JPS61123847A - 水なし平版印刷用原板 - Google Patents
水なし平版印刷用原板Info
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- JPS61123847A JPS61123847A JP24438384A JP24438384A JPS61123847A JP S61123847 A JPS61123847 A JP S61123847A JP 24438384 A JP24438384 A JP 24438384A JP 24438384 A JP24438384 A JP 24438384A JP S61123847 A JPS61123847 A JP S61123847A
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- silicone rubber
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- Pending
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/075—Silicon-containing compounds
- G03F7/0752—Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は水なし平版印刷用原板に関するものである。特
に本発明は光硬化および光接着が、温度ならびに酸素の
影響を受けにくい平版印刷用原板を提供するものである
。
に本発明は光硬化および光接着が、温度ならびに酸素の
影響を受けにくい平版印刷用原板を提供するものである
。
湿し水を用いずに印刷が可能な平版印刷版については、
過去にいくつかの発明がなされている。
過去にいくつかの発明がなされている。
たとえば特公昭54−26925.特公昭56−2、5
150に開示されている平版印刷版、および平版印刷用
原板は耐刷力にすぐれ、実用性の高い湿し水不要性平版
印刷版を与えるものである。
150に開示されている平版印刷版、および平版印刷用
原板は耐刷力にすぐれ、実用性の高い湿し水不要性平版
印刷版を与えるものである。
特公昭54−26923においては、感光層組成として
、(1)エチレン性不飽和モノマーを含有する光重合性
組成物、(2)光硬化性ジアゾ樹脂あるいはアジド樹脂
を含有する組成物、などが示されているが、これらの感
光層組成において、アジド樹脂成分を使用した印刷用原
板は、その感光層成分に基因して、経時変化が生じ易い
こと、また印刷版作成時の製版現像工程において現像ラ
チュードが狭く作業性が不良である等の問題点があり、
(1)のエチレン性不飽和モノマーを含有する光重合性
組成物を感光層成分とするものが実用性においてすぐれ
ている。
、(1)エチレン性不飽和モノマーを含有する光重合性
組成物、(2)光硬化性ジアゾ樹脂あるいはアジド樹脂
を含有する組成物、などが示されているが、これらの感
光層組成において、アジド樹脂成分を使用した印刷用原
板は、その感光層成分に基因して、経時変化が生じ易い
こと、また印刷版作成時の製版現像工程において現像ラ
チュードが狭く作業性が不良である等の問題点があり、
(1)のエチレン性不飽和モノマーを含有する光重合性
組成物を感光層成分とするものが実用性においてすぐれ
ている。
また特公昭56−2515oにおいては、基板。
該基板の上にもうけたエチレン性不飽和モノマーもしく
はオリゴマーおよび光開始剤を含有する光重合性接着層
、ならびに該光重合性接着層の上にもうけた縮合型の架
橋により得られるシリコーンゴム層からなる水なし平版
印刷用原板が示されており、これらの基本的構成に起因
して特に実用性の高い水なし平版印刷版を提供するもの
である。
はオリゴマーおよび光開始剤を含有する光重合性接着層
、ならびに該光重合性接着層の上にもうけた縮合型の架
橋により得られるシリコーンゴム層からなる水なし平版
印刷用原板が示されており、これらの基本的構成に起因
して特に実用性の高い水なし平版印刷版を提供するもの
である。
しかしながらこのようなエチレン性不飽和モノマーもし
くはオリゴマーを光重合性接着層成分とした場合、光硬
化反応の速度が温度、酸素濃度の影響を受けるために、
製版露光工程において温度が低すぎる場合、もしくは酸
素濃度が高すぎる場合には、十分な感度、網点再現性が
得られないという問題があった。
くはオリゴマーを光重合性接着層成分とした場合、光硬
化反応の速度が温度、酸素濃度の影響を受けるために、
製版露光工程において温度が低すぎる場合、もしくは酸
素濃度が高すぎる場合には、十分な感度、網点再現性が
得られないという問題があった。
本発明の目的はこの印刷用原板の長所を損うことなく、
シかも製版露光工程での温度、酸素濃度の影響を受けな
い水なし平版印刷用原板を得んとするものである。
シかも製版露光工程での温度、酸素濃度の影響を受けな
い水なし平版印刷用原板を得んとするものである。
本発明は基板、該基板の上にもうけた光硬化性接着層、
並びに該光硬化性接着層の上にもうけたシリコーンゴム
層からなる水なし平版印刷用原板において、光硬化性接
着層が1次式 %式% (R1は炭素数5〜20のアリール基、複素環基を示し
、これらは炭素数1〜10のアルキル基。
並びに該光硬化性接着層の上にもうけたシリコーンゴム
層からなる水なし平版印刷用原板において、光硬化性接
着層が1次式 %式% (R1は炭素数5〜20のアリール基、複素環基を示し
、これらは炭素数1〜10のアルキル基。
アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、アシルオキシ基、アルカノイル基。
ニル基、アシルオキシ基、アルカノイル基。
シアノ基、アジド基を含有しても良<、R1は水素。
炭素数1〜10のアルキル基 Haは水素、炭素数1
〜10のアルキル基、アリール基、アルカノイル基、シ
アノ基、nはO−1の整数)(R1は工と同様のものを
意味する) (R1は工と同様のものを意味する) (Arはアリール基、R“は水素 /Sロゲン原子。
〜10のアルキル基、アリール基、アルカノイル基、シ
アノ基、nはO−1の整数)(R1は工と同様のものを
意味する) (R1は工と同様のものを意味する) (Arはアリール基、R“は水素 /Sロゲン原子。
からなる群より選ばれる少なくとも1種類の光二量化性
基を1分子中に1個以上有し、かつ1分子中に1個以上
の水酸基を有する七ツマ−、オリゴマーあるいはポリマ
ーを含有し、シリコーンゴム層が水素ケイ素結合を有す
る化合物と炭素−炭素不飽和結合を有する化合物との付
加反応により架橋点が式(IX)の構造を有するシリコ
ーンゴムから成ることを特徴とする水なし平版印刷用原
板に関するものである。
基を1分子中に1個以上有し、かつ1分子中に1個以上
の水酸基を有する七ツマ−、オリゴマーあるいはポリマ
ーを含有し、シリコーンゴム層が水素ケイ素結合を有す
る化合物と炭素−炭素不飽和結合を有する化合物との付
加反応により架橋点が式(IX)の構造を有するシリコ
ーンゴムから成ることを特徴とする水なし平版印刷用原
板に関するものである。
− Si −R’ −Si −(■)
(式中 84は炭素数2〜10の置換もしくは非置換の
アルキレン基、アルケニレン基)図に従って本発明の詳
細な説明する。第1・図は本発明にもとづく平版印刷用
原板で、基板1.光硬化性接着層2と、それらの上にも
うけたシリコーンゴム層6とから構成されており、必要
により ☆(さらにその上に保護フィルム4がもう
けられる。
アルキレン基、アルケニレン基)図に従って本発明の詳
細な説明する。第1・図は本発明にもとづく平版印刷用
原板で、基板1.光硬化性接着層2と、それらの上にも
うけたシリコーンゴム層6とから構成されており、必要
により ☆(さらにその上に保護フィルム4がもう
けられる。
第2図に示すようにポジフィルム5を通して露光すると
非画線部の光硬化性接着層は硬化して上層のシリコーン
ゴム層と強固に結合する。それに対し画線部の光接着性
層は露光されないので、上層のシリコーンゴム層との結
合は弱い状態にある。
非画線部の光硬化性接着層は硬化して上層のシリコーン
ゴム層と強固に結合する。それに対し画線部の光接着性
層は露光されないので、上層のシリコーンゴム層との結
合は弱い状態にある。
露光後シリコーンゴムと光接着性層の接着力を低下せし
める現像液に浸漬して版面を軽くこすることにより未露
光部のシリコーンゴム層がはぎとられ、第3図に示すよ
うに下層の光硬化性接着層の表面2′を露出して、イン
キ受容性のすぐれたシャープな画線部を与える。それに
対して露光部のシリコーンゴム層3′は光硬化性接着層
の硬化により強く接着しており9版面に残存してインキ
反発性非画線部を与えるものである。
める現像液に浸漬して版面を軽くこすることにより未露
