範囲であることが望まし
く、好ましくは0.1〜’b 更に好ましくは20〜600rrf/gの範囲である。
比表面積が20nf/g以上であるシリカを砕料とした
ときは、比表面積が2Onf/g未満であるシリカを用
いたときに比較して粉砕装置の摩耗が少なく、得られる
微粒子シリカに混入する不純物量が少ないので好ましい
。
ときは、比表面積が2Onf/g未満であるシリカを用
いたときに比較して粉砕装置の摩耗が少なく、得られる
微粒子シリカに混入する不純物量が少ないので好ましい
。
本発明の方法で用いられる砕料としてのシリカを得るた
めの方法としては、公知の方法の中から本発明の方法に
おける砕料としての要件を備えたシリカが得られる方法
が選ばれる。たとえば、特開昭62−3011号または
特開昭62−283809号などの各公報に記載の方法
によ、て、本発明の方法で用いられる砕料シリカを得る
ことができる。
めの方法としては、公知の方法の中から本発明の方法に
おける砕料としての要件を備えたシリカが得られる方法
が選ばれる。たとえば、特開昭62−3011号または
特開昭62−283809号などの各公報に記載の方法
によ、て、本発明の方法で用いられる砕料シリカを得る
ことができる。
実施の態様としては、予め粘度が2〜500ポイズ、好
ましくは2〜200ポイズの範囲に調製された前記アル
カリ金属けい酸塩の水溶液を、孔径が20μm〜1ma
lの範囲、好ましくは30〜300μmの範囲であるノ
ズルから、水溶性有機媒体または酸溶液からなる凝固浴
中に押し出して繊維状ないし柱状あるいは粒状に凝固さ
せ、得られたゲルを酸含有液で処理した後、次いで水洗
して不純物を抽出除去することによって得ることができ
る。
ましくは2〜200ポイズの範囲に調製された前記アル
カリ金属けい酸塩の水溶液を、孔径が20μm〜1ma
lの範囲、好ましくは30〜300μmの範囲であるノ
ズルから、水溶性有機媒体または酸溶液からなる凝固浴
中に押し出して繊維状ないし柱状あるいは粒状に凝固さ
せ、得られたゲルを酸含有液で処理した後、次いで水洗
して不純物を抽出除去することによって得ることができ
る。
上記方法によって、内外両面に無数の亀裂を有する壁に
囲まれた中空構造を有し、しかも、アルカリ金属元素や
塩素のほか、ウランなど放射性を有する物質、更には、
AI、Fe、Tiなど各種の不純物含有率が、いずれも
IP+)−以下である高純度シリカを得ることができる
。
囲まれた中空構造を有し、しかも、アルカリ金属元素や
塩素のほか、ウランなど放射性を有する物質、更には、
AI、Fe、Tiなど各種の不純物含有率が、いずれも
IP+)−以下である高純度シリカを得ることができる
。
使用するノズルは、凝固浴中でゲル化したアルカリ金属
けい酸塩がノズル面に付着するトラブルの発生を防ぐた
めに、金−白金合金など貴金属合金類型または四弗化エ
チレン系樹脂製、またはノズル面を貴金属類または四弗
化エチレン系樹脂で被覆したものであることが好ましい
。
けい酸塩がノズル面に付着するトラブルの発生を防ぐた
めに、金−白金合金など貴金属合金類型または四弗化エ
チレン系樹脂製、またはノズル面を貴金属類または四弗
化エチレン系樹脂で被覆したものであることが好ましい
。
凝固浴に用いられる水溶性有機媒体としては例えば、メ
タノール、エタノール、n−プロパツール等のアルコー
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセト
ン1メチルエチルケトン等のケトン類、ジメチルアセト
アミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ジメチ
ルスルフオキシド等を挙げることができる。
タノール、エタノール、n−プロパツール等のアルコー
ル類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、アセト
ン1メチルエチルケトン等のケトン類、ジメチルアセト
アミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド類、ジメチ
ルスルフオキシド等を挙げることができる。
また、凝固浴に用いられる酸としては、硫酸。
硝酸、塩酸などの無機酸であって、硫酸、硝酸を用いる
のが好ましく、酸溶液としては、実用上、これらの酸の
水溶液が好ましい、酸濃度は、0.1〜4規定、好まし
くは0.5〜3規定、更に好ましくは1〜2規定の範囲
である。
のが好ましく、酸溶液としては、実用上、これらの酸の
水溶液が好ましい、酸濃度は、0.1〜4規定、好まし
くは0.5〜3規定、更に好ましくは1〜2規定の範囲
である。
凝固浴温度は、25°C以上、好ましくは40〜80゛
Cの範囲に保持するのがよい。
Cの範囲に保持するのがよい。
アルカリ金属けい酸塩水溶液と酸とを反応させて得られ
たシリカの精製には、硫酸、硝酸、塩酸などの鉱酸、過
酸化水素などの過酸化物およびキレート剤などから選ば
れた物質を含む水溶液による洗浄など公知の方法を用い
ることができる。
たシリカの精製には、硫酸、硝酸、塩酸などの鉱酸、過
酸化水素などの過酸化物およびキレート剤などから選ば
れた物質を含む水溶液による洗浄など公知の方法を用い
ることができる。
砕料シリカの「平均粒径」の測定は、ふるい分は法によ
