JPS63148251A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
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- JPS63148251A JPS63148251A JP29688386A JP29688386A JPS63148251A JP S63148251 A JPS63148251 A JP S63148251A JP 29688386 A JP29688386 A JP 29688386A JP 29688386 A JP29688386 A JP 29688386A JP S63148251 A JPS63148251 A JP S63148251A
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 78
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はスライドビード塗布法に関し、さらに詳しくは
特に薄膜の塗布を行う方法に関する。
特に薄膜の塗布を行う方法に関する。
写真材料は一般にハロゲン化銀粒子を懸濁し及び／また
は写真特性、生産性を整える添加剤を含有した親水性コ
ロイド （例えばゼラチン）を、ポリエチレンテレフタ
レート或はバライタ紙の如き比視性の長尺ウェブに連続
的に塗設、１２２燥して製造される。
は写真特性、生産性を整える添加剤を含有した親水性コ
ロイド （例えばゼラチン）を、ポリエチレンテレフタ
レート或はバライタ紙の如き比視性の長尺ウェブに連続
的に塗設、１２２燥して製造される。
写真材料を構成する写真層をウェブに塗設する方法とし
て初期にはディップ法、ダブルロール法、エアドクタ法
等が用いられ、多層同時高速塗布の要請の下にカーテン
塗布方法及びスライドビード塗布法等が開発され、現在
スライドビード塗布法が主流を占めるに到っている。
て初期にはディップ法、ダブルロール法、エアドクタ法
等が用いられ、多層同時高速塗布の要請の下にカーテン
塗布方法及びスライドビード塗布法等が開発され、現在
スライドビード塗布法が主流を占めるに到っている。
前記スライドビード塗布法については、米国特許２，６
８１，２９４号、同２，７６１．４１９号、同２，７６
１，７９１号及び米国特許８３７．０９５号に開示され
ている。
８１，２９４号、同２，７６１．４１９号、同２，７６
１，７９１号及び米国特許８３７．０９５号に開示され
ている。
スライドと一ド塗布法は前記特許に記載の如く、１液以
上の塗布液をスライドホッパーに設けられたスリットか
ら連続した幅広リボンとして押出し、スライド面の終端
のリップ部に近接して走行するウェブ面に前記塗布液の
単層もしくは積層リボンを差渡してビードを形成し、塗
布液の流延速度と該リボンをビードより持去るウェブの
走行速度とを整合させてウェブ上に単層らしくは積層の
塗膜を塗設するものである。尚、−ａに走行するウェブ
はリップ部に近接して設けられた塗布バックアップロー
ラに張架される。
上の塗布液をスライドホッパーに設けられたスリットか
ら連続した幅広リボンとして押出し、スライド面の終端
のリップ部に近接して走行するウェブ面に前記塗布液の
単層もしくは積層リボンを差渡してビードを形成し、塗
布液の流延速度と該リボンをビードより持去るウェブの
走行速度とを整合させてウェブ上に単層らしくは積層の
塗膜を塗設するものである。尚、−ａに走行するウェブ
はリップ部に近接して設けられた塗布バックアップロー
ラに張架される。
従ってこの様に構成されたスライドビード塗布法では塗
布液供給量とウェブの走行速度（塗布遠度）とは完全に
整合していることが必須条件であるが、更にウェブとリ
ップ部間に差渡された塗布液リボンの作るビードの形状
安定性は塗膜の均−性屹燥仕」二つに大きな影響を及ぼ
す。
布液供給量とウェブの走行速度（塗布遠度）とは完全に
整合していることが必須条件であるが、更にウェブとリ
ップ部間に差渡された塗布液リボンの作るビードの形状
安定性は塗膜の均−性屹燥仕」二つに大きな影響を及ぼ
す。
例えばウェブの走行方向に関してビードの追従！！退即
ちウェブの縦方向にビードの振動が起れば単純には横縞
（肋状むら）、塗布切れの発生、更に該振動でビード位