光部のシリコーンゴム層がはぎとられ、第3図に示すよ
うに下層の光硬化性接着層の表面2′を露出して、イン
キ受容性のすぐれたシャープな画線部を与える。それに
対して露光部のシリコーンゴム層3′は光硬化性接着層
の硬化により強く接着しており9版面に残存してインキ
反発性非画線部を与えるものである。
本発明における基板1はアルミ、スチール、ポリエステ
ルおよびポリアミドなどのプラスチック。
ルおよびポリアミドなどのプラスチック。
ゴム、コート紙、あるいはこれらの複合材等が使用され
る。
る。
本発明において使用される光硬化性接着層2は。
以下に示すような組成を有するものが望ましい。
(1) 同一分子内に1個以上の水酸基および1個以
上の光二量化性基を有する前記記載のモノマー。
上の光二量化性基を有する前記記載のモノマー。
オリゴマー、ポリマー 100重量部(2)
必要に応じて、水酸基を有せず、かつ光二量化性基を有
するモノマー、オリゴマー、ポリマー
0〜500重量部(3)必要に応じて増感剤
0〜50重量部(4)必要に応じて充填剤として
のポ゛リマーあるいは無機粉末 0〜5
00重量部ここで同一分子内に水酸基および光二量化性
基を有する化合物は9本発明における光硬化性接着層成
分として必須であり、水酸基は光二量化性基と共存して
、活性光線照射により、上層のシリコーンゴム層との接
着硬化に寄与するものである。
必要に応じて、水酸基を有せず、かつ光二量化性基を有
するモノマー、オリゴマー、ポリマー
0〜500重量部(3)必要に応じて増感剤
0〜50重量部(4)必要に応じて充填剤として
のポ゛リマーあるいは無機粉末 0〜5
00重量部ここで同一分子内に水酸基および光二量化性
基を有する化合物は9本発明における光硬化性接着層成
分として必須であり、水酸基は光二量化性基と共存して
、活性光線照射により、上層のシリコーンゴム層との接
着硬化に寄与するものである。
かかる光二量化性基とは化合物中あるいは化合物末端な
いしは側鎖に下記一般式CI)〜(■)で示される構造
を有するものである。
いしは側鎖に下記一般式CI)〜(■)で示される構造
を有するものである。
(R1は炭素数5〜20のアリール基、複素環。
基を示し、これらは炭素数1〜10のアルキル基。
アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボ
ニル基、アシルオキシ基、アルカノイル基。
ニル基、アシルオキシ基、アルカノイル基。
シアノ基、アジド基を含有していても良い。 R3は水
素又は炭素数1〜10のアルキル基を示し。
素又は炭素数1〜10のアルキル基を示し。
R”は水素、炭素数1〜10のアルキル基、アリール基
、アルカノイル基、シアノ基を示す。nは0〜5の整数
を示す。) (R1は工と同様である。) (R1は■と同様である。) (Arはアリール基を示す。 R”は水素、ハロゲン、
炭素数1〜10のアルキル基、シアノ基を示す。) かかる構造を有する化合物として、たとえばケイ皮酸エ
ステル、β−フリルアクリル酸エステル。
、アルカノイル基、シアノ基を示す。nは0〜5の整数
を示す。) (R1は工と同様である。) (R1は■と同様である。) (Arはアリール基を示す。 R”は水素、ハロゲン、
炭素数1〜10のアルキル基、シアノ基を示す。) かかる構造を有する化合物として、たとえばケイ皮酸エ
ステル、β−フリルアクリル酸エステル。
α−シアノケイ皮酸エステル、P−アジドケイ皮酸エス
テル、β−スチリルアクリル酸エステル。
テル、β−スチリルアクリル酸エステル。
α−シアノ−β−スチリルアクリル酸エステル。
P−フ二二レンジアクリル酸エステル、p−(2−°ベ
ンゾイルビニル)−ケイ皮酸エステル、β−ナフチルア
クリル酸エステル、シンナミリデンピルビン酸エステル
、α−メチル−β−スチリルアクリル酸エステル、α−
フェニル−β−スチリルアクリル酸エステル、α−シア
ノ−β−フリルアクリル酸エステル、P−ジメチルアミ
ノケイ皮酸エステル、さらには上記のエステルに対応す
るアミド、カルコン、ベンジリデンアセトン、スチルバ
ゾール、スチルベン、α−フェニルマレイミド。
ンゾイルビニル)−ケイ皮酸エステル、β−ナフチルア
クリル酸エステル、シンナミリデンピルビン酸エステル
、α−メチル−β−スチリルアクリル酸エステル、α−
フェニル−β−スチリルアクリル酸エステル、α−シア
ノ−β−フリルアクリル酸エステル、P−ジメチルアミ
ノケイ皮酸エステル、さらには上記のエステルに対応す
るアミド、カルコン、ベンジリデンアセトン、スチルバ
ゾール、スチルベン、α−フェニルマレイミド。
クマリ/、ピロン、アントラセン、ジベンズアゼピン、
あるいはこれらの誘導体等があげられるが。
あるいはこれらの誘導体等があげられるが。
これらに限定されるものではない。
同一分子内に1個以上の水酸基および光二量化性基を有
するモノマー、オリゴマー、ポリマーとしては次のよう
なものがある。
するモノマー、オリゴマー、ポリマーとしては次のよう
なものがある。
(1) 過剰の多価アルコールと光二量化性基を有す
る酸クロライド等との反応生成物。
る酸クロライド等との反応生成物。
(nは0〜5の整数であり、XはHまたはCNである。
Rは多価アルコール残基であり72m+1であり、)は
2以上の整数。) 多価アルコールとしてはグリセリン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ンルビトール、エチレ
ングリコール、ポリビニルアルコール、ビスフェノール
Aとエピクロルヒドリン縮合フェノキシ樹脂等であり、
酸クロライドとしては、ケイ皮酸クロライド、α−シア
ノ−β−ケイ皮酸クロライド、β−スチリルアクリル酸
クロライド、α−シアノ−β−スチリルアクリル酸クロ
ライド等が使用できるが、これらに限定されるものでは
なく、あらゆる種類の多価アルコール、光二量化性基を
有する酸クロライドの反応生成物が使用できる。
2以上の整数。) 多価アルコールとしてはグリセリン、トリメチロールプ
ロパン、ペンタエリスリトール、ンルビトール、エチレ
ングリコール、ポリビニルアルコール、ビスフェノール
Aとエピクロルヒドリン縮合フェノキシ樹脂等であり、
酸クロライドとしては、ケイ皮酸クロライド、α−シア
ノ−β−ケイ皮酸クロライド、β−スチリルアクリル酸
クロライド、α−シアノ−β−スチリルアクリル酸クロ
ライド等が使用できるが、これらに限定されるものでは
なく、あらゆる種類の多価アルコール、光二量化性基を
有する酸クロライドの反応生成物が使用できる。
(2) エポキシ基を有する化合物と光二量化性基を
有するカルボン酸を反応せしめて得られるエポキシエス
テル結合 −CH−CH、−0−C−を有する反応生成物。
有するカルボン酸を反応せしめて得られるエポキシエス
テル結合 −CH−CH、−0−C−を有する反応生成物。
0■
たとえば、エポキシ化合物としては、アルコール、多価
アルコールのグリシジルエーテル、モノカルボン酸、多
価カルボン酸のグリシジルエステル、グリシジルアミン
化合物等が使用でき、たとえばジエチレングリコールジ
グリシジルエーテル。
アルコールのグリシジルエーテル、モノカルボン酸、多
価カルボン酸のグリシジルエステル、グリシジルアミン
化合物等が使用でき、たとえばジエチレングリコールジ
グリシジルエーテル。
トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル。
ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル。
ンルビトールトリグリシジルエーテル、ビスフェノール
A系エポキシ樹脂、1,5−ビス(N、N−ジグリシジ
ルアミノメチル)シクロヘキサン、1゜3ビス(N、N
−ジグリシジルアミノメチル)ベンゼン、グリシジル(
メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート
の重合体ないし共重合体、コ/ごり酸ジグリシジルエス
テル、フタール酸ジグリシジルエステル等であり、光二
量化性基を有するカルボン酸としては、ケイ皮酸、β−
スチリルアクリル酸、α−シアノ−β−スチリルアクリ
ル酸、N−カルボキシエチレンα−フェニルマレインイ
ミド、9−カルボキシアントラセン。
A系エポキシ樹脂、1,5−ビス(N、N−ジグリシジ
ルアミノメチル)シクロヘキサン、1゜3ビス(N、N
−ジグリシジルアミノメチル)ベンゼン、グリシジル(
メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート
の重合体ないし共重合体、コ/ごり酸ジグリシジルエス
テル、フタール酸ジグリシジルエステル等であり、光二
量化性基を有するカルボン酸としては、ケイ皮酸、β−
スチリルアクリル酸、α−シアノ−β−スチリルアクリ
ル酸、N−カルボキシエチレンα−フェニルマレインイ