る。また、砕料シリカの形状が繊維状ないし柱状など球
形からのずれが大きい場合には光学顕微鏡によって求め
られた粒子の太さ (短径)の算術平均値を「平均粒径
」とみなした。
る。また、砕料シリカの形状が繊維状ないし柱状など球
形からのずれが大きい場合には光学顕微鏡によって求め
られた粒子の太さ (短径)の算術平均値を「平均粒径
」とみなした。
粉砕処理によって得られたシリカ粒子の「平均粒径」は
、遠心沈降光透過法により測定した。
、遠心沈降光透過法により測定した。
前記の方法で得られた砕料シリカは、粉砕処理に先立っ
て焼成処理(以下、粉砕前焼成という)する。なお、粉
砕前焼成に先立って砕料シリカを乾燥し、含水率を10
重量%以下とすることが望ましい。砕料シリカの乾燥は
粉体の乾燥に通常用いられる方法−たとえば、流動層乾
燥などの方法により、温度50〜300°C1好ましく
は100〜200°Cの範囲で行う。
て焼成処理(以下、粉砕前焼成という)する。なお、粉
砕前焼成に先立って砕料シリカを乾燥し、含水率を10
重量%以下とすることが望ましい。砕料シリカの乾燥は
粉体の乾燥に通常用いられる方法−たとえば、流動層乾
燥などの方法により、温度50〜300°C1好ましく
は100〜200°Cの範囲で行う。
砕料シリカの焼成処理は、電気炉などを用いて温度30
0〜1500°C1好ましくは800〜1300℃の範
囲におし1て行ない、焼成時間は1分〜10時間、好ま
しくは10分〜2時間の範囲である。
0〜1500°C1好ましくは800〜1300℃の範
囲におし1て行ない、焼成時間は1分〜10時間、好ま
しくは10分〜2時間の範囲である。
粉砕前焼成の温度と時間とを前記範囲で調節することに
よって、砕料シリカの比表面積を0.O1〜700rr
f/gの範囲に調整することができ、シリカの粉砕性・
成形性・焼結性および収縮性を調節することができる。
よって、砕料シリカの比表面積を0.O1〜700rr
f/gの範囲に調整することができ、シリカの粉砕性・
成形性・焼結性および収縮性を調節することができる。
粉砕前焼成の温度を高めると、シリカの比表面積が減少
し粉砕し難くなる傾向があるが、粉砕して得られた微粒
子シリカの比表面積が小さい程、これを成形し焼成した
際の収縮率が低減し、得られるガラス成形体の寸法精度
が高まるという利点がある。プレス成形体を焼成したと
きの線収縮率を25%以下にするためには、成形原料と
して用いられる微粒子シリカの比表面積は600nf/
g以下であることが好ましい。
し粉砕し難くなる傾向があるが、粉砕して得られた微粒
子シリカの比表面積が小さい程、これを成形し焼成した
際の収縮率が低減し、得られるガラス成形体の寸法精度
が高まるという利点がある。プレス成形体を焼成したと
きの線収縮率を25%以下にするためには、成形原料と
して用いられる微粒子シリカの比表面積は600nf/
g以下であることが好ましい。
また、微粒子シリカを水などの媒体に分散させて微粒子
シリカスラリーを調製する際に、微粒子シリカが粉砕前
焼成を高温度で行ったシリカを粉砕して得たものである
ときは、スラリー中のSiO□濃度を85重量%程度に
まで高めることができ、得られた成形体の乾燥が容易で
ある。
シリカスラリーを調製する際に、微粒子シリカが粉砕前
焼成を高温度で行ったシリカを粉砕して得たものである
ときは、スラリー中のSiO□濃度を85重量%程度に
まで高めることができ、得られた成形体の乾燥が容易で
ある。
$5))砕前焼成を低温度で行ったシリカは粉砕が容易
であり、また、焼結性がよいが、成形体を焼成した際の
収縮率が大きくなる傾向がある。
であり、また、焼結性がよいが、成形体を焼成した際の
収縮率が大きくなる傾向がある。
本発明の方法において、粉砕前焼成したシリカの粉砕は
、乾式粉砕、または液体の分散媒体を用いる湿式粉砕の
いづれの方法によってもよい。
、乾式粉砕、または液体の分散媒体を用いる湿式粉砕の
いづれの方法によってもよい。
液体分散媒体としては水性媒体が好適に用いられる。ま
た、分散媒体として水溶性液体有機化合物を用いること
ができ、その具体例として、メタノール1 エタノール
などのアルコール類、ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトン
、メチルエチルケトンなどのケトン類などを挙げること
ができ、水と水溶性存機化合物との混合物を分散媒体と
して用いることもできる。
た、分散媒体として水溶性液体有機化合物を用いること
ができ、その具体例として、メタノール1 エタノール
などのアルコール類、ホルムアミド、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトン
、メチルエチルケトンなどのケトン類などを挙げること
ができ、水と水溶性存機化合物との混合物を分散媒体と
して用いることもできる。
本発明の方法において、焼成シリカの粉砕には通常の粉
砕装置を用いることができ、たとえば、ポットミル、チ
ューブミル、コニカルボールミルまたはコンパートメン
トミルなどの転勤ボールミル、振動ボールミル、または
塔式粉砕機、撹拌樽型ミルなどの媒体撹拌ミルなどが、
また、乾式粉砕の場合には更に、ディスクミル、ビンミ