置にある塗布液層間に混交が生ずれば斑点むら、縦筋む
らを生じる。
ちウェブの縦方向にビードの振動が起れば単純には横縞
（肋状むら）、塗布切れの発生、更に該振動でビード位
置にある塗布液層間に混交が生ずれば斑点むら、縦筋む
らを生じる。
これらの不都合はビード自身にビード形状安定化に対す
る積極的な自己復元力がない限り避けることはできない
。
る積極的な自己復元力がない限り避けることはできない
。
米国特許２，６８１，２９４号では減圧室を付設してビ
ードをウェブの走行方向とは逆方向に減圧によって吸引
しビートの安定化を図った減圧方式スライドビード塗布
を開示している。
ードをウェブの走行方向とは逆方向に減圧によって吸引
しビートの安定化を図った減圧方式スライドビード塗布
を開示している。
ビードの安定に関する要因としては、流量、塗布液物性
、塗布温度、減圧条件、更に塗布機リップと塗布バック
アップローラに張架されたウェブとの間隙く以下ビード
間隙という）が重要である。
、塗布温度、減圧条件、更に塗布機リップと塗布バック
アップローラに張架されたウェブとの間隙く以下ビード
間隙という）が重要である。
この中で流量は多い方が、塗布安定性は増すが、所望乾
燥膜厚と塗布物性（粘度、ゼラチン濃度、表面張力等）
の関係から、その選択の巾は自ら限定される。
燥膜厚と塗布物性（粘度、ゼラチン濃度、表面張力等）
の関係から、その選択の巾は自ら限定される。
近時写真恐光材料業界においては、主として性能向上え
の要請から、薄膜塗布の必要性が非常に高まっている。
の要請から、薄膜塗布の必要性が非常に高まっている。
薄膜塗布を行う場合は塗布流量を減少しなければならな
いが、この減少させたままの流量で塗布開始（ビード形
成開始）操作を入れると、薄膜の程度、ビード間隙、コ
ータ減圧にもよるが中手方向にビード形成がなされにく
い現象が生じる。
いが、この減少させたままの流量で塗布開始（ビード形
成開始）操作を入れると、薄膜の程度、ビード間隙、コ
ータ減圧にもよるが中手方向にビード形成がなされにく
い現象が生じる。
上記した如き問題点に対し、本発明の目的は、スライド
ビード塗布において塗布開始時のビート形成を安定に行
なわせることにより特に薄膜塗布を安定に行うことが出
来る塗布方法を提供することである。
ビード塗布において塗布開始時のビート形成を安定に行
なわせることにより特に薄膜塗布を安定に行うことが出
来る塗布方法を提供することである。
本発明の上記目的は、スライドビード塗布法により、走
行中のウェブに塗布を行う場合、塗布開始時に塗布液の
流量を正常流量より増加することを特徴とする塗布方法
によって達成しうろことを見出した。尚、２Ｍ以上の重
層の場合はハロゲン化銀を含まない塗布液を操作するの
がコスト面、牛業面から考えて合理的である。
行中のウェブに塗布を行う場合、塗布開始時に塗布液の
流量を正常流量より増加することを特徴とする塗布方法
によって達成しうろことを見出した。尚、２Ｍ以上の重
層の場合はハロゲン化銀を含まない塗布液を操作するの
がコスト面、牛業面から考えて合理的である。
以下図面により本発明を具体的に説明する。第１図はス
ライドビード塗布機の概略側断面図である。ウェブ１０
は塗布バックアップロール１に抱かれて走行し、スライ
ドビード塗布機２のスロッＩ・４よりスライド面５に流
される塗布液と塗布機リップ部６において接触し、該リ
ップ部においてリボン状液溜まりであるビード１２を形
成し、このビード１２を介して塗布液はウェブ上に塗布
される。尚この際、減圧装置３によりビードを下方に引
っ張ることによりビードの安定を３する方法が一般に採
用されている。上記機構は一層の場合でも２層以」二の
場合でも同様であって、複数のスロットより、複数の塗
布液をスライド面に流す事により、同時多層塗布３行う
ことができる。第１図の場合は２層塗布の例であって下
層には乳剤液を流し、上層には保護膜液を流して、同時
重層を行った。第１図においては、保護膜液をスロット
に送る経路の配管に流量計及び流１調節弁を有する。第
１図では保護膜液による流量増加を行うため、該保護収
液径路に流量計７および流！調節弁８を設けた例を示し
た。
ライドビード塗布機の概略側断面図である。ウェブ１０
は塗布バックアップロール１に抱かれて走行し、スライ