ミド、9−カルボキシアントラセン。
7−カルボキシクマリン等があるが、これらに限定され
るものではない。
るものではない。
また、多価エポキシ化合物と光二量化性基を有するカル
ボン酸の反応に詔いて9反応生成物の官能基数あるいは
分子量を上げるために多価カルボン酸を同時に反応させ
ても良い。また光二量化可能基を有するエポキシ化合物
とカルボン酸の反応生成物も同様に使用できる。たとえ
ばアクリル酸。
ボン酸の反応に詔いて9反応生成物の官能基数あるいは
分子量を上げるために多価カルボン酸を同時に反応させ
ても良い。また光二量化可能基を有するエポキシ化合物
とカルボン酸の反応生成物も同様に使用できる。たとえ
ばアクリル酸。
メタアクリル酸のポリマーとグリシジルシンナメートの
付加反応生成物等である。
付加反応生成物等である。
(3) 水酸基および光二量化性基を有するアクリル
あるいはメタアクリルモノマを合成し、これをラジカル
重合して得られるオリゴマーあるいはポリマ。
あるいはメタアクリルモノマを合成し、これをラジカル
重合して得られるオリゴマーあるいはポリマ。
たとえば、グリシジルメタクリレートと光二量化性基を
有するカルボン酸との反応により得られるメタアクリル
エステルの重合体、あるいは他のアクリルモノマーとの
共重合体等である。
有するカルボン酸との反応により得られるメタアクリル
エステルの重合体、あるいは他のアクリルモノマーとの
共重合体等である。
(4)光二量化性基を有するアクリルあるいはメ □
タアクリルモノマーと水酸基を有するアクリルあるいは
メタアクリルモノマーを共重合させて得られるオリゴマ
ーあるいはポリマー。
タアクリルモノマーと水酸基を有するアクリルあるいは
メタアクリルモノマーを共重合させて得られるオリゴマ
ーあるいはポリマー。
たとえば。
0−CH−CH−OH
〇 X
(n、mは1以上の整数、lは0〜5の整数であり、X
は水素あるいはシアノ基である。) ′(5)同一
分子内に反応性のハロゲンおよび水酸基を有する化合物
と光二量化性基を有するカルボン酸塩の反応生成物。
は水素あるいはシアノ基である。) ′(5)同一
分子内に反応性のハロゲンおよび水酸基を有する化合物
と光二量化性基を有するカルボン酸塩の反応生成物。
たとえば、2−クロルエチル(メタ)アクリレートと2
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの共重合体と
(2)で示したカルボン酸のナトリウム、カリウム、ア
ンモニウム各基との反応生成物等である。
−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの共重合体と
(2)で示したカルボン酸のナトリウム、カリウム、ア
ンモニウム各基との反応生成物等である。
(6)過剰の多価アルコールと光二量化性基を有するア
ルデヒドを反応せしめて得られるアセタール。
ルデヒドを反応せしめて得られるアセタール。
たとえば、過剰のペンタエリスリトールとケイ皮アルデ
ヒドの反応生成物等である。
ヒドの反応生成物等である。
以上代表的な合成処法を列記したが、これらに限定され
るものではなく、従来知られている光二量化型感光性樹
脂の合成に関する文献中に示される光二量化性基の導入
方法は本発明の光接着層成分としての同一分子内に水酸
基および光二量化性基構造を有する化合物の合成処法に
広く応用できるものであり、すなわち従来知られている
水酸基の導入処決とこれら文献に示される光二量化性基
の導入処決を組み合せて本発明の光硬化性接着層成分の
合成を行なうことができる。光二量化型感光性樹脂の合
成に関する文献の要約としては、たとえば、シーエムシ
ー社1979年発行、R&Dレボ−)、m7.感光性樹
脂の合成と応用1頁1〜93.第1章 フォトポリマの
合成、加藤政雄。
るものではなく、従来知られている光二量化型感光性樹
脂の合成に関する文献中に示される光二量化性基の導入
方法は本発明の光接着層成分としての同一分子内に水酸
基および光二量化性基構造を有する化合物の合成処法に
広く応用できるものであり、すなわち従来知られている
水酸基の導入処決とこれら文献に示される光二量化性基
の導入処決を組み合せて本発明の光硬化性接着層成分の
合成を行なうことができる。光二量化型感光性樹脂の合
成に関する文献の要約としては、たとえば、シーエムシ
ー社1979年発行、R&Dレボ−)、m7.感光性樹
脂の合成と応用1頁1〜93.第1章 フォトポリマの
合成、加藤政雄。
西久保忠臣著などがある。
このように同一分子内に水酸基および光二量化性基を有
する化合物であるならば2本発明の目的に広く利用でき
るものであり、これらは単独あるいは2種以上の化合物
を混合して使用できる。
する化合物であるならば2本発明の目的に広く利用でき
るものであり、これらは単独あるいは2種以上の化合物
を混合して使用できる。
また、必要に応じて、水酸基を有せずに、光二量化性基
を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを混合して便
用することもできる。従来知られている光二量化型感光
性樹脂が広く使用でき、このような樹脂としては。
を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを混合して便
用することもできる。従来知られている光二量化型感光
性樹脂が広く使用でき、このような樹脂としては。
千CH,−CH÷
n
CH。
4CH,−c−へ
■
(nは1以上の整数9mはOまたは1.XはHあるいは
CN)等の一般式で示されるポリ!−が代表的であるが
、その他、ベンザルアセトフェノン(カルコン)系、ス
チルバゾール系、スチルベン系、α−フェニルマレイン
イミド系、アントラセン系、クマリン系のポリマーがあ
る。これら通常の光二量化型感光性樹脂の併用は、特に
光硬化性接着層成分として同一分子内に水酸基および光
二量化性基を有する七ツマ−ないしオリゴマーの比較的
低分子量成分を使用する場合に適している。
CN)等の一般式で示されるポリ!−が代表的であるが
、その他、ベンザルアセトフェノン(カルコン)系、ス
チルバゾール系、スチルベン系、α−フェニルマレイン
イミド系、アントラセン系、クマリン系のポリマーがあ
る。これら通常の光二量化型感光性樹脂の併用は、特に
光硬化性接着層成分として同一分子内に水酸基および光
二量化性基を有する七ツマ−ないしオリゴマーの比較的
低分子量成分を使用する場合に適している。
ここに併用される通常の光二量化型感光性樹脂は光硬化
性接着層の形態保持性9機械的強度を高め。
性接着層の形態保持性9機械的強度を高め。
同時に版の高感度化に寄与するものである。
また逆に光接着性層の柔軟性を高める等の目的で、水酸
基を有しない光二量化可能基を有するモノマー、オリゴ
マーの併用も可能である。
基を有しない光二量化可能基を有するモノマー、オリゴ
マーの併用も可能である。
本発明において使用できる増感剤の代表的な例としては
9次のようなものをあげることができる。
9次のようなものをあげることができる。
2、4.7− )ジニトロ−9−フルオレノン、5−二
トロアセナフテン、p−ニトロジフェニル、P−ニトロ
アニリン、2−ニトロフルオレノン、1−ニトロピレン
、N−アセチル−4−ニドo −1−ナフチルアミン、
N−ベンゾイル−4−二トロー1−ナフチルアミン、ミ
ヒラーズケトン、N−ブチルアクリドン、5−ベンゾイ
ルアセナフテン。
トロアセナフテン、p−ニトロジフェニル、P−ニトロ
アニリン、2−ニトロフルオレノン、1−ニトロピレン
、N−アセチル−4−ニドo −1−ナフチルアミン、
N−ベンゾイル−4−二トロー1−ナフチルアミン、ミ
ヒラーズケトン、N−ブチルアクリドン、5−ベンゾイ
ルアセナフテン。
1.8−フタロイルナフタリン、1.2−ベンズアンス
ラセン、9.10−7エナントラキノン、クロルベンズ
アンスロン、N−フェニルチオアクリドン。
ラセン、9.10−7エナントラキノン、クロルベンズ
アンスロン、N−フェニルチオアクリドン。
1.2−ベンズアンスラキノン、N−メチル−2−ベン
ゾイルメチレン−β−ナフトチアゾール、2−クロルチ
オキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,
4−ジインプロピルチオキサントン。
ゾイルメチレン−β−ナフトチアゾール、2−クロルチ
オキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,
4−ジインプロピルチオキサントン。
エオシン、エリスロシン、ピクラミドなどがあるが、こ
れらに限定されるものではない。これらの増感剤の使用
は光硬化性接着層に必ずしも不可欠のものではない。
れらに限定されるものではない。これらの増感剤の使用
は光硬化性接着層に必ずしも不可欠のものではない。
本発明におけるシリコーンゴム層6はインキ反発層とな