ル、遠心分級型ミルなどの高速回転式粉砕機、あるいは
ジェット粉砕機などを用いることもできる。
砕装置を用いることができ、たとえば、ポットミル、チ
ューブミル、コニカルボールミルまたはコンパートメン
トミルなどの転勤ボールミル、振動ボールミル、または
塔式粉砕機、撹拌樽型ミルなどの媒体撹拌ミルなどが、
また、乾式粉砕の場合には更に、ディスクミル、ビンミ
ル、遠心分級型ミルなどの高速回転式粉砕機、あるいは
ジェット粉砕機などを用いることもできる。
砕料と接触する粉砕装置要部または必要によって用いら
れる粉砕媒体の材質は、アルミナ1 ジルコニア、炭化
ケイ素、窒化ケイ素または石英ガラス、溶融石英、水晶
、瑞瑞または珪石などの珪酸質材料の中から適宜選択し
て用いる。
れる粉砕媒体の材質は、アルミナ1 ジルコニア、炭化
ケイ素、窒化ケイ素または石英ガラス、溶融石英、水晶
、瑞瑞または珪石などの珪酸質材料の中から適宜選択し
て用いる。
本発明の方法によって、嵩密度が高く結晶化度の小さい
石英ガラスを製造する場合に用いられる微粒子シリカを
得る場合には、粉砕装置要部および粉砕媒体の材質は石
英ガラス、溶融石英などの非晶質の珪酸質材料が適し、
特に高純度の石英ガラスが好ましい。
石英ガラスを製造する場合に用いられる微粒子シリカを
得る場合には、粉砕装置要部および粉砕媒体の材質は石
英ガラス、溶融石英などの非晶質の珪酸質材料が適し、
特に高純度の石英ガラスが好ましい。
結晶質の珪酸質材料からなる粉砕装置を用いて粉砕した
シリカを焼成すると、シリカの結晶化が促進されるので
好ましくない。
シリカを焼成すると、シリカの結晶化が促進されるので
好ましくない。
本発明の方法において、用いられるボール1 ロンドな
どの剛体からなる粉砕媒体は、直径が0.5〜25胴、
好ましくは1〜10mmの範囲の大きさのものである。
どの剛体からなる粉砕媒体は、直径が0.5〜25胴、
好ましくは1〜10mmの範囲の大きさのものである。
粉砕所要時間は粉砕条件により異なるが、0.5分〜9
6時間の範囲、好ましくは2分から24時間の範囲であ
る。
6時間の範囲、好ましくは2分から24時間の範囲であ
る。
本発明の方法によって、アルカリ金属含有率が10pp
m以下、更には1 ppm以下であり、比表面積が0.
01〜700イ/gの範囲で、平均粒径が20μm未満
である、不純物含量の少ない高純度の微粒子シリカ、ま
たはこれを含む微粒子シリカスラリーを得ることができ
る。
m以下、更には1 ppm以下であり、比表面積が0.
01〜700イ/gの範囲で、平均粒径が20μm未満
である、不純物含量の少ない高純度の微粒子シリカ、ま
たはこれを含む微粒子シリカスラリーを得ることができ
る。
前記粉砕処理で得られた微粒子シリカ、または微粒子シ
リカスラリーからガラス成形体を得るには、これらを適
宜な方法によって成形し、ついで焼成する。
リカスラリーからガラス成形体を得るには、これらを適
宜な方法によって成形し、ついで焼成する。
本発明の方法において、微粒子シリカは、金型プレス成
形、ラバープレス成形1 アイソスタチックプレス成形
、ホットプレス成形、射出成形などの各種のプレス成形
法によって成形する。
形、ラバープレス成形1 アイソスタチックプレス成形
、ホットプレス成形、射出成形などの各種のプレス成形
法によって成形する。
成形時の圧力は、10〜5000 kg / cd、好
ましくは100〜2000 kg / cnlの範囲で
ある。
ましくは100〜2000 kg / cnlの範囲で
ある。
前記粉砕処理で得られた微粒子シリカスラリーをそのま
ま、または、これにシリカ粉末を添加するか、あるいは
得られた前記微粒子シリカに水などの分散媒体を加え、
5iOzfi度が15%ないし85%程度の微粒子シリ
カスラリーまたはペースト状として、流し込み成形、押
出し成形、押型成形、カレンダー法・ドクターブレード
法などのテープ鋳込み成形、プレス成形、射出成形など
の各種の方法によって成形することができる。
ま、または、これにシリカ粉末を添加するか、あるいは
得られた前記微粒子シリカに水などの分散媒体を加え、
5iOzfi度が15%ないし85%程度の微粒子シリ
カスラリーまたはペースト状として、流し込み成形、押
出し成形、押型成形、カレンダー法・ドクターブレード
法などのテープ鋳込み成形、プレス成形、射出成形など
の各種の方法によって成形することができる。
微粒子シリカスラリーに対して、アルカリ金属けい酸塩
水溶液と酸を反応させて得たシリカを精製して得られた
高純度シリカを乾式粉砕して得られた、その平均粒径が
100μm以下、好ましくは50μm以下、更に好まし
くは20〃m以下であるシリカ粉末を添加することがで
きる。
水溶液と酸を反応させて得たシリカを精製して得られた
高純度シリカを乾式粉砕して得られた、その平均粒径が
100μm以下、好ましくは50μm以下、更に好まし
くは20〃m以下であるシリカ粉末を添加することがで
きる。
なお、乾式粉砕に先立って、50〜300’C1好まし
くは100〜200°Cの範囲で乾燥した後、乾式粉砕
して得られたシリカ粉末を、微粒子シリカスラリーに加
えて成形すると、得られた成形体を乾燥する際に割れが
生じ難く好ましい。また、前記条件で乾燥した後、30
0〜1500’C1好ましくは800〜1300°Cの