ドビード塗布機２のスロッＩ・４よりスライド面５に流
される塗布液と塗布機リップ部６において接触し、該リ
ップ部においてリボン状液溜まりであるビード１２を形
成し、このビード１２を介して塗布液はウェブ上に塗布
される。尚この際、減圧装置３によりビードを下方に引
っ張ることによりビードの安定を３する方法が一般に採
用されている。上記機構は一層の場合でも２層以」二の
場合でも同様であって、複数のスロットより、複数の塗
布液をスライド面に流す事により、同時多層塗布３行う
ことができる。第１図の場合は２層塗布の例であって下
層には乳剤液を流し、上層には保護膜液を流して、同時
重層を行った。第１図においては、保護膜液をスロット
に送る経路の配管に流量計及び流１調節弁を有する。第
１図では保護膜液による流量増加を行うため、該保護収
液径路に流量計７および流！調節弁８を設けた例を示し
た。
一般にビードは、特に塗布開始時において、不安定であ
って、塗布液をウェブに塗布し始める時には、塗布液が
走行しているウェブに接触しても直ちに塗布液はウェブ
に塗布されず若干の誘導区間を経た後に塗布される。尚
、流量が少い場合、すなわち薄膜塗布（例えば５０μ以
下のウェット膜厚）では全中均−に塗布されず塗布が出
来ない場合がある。
って、塗布液をウェブに塗布し始める時には、塗布液が
走行しているウェブに接触しても直ちに塗布液はウェブ
に塗布されず若干の誘導区間を経た後に塗布される。尚
、流量が少い場合、すなわち薄膜塗布（例えば５０μ以
下のウェット膜厚）では全中均−に塗布されず塗布が出
来ない場合がある。
本発明は鋭意研究の結果、流量の少い場合であっても、
一度び、全中にわたって安定なビードが形成されると、
その後のビードの破壊は、減圧条件その池の条件を選ぶ
事により少くなる事を見出した。したがって本発明にお
いては塗布開始時のみ塗布液流量を増加することによっ
て安定なビードをつくり、全中均−な塗布を行った後、
徐々に流量をしぼることによって、スライドビード塗布
における薄膜塗布限界を下げることに成功したのである
。この様な流量変化の例を第２図に示した。
一度び、全中にわたって安定なビードが形成されると、
その後のビードの破壊は、減圧条件その池の条件を選ぶ
事により少くなる事を見出した。したがって本発明にお
いては塗布開始時のみ塗布液流量を増加することによっ
て安定なビードをつくり、全中均−な塗布を行った後、
徐々に流量をしぼることによって、スライドビード塗布
における薄膜塗布限界を下げることに成功したのである
。この様な流量変化の例を第２図に示した。
尚、この様な流量制御は第１図に示した流量計の信号と
タイマーからの信号を流量調節弁を与える事によって容
易に可能である。
タイマーからの信号を流量調節弁を与える事によって容
易に可能である。
下引済みポリエチレンテレフタレートフィルム上に表面
張力４０ｄｙｎｅ／ｃｍのハロゲン化銀含有ゼラチン溶
液を塗布中３０ｃＩ１１の塗布機により塗布速度４０ｍ
／ｍｉｎテ行−ｙ な、減圧度３０ｍｍＡｑ、ビートｒ
ｒｒＩ隙２００ａｍである。尚塗布に当っては、粘度を
変える事によって塗布可能の膜厚限界をしらべた。その
結果粘度 本発明 未実施 （ｃｐ） （ｕｓ） （ｕａＡ）上
記の如く本発明の場合は、未実施の場合に比較して著し
く塗布膜厚限界を下げ、薄膜塗布が可能となることがわ
かる。
張力４０ｄｙｎｅ／ｃｍのハロゲン化銀含有ゼラチン溶
液を塗布中３０ｃＩ１１の塗布機により塗布速度４０ｍ
／ｍｉｎテ行−ｙ な、減圧度３０ｍｍＡｑ、ビートｒ
ｒｒＩ隙２００ａｍである。尚塗布に当っては、粘度を
変える事によって塗布可能の膜厚限界をしらべた。その
結果粘度 本発明 未実施 （ｃｐ） （ｕｓ） （ｕａＡ）上
記の如く本発明の場合は、未実施の場合に比較して著し
く塗布膜厚限界を下げ、薄膜塗布が可能となることがわ
かる。
尚この場合、本発明の先頭流量は未実施の項に記した塗
布限界流量が必要であり、ビード形成后流量をしぼるの
である。
布限界流量が必要であり、ビード形成后流量をしぼるの
である。
又上記実施例では単層による実施例であるが、複層の場
合でも同様であった。複層の場合保譚膜渣、中間層液等
により流量増加を行うことがコスト上有利である。
合でも同様であった。複層の場合保譚膜渣、中間層液等