るものであり1次式 %式%() (R,R’は水素、炭素数1〜10の置換もしくは非置
換の炭化水素基)の構造単位を主成分とし。
るものであり1次式 %式%() (R,R’は水素、炭素数1〜10の置換もしくは非置
換の炭化水素基)の構造単位を主成分とし。
前記式(IX)の構造を架橋点とする高分子でありこの
シリコーンゴム層の厚みが小さいとインキ反発性の低下
、傷が入りやすいなどの問題があり。
シリコーンゴム層の厚みが小さいとインキ反発性の低下
、傷が入りやすいなどの問題があり。
厚みが大きい場合、現像性が悪くなるという点から、厚
みとしては0.5ミクロンから50ミクロンであること
が好ましい。
みとしては0.5ミクロンから50ミクロンであること
が好ましい。
本発明におけるシリコーンゴムの形成は。
−5iHを含有する化合物と炭素−炭素不飽和結合を有
する化合物との反応により、前記式(IX)の構造を架
橋点とし得られるものであり、上記2種の化合物のうち
少なくとも1種類が(X)の構造単位を有する重合体で
あることが好ましい。
する化合物との反応により、前記式(IX)の構造を架
橋点とし得られるものであり、上記2種の化合物のうち
少なくとも1種類が(X)の構造単位を有する重合体で
あることが好ましい。
ここに炭素−炭素不飽和結合としては、それぞれ炭素数
2〜10の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニレン基、アルキニル基、アルキニレン基があげられ、
芳香族の炭素−炭素不飽和結合は含まれない。
2〜10の置換もしくは非置換のアルケニル基、アルケ
ニレン基、アルキニル基、アルキニレン基があげられ、
芳香族の炭素−炭素不飽和結合は含まれない。
本発明のシリコーンゴムは、多価ハイドロジエンオルガ
ノポリシロキサンと、1分子中に2個以上の炭素−炭素
不飽和結合を有する非シロキサン化合物との反応によっ
ても得られるが、望ましくは。
ノポリシロキサンと、1分子中に2個以上の炭素−炭素
不飽和結合を有する非シロキサン化合物との反応によっ
ても得られるが、望ましくは。
(a)1分子中にケイ素原子に直接結合したアルケニル
基(より望ましくはビニル基)を少なくとも2個有する
オルガノポリシロキサン 100重量部 (b)1分子中に少なくともSi −H結合を2個有す
るオルガノハイドロジエンポリシロキサン0.1〜10
,000重量部 (C)付加触媒 0.00001〜10重量部か
らなる組成物を硬化したものである。成分(a)のアル
ケニル基は分子鎖末端、中間いずれにあってもよく、ア
ルケニル基以外のケイ素原子に直接結合した基としては
、置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基である
。成分(a)にはケイ素原子に直接結合した水素基、水
酸基を有することも任意である。成分(b)は成分(a
)と反応してシリコーンゴムを形成するが、かつ光硬化
性接着層中の水酸基に対する接着性の付与の役割も果た
す。成分(b)の水素基は分子鎖末端、中間いずれにあ
ってもよく、水素以外のケイ素原子に直接結合した基と
しては成分0と同様のものから選ばれる。成分(、)と
成分(b)の有機基R,R/は、インキ反発性の向上の
点で総じて基数の60係以上がメチル基であることが好
ましい。成分(a)、成分(b)の分子構造は直鎖状、
環状9分枝状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方
の分子量がi、 o o oを超えることがゴム物性の
面で好ましく、さらに成分(a)の分子量がi、 o
o oを超えることが好ましい。
基(より望ましくはビニル基)を少なくとも2個有する
オルガノポリシロキサン 100重量部 (b)1分子中に少なくともSi −H結合を2個有す
るオルガノハイドロジエンポリシロキサン0.1〜10
,000重量部 (C)付加触媒 0.00001〜10重量部か
らなる組成物を硬化したものである。成分(a)のアル
ケニル基は分子鎖末端、中間いずれにあってもよく、ア
ルケニル基以外のケイ素原子に直接結合した基としては
、置換もしくは非置換のアルキル基、アリール基である
。成分(a)にはケイ素原子に直接結合した水素基、水
酸基を有することも任意である。成分(b)は成分(a
)と反応してシリコーンゴムを形成するが、かつ光硬化
性接着層中の水酸基に対する接着性の付与の役割も果た
す。成分(b)の水素基は分子鎖末端、中間いずれにあ
ってもよく、水素以外のケイ素原子に直接結合した基と
しては成分0と同様のものから選ばれる。成分(、)と
成分(b)の有機基R,R/は、インキ反発性の向上の
点で総じて基数の60係以上がメチル基であることが好
ましい。成分(a)、成分(b)の分子構造は直鎖状、
環状9分枝状いずれでもよく、どちらか少なくとも一方
の分子量がi、 o o oを超えることがゴム物性の
面で好ましく、さらに成分(a)の分子量がi、 o
o oを超えることが好ましい。
成分(a)としては、α、ω−ジビニルポリジメチルシ
ロキサン、両末端メチル基もしくは水酸基の(メチルビ
ニルシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体など
が例示され、成分(b)としては。
ロキサン、両末端メチル基もしくは水酸基の(メチルビ
ニルシロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体など
が例示され、成分(b)としては。
両末端水素基のポリジメチルシロキサン、α、ω−ジメ
チyt4リメーfnya叶ノ潤末端メチル基の(メチル
η1 シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体。
チyt4リメーfnya叶ノ潤末端メチル基の(メチル
η1 シロキサン)(ジメチルシロキサン)共重合体。
環状ポリメチルシロキサン、両末端トリメチルシリル基
のポリメチルクロキサン、両末端トリメチルシリル基の
(ジメチルシロキサン)(メチルシロキサン)共重合体
などが例示される。
のポリメチルクロキサン、両末端トリメチルシリル基の
(ジメチルシロキサン)(メチルシロキサン)共重合体
などが例示される。
成分(Q)の付加触媒は、公知のもののなかから任意に
選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく。
選ばれるが、特に白金系の化合物が望ましく。
白金単体、塩化白金、塩化白金酸、オレフィン配位白金
などが例示される。これらの組成物の硬化速度を制御す
る目的で、シクロテトラキス(メチルビニルシロキサン
)などのビニル基含有の低分子オルガノポリシロキサン
、炭素−炭素6型締合金有のアルコールなどの架橋抑制
剤を添加することも可能である。
などが例示される。これらの組成物の硬化速度を制御す
る目的で、シクロテトラキス(メチルビニルシロキサン
)などのビニル基含有の低分子オルガノポリシロキサン
、炭素−炭素6型締合金有のアルコールなどの架橋抑制
剤を添加することも可能である。
これらの組成物は、3成分を混合した時点において付加
反応が起き、硬化が始まるが、硬化速度は反応温度が高
(なるに従い急激に大きくなる特徴を有する。ゆえに組
成物のゴム化までのポットライフを長<シ、かつ光硬化
性接着層上での硬化時間を短くする目的で2組成物の硬
化条件は、基板、光硬化性接着層の特性が変わらない範
囲の温度条件で、かつ完全に硬化するまで高温に保持し
ておくことが、光硬化性接着層との接着力の安定性の面
で好ましい。
反応が起き、硬化が始まるが、硬化速度は反応温度が高
(なるに従い急激に大きくなる特徴を有する。ゆえに組
成物のゴム化までのポットライフを長<シ、かつ光硬化
性接着層上での硬化時間を短くする目的で2組成物の硬
化条件は、基板、光硬化性接着層の特性が変わらない範
囲の温度条件で、かつ完全に硬化するまで高温に保持し
ておくことが、光硬化性接着層との接着力の安定性の面
で好ましい。
これらの組成物の他に、アルケニルトリアルコキシシラ
ンなどの公知の接着付与剤を添加することや、ケイ素原
子直結の水酸基を含有するオルガノポリシロキサン、加
水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキサン)を添
加することも任意であり、またゴム強度を向上させる目
的で、シリカなどの公知の充てん剤を添加することも任
意である。
ンなどの公知の接着付与剤を添加することや、ケイ素原
子直結の水酸基を含有するオルガノポリシロキサン、加
水分解性官能基含有シラン(もしくはシロキサン)を添
加することも任意であり、またゴム強度を向上させる目
的で、シリカなどの公知の充てん剤を添加することも任
意である。
ここに説明した水なし平版印刷用原板において本発明の
特徴を有するシリコーンゴム層上に、さらに種々のシリ
