JPS61115302A - Sheet coil - Google Patents
Sheet coilInfo
- Publication number
- JPS61115302A JPS61115302A JP23668184A JP23668184A JPS61115302A JP S61115302 A JPS61115302 A JP S61115302A JP 23668184 A JP23668184 A JP 23668184A JP 23668184 A JP23668184 A JP 23668184A JP S61115302 A JPS61115302 A JP S61115302A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- coil
- coils
- ion beam
- organic compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/02—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
- H01F41/04—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
- H01F41/041—Printed circuit coils
- H01F41/042—Printed circuit coils by thin film techniques
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F5/00—Coils
- H01F5/003—Printed circuit coils
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Coils Or Transformers For Communication (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Windings For Motors And Generators (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、イオンビームをパターン照射することにより
形成されるシートコイルに関するものである。さらに詳
しくは、単位空間当りの導体の占積率が大きい精密シー
トコイルを提供することにある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a sheet coil formed by pattern irradiation with an ion beam. More specifically, the object is to provide a precision sheet coil with a large conductor space factor per unit space.
シートコイルは、例えば、ブラシレスフラットモータや
トランジスタモータなどの駆動コイル等に用いられる。Sheet coils are used, for example, as drive coils for brushless flat motors, transistor motors, and the like.
（従来の技術）
従来、この種のコイルとしては、巻線コイルあるいは絶
縁基板上に設は九導体板に対するフォトエツチングによ
り形成されるシートコイルが用いられている。(Prior Art) Conventionally, as this type of coil, a wire-wound coil or a sheet coil formed by photo-etching a conductor plate placed on an insulating substrate has been used.
（発明が解決しようとする問題点）
従来の巻線によるコイルは、コイル断面における導体の
占積率がコイルの小型化に伴って小さくなシ、モータに
使用した場合、その電気的効率が低くなる。また、フォ
トエツチングによシ形成されるシートコイルは、コイル
導体間の間隔ｔ−３０〜１００μｍと小さくすることに
よシ、占積率の向上２図ってはいるものの、エツチング
の幅は、導体である銅箔の厚みの数倍もしくは同程度ま
でしか小さくできず、コイルのパターンの精密化に限度
かあつｍ、さらにその構成上、絶縁基板が必要であシ、
コイル断面の導体占積率をより低下させてしまっている
。(Problems to be Solved by the Invention) In conventional wire-wound coils, the space factor of the conductor in the cross section of the coil is small as the coil becomes smaller, and when used in a motor, the electrical efficiency is low. Become. In addition, although sheet coils formed by photoetching are designed to improve the space factor by reducing the spacing between the coil conductors to t-30 to 100 μm, the width of the etching is It can only be made as small as several times the thickness of the copper foil, which limits the precision of the coil pattern.Furthermore, due to its structure, an insulating substrate is required.
This further reduces the conductor space factor in the coil cross section.
（問題点を解決するための手段）
本発明は、従来使用されているコイルの欠点を除い友電
気的効率の高いシートコイルを提供するものである。す
なわち、本発明は、有機化合物薄膜もしくは高分子化合
物薄膜に、イオンビームを平面うずまき状にパターン照
射することにより、平面うずまき状の導電部を形成して
いること全特徴とするシートコイルである。(Means for Solving the Problems) The present invention provides a sheet coil with high electrical efficiency, which eliminates the drawbacks of conventionally used coils. That is, the present invention is a sheet coil characterized in that a planar spiral conductive portion is formed by irradiating an organic compound thin film or a polymer compound thin film with an ion beam in a planar spiral pattern.
本発明に用いる有機化合物薄膜としては、多環縮合系芳
香族ｆヒ合物の誘導体および金属フタロシアニンが挙げ
られる。具体的には、ジインデノペリレン、ニッケルフ
タロシアニｙ、 ３，４，９，１０一ベリレンテトラ
カルボキシリツクジイミド％ ’１４．９．１０−ペ
リレンテトラカルボキシリックジアンハイトライド、フ
タロシアニン、コロネン、ペリレ／、１．８−ナフタリ
ツクア／ハイドライド、１．４，５．８−ナフタレンテ
トラカルボキシリックジアンハイドライド、ｐ−ジェチ
ニルベンゼン、または５，４，９．１０−ナフタセンテ
トラチオール等であり、ま之、イオンビームの照射によ
り導電性を発現する有機化合物の蒸着薄膜−！友は塗布
膜がある。本発明に用いる高分子薄膜としては、上記有
機化合物の低温熱分Ｍ ＣＶ Ｄ （Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｖａｐｏｕｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ）薄膜、ポリイ
ミドフィルム、ポリアセチレン、ポリ−ｐ−フェニレン
スルフィド１友はイオンビームの照射により導電性を発
現する低温熱分解ＣＶＤ薄膜ま友はポリマーフィルムが
ある。これらの？Ｖ膜は、それ自体では絶縁体もしくは
半絶縁体であるが、Ａｒ＋やＮ＋、Ａｓ＋、Ｂ−などの
イオンビームを照射することにより、導電性を賦与する
ことができる。Examples of the organic compound thin film used in the present invention include derivatives of polycyclic condensed aromatic compounds and metal phthalocyanines. Specifically, diindenoperylene, nickel phthalocyanine, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhytride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhytride, phthalocyanine, coronene, Perile/, 1.8-naphthalicqua/hydride, 1.4,5.8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, p-jethynylbenzene, or 5,4,9.10-naphthacenetetrathiol, etc. Man, a vapor-deposited thin film of an organic compound that develops conductivity through ion beam irradiation! My friend has a coating film. The polymer thin film used in the present invention is a low-temperature heat component M CV D (Chemical
Vapor Deposition) Thin films, polyimide films, polyacetylene, poly-p-phenylene sulfide, low-temperature pyrolysis CVD thin films that develop conductivity through ion beam irradiation, and polymer films. these? The V film itself is an insulator or semi-insulator, but it can be given conductivity by irradiating it with an ion beam of Ar+, N+, As+, B-, or the like.