により流量増加を行うことがコスト上有利である。
本発明によりスライドビード塗布において、特に薄膜塗
布を安定に行うことの出来る塗布方法を提供することが
出来た。
布を安定に行うことの出来る塗布方法を提供することが
出来た。
であり、第２図は本発明における塗布時の流量変化の状
君を示す図である。 １；塗布バックアップロール、１０；ウェブ２ニスライ
ドビード塗布機、 １１：塗布膜４ニスロツト、
１２： ビード５ニスライド面、
１３：保護膜液６：リツプ部、 １４：
乳剤液７：流量計 ８：流量調節弁 出願人 小西六写真工業株式会社 第１図
君を示す図である。 １；塗布バックアップロール、１０；ウェブ２ニスライ
ドビード塗布機、 １１：塗布膜４ニスロツト、
１２： ビード５ニスライド面、
１３：保護膜液６：リツプ部、 １４：
乳剤液７：流量計 ８：流量調節弁 出願人 小西六写真工業株式会社 第１図
Claims (1)
- スライドビード塗布法により、走行中のウェブに塗布を
行う場合、塗布開始時に塗布液の流量を正常流量より増
加することを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29688386A JPS63148251A (ja) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29688386A JPS63148251A (ja) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | 塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63148251A true JPS63148251A (ja) | 1988-06-21 |
Family
ID=17839399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29688386A Pending JPS63148251A (ja) | 1986-12-12 | 1986-12-12 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63148251A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2742559A1 (fr) * | 1995-12-14 | 1997-06-20 | Kodak Pathe | Procede pour ameliorer l'uniformite d'un rideau liquide dans un systeme d'enduction au rideau |
| JP2002086044A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-03-26 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置並びにディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイの製造方法およびその製造装置 |
-
1986
- 1986-12-12 JP JP29688386A patent/JPS63148251A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2742559A1 (fr) * | 1995-12-14 | 1997-06-20 | Kodak Pathe | Procede pour ameliorer l'uniformite d'un rideau liquide dans un systeme d'enduction au rideau |
| JP2002086044A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-03-26 | Toray Ind Inc | 塗布方法および塗布装置並びにディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイの製造方法およびその製造装置 |
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