コーンゴム層を塗工することも任意であり、また感光層
とシリコーンゴム層との間の接着力を上げる目的、もし
くはシリコーンゴム組成物中の触媒の被毒を防止する目
的で、光硬化性接着層とシリコーンゴム層の間に接着層
を設けることも任意である。またシリコーンゴム層の表
面保護のために、シリコーンゴム層上に、透明なフィル
ムのラミネートやポリマーのコーティングを施すことも
有効である。
特徴を有するシリコーンゴム層上に、さらに種々のシリ
コーンゴム層を塗工することも任意であり、また感光層
とシリコーンゴム層との間の接着力を上げる目的、もし
くはシリコーンゴム組成物中の触媒の被毒を防止する目
的で、光硬化性接着層とシリコーンゴム層の間に接着層
を設けることも任意である。またシリコーンゴム層の表
面保護のために、シリコーンゴム層上に、透明なフィル
ムのラミネートやポリマーのコーティングを施すことも
有効である。
以上説明したような1本発明にもとづく積層体としての
平版印刷用原板は例えば次のようにして製造される。
平版印刷用原板は例えば次のようにして製造される。
まず基板1の上に光硬化性接着層の組成物を塗布、乾燥
し1次に該光硬化性接着層2の上にシリコーンの溶液を
塗布、乾燥し、十分に硬化させてシリコーンゴム層3を
形成する。この上に必要に応じて保護フィルム4を張り
合わせる。
し1次に該光硬化性接着層2の上にシリコーンの溶液を
塗布、乾燥し、十分に硬化させてシリコーンゴム層3を
形成する。この上に必要に応じて保護フィルム4を張り
合わせる。
このようにして製造された本発明の平版印刷用原板は、
第2図に示すように真空密着されたポジフィル7.5を
通して活性光線で露光される。図2において矢印6は光
線を示し2画線部分は7で示されている。この露光工程
で用いられる光源としては通常、高圧水銀燈、カーボン
アーク燈、キセノンランプ、メタルハライドランプ、螢
光燈などを使うことができる。
第2図に示すように真空密着されたポジフィル7.5を
通して活性光線で露光される。図2において矢印6は光
線を示し2画線部分は7で示されている。この露光工程
で用いられる光源としては通常、高圧水銀燈、カーボン
アーク燈、キセノンランプ、メタルハライドランプ、螢
光燈などを使うことができる。
露光の終った印刷用原板に浸漬される。現像液。
現像方法は既知(特開昭54−89805.特開昭55
−156947)のものが使用でき、現像後9版面を乾
燥させると第3図に示すような版面を有する水なし平版
印刷版が得られる。
−156947)のものが使用でき、現像後9版面を乾
燥させると第3図に示すような版面を有する水なし平版
印刷版が得られる。
〈実施例〉
以下に本発明の光硬化性接着層の必須成分である同一分
子内に水酸基と光二量化性基を有する化合物の合成例と
1本発明の実施例を示す。以下の例は本発明を限定する
ものではない。
子内に水酸基と光二量化性基を有する化合物の合成例と
1本発明の実施例を示す。以下の例は本発明を限定する
ものではない。
なお1部数は重量部である。
合成例1
1.3−ビス(N、N−ジグリシジルアミノメチル)シ
クロヘキサン(三菱ガス化学社のTETRAD’ −c
) 10.6部、 a−V7/ 8−7f !J
/’7クリル酸19.9部、トリフェニルフォスフイン
0゜6部をトルエン15部、インプロパツール15部の
混合液に添加し、80°0で18時間攪拌加熱して、下
記のモデル式で示される化合物を主成分とする溶液を得
た。
クロヘキサン(三菱ガス化学社のTETRAD’ −c
) 10.6部、 a−V7/ 8−7f !J
/’7クリル酸19.9部、トリフェニルフォスフイン
0゜6部をトルエン15部、インプロパツール15部の
混合液に添加し、80°0で18時間攪拌加熱して、下
記のモデル式で示される化合物を主成分とする溶液を得
た。
OH0)(
OON
反応はカルボキシル基、エポキシ基の定量および赤外線
吸収スペクトルにより追跡し、カルボキシル基、エポキ
シ基の消失、エポキシエステル結合の生成を確認した。
吸収スペクトルにより追跡し、カルボキシル基、エポキ
シ基の消失、エポキシエステル結合の生成を確認した。
合成例2
1.5−ビス(N、N−ジグリシジルアミノメチル)シ
クロヘキサン12.7部、コハク酸2.4部。
クロヘキサン12.7部、コハク酸2.4部。
α−シアノ−β−スチリルアクリル酸19.9部。
トリフェニルフォスフイン0.6部ヲ)ルエン15部、
インプロパツール15部の混合液に添加し。
インプロパツール15部の混合液に添加し。
80℃で20時間攪拌加熱して1合成例1の生成物をコ
ハク酸エステル結合で連結したモデル構造を有する化合
物を主成分とする溶液を得た。
ハク酸エステル結合で連結したモデル構造を有する化合
物を主成分とする溶液を得た。
合成例6
トルエン100部にα−シアノ−β−スス−1−リA/
アクリル酸10部を秤りとり、加熱、攪拌しながら過剰
の塩化チオニルを滴下して、α−シアノ−β−スチリル
アクリル酸クロライドを合成した。
アクリル酸10部を秤りとり、加熱、攪拌しながら過剰
の塩化チオニルを滴下して、α−シアノ−β−スチリル
アクリル酸クロライドを合成した。
溶媒を減圧留去して黄色結晶を得た。これをアセトン3
0部に溶解したのち、グリセリン2.6部とアセトン1
0部の溶液へ水冷下にゆっくりと加えたのち、脱塩酸剤
としてピリジン60部をゆっくり加えてエステル化を行
なった。エバポレーター減圧下にアセトンの一部を留去
したのち、稀塩酸で処理して得られた固体をエタノール
から再結晶してグリセリンジ−α−シアノ−β−スチリ
ルアクリレートを得た。
0部に溶解したのち、グリセリン2.6部とアセトン1
0部の溶液へ水冷下にゆっくりと加えたのち、脱塩酸剤
としてピリジン60部をゆっくり加えてエステル化を行
なった。エバポレーター減圧下にアセトンの一部を留去
したのち、稀塩酸で処理して得られた固体をエタノール
から再結晶してグリセリンジ−α−シアノ−β−スチリ
ルアクリレートを得た。
合成例4
長潮産業■のデナコールEX−611C主成分ソルビト
ールテトラグリシジルエーテル)17部。
ールテトラグリシジルエーテル)17部。
ケイ皮酸148部、トリエチルベンジルアンモニウムク
ロライド0.6部をトルエン16部、イソプロパツール
16部の混合液に添加して、85℃で18時間攪拌加熱
して、以下のモデル式で示される化合物を主成分とする
溶液を得た。
ロライド0.6部をトルエン16部、イソプロパツール
16部の混合液に添加して、85℃で18時間攪拌加熱
して、以下のモデル式で示される化合物を主成分とする
溶液を得た。
0)1 0HOHOH合成例5
グリシジルメタアクリレート14部、ケイ皮酸16部、
トリエチルアミン5部をトルエン100部、メチルイン
ブチルケトン100部の混合液に溶解し、ハイドロキノ
ン0.2部を加えて85℃で15時間攪拌加熱した。反
応後、エバポレーター減圧下に低沸点化合物を留去した
のち、200部の水に投入して分離したオイル状物質を
エーテルで抽出し、これを無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、濾過して減圧下にエーテルを留去して、淡黄色油
状物質22部を得た。
トリエチルアミン5部をトルエン100部、メチルイン
ブチルケトン100部の混合液に溶解し、ハイドロキノ
ン0.2部を加えて85℃で15時間攪拌加熱した。反
応後、エバポレーター減圧下に低沸点化合物を留去した
のち、200部の水に投入して分離したオイル状物質を
エーテルで抽出し、これを無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た後、濾過して減圧下にエーテルを留去して、淡黄色油
状物質22部を得た。
この油状物質22部、トルエン11部、メチルイソブチ
ルケトン11部、アゾビスイソブチルニトリルO12部
を混合した溶液をトルエン11部。
ルケトン11部、アゾビスイソブチルニトリルO12部
を混合した溶液をトルエン11部。
メチルインブチルケトン11部の80°C攪拌混合液に
1時間で滴下した。この溶液は更に80℃で6時間攪拌
加熱し、その間にアゾビスイソブチルニトリル0.2部
を4回に分割して追加添加した。
1時間で滴下した。この溶液は更に80℃で6時間攪拌
加熱し、その間にアゾビスイソブチルニトリル0.2部
を4回に分割して追加添加した。
このような重合は窒素気流下で行なった。
このようにしてγ−シンナモイロキシーβ−ヒドロキシ
−〇−プロピルメタアクリレートポリマー溶液を得た。
−〇−プロピルメタアクリレートポリマー溶液を得た。
これをn−ヘキサン中に再沈、乾燥してポリマ粉末を得
た。構造の確認は元素分析。
た。構造の確認は元素分析。
赤外線吸収スペクトル測定で行なった。
合成例6
グリシジルメタアクリレート25部、オーシアノ−β−