範囲で焼成した後、乾式粉砕して得られたシリカ焼成粉
末を微粒子シリカスラリーに加えて成形すると、得られ
た成形体を乾燥・焼成した際の成形体の収縮が少なく好
ましい。
くは100〜200°Cの範囲で乾燥した後、乾式粉砕
して得られたシリカ粉末を、微粒子シリカスラリーに加
えて成形すると、得られた成形体を乾燥する際に割れが
生じ難く好ましい。また、前記条件で乾燥した後、30
0〜1500’C1好ましくは800〜1300°Cの
範囲で焼成した後、乾式粉砕して得られたシリカ焼成粉
末を微粒子シリカスラリーに加えて成形すると、得られ
た成形体を乾燥・焼成した際の成形体の収縮が少なく好
ましい。
本発明において、微粒子シリカまたは微粒子シリカスラ
リーには、上記シリカ粉末のほかに、公知の方法で製造
された不純物の少ないシリカ粉末やシリカゾルを添加す
ることもできる。
リーには、上記シリカ粉末のほかに、公知の方法で製造
された不純物の少ないシリカ粉末やシリカゾルを添加す
ることもできる。
また、本発明においては粉砕前焼成を施した砕料シリカ
、または粉砕して得られた成形前の微粒子シリカまたは
微粒子シリカスラリーに対して、シリカあたりの重量比
で0.002〜3%、好ましくは0,01〜1%の範囲
の凝膠剤、または、0.1〜10%、好ましくは0.2
〜3%の範囲のバインダーを添加することによって成形
体のυ1れを減らすことができる。
、または粉砕して得られた成形前の微粒子シリカまたは
微粒子シリカスラリーに対して、シリカあたりの重量比
で0.002〜3%、好ましくは0,01〜1%の範囲
の凝膠剤、または、0.1〜10%、好ましくは0.2
〜3%の範囲のバインダーを添加することによって成形
体のυ1れを減らすことができる。
凝膠剤としては、タンニン酸、塩化アンモニウム、弗化
アンモニウム、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、
燐酸アンモニウム、蓚酸アンモニウムなどを、また、バ
インダーとしては、デキストリン、カゼイン、ゼラチン
、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、メチルエ
チルセルロース、アルギン酸アンモニウム、オレイン酸
、ワックスエマルジョンなどを挙げることができる。
アンモニウム、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、
燐酸アンモニウム、蓚酸アンモニウムなどを、また、バ
インダーとしては、デキストリン、カゼイン、ゼラチン
、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、メチルエ
チルセルロース、アルギン酸アンモニウム、オレイン酸
、ワックスエマルジョンなどを挙げることができる。
分散媒体を用いた場合には、微粒子シリカ成形体の焼成
処理に先立って該成形体を乾燥する。
処理に先立って該成形体を乾燥する。
乾燥処理の好ましい態様は次の通りである。
乾燥温度は、20〜200°Cの範囲とし、乾燥の初期
では30〜90°Cの範囲とするのが好ましい。
では30〜90°Cの範囲とするのが好ましい。
成形体中の水分が多い場合には、乾燥時の成形体の割れ
を防ぐため乾燥速度を調節することが好ましい、成形体
を収納した容器の気相部の開孔率を変えたり、あるいは
乾燥器内の温度と湿度を調節することによって、乾燥速
度を調節することができる。乾燥処理の時間は、成形体
の大きさ、厚み、水分の含有率などにより異なり、3分
〜3ケ月である。
を防ぐため乾燥速度を調節することが好ましい、成形体
を収納した容器の気相部の開孔率を変えたり、あるいは
乾燥器内の温度と湿度を調節することによって、乾燥速
度を調節することができる。乾燥処理の時間は、成形体
の大きさ、厚み、水分の含有率などにより異なり、3分
〜3ケ月である。
次に、得られた乾燥成形体の焼成処理の好ましい態様は
次の通りである。
次の通りである。
焼成温度は、800〜1800°C1好ましくは110
0〜1800℃の範囲である。
0〜1800℃の範囲である。
シリカの粒度と比表面積により必要な焼成温度が変化し
、シリカ粒子の平均粒径が大きくなるにつれて焼結に要
する温度は高くなる。シリカ粒子の平均粒径が3〜4μ
m程度であるときは1100〜1400”Cにおいて焼
結が進むが、平均粒径が10am以上では1400°C
以上の温度が必要である。
、シリカ粒子の平均粒径が大きくなるにつれて焼結に要
する温度は高くなる。シリカ粒子の平均粒径が3〜4μ
m程度であるときは1100〜1400”Cにおいて焼
結が進むが、平均粒径が10am以上では1400°C
以上の温度が必要である。
焼成時の昇温速度は1時間あたり30〜600 ’C1
好ましくは?(10〜500℃の範囲であり、焼成時間
は、高温では短時間でよく、低温では長時間を要する。
好ましくは?(10〜500℃の範囲であり、焼成時間
は、高温では短時間でよく、低温では長時間を要する。
焼成時に一定温度に保持する時間は0〜24時間、好ま
しくは0.1〜5時間の範囲である。
しくは0.1〜5時間の範囲である。
なお、前記の温度範囲で焼成して得られたガラス成形体
に、必要により1800°Cを超え2200’C程度の
