JPS6081003A - 次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の製造法 - Google Patents
次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の製造法Info
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- JPS6081003A JPS6081003A JP18989483A JP18989483A JPS6081003A JP S6081003 A JPS6081003 A JP S6081003A JP 18989483 A JP18989483 A JP 18989483A JP 18989483 A JP18989483 A JP 18989483A JP S6081003 A JPS6081003 A JP S6081003A
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/14—Production of inert gas mixtures; Use of inert gases in general
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造法に関するも
のである。特に高濃度次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造に
おいて、塩化ナトリウムによる反応器等の閉塞の心配の
ない方法に関するものであるＯ 高濃度次亜塩素酸ソーダ水溶液を得るには、高濃度の苛
性ソーダを使用せねばならず、この場合反応の進行に伴
い、次亜塩素酸ソーダー苛性ソーダー塩化ナトリウムの
３成分が液相で共存できなくなり、塩化ナトリウムが結
晶として析出する。
のである。特に高濃度次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造に
おいて、塩化ナトリウムによる反応器等の閉塞の心配の
ない方法に関するものであるＯ 高濃度次亜塩素酸ソーダ水溶液を得るには、高濃度の苛
性ソーダを使用せねばならず、この場合反応の進行に伴
い、次亜塩素酸ソーダー苛性ソーダー塩化ナトリウムの
３成分が液相で共存できなくなり、塩化ナトリウムが結
晶として析出する。
この析出した塩化ナトリウムが、反応器等に付着し、閉
塞を起こすことが製造プロセス上重大な障害となる為、
従来閉塞防止の手法が種々検討されている。例えば、特
開昭５６−１１４８０７号に見られる様に、反応液の流
動方向に沿って開口する塩素導入管を設ける方法や、特
開昭５８−２０７０３号に見られる様に、２重管式のサ
イクロン型反応器を用い、塩素含有ガスを内管より供給
し、反応液を外管に接続方向から供給し、サイクロン下
部で両者を接触させる方法が提案されている。しかし前
者、後者いずれの方法でも、塩素供給ノズルが反応液と
接触しており、その近傍で乱流状態で気液混合が行なわ
れる為、液の飛沫が塩素供給ノズル内面に刺着し、やが
て閉塞を起こし、現状では満足できる状態ではない。
塞を起こすことが製造プロセス上重大な障害となる為、
従来閉塞防止の手法が種々検討されている。例えば、特
開昭５６−１１４８０７号に見られる様に、反応液の流
動方向に沿って開口する塩素導入管を設ける方法や、特
開昭５８−２０７０３号に見られる様に、２重管式のサ
イクロン型反応器を用い、塩素含有ガスを内管より供給
し、反応液を外管に接続方向から供給し、サイクロン下
部で両者を接触させる方法が提案されている。しかし前
者、後者いずれの方法でも、塩素供給ノズルが反応液と
接触しており、その近傍で乱流状態で気液混合が行なわ
れる為、液の飛沫が塩素供給ノズル内面に刺着し、やが
て閉塞を起こし、現状では満足できる状態ではない。
本発明者らは、この点を改善すべく、鋭意研究の結果、
本発明に至った。
本発明に至った。
即ち、本発明は、苛性ソーダと塩素の反応によシ次亜塩
素酸ソーダ水溶液を製造するに際し、苛性ソーダを含む
反応液を反応器の壁面の任意の位置から、壁面全面にわ
たって、流下する濡れ壁を形成する如く供給し、塩素含
有ガスを反応液供給位置より下部で開口し、且つ壁面の
濡れ壁とは独立したノズルから供給する方法であり、必
要ならば、苛性ソーダと塩素ガスとの反応が、反応液供