スチリルアクリル酸35部、トリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライド1.2部を、エチルセロソルブ50部
、トルエン50部の混合液に添加して、90℃で20時
間攪拌加熱して、γ−(α−シアノ−β−スチリルアク
リルオキシ)−β−ヒドロキシ−n−プロピルメタアク
リレート溶液を得た。
スチリルアクリル酸35部、トリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライド1.2部を、エチルセロソルブ50部
、トルエン50部の混合液に添加して、90℃で20時
間攪拌加熱して、γ−(α−シアノ−β−スチリルアク
リルオキシ)−β−ヒドロキシ−n−プロピルメタアク
リレート溶液を得た。
この溶液に更にエチルセロソルブ30部、トルエン30
部にアゾビスイソブチルニトリル0.6 部を添加し、
8[]’oで窒素気流下、6時間重合させた。その間に
アゾビスイソブチルニトリル0.6gを4回に分割添加
して重合を完結させた後、N。
部にアゾビスイソブチルニトリル0.6 部を添加し、
8[]’oで窒素気流下、6時間重合させた。その間に
アゾビスイソブチルニトリル0.6gを4回に分割添加
して重合を完結させた後、N。
N−ジメチルフォルムアミド60gを添加稀釈してポリ
マー溶液を得た。
マー溶液を得た。
実施例1
合成例1で得られた溶液を、砂目室て加工したアルミ板
にホエラーで塗布、乾燥して、厚さ5ミクロンの光硬化
性接着層を設けた。
にホエラーで塗布、乾燥して、厚さ5ミクロンの光硬化
性接着層を設けた。
この光硬化性接着層の上に9次の組成のシリコーンガム
組成物のn−へブタン溶液をホエラーで塗布し、100
°Cで5分間加熱して乾燥、硬化し厚さ3ミクロンのシ
リコーンゴム層を設けた。
組成物のn−へブタン溶液をホエラーで塗布し、100
°Cで5分間加熱して乾燥、硬化し厚さ3ミクロンのシ
リコーンゴム層を設けた。
(1) α、ω−ジビニルポリジメチルシロキサンC
数平均分子量約8.00[)) 100部(
2)両末端トリメチルシリル化ポリメチルシロキサン(
数平均重合度15) 5部(3)塩化白金
酸 0,1部このようにしてもう
けたシリコーンゴム層の表面に厚さ6ミクロンのポリプ
ロピレンフィルム東し株式会社製「トレファン」をカレ
ンダーローラーでラミネートし、印刷版原板を得た。
数平均分子量約8.00[)) 100部(
2)両末端トリメチルシリル化ポリメチルシロキサン(
数平均重合度15) 5部(3)塩化白金
酸 0,1部このようにしてもう
けたシリコーンゴム層の表面に厚さ6ミクロンのポリプ
ロピレンフィルム東し株式会社製「トレファン」をカレ
ンダーローラーでラミネートし、印刷版原板を得た。
このようにして得られた印刷版原板上にポジフィルムを
真空密着し、25”Cの条件でメタルハライドランプ、
岩崎電機株式会社製「アイドルフィン2000Jを用い
て1mの距離から1分間露光した。保護フィルムを剥離
し、露光部の印刷用原板を。−へブタン95部、ポリプ
ロピレングリコール(分子量400 )’5部からなる
現像液中に浸漬し、ダイニック株式会社製不織布「ンフ
バツド」で現像したところ、未露光部分のシリコーンゴ
ム層だけが剥離し、光硬化性接着層が露出した。一方、
露光部分のシリコーンゴム層は強固に光接着していた。
真空密着し、25”Cの条件でメタルハライドランプ、
岩崎電機株式会社製「アイドルフィン2000Jを用い
て1mの距離から1分間露光した。保護フィルムを剥離
し、露光部の印刷用原板を。−へブタン95部、ポリプ
ロピレングリコール(分子量400 )’5部からなる
現像液中に浸漬し、ダイニック株式会社製不織布「ンフ
バツド」で現像したところ、未露光部分のシリコーンゴ
ム層だけが剥離し、光硬化性接着層が露出した。一方、
露光部分のシリコーンゴム層は強固に光接着していた。
現像済みの印刷版をオフセット印刷機にセットし、東洋
インキ株式会社鯛印刷インキ「TKUアクワレスG」を
用いて、湿し水を与えず印刷したところ、すぐれた画像
再現性を有する印刷物が得られた。
インキ株式会社鯛印刷インキ「TKUアクワレスG」を
用いて、湿し水を与えず印刷したところ、すぐれた画像
再現性を有する印刷物が得られた。
実施例2
実施例1において光硬化性接着層成分として。
合成例2で得られた溶液から得られる成分を使用し他は
同様にして、同様の印刷版原板を得た。実施例1と同様
の条件で2分間の露光、現像、印刷を行なったところ、
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。
同様にして、同様の印刷版原板を得た。実施例1と同様
の条件で2分間の露光、現像、印刷を行なったところ、
優れた画像再現性を有する印刷物を得た。
実施例5
砂目室て加工したアルミ板に次の組成を有する厚さ8ミ
クロンの光硬化性接着層を実施例1と同様の方法で設け
た。
クロンの光硬化性接着層を実施例1と同様の方法で設け
た。
(−) 合成例3で得られたグリセリン−α−シアノ
−β−スチリルアクリレ−) 50部(b
)5−ニトロアセナフテン 5部(C)
ビスフェノールA・エピクロルヒドリン縮合フェノキシ
樹脂(分子量約so、ooo)のα−シアノ−β−スチ
リルアクリレート 65部光硬化性接着層の上に、
実施例1と同様にシリコーンゴム層、ポリプロピレンフ
ィルム「トレフアン」を設け、印刷用原板を得た。
−β−スチリルアクリレ−) 50部(b
)5−ニトロアセナフテン 5部(C)
ビスフェノールA・エピクロルヒドリン縮合フェノキシ
樹脂(分子量約so、ooo)のα−シアノ−β−スチ
リルアクリレート 65部光硬化性接着層の上に、
実施例1と同様にシリコーンゴム層、ポリプロピレンフ
ィルム「トレフアン」を設け、印刷用原板を得た。
同様に実施例1と同様の温度条件で岩崎電気株式会社製
メタルハライドランプ「アイドルフィン20004で6
分間露光した後、ガソリンで現像を行ない印刷版を得た
。得られた印刷版を用いて実施例1と同様の方法で印刷
したところ9画像再現性の良い印刷物を得た。
メタルハライドランプ「アイドルフィン20004で6
分間露光した後、ガソリンで現像を行ない印刷版を得た
。得られた印刷版を用いて実施例1と同様の方法で印刷
したところ9画像再現性の良い印刷物を得た。
実施例4
合成例1で得られた溶液をN、N−ジメチルホルムアミ
ドで稀釈して10%溶液とし、この溶液200部にポリ
ケイ皮酸ビニル20部、N yセチル−4−二トロー
1−ナフチルアミン5部を添加して得られた溶液を、砂
目室て加工したアルミ板上にホエラーで塗布、乾燥して
、厚さ5ミクロンの光硬化性接着層を設けた。光硬化性
接着層上に実施例1と同様にシリコーンゴム層、ポリプ
ロピレンフィルム「トレファン」を順次積層シて。
ドで稀釈して10%溶液とし、この溶液200部にポリ
ケイ皮酸ビニル20部、N yセチル−4−二トロー
1−ナフチルアミン5部を添加して得られた溶液を、砂
目室て加工したアルミ板上にホエラーで塗布、乾燥して
、厚さ5ミクロンの光硬化性接着層を設けた。光硬化性
接着層上に実施例1と同様にシリコーンゴム層、ポリプ
ロピレンフィルム「トレファン」を順次積層シて。
印刷用原板を得た。
得られた印刷用原板を実施例1と同様の方法で露光、現
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
実施例5
合成例4で得られた溶液をN、N−ジメチルホルムアミ
ドで希釈して10悌溶液として、この溶液200部に5
−ニトロアセナフテン10部、ポリケイ皮酸ビニルの2
0%N、N−ジメチルホルムアミド溶液550gを添加
混合して得られた溶液を、砂目室て加工したアルミ板上
に塗布、乾燥して、光硬化性接着層を設けた。その上に
実施例1と同様にシリコーンゴム層、ポリプロピレンフ
ィルム「トレファン」を順次積層し、印刷用原板を得た
。実施例1と同様に露光、現像、印刷したところ、優れ
た画像再現性を有する印刷物が得られた。
ドで希釈して10悌溶液として、この溶液200部に5
−ニトロアセナフテン10部、ポリケイ皮酸ビニルの2
0%N、N−ジメチルホルムアミド溶液550gを添加
混合して得られた溶液を、砂目室て加工したアルミ板上
に塗布、乾燥して、光硬化性接着層を設けた。その上に
実施例1と同様にシリコーンゴム層、ポリプロピレンフ
ィルム「トレファン」を順次積層し、印刷用原板を得た
。実施例1と同様に露光、現像、印刷したところ、優れ
た画像再現性を有する印刷物が得られた。
実施例6
砂目室て加工したアルミ板上に次の組成を有する厚さ7
ミクロンの光硬化性接着層を設けた。
ミクロンの光硬化性接着層を設けた。
(a) 合成例5で得られたポリマー 90部(
b)5−ニトロアセナフテン 10部光接着性
層の上にシリコーンゴム層、ポリプロピレンフィルム「
トレ7アン」を実施例1と同様の方法で順次積層し、露