温度で更に数秒ないし1程度度の短時間の加熱処理を行
うことによって微細結晶・気泡などの欠陥を除去するこ
とができる。
に、必要により1800°Cを超え2200’C程度の
温度で更に数秒ないし1程度度の短時間の加熱処理を行
うことによって微細結晶・気泡などの欠陥を除去するこ
とができる。
焼成時の炉内雰囲気は、空気、窒素、水素、ヘリウム、
アルゴンなどの存在下でよく、真空下で焼成することも
できる。
アルゴンなどの存在下でよく、真空下で焼成することも
できる。
透明ガラスや透明石英ガラスを製造する場合には、ヘリ
ウム雰囲気で焼成することが好ましい。
ウム雰囲気で焼成することが好ましい。
また、真空下で焼成した後、空気雰囲気で焼成する方法
も好ましい。
も好ましい。
本発明の方法により、アルカリ金属けい酸塩水溶液を原
料として、アルカリ金属含有率がtoppm以下と不純
分が少な(高純度で、比表面積が0.01〜700ボ/
gの範囲で、かつ平均粒径が20pm以下である微粒子
シリカを得、これを成形して、比較的低い温度で焼成し
、低アルカリで高純度の、かつ、高密度の石英ガラス成
形体を製造することができる。
料として、アルカリ金属含有率がtoppm以下と不純
分が少な(高純度で、比表面積が0.01〜700ボ/
gの範囲で、かつ平均粒径が20pm以下である微粒子
シリカを得、これを成形して、比較的低い温度で焼成し
、低アルカリで高純度の、かつ、高密度の石英ガラス成
形体を製造することができる。
シリカの粉砕条件と焼成条件を適宜に変えることにより
、透明・半透明・不透明または多孔質の石英ガラスを製
造することができる。
、透明・半透明・不透明または多孔質の石英ガラスを製
造することができる。
本発明の方法は、使用する原料が入手し易く、また、省
エネルギー化が可能で従来法より経済的であるという利
点を併せ持っている。
エネルギー化が可能で従来法より経済的であるという利
点を併せ持っている。
以下、本発明の方法を実施例および比較例により説明す
る。「%」は「重量%Jを意味する。
る。「%」は「重量%Jを意味する。
実施例−1゜
けい酸ソーダ#3号(JIS K1408.3号相当品
、以下同じ)(Sing: 28%、NazO: 9%
)20kgを減圧下で50°Cに加温して脱水濃縮し、
Sing: 30%、)lago: 9.8%の処理用
原液を得た。本原液の粘度は、20’Cで4.1 ボイ
ズであった。
、以下同じ)(Sing: 28%、NazO: 9%
)20kgを減圧下で50°Cに加温して脱水濃縮し、
Sing: 30%、)lago: 9.8%の処理用
原液を得た。本原液の粘度は、20’Cで4.1 ボイ
ズであった。
この原液をろ過した後、押し出し機を用いて孔径が20
0μmφ、孔数200細孔数−白金合金製ノズルを通し
て、50°Cに保持した凝固浴−硫酸2規定水溶液中へ
6m/分の速度で押し出し、透明な繊維状ゲルを得た。
0μmφ、孔数200細孔数−白金合金製ノズルを通し
て、50°Cに保持した凝固浴−硫酸2規定水溶液中へ
6m/分の速度で押し出し、透明な繊維状ゲルを得た。
得られた繊維状のゲル(含液率二67%、湿量基準)1
0kgを、酸処理液−硫酸2規定水溶液30ffi中に
浸漬し撹拌しながら100°Cで1時間処理し、ヌソチ
ェを用いて脱酸した。同様の処理を更に2回施した後、
得られた短繊維状シリカをイオン交換水30j2を用い
て洗務・濾過を5回繰り返した後、ヌッチェを用いて脱
酸・脱水し、含水率58%のン!シリカを得た。
0kgを、酸処理液−硫酸2規定水溶液30ffi中に
浸漬し撹拌しながら100°Cで1時間処理し、ヌソチ
ェを用いて脱酸した。同様の処理を更に2回施した後、
得られた短繊維状シリカをイオン交換水30j2を用い
て洗務・濾過を5回繰り返した後、ヌッチェを用いて脱
酸・脱水し、含水率58%のン!シリカを得た。
得られた湿シリカを150°Cで16時間加熱して乾燥
し、含水率1%のシリカ粒子を得た。
し、含水率1%のシリカ粒子を得た。
得られたシリカ粒子の平均粒径は220μm、比表面積
は700ポ/ g (BET法による)で、SiO□(
乾量基準)あたりの不純物含有率は、Na: 0.2p
pra。
は700ポ/ g (BET法による)で、SiO□(
乾量基準)あたりの不純物含有率は、Na: 0.2p
pra。
Al: 0.5ppm、 Zr: 0.lppmであっ
た。
た。
乾燥シリカ粒子を1060°Cで40分間焼成した。
得られた焼成シリカ粒子の平均粒径ならびに不純物含有
率には変化がなかったが、その比表面積は410n’f
/gとなった。
率には変化がなかったが、その比表面積は410n’f
/gとなった。
焼成シリカ粒子60gを石英ガラス (Na含有率:Q
、05ppm)製ボール(5nu++φ)200 gを
粉砕媒体としてボールミル内に仕込み、回転数1100
rpで24時間粉砕処理した。ボールミルは実施例−1
で用いたものを使用した。
、05ppm)製ボール(5nu++φ)200 gを
粉砕媒体としてボールミル内に仕込み、回転数1100
rpで24時間粉砕処理した。ボールミルは実施例−1
で用いたものを使用した。
上記の粉砕処理によって得られた微粒子シリカは、平均
粒径が11μmであり、不純物含有率は、Na: 0.