給面より上部から導入され、流下する空気、窒素、及び
／又はその他年活性ガス雰囲気下で行なわれる方法であ
る。
素酸ソーダ水溶液を製造するに際し、苛性ソーダを含む
反応液を反応器の壁面の任意の位置から、壁面全面にわ
たって、流下する濡れ壁を形成する如く供給し、塩素含
有ガスを反応液供給位置より下部で開口し、且つ壁面の
濡れ壁とは独立したノズルから供給する方法であり、必
要ならば、苛性ソーダと塩素ガスとの反応が、反応液供
給面より上部から導入され、流下する空気、窒素、及び
／又はその他年活性ガス雰囲気下で行なわれる方法であ
る。
本発明の方法を図面に基づいて説明する。
図面は、本発明方法に用いる装置の１例を示し、囚図は
正面図、（Ｂ）図は平面図である。
正面図、（Ｂ）図は平面図である。
図面において、反応液貯槽７の上部に、垂直に円筒状反
応器３が取り伺けられている。
応器３が取り伺けられている。
この円筒状反応器３に反応液供給ノズル２を通じて、苛
性ソーダを含む反応液６が接線方向８から導入される。
性ソーダを含む反応液６が接線方向８から導入される。
反応器３の反応液供給面から、下部排出口に至るまで壁
全面にわたり、濡れ壁が形成されれば、別に他の手法で
導入してもよい。もし一部でも濡れていない所が生じる
とその固液界面に塩化ナトリウムが析出し、その後増々
成長し反応器を閉塞さす。円筒状反応器３内面は塩化ナ
トリウムの壁付着防止の為、出来るだけ滑らかな方が好
ましい。濡れ壁を全面に形成さすに必要な液流量及び流
速は、反応器の直径により異なるので特定できないが、
この円筒状瀝れ壁が形成されている所へ、塩素ガス供給
ノズル１を通じて、反応器３の上から下に向りて、塩素
含有ガスが導入される。ここで重要な事は塩素ガス供給
ノズル１が反応液と完全に独立しており、かつ該ノズル
１の開口部の位置が、反応液供給ノズル２の位置よりも
下にあることである。塩素ガス供給ノズルｌが反応液と
接触すると、接触部に塩化ナトリウムが析出し、王台が
悪く、又塩素ガスが濡れ壁の上端に浸入してくると、こ
こでも塩化ナトリウムが析出する。
全面にわたり、濡れ壁が形成されれば、別に他の手法で
導入してもよい。もし一部でも濡れていない所が生じる
とその固液界面に塩化ナトリウムが析出し、その後増々
成長し反応器を閉塞さす。円筒状反応器３内面は塩化ナ
トリウムの壁付着防止の為、出来るだけ滑らかな方が好
ましい。濡れ壁を全面に形成さすに必要な液流量及び流
速は、反応器の直径により異なるので特定できないが、
この円筒状瀝れ壁が形成されている所へ、塩素ガス供給
ノズル１を通じて、反応器３の上から下に向りて、塩素
含有ガスが導入される。ここで重要な事は塩素ガス供給
ノズル１が反応液と完全に独立しており、かつ該ノズル
１の開口部の位置が、反応液供給ノズル２の位置よりも
下にあることである。塩素ガス供給ノズルｌが反応液と
接触すると、接触部に塩化ナトリウムが析出し、王台が
悪く、又塩素ガスが濡れ壁の上端に浸入してくると、こ
こでも塩化ナトリウムが析出する。
尚、円筒状反応器３の上面に空気、窒素及び／又は不活
性ガス導入口５を複数個設け、この穴より空気、霊素及
び／又は不活性ガスを少量反応器内に導入することによ
り、塩素ガスが濡れ壁上端の固液界面に拡散してくるの
を有効に防げる。この場合尋人する空気、窒素及び／又
は不活性ガスは圧入でも反応器系内減圧による吸い込み
でもかまわない。
性ガス導入口５を複数個設け、この穴より空気、霊素及
び／又は不活性ガスを少量反応器内に導入することによ
り、塩素ガスが濡れ壁上端の固液界面に拡散してくるの
を有効に防げる。この場合尋人する空気、窒素及び／又
は不活性ガスは圧入でも反応器系内減圧による吸い込み
でもかまわない。
又、塩素含有ガスは文字通シ、１００％塩素でなければ
ならない必要はなく、２〜ａｏｖｏｔ％の塩素を含む粗
塩素ガスでもかまわない。この塩素含有ガスの液膜への
拡散を助長する為、塩素ガス供給ノズル１の先端に、気
流分散器４を設け、気流が真直に下方に移動するのでな
く、横方向にも移動する様に工夫してもかまわない。塩
素ガス供給ノズルｌは図面では円筒状反応器３の中央に
挿入されているが、これに限定されるものではなく、複
数個中央以外の所に配置されてもかまわない。もちろん
この場合も上述の如く塩素ガス供給ノズルｌの管径及び
、取り付は位置を適切に選ひ、液膜と塩素ガス供給ノズ
ルