JPS61100574A - 2(4‐フルオロフエニル)α‐メチル‐5‐ベンゾオキサゾール酢酸の製造方法 - Google Patents

2(4‐フルオロフエニル)α‐メチル‐5‐ベンゾオキサゾール酢酸の製造方法

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JPS61100574A
JPS61100574A JP60231423A JP23142385A JPS61100574A JP S61100574 A JPS61100574 A JP S61100574A JP 60231423 A JP60231423 A JP 60231423A JP 23142385 A JP23142385 A JP 23142385A JP S61100574 A JPS61100574 A JP S61100574A
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fluorophenyl
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acetic acid
acid
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D263/00Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings
    • C07D263/52Heterocyclic compounds containing 1,3-oxazole or hydrogenated 1,3-oxazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D263/54Benzoxazoles; Hydrogenated benzoxazoles
    • C07D263/56Benzoxazoles; Hydrogenated benzoxazoles with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached in position 2
    • C07D263/57Aryl or substituted aryl radicals

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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は2(4−フルオロフェニル)α−メチル−5−
ベンゾオキサゾール酢酸製造の新しい方法に関する。
構造式: %式% ベンゾオキサゾール酢酸中の星印で示された炭素原子は
不整であシ、その結果それは右旋性及び左旋性型に加え
、明らかにラセミ混合型で存在する。
前述の構造式で示されたタイプの化合物は知られておF
) (J、Madic、Ch*m、1975.Vol、
18. A 1 。
53−58頁)、そしてそれ等は優れた炎症抑制剤とし
てもまた知られておシ、そしてそれはフェニルブタシン
よシかなシよシ強力であシ、そしてそれと比べてそれ等
は低毒性の利点をまた有している。右旋性型は左旋性ア
ンチポード又は対応するラセミ混合体よりもかな)大き
な炎症抑制活性を発揮することもまた知られている。
それ故、光学的に充分な純度での右旋性型の製造はかな
シ重要である。(ト)−2(4−フルオロフェニル)α
−ifルー5−ベンゾオキサソール酢酸の製造は例えば
英国特許1.475.488及びイタリア特許2245
4 A/82から知られている。
出願人は(−)2− (4’−71イドロキシ−31−
ニトロフェニル)−グロピオニトリルから出発シて2(
4−フルオロフェニル)α−メチル−5−ベンゾオキサ
ゾール酢酸をラセミ混合体の型でも又はそれぞれのアン
チデートの型でも製造できる方法の特許出願(イタリア
特許出願A 26498A/78 )もまた出願した。
我々は今回本発明の目的、すなわち2(4−フルオロフ
ェニル)α−メチル−5−ベンゾオキサゾール酢酸が既
知の技術のそれ等よシ、よシ高い収率でそしてよシ緩か
な条件で、工業的製造にかなシ有利に製造できる決定的
に改良された方法を見出した。
本発明における2(4−フルオロフェニル)α−メチル
−5−ベンゾオキサゾール酢酸(1)の製造方法は以下
にそれ等の各々の化学反応で表わされる以下の操作段階
で構成されることにより特徴づけられる。
虻 F 本発明に訃ける方法の特徴は以下に与えられる本発明を
実施するための好ましい方法の詳細な記述によってよシ
明らかになるであろう。セしてそれは例示的目的で記述
されている。
段階A)で4−ハイドロキシ−3−アミノフェニル酢酸
(II)が4−フルオロベンゾイルクロリド(至)と反
応させられて3(4−フルオロ)−ペンツアミド−4−
ノ・イト90キシフエニル酢酸(■)が得られる。この
反応は2%−5%の炭酸水素ナトリウム水溶液で構成さ
れた反応媒体中00〜30℃の間の温度で、3〜6時間
の間の時間で操作して実施される。生成物(IV)が約
95%の収率で得られる。
段階B)、(ここで複素環が形成される)で生成物(I
V)は70−80重量%燐酸溶液で120−125℃の
温度で30分から1時間の時間で処理される。この混合
物は放冷され、そして得られた2(4−フルオロフェニ
ル)−5−ベンゾオキサゾール酢酸(V)が25℃の温
度で水を加えることにより結晶化される。生成物(V)
が90チ〜95チの収率で得られる。
段階C)で生成物(V)は硫酸の存在下エチルアルコー
ルでの処理により、環流下数時間加熱するこトニよジエ