光、現像、印刷を行なったところ、優れた画像再現性を
有する印刷物を得た。
b)5−ニトロアセナフテン 10部光接着性
層の上にシリコーンゴム層、ポリプロピレンフィルム「
トレ7アン」を実施例1と同様の方法で順次積層し、露
光、現像、印刷を行なったところ、優れた画像再現性を
有する印刷物を得た。
実施例7
砂目室て加工したアルミ板上に実施例6と同様の光硬化
性接着層を設け、その上に。
性接着層を設け、その上に。
(1) α、ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(
数平均分子量60,000) 100部(2
)両末端トリメチルシリル化ポリメチルシロキサン(数
平均重合度15) 5部(3)塩化白金酸
0.1部からなる組成のn−へ
ブタン溶液をホエラーで塗布し、ioo℃で10分間加
熱して、乾燥、硬化し、厚さ3ミクロンのシリコーンゴ
ム層を設け。
数平均分子量60,000) 100部(2
)両末端トリメチルシリル化ポリメチルシロキサン(数
平均重合度15) 5部(3)塩化白金酸
0.1部からなる組成のn−へ
ブタン溶液をホエラーで塗布し、ioo℃で10分間加
熱して、乾燥、硬化し、厚さ3ミクロンのシリコーンゴ
ム層を設け。
その上にポリプロピレンフィルム「トレファン」を積層
して印刷用原板を得た。
して印刷用原板を得た。
得られた印刷用原板を実施例1と同様の方法で露光、現
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
実施例8
砂目立て加工したアルミ板上に実施例6と同様の光硬化
性接着層を設け、その上に。
性接着層を設け、その上に。
(1) 両末端水酸基の(メチルビニルシロキサン)
(ジメチルシロキサン)共重合体(構造単位共重合比1
対20.数平均分子量160,000)10[]部 (2) 両末端トリメチルシリル化ポリメチルシロキ
サン(数平均重合度10) 5部(3)塩
化白金酸 0.1部からなる組成
のn−へブタン溶液をホエラーで塗布し、100’Oで
50分間加熱して、乾燥、硬化し、厚さ3ミクロンのシ
リコーンゴム層を設け。
(ジメチルシロキサン)共重合体(構造単位共重合比1
対20.数平均分子量160,000)10[]部 (2) 両末端トリメチルシリル化ポリメチルシロキ
サン(数平均重合度10) 5部(3)塩
化白金酸 0.1部からなる組成
のn−へブタン溶液をホエラーで塗布し、100’Oで
50分間加熱して、乾燥、硬化し、厚さ3ミクロンのシ
リコーンゴム層を設け。
その上にポリプロピレンフィルム「トレファン」を積層
して印刷用原板を得た。
して印刷用原板を得た。
得られた印刷用原板を実施例1と同様の方法で露光、現
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
実施例9
砂目立て加工したアルミ板上に実施例6と同様の光硬化
性接着層を設け、その上に。
性接着層を設け、その上に。
(1) α、ω−ジビニルポリジメチルシロキサン(
数平均分子量20,000) 1[]00部
2) 両末端トリメチルシリル化(メチルシロキサン
)(ジメチルシロキサン)共重合体(構造単位共重合比
1対1.数平均分子量1.200 )8部 (3)塩化白金酸 0.02部から
なる組成のn−へブタン溶液をホエラーで塗布し、10
0°Cで15分間加熱して、乾燥硬化し。
数平均分子量20,000) 1[]00部
2) 両末端トリメチルシリル化(メチルシロキサン
)(ジメチルシロキサン)共重合体(構造単位共重合比
1対1.数平均分子量1.200 )8部 (3)塩化白金酸 0.02部から
なる組成のn−へブタン溶液をホエラーで塗布し、10
0°Cで15分間加熱して、乾燥硬化し。
厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層を設け、その上にポ
リプロピレンフィルム「トレ7アン」を積層して印刷用
原板を得た。
リプロピレンフィルム「トレ7アン」を積層して印刷用
原板を得た。
得られた印刷用原板を実施例1と同様の方法で露光、現
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
実施例10
1’1砂目立て加工したアルミ板上に実施例6と同様
□の光硬化性接着層を設け、その上に。
1’1砂目立て加工したアルミ板上に実施例6と同様
□の光硬化性接着層を設け、その上に。
(1) α、ω−ジビニルポリジメチルV#キサン(
数平均分子量20,000) 100部(2
) 1,3,5,7.9−ペンタメチルシクロペンタ
シロキサン 5部(3
)塩化白金酸 0.1部からなる
組成のn−へブタン溶液をホエラーで塗布し、100℃
で5分間加熱して、乾燥硬化し。
数平均分子量20,000) 100部(2
) 1,3,5,7.9−ペンタメチルシクロペンタ
シロキサン 5部(3
)塩化白金酸 0.1部からなる
組成のn−へブタン溶液をホエラーで塗布し、100℃
で5分間加熱して、乾燥硬化し。
厚さ2ミクロンのシリコーンゴム層を設け、その上にポ
リプロピレンフィルム「トレ7アンJut層して印刷用
原板を得た。
リプロピレンフィルム「トレ7アンJut層して印刷用
原板を得た。
得られた印刷用原板を実施例1と同様の方法で露光、現
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
像、印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物
を得た。
実施例11
実施例1において2合成例6で得られたポリマー溶液か
ら光硬化性接着層を設け、シリコーンゴム層、ポリプロ
ピレンフィルム「トレファン」を積層して印刷用原板を
得て、同様に露光、現像。
ら光硬化性接着層を設け、シリコーンゴム層、ポリプロ
ピレンフィルム「トレファン」を積層して印刷用原板を
得て、同様に露光、現像。
印刷したところ、優れた画像再現性を有する印刷物を得
た。
た。
比較実施例
比較実施例
砂目立て加工したアルミ板に2次の組成を有する厚さ1
5ミクロンの光接着性層をもうけた。
5ミクロンの光接着性層をもうけた。
(a)「ポリライトT D R−1131−RJ大日本
インキ■不飽和ポリエステル樹脂 65部(b)
メタキシリレンジアミンとグリシジルメタアクリレー
トをモル比1/4で反応せしめて得られた生成物
30部(C)ベンゾインメチ
ルエーテル 5部この光接着性層の上に実施例
1と同様の方法でシリコーンゴム層、8ミクロンのポリ
エステルフィルム東し株式会社製「ルミラー」からなる
保護フィルムを設け、露光、現像を行ない印刷版を得た
。
インキ■不飽和ポリエステル樹脂 65部(b)
メタキシリレンジアミンとグリシジルメタアクリレー
トをモル比1/4で反応せしめて得られた生成物
30部(C)ベンゾインメチ
ルエーテル 5部この光接着性層の上に実施例
1と同様の方法でシリコーンゴム層、8ミクロンのポリ
エステルフィルム東し株式会社製「ルミラー」からなる
保護フィルムを設け、露光、現像を行ない印刷版を得た
。
露光工程において、3KW の超高圧水銀灯を用いて
1mの距離から、露光温度25℃、露光機減圧度10n
m+Hgで操作した場合の適正露光時間は6分間であっ
た。露光温度を15°Cにすると、適正露光時間は5分
間を必要とした。
1mの距離から、露光温度25℃、露光機減圧度10n
m+Hgで操作した場合の適正露光時間は6分間であっ
た。露光温度を15°Cにすると、適正露光時間は5分
間を必要とした。
一方、この印刷版原板のカバーフイルムヲ剥キとり、空
気中でポジフィルムを密着して露光したが全く光接着せ
ず印刷版が得られなかった。
気中でポジフィルムを密着して露光したが全く光接着せ
ず印刷版が得られなかった。
またこの印刷馴原板を、より長波長域に発光特性を有す
る[アイドルフィン2000Jメタルノhライドランプ
(岩崎電機製)を用いて1mの距離から露光温度25℃
、露光機減圧度10mmHgで露光した場合の適正露光
時間は7分間を要するものであった。
る[アイドルフィン2000Jメタルノhライドランプ
(岩崎電機製)を用いて1mの距離から露光温度25℃
、露光機減圧度10mmHgで露光した場合の適正露光
時間は7分間を要するものであった。
一方、実施例11で得られた印刷版原板は、露光時の温
度、酸素の影響をほとんど受けず、低温露光あるいはカ
バーフィルムを剥ぎとっての空気中露光でも適正露光時
間は全く変化しなかった。
度、酸素の影響をほとんど受けず、低温露光あるいはカ
バーフィルムを剥ぎとっての空気中露光でも適正露光時
間は全く変化しなかった。
また3KW超高圧水銀灯露光での適正露光時間はメタル
ハライドランプ露光と同様であった。
ハライドランプ露光と同様であった。
〈発明の効果〉
本発明は光接着性層に水酸基及び光二量化可能基ないし