本発明においては、イオンビーム照射全平面うずまき状
く施すことにより、絶縁体もしくは半絶縁体の薄膜に平
面うずまき状の導電部分を形成する。イオンビームとし
ては、Ａｒ イオンビームま九はＮ＋イオンビーム、
ＡＳ イオンビーム、Ｂ イオンビーム等が用いられ
る。ｔとえは、ジインデノベリレンの蒸着薄膜に、２Ｍ
ｅＶのＡｒ＋イオンビームをイオンドーズ着１０”／ｄ
ｌだけ照射すると、電導度は１０−” Ｓ／ｃｒｎ以下
から２，５ Ｘ １０８ Ｓ／ａｎにまで上昇する。In the present invention, ion beam irradiation is carried out in a spiral shape over the entire plane, thereby forming a plane spiral conductive portion in an insulator or semi-insulator thin film. Ion beams include Ar ion beam, N+ ion beam,
AS ion beam, B ion beam, etc. are used. The method is to apply 2M to the vapor-deposited thin film of diindenoberylene.
eV Ar+ ion beam at an ion dose of 10”/d
When irradiated by 1, the conductivity increases from less than 10-'' S/crn to 2,5 x 108 S/an.
このイオンビーム照射では、有機化合物薄ＩＪＩＸまた
は高分子ｆヒ合物＃膜の表面Ｊ−のみにイオンの浸透を
施すことができる。ま几、薄膜が一枚のフィルムとして
得られれば、そのフィルムの両面に導体のパターンコイ
ルを対向させて形成することができる。これら両コイル
は、コイルの内側の一端どうしを、フィルムを貫通して
電気的に直列に接続させることができる。さらに、従来
技術のフォトエツチングによるシートコイルに比べて、
パターン金より精密化することができる。さらにま友、
従来技術のフォトエツチングによるシートコイルは、接
着剤の絶縁膜層を挾んで、その両面に金属の平面状コイ
ルが設けられてｂるのに対し、本発明のシートコイルは
接着剤層はなく、一枚の絶縁体もしくは半絶縁体の薄膜
の両面ま友は片面に導電パターンを形成している。In this ion beam irradiation, ions can permeate only the surface J- of the organic compound thin IJIX or polymer f-hybrid compound # film. However, if the thin film is obtained as a single film, patterned conductor coils can be formed on both sides of the film, facing each other. Both of these coils can be electrically connected in series by penetrating the film at one end of the inside of the coil. Furthermore, compared to the conventional photo-etched sheet coil,
Pattern gold can be more precise. Furthermore, my friend,
In the conventional photo-etched sheet coil, metal planar coils are provided on both sides of an adhesive insulating film layer, whereas the sheet coil of the present invention does not have an adhesive layer. A double-sided insulator or semi-insulator thin film has a conductive pattern formed on one side.
（発明の効果）
本発明によれば、従来のシートコイルに比較して、単位
空間当シのより高い占積率、よシ精密な微細パターンコ
イルが得られ、ま九、導電部と絶縁体部分とが一枚の薄
膜として一体化しているので、従来のシートコイルのよ
うに、絶縁層がコイル導体に沿って裂けたりすることが
ない。(Effects of the Invention) According to the present invention, compared to conventional sheet coils, a coil with a higher space factor per unit space and a more precise fine pattern can be obtained. Since the parts are integrated as a single thin film, the insulating layer does not tear along the coil conductor, unlike conventional sheet coils.
（実施例） 本発明のシートコイルの一例を第１図に示す。(Example) An example of the sheet coil of the present invention is shown in FIG.