2ppm、 Al: 0.5ppm、 Zr: 0.1
ppn+であった。
粒径が11μmであり、不純物含有率は、Na: 0.
2ppm、 Al: 0.5ppm、 Zr: 0.1
ppn+であった。
得られた微粒子シリカ1gを、金型プレス(内径13f
flIIlφのシリンダー)に充填して上下両方向から
圧力1000 kg / crKで20分間プレスし、
微粒子シリカ成形体を得た。
flIIlφのシリンダー)に充填して上下両方向から
圧力1000 kg / crKで20分間プレスし、
微粒子シリカ成形体を得た。
該成形体を電気炉に入れ、ヘリウム雰囲気下で1時間あ
たり200°Cの速度で1250°Cに昇温し、この温
度に1.5時間保持した後、更に1時間あたり200°
Cの速度で1500°Cに昇温し、この温度に3時間保
持した後、冷却した。
たり200°Cの速度で1250°Cに昇温し、この温
度に1.5時間保持した後、更に1時間あたり200°
Cの速度で1500°Cに昇温し、この温度に3時間保
持した後、冷却した。
このようにして得られた円板状石英ガラス成形体(10
mIIlφ×6胴)は、半透明で水中に入れても気泡の
発生は認められず、嵩密度が2.1g/clであり、X
線回折(以下、XRD &いう)による測定の結果、ア
モルファスであった。
mIIlφ×6胴)は、半透明で水中に入れても気泡の
発生は認められず、嵩密度が2.1g/clであり、X
線回折(以下、XRD &いう)による測定の結果、ア
モルファスであった。
実施例−2〜4および比較例−1゜
実施例−1で得られた乾燥シリカ粒子について、表−1
に示す条件でそれぞれ焼成し、比表面積の異なる焼成シ
リカ粒子を得た。なお、比較のために焼成を行わない場
合を比較例−1として示した。
に示す条件でそれぞれ焼成し、比表面積の異なる焼成シ
リカ粒子を得た。なお、比較のために焼成を行わない場
合を比較例−1として示した。
焼成シリカ粒子はいづれも、平均粒径は220μm、S
iO□(乾量基準)あたりの不純物含有率は、Na:
0.2ppm、 Al: 0.5ppm、 Zr: 0
.lppmで、焼成前に比較して変化がなかった。
iO□(乾量基準)あたりの不純物含有率は、Na:
0.2ppm、 Al: 0.5ppm、 Zr: 0
.lppmで、焼成前に比較して変化がなかった。
これらシリカ粒子の各60gを実施例−1と同様にして
粉砕処理を行い、微粒子シリカを得た。
粉砕処理を行い、微粒子シリカを得た。
微粒子シリカの不純物含有率は、Ha: 0.2ppa
++Al: 0.5ppm、 Zr: 0.lppmで
、いづれも粉砕前に比較して変化がなかった。
++Al: 0.5ppm、 Zr: 0.lppmで
、いづれも粉砕前に比較して変化がなかった。
得られた微粒子シリカの各1gを実施例−1と同様にし
て成形し、微粒子シリカ成形体を得た。
て成形し、微粒子シリカ成形体を得た。
°各機粒子シリカ成形体を電気炉で真空下で1時間あた
り200°Cの速度で1250°Cに昇温してこの温度
に1.5時間保持し、ついで、アルゴン雰囲気として1
時間あたり 200’Cの速度で1750°Cに昇温し
てこの温度に0.5時間保持した後、冷却した。
り200°Cの速度で1250°Cに昇温してこの温度
に1.5時間保持し、ついで、アルゴン雰囲気として1
時間あたり 200’Cの速度で1750°Cに昇温し
てこの温度に0.5時間保持した後、冷却した。
得られた円板状石英ガラス成形体はいづれも、失透や気
泡がなく透明で、嵩密度は2.2g/cnl、XRD測
定の結果、アモルファスであった。
泡がなく透明で、嵩密度は2.2g/cnl、XRD測
定の結果、アモルファスであった。
乾燥シリカ粒子の焼成条件1乾燥シリ力粒子または焼成
シリカ粒子の比表面積、粉砕して得られた微粒子シリカ
の平均粒径1石英ガラス成形体の寸法(直径×厚み)な
らびに焼成による線収縮率(直径方向)を表−1に示す
。
シリカ粒子の比表面積、粉砕して得られた微粒子シリカ
の平均粒径1石英ガラス成形体の寸法(直径×厚み)な
らびに焼成による線収縮率(直径方向)を表−1に示す
。
実施例−5゜
実施例−1で得られた焼成シリカ粒子27gを、水40
gと0,1規定塩酸水溶液1.4rn1との混合液を分
散媒体として、石英ガラス (Na含有率: 0.05
ppm)製ポール(5ffIIIlφ)200 gを粉
砕媒体としてボールミル内に仕込み、回転数1100r
pで24時間4式粉砕処理した。
gと0,1規定塩酸水溶液1.4rn1との混合液を分
散媒体として、石英ガラス (Na含有率: 0.05
ppm)製ポール(5ffIIIlφ)200 gを粉
砕媒体としてボールミル内に仕込み、回転数1100r
pで24時間4式粉砕処理した。
ボールミルは転勤式で石英ガラス (Na含有率=0.