ステル化されエチル(4−フルオロフェニル)5−ペン
ツオキサゾール酢酸エステル(ロ)・が80チー85チ
の収率で得られる。
段階D)でエステル(Vl)が蓚酸ジエチルとナトリウ
ムメチラートの存在下エーテル又は炭化水素溶媒で構成
された反応媒体中で反応させられる。この混合体は加熱
され環流下20−30時間沸騰させられそして冷却され
そして54 H2So4溶液で中和される。有機相は飽
和NaCL溶液でそして次いでH2Oで洗われモしてN
a 2SO4による処理で乾燥され、その後それは小溶
積に濃縮されエチル2(4−)ルオロフェニル)−5−
ベンゾオキサゾールオキサル酢酸エステル(■)が90
チから95%の収率で得られる。
段階E)で生成物(■)はホルムアルデヒドと水性に2
CO3溶液中室温で攪拌下、4−6時間の間処理される
。エチル2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオキサ
ゾールアクリル酸エステル(■)がこのようにして、9
596以上の収率で得られる。
段階F)でエステル(■)は第1にそれをテトラヒドロ
フラン溶液中KOH溶液で室温で20−30時間処理し
そして次いでHClの溶液でt−ブチルメチルエーテル
中酸性化することにより加水分解され対応する酸が得ら
れる。2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオキサゾ
ールアクリル酸(■)がこのようにして90%−95%
の収率で得られる。
段階G)で生成物(IX)は常圧下25°−140℃の
温度で、5%Pd−オン−カーボンを触媒として用いて
、エチルアルコールで構成された反応媒体中で水素添加
される。この反応で、水素添加は事実止定f的K 2 
(4−フルオロフェニル)α−メチル−5−ベンゾオキ
サゾール酢酸(■)を導ぐ。
以下の実施例は2(4−フルオロフェニル)α−メチル
−5−ベンゾオキサゾール酢酸を製造するための方法の
非限定的説明である。
実施例1゜ 92、4.9の4−ハイドロキシ−3−ニトロフェニル
酢酸が785ralのH2Oと21.2gのNaHCO
sで構成された溶液中に懸濁される。5%Pd−オン−
カーボンで構成された51の触媒が該溶液中に懸濁され
、それは次いで室温で4時間水素添加され、4−ハイド
ロキシ−3−アミノフェニル酢酸が得られる。該触媒は
窒素雰囲気下濾過にょう分離され、そして水性溶液は4
−フルオロベンゾイルクロライドとの反応に用いられ、
そしてそれは以下の方法で実施される。該水性溶液は窒
素雰囲気下5℃に冷却され、46 Qmのt−ブチルメ
チルエーテルが加えられ、そして次いで17Qm/のt
−ブチルメチルエーテルに溶解した74m/の4−フル
オロベンゾイルクロリドがゆっくり加えられる。
この混合物は室温で6時間激しく攪拌され、その後濾過
され生成物が回収される。母液から溶媒を蒸発させるこ
とによ)、更に少量の生成物が回収される。
合計で12711の3(4−フルオロ)ベンツアミP 
−4−ハイドロキシフェニル酢酸が94チの収率で得ら
れる。
該生成物は225°−230℃の融点を有し、そシテT
LC(ベンゼン:ノオキサン:酢酸=90=25:4)
で分析された。
127yの細かく粉砕された3(4−フルオロ)ペンツ
アミド−4−フェニル酢酸が1リツトルの75%燐酸溶
液へ、130℃に加熱され、攪拌下、加えられる。加熱
は完全に溶解するよう125℃で30分間続けられ、そ
の後肢溶液は50℃に冷却されそして生成物が結晶化す
るまで水がゆつくシ加えられる。更に合計3リツトルの
量になるまで水が加えられ、そして攪拌が2時間続けら
れる。
この混合物は濾過され、固体は蒸留水中でどろどろにさ
れ、再濾過されそして乾燥される。1101の粗生成物
が得られ、そしてエタノールから結晶化されて95J’
の結晶生成物が80%の収率で得られる。
この生成物は194−196℃の融点を有し、ソシテT
LC(ベンゼン:ジオキサン:酢酸=90:25:4)
で分析される。
85Iの2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオキサ
ゾール酢酸が300m1のエチルアルコール及び4.7
dのH2SO4で処理されそして環流下3時間沸騰され
る。
この混合物は真空下濃縮され、25℃に冷却されそして
濾過され78Fの生成物が83%の収率で得られる。 
                   。
この生成物は123°−124℃の融点を有しそシテT
LC(ベンゼン:酢酸エチルエステル=10:1)で分
析される。
68、Fのエチル2(4−フルオロフェニル)5−ベン
ゾオキサゾール酢酸が8901rLlのトルエン中に懸
濁され、その後15.36 、Pのナトリウムメチレー
トを含む210Mのトルエン−ニーテルト51.54m
A!Lvi酸ジエチルが加えられる。
得られる混合物は加熱され環流下24時間沸騰され、そ
して次いで冷却され5%硫酸で中和される。
有機相は最初飽和塩化ナトリウム溶液でそして次いで水
で洗われ、そして最後に硫酸ソーダの処理により乾燥さ
れる。86.Fの生成物が91俤の収率で得られる。
生成物は118°−120℃の融点を有し、TLC(ベ
ンゼン:酢酸エチル=10:1)で分析される。
オキサゾールアクリル酸エステルの製造86gのエチル
2(4−フルオロフェニル)5−ペンゾオキサゾールオ
キサル酢酸エステルが232Mの20チホルムアルデヒ
ド中に懸濁され、そして390m7の水中の63.Fの
に2C03の溶液が加えられる。
この混合物は室温で5時間攪拌されそして次いでt−ブ
チルメチルエーテルで抽出される。