この例は、有機化合物薄膜（ジインデノベリレン）１０
両面に、市販の集束イオンビーム照射装置を使用して、
２＠ｅＶのＡｒ＋イオンビームをうずまき状ニハターン
照射することにより、パターンコイル２，３を形成し友
ものである。この例においては、表裏両面のコイル２．
３は磁気的中心が一致するようだ対向して設けられ、各
コイルの内側端５．６がスルーホール４で薄膜１の絶縁
性部を貫通して電気的に導通化され、直列に接続されて
いる。第２図はコイルの断面図に示すよう和、絶縁性の
有機化合物薄膜１にＡｒ＋が侵入し、導電性のコイル部
分２．３が形成されている。This example is an organic compound thin film (diindenoberylene) 10
Both sides were irradiated using a commercially available focused ion beam irradiation device.
Patterned coils 2 and 3 are formed by irradiating a 2@eV Ar+ ion beam in a spiral pattern. In this example, coils 2.
3 are provided facing each other so that their magnetic centers coincide, and the inner ends 5 and 6 of each coil are made electrically conductive by penetrating the insulating part of the thin film 1 with a through hole 4, and are connected in series. ing. As shown in FIG. 2, a sectional view of the coil, Ar+ has invaded the insulating organic compound thin film 1, forming a conductive coil portion 2.3.
第１図は本発明のシートコイルの一例を示す平面図、第
２図はその断面図である。FIG. 1 is a plan view showing an example of the sheet coil of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view thereof.
Claims (1)
ビームを平面うずまき状にパターン照射することにより
、平面うずまき状の導電部を形成していることを特徴と
するシートコイル。A sheet coil characterized in that a planar spiral conductive portion is formed by irradiating an organic compound thin film or a polymer compound thin film with an ion beam in a planar spiral pattern.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23668184A JPS61115302A (en) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | Sheet coil |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23668184A JPS61115302A (en) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | Sheet coil |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61115302A true JPS61115302A (en) | 1986-06-02 |
Family
ID=17004198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23668184A Pending JPS61115302A (en) | 1984-11-12 | 1984-11-12 | Sheet coil |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61115302A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001044033A (en) * | 1999-05-25 | 2001-02-16 | Hitachi Metals Ltd | Laminated common-mode choke coil |
| EP1168442A2 (en) * | 2000-06-20 | 2002-01-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Integrated circuit with high-Q inductor and high compactness |
| JP2003532285A (en) * | 1998-07-06 | 2003-10-28 | ミッドコム インコーポレーテッド | Multilayer transformer with electrical connections inside core |
-
1984
- 1984-11-12 JP JP23668184A patent/JPS61115302A/en active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003532285A (en) * | 1998-07-06 | 2003-10-28 | ミッドコム インコーポレーテッド | Multilayer transformer with electrical connections inside core |
| JP2001044033A (en) * | 1999-05-25 | 2001-02-16 | Hitachi Metals Ltd | Laminated common-mode choke coil |
| JP4678563B2 (en) * | 1999-05-25 | 2011-04-27 | 日立金属株式会社 | Multilayer type common mode choke coil |
| EP1168442A2 (en) * | 2000-06-20 | 2002-01-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Integrated circuit with high-Q inductor and high compactness |
| EP1168442A3 (en) * | 2000-06-20 | 2002-05-02 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Integrated circuit with high-Q inductor and high compactness |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5288541A (en) | Method for metallizing through holes in thin film substrates, and resulting devices | |
| JPH0213364B2 (en) | ||
| JPS61115302A (en) | Sheet coil | |
| US4511445A (en) | Process of enhancing conductivity of material | |
| US5158657A (en) | Circuit substrate and process for its production | |
| DE1439648B2 (en) | Method for producing a semiconductor component | |
| US11037718B2 (en) | Coil component | |
| JPH02172299A (en) | Manufacture of shielding apparatus | |
| KR100449142B1 (en) | Micro supercapacitor adopting carbon nanotubes and manufacturing method thereof | |
| CN207382679U (en) | Capacitance and bury condenser network plate | |
| TW201939631A (en) | Wiring substrate and method for producing same | |
| JPH04211189A (en) | Circuit board and its manufacture | |
| US3174124A (en) | Cryogenic electronic device | |
| GB980468A (en) | Improvements in and relating to electrical circuit elements | |
| TWI828659B (en) | Manufacturing method of wiring board | |
| JPH0243353B2 (en) | ||
| JPS61116804A (en) | New sheet coil | |
| JP2913319B2 (en) | Method for forming vacuum deposited metal thin film with high adhesion strength on stainless steel surface | |
| JPH01232792A (en) | Circuit board | |
| JPS5952517B2 (en) | Connector manufacturing method | |
| JP2022072605A (en) | Laminated film and strain sensor | |
| JP3443430B2 (en) | Electrode of micro electrostatic actuator and method of manufacturing the same | |
| JP2804208B2 (en) | Manufacturing method of wiring board | |
| JPS608592B2 (en) | Connector manufacturing method | |
| JPH0342488B2 (en) |