05ppm)類ボット (容量0.4 f ’I を
使用した。
05ppm)類ボット (容量0.4 f ’I を
使用した。
上記の粉砕処理によって得られた微粒子シリカスラリー
中の微粒子シリカは、平均粒径が0.9μm、5iOz
あたりの不純物含有率は、Na: 0.2ppm。
中の微粒子シリカは、平均粒径が0.9μm、5iOz
あたりの不純物含有率は、Na: 0.2ppm。
Al: 0.5ppm、 Zr: 0.lppmであっ
た。
た。
該微粒子シリカスラリーの35gを、40Torrの圧
力下で10分間脱気した。脱気後の微粒子シリカスラリ
ーに0.3%アンモニア水を加え、pHを5.0に調整
した。これを再度、40Torrの圧力下で10分間脱
気した。
力下で10分間脱気した。脱気後の微粒子シリカスラリ
ーに0.3%アンモニア水を加え、pHを5.0に調整
した。これを再度、40Torrの圧力下で10分間脱
気した。
処理した微粒子シリカスラリーをテフロン製シャーレ
(内径80mmφ)に流し込み、蓋をして50°Cの恒
温器内で静置し固化させた。1日経過後、シャーレの蓋
を開孔率1%の孔をあけた蓋に換え、50°Cの恒温器
内で6日間乾燥した後、得られた円板状シリカ成形体を
乾燥機に入れ、150°Cにおいて10時間乾燥した。
(内径80mmφ)に流し込み、蓋をして50°Cの恒
温器内で静置し固化させた。1日経過後、シャーレの蓋
を開孔率1%の孔をあけた蓋に換え、50°Cの恒温器
内で6日間乾燥した後、得られた円板状シリカ成形体を
乾燥機に入れ、150°Cにおいて10時間乾燥した。
該成形体を電気炉に入れ、ヘリウム雰囲気下で1時間あ
たり200’Cの速度で1300°Cに昇温し、この温
度に1.5時間保持した後、更に1時間かけて1500
“Cに昇温し、この温度に1時間保持した後、冷却した
。
たり200’Cの速度で1300°Cに昇温し、この温
度に1.5時間保持した後、更に1時間かけて1500
“Cに昇温し、この温度に1時間保持した後、冷却した
。
このようにして得られた円板状石英ガラス成形体(50
柵φx3mm)は、失透や気泡がなく透明であり、嵩密
度が2.2g/cfflで、XRD測定の結果、アモル
ファスであった。
柵φx3mm)は、失透や気泡がなく透明であり、嵩密
度が2.2g/cfflで、XRD測定の結果、アモル
ファスであった。
実施例−6゜
押出機のノズルとして孔径が36μmφのものを用いた
ほかは、実施例−1に準した処理を行い、含水率1%の
乾燥シリカ粒子を得た。
ほかは、実施例−1に準した処理を行い、含水率1%の
乾燥シリカ粒子を得た。
得られた乾燥シリカ粒子の平均粒径は40μm、′比表
面積は800rrf/gで、不純物含有率は、Na:0
.2ppm、 Al: 0.4ppm、 Zr: 0.
lppmであった。
面積は800rrf/gで、不純物含有率は、Na:0
.2ppm、 Al: 0.4ppm、 Zr: 0.
lppmであった。
乾燥シリカ粒子を1200°Cで30分間焼成した。
得られた焼成シリカ粒子の比表面積は0.5rrf/g
であった。なお、平均粒径ならびに不純物含有率には変
化がなかった。
であった。なお、平均粒径ならびに不純物含有率には変
化がなかった。
焼成シリカ粒子60gを実施例−1と同様にして粉砕処
理を行った。
理を行った。
粉砕処理によって得られた微粒子シリカは、平均粒径が
15μm、不純物含有率は、Na: 0.2ppm+A
l: 0.4ppm、 Zr: 0.lppmであった
。
15μm、不純物含有率は、Na: 0.2ppm+A
l: 0.4ppm、 Zr: 0.lppmであった
。
得られた微粒子シリカ1gを、実施例−1と同様にして
プレス成形を行った。
プレス成形を行った。
該成形体を電気炉に入れ、ヘリウム雰囲気下で1時間あ
たり200°Cの速度で1300°Cに昇温し、この温
度に3時間保持した後、冷却した。
たり200°Cの速度で1300°Cに昇温し、この温
度に3時間保持した後、冷却した。
このようにして得られた円板状石英ガラス成形体(10
mmφx6mm) は半透明であり、水中に入れても気
泡の発生は認められなかった。
mmφx6mm) は半透明であり、水中に入れても気
泡の発生は認められなかった。
該成形体は、嵩密度が2.1g/cmで、Xll0によ
る測定の結果、アモルファスであった。
る測定の結果、アモルファスであった。
実施例−7゜
実施例−1で得られた乾燥シリカ粒子を1200”Cで
30分間焼成して、平均粒径が220IJm、比表面積
が0.5++(/gで、不純物含有率が、Na: 0.
2ppm。
30分間焼成して、平均粒径が220IJm、比表面積
が0.5++(/gで、不純物含有率が、Na: 0.