有機相は水で洗われ、Na2SO4で乾燥され、そして
溶媒が次いで蒸発される。
59IIの生成物が97チの収率で得られる。この生成
物は98e′−100℃の融点を有しそしてTLC(ベ
ンゼン:酢酸エチルエステル=10:I)で分析される
59.917)エチル2(4−フルオロフェニル)5−
ベンゾオキサゾールアクリル酸エステルは425ゴのテ
トラヒドロフラン中に溶解され、850d3チKOH溶
液が加えられ、そしてこの混合物は攪拌下、室温で24
時間保たれる。
該溶液は真空下40℃で部分的に蒸発され、室温に冷却
され、50011Llのt−ブチルメチルエーテルが加
えられ、そして該混合物は希(1:10)HCl″rp
H2に酸性化される。
エーテル相は分離され、水相はエーテルで2回抽出され
る。合されたエーテル溶液は乾燥されそして蒸発される
残留物はジイソノロビルエーテル中に取うれる。
50Jjの生成物が93チの収率で得られる。
生成物は237°−240℃の融点を有しそしてTLC
(ヘアーW7 : シF++7 :酢酸=90:25:
4)で分析される。
500−のエチルアルコール中のso、pの2(4−フ
ルオロフェニル)5−ベンゾオキサゾールアクリル酸が
常圧下35℃で、5%Pd−on−炭素で構成された5
1Iの触媒の存在下3時間水素添加される。
触媒は濾過により分離され、そして溶媒は夕景に濃縮さ
れる。50.Fの生成物が99%の収率で得られる。
生成物は164°−165°の融点を有しそしてTLC
(ベンゼン:ジオキサン:酢酸=90:25:4)で分
析される。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)4−ハイドロキシ−3−アミノフェニル酢酸が最
    初に4−フルオロベンゾイルクロリドと反応させられ、
    そして該生成物が燐酸と反応させられ、このようにして
    得られた2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオキサ
    ゾール酢酸がエチルアルコールでエステル化されそして
    該エステルが蓚酸ジエチルで処理され、得られたエチル
    2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオキサゾールオ
    キサル酢酸エステルがホルムアルデヒド及び炭酸カリウ
    ムと反応させられてエチル2(4−フルオロフェニル)
    5−ベンゾオキサゾールアクリル酸エステルが得られ、
    そしてそれは加水分解されて対応する酸が得られ、そし
    てそれから2(4−フルオロフェニル)α−メチル−5
    −ベンゾオキサゾール酢酸が水素添加により得られるこ
    とに特徴づけられた2(4−フルオロフェニル)α−メ
    チル−5−ベンゾオキサゾール酢酸の製造方法。
  2. (2)4−ハイドロキシ−3−アミノフェニル酢酸と4
    −フルオロ−ベンゾイルクロリド間の上記反応が2%と
    5%の強さの間の水性炭酸水素ナトリウム溶液で構成さ
    れた反応媒体中、0°と30℃の間の温度で3と6時間
    の間の時間操作して実施され、そしてこのようにして得
    られた生成物が70−80重量%H_3PO_4溶液で
    120°−125℃の温度で30分と1時間の間の時間
    処理されることに特徴づけられる特許請求の範囲第1項
    記載の製造方法。
  3. (3)上記2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオキ
    サゾール酢酸のエステル化がH_2SO_4の存在下沸
    騰点で環流下数時間実施され、そして該エステルの蓚酸
    ジエチルによる上記処理がナトリウムメチラートの存在
    下エーテル又は炭化水素溶媒で構成された反応媒体中沸
    点で環流下20−30時間実施されることに特徴づけら
    れる特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
  4. (4)エチル2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオ
    キサゾールオキサル酢酸エステルとホルムアルデヒド及
    び炭酸カリウムとの間の上記反応が水性溶液中室温で4
    −6時間実施されることに特徴づけられる特許請求の範
    囲第1項記載の製造方法。
  5. (5)エチル2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオ
    キサゾールアクリル酸エステルの上記加水分解が、テト
    ラヒドロフラン環境中KOHで室温で20−30時間の
    処理、次いでt−ブチルメチルエーテル中HClでの酸
    性化により実施されることに特徴づけられる特許請求の
    範囲第1項記載の製造方法。
  6. (6)2(4−フルオロフェニル)5−ベンゾオキサゾ
    ールアクリル酸の上記水素添加が常圧下25°−40℃
    の温度で触媒を5%Pd−オン−カーボンの型で用いて
    、エチルエーテルで構成された反応媒体中実施されるこ
    とに特徴づけられる特許請求の範囲第1項記載の製造方
    法。
JP60231423A 1984-10-22 1985-10-18 2(4‐フルオロフエニル)α‐メチル‐5‐ベンゾオキサゾール酢酸の製造方法 Granted JPS61100574A (ja)

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