構造を有する化合物を使用することを特徴とするもので
ある。水酸基はシリコーンゴム層との強固な光接着に寄
与し、光二量化による硬化機構は温度、酸素の影響を殆
ど受けないので1本発明によって得られた印刷版原板は
、その露光工程において、露光時の温度、酸素の影響を
受けず強固に光接着硬化する。また本硬化反応の光励起
機構に基ついて1本発明の光接着性層成分は長波長サイ
ドの光利用効率の高い増感剤を使用することができ、し
たがって本印刷版原板は長波長サイドの感光波長領域を
有するものが得られる。
構造を有する化合物を使用することを特徴とするもので
ある。水酸基はシリコーンゴム層との強固な光接着に寄
与し、光二量化による硬化機構は温度、酸素の影響を殆
ど受けないので1本発明によって得られた印刷版原板は
、その露光工程において、露光時の温度、酸素の影響を
受けず強固に光接着硬化する。また本硬化反応の光励起
機構に基ついて1本発明の光接着性層成分は長波長サイ
ドの光利用効率の高い増感剤を使用することができ、し
たがって本印刷版原板は長波長サイドの感光波長領域を
有するものが得られる。
第1図は9本発明にもとづく平版印刷用原板の断面構造
図である。第2図は本平版印刷用原板の露光工程におけ
る概念図である。第3図は、製版後に得られる本平版印
刷版の断面図である。 1:基板 2:光硬化性接着層3:シリコ
ーンゴム層 4:保護フィルム5:ポジフィルム
図である。第2図は本平版印刷用原板の露光工程におけ
る概念図である。第3図は、製版後に得られる本平版印
刷版の断面図である。 1:基板 2:光硬化性接着層3:シリコ
ーンゴム層 4:保護フィルム5:ポジフィルム
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板、該基板の上にもうけた光硬化性接着層、並びに該
光硬化性接着層の上にもうけたシリコーンゴム層からな
る水なし平版印刷用原板において、光硬化性接着層が、
次式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1は炭素数5〜20のアリール基、複素環基を示
し、これらは炭素数1〜10のアルキル基、アルコキシ
基、ニトロ基、アミノ基、アルコキシカルボニル基、ア
シルオキシ基、アルカノイル基、シアノ基、アジド基を
含有しても良く、R^2は水素、炭素数1〜10のアル
キル基、R^3は水素、炭素数1〜10のアルキル基、
アリール基、アルカノイル基、シアノ基、nは0〜5の
整数を示す)▲数式、化学式、表等があります▼(II) (R^1は I と同様のものを意味する) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (R^1は I と同様のものを意味する) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(V) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) (Arはアリール基、R^4は水素、ハロゲン原子、炭
素数1〜10のアルキル基、シアノ基) ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) からなる群より選ばれる少なくとも1種類の光二量化性
基を1分子中に1個以上有し、かつ1分子中に1個以上
の水酸基を有するモノマー、オリゴマーあるいはポリマ
ーを含有し、シリコーンゴム層が水素−ケイ素結合を有
する化合物と炭素−炭素不飽和結合を有する化合物との
付加反応により架橋点が式(IX)の構造を有するシリコ
ーンゴムから成ることを特徴とする水なし平版印刷用原
板。 ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) (式中 R^4は炭素数2〜10の置換もしくは非置換
のアルキレン基、アルケニレン基)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24438384A JPS61123847A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | 水なし平版印刷用原板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24438384A JPS61123847A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | 水なし平版印刷用原板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61123847A true JPS61123847A (ja) | 1986-06-11 |
Family
ID=17117864
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24438384A Pending JPS61123847A (ja) | 1984-11-21 | 1984-11-21 | 水なし平版印刷用原板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61123847A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0301520A2 (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dry presensitized plate |
JPH01214839A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
EP0333156A2 (en) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic plate necessitating no dampening water |
JPH01237664A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 水なし平版印刷原板 |
JPH01237663A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷板 |
EP1573785A2 (en) * | 2002-10-08 | 2005-09-14 | Brewer Science, Inc. | Bottom anti-reflective coatings derived from small core molecules with multiple epoxy moieties |
-
1984
- 1984-11-21 JP JP24438384A patent/JPS61123847A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0301520A2 (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Dry presensitized plate |
JPH01214839A (ja) * | 1988-02-23 | 1989-08-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷版 |
EP0333156A2 (en) * | 1988-03-16 | 1989-09-20 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic plate necessitating no dampening water |
JPH01237664A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 水なし平版印刷原板 |
JPH01237663A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 湿し水不要感光性平版印刷板 |
EP1573785A2 (en) * | 2002-10-08 | 2005-09-14 | Brewer Science, Inc. | Bottom anti-reflective coatings derived from small core molecules with multiple epoxy moieties |
EP1573785A4 (en) * | 2002-10-08 | 2010-11-10 | Brewer Science Inc | LOWER ANTIREFLEX COATINGS DERIVED FROM CORE MOLECULES MULTIPLE EPOXY MOOETOUTS |
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