2ppm。
Al: 0.5ppm、 Zr: 0.lppm゛であ
る焼成シリカ粒子を得た。
る焼成シリカ粒子を得た。
この焼成シリカ粒子60gを実施例−1と同様にして粉
砕処理を行い、平均粒径が15μmで、不純物含有率が
、Na: 0.2ppLl、 Al: 0.5ppm、
Zr: 0.1ppnである微粒子シリカを得た。
砕処理を行い、平均粒径が15μmで、不純物含有率が
、Na: 0.2ppLl、 Al: 0.5ppm、
Zr: 0.1ppnである微粒子シリカを得た。
得られた微粒子シリカ26gを純水4.6gと混合して
SiO□濃度85%の微粒子シリカペーストとし、これ
をテフロン製シャーレ(内径80ffIIIlφ)に流
し込んだ。以下、実施例−5と同様にして同化・乾燥さ
せて微粒子シリカ成形体を得た。
SiO□濃度85%の微粒子シリカペーストとし、これ
をテフロン製シャーレ(内径80ffIIIlφ)に流
し込んだ。以下、実施例−5と同様にして同化・乾燥さ
せて微粒子シリカ成形体を得た。
該微粒子シリカ成形体を電気炉で真空下で1時間あたり
200°Cの速度で1300°Cに昇温してこの温度に
1.5時間保持し、ついで、アルゴン雰囲気として1時
間あたり200°Cの速度で1750°Cに昇温してこ
の温度に0.5時間保持した後、冷却した。
200°Cの速度で1300°Cに昇温してこの温度に
1.5時間保持し、ついで、アルゴン雰囲気として1時
間あたり200°Cの速度で1750°Cに昇温してこ
の温度に0.5時間保持した後、冷却した。
得られた円板状石英ガラス成形体(72薗φ×3、mm
) は、半透明であり、その嵩密度は2.1g/cdで
、XRD測定の結果、アモルファスであった。
) は、半透明であり、その嵩密度は2.1g/cdで
、XRD測定の結果、アモルファスであった。
焼成による線収縮率(直径方向)は、10%であった。
比較例−2゜
実施例−6で得た焼成シリカの1gを、粉砕処理するこ
となくそのまま、実施例−6と同様にしてプレス処理し
た。
となくそのまま、実施例−6と同様にしてプレス処理し
た。
プレス体を金型から取り出したところ、プレス体は脆く
て割れてしまい焼成することができず、目的とする成形
体が得られなかった。
て割れてしまい焼成することができず、目的とする成形
体が得られなかった。
Claims (1)
- 1)アルカリ金属けい酸水溶液と酸とを反応させて得た
シリカを精製して得られた平均粒径が20μm以上ない
し1mm以下の範囲であるシリカを、焼成した後、粉砕
することによって得たアルカリ金属含有率が10ppm
以下であり、かつ、平均粒径が20μm未満である微粒
子シリカを成形し、焼成することを特徴とするガラス成
形体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63100122A JPH0776101B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | ガラス成形体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63100122A JPH0776101B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | ガラス成形体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01275438A true JPH01275438A (ja) | 1989-11-06 |
JPH0776101B2 JPH0776101B2 (ja) | 1995-08-16 |
Family
ID=14265532
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63100122A Expired - Fee Related JPH0776101B2 (ja) | 1988-04-25 | 1988-04-25 | ガラス成形体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0776101B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0647600A1 (en) * | 1993-10-08 | 1995-04-12 | Tosoh Corporation | High-purity, opaque quartz glass, method for producing same and use thereof |
EP1413559A1 (en) * | 2001-06-27 | 2004-04-28 | M. Watanabe & Co., Ltd. | High purity synthetic vitreous silica particles |
US7883563B2 (en) | 2006-04-25 | 2011-02-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Honeycomb structure and manufacturing method thereof, and air cleaner and water purifier containing the honeycomb structure |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4836214A (ja) * | 1971-09-11 | 1973-05-28 | ||
JPS5825070A (ja) * | 1982-07-23 | 1983-02-15 | Hitachi Ltd | 低圧放電灯 |
JPS5954632A (ja) * | 1982-09-21 | 1984-03-29 | Mitsubishi Metal Corp | 石英ガラス粉末の製造法 |
JPS6060932A (ja) * | 1983-08-18 | 1985-04-08 | コーニング グラス ワークス | ガラスまたはセラミツク製品の製造方法 |
-
1988
- 1988-04-25 JP JP63100122A patent/JPH0776101B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6060932A (ja) * | 1983-08-18 | 1985-04-08 | コーニング グラス ワークス | ガラスまたはセラミツク製品の製造方法 |
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US5585173A (en) * | 1993-10-08 | 1996-12-17 | Tosoh Corporation | High-purity, opaque quartz glass, method for producing same and use thereof |
EP1413559A1 (en) * | 2001-06-27 | 2004-04-28 | M. Watanabe & Co., Ltd. | High purity synthetic vitreous silica particles |
EP1413559A4 (en) * | 2001-06-27 | 2005-06-29 | Watanabe & Co Ltd M | SYNTHETIC VITREOUS SILICA PARTICLES OF GREAT PURITY |
US7883563B2 (en) | 2006-04-25 | 2011-02-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Honeycomb structure and manufacturing method thereof, and air cleaner and water purifier containing the honeycomb structure |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0776101B2 (ja) | 1995-08-16 |
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---|---|---|---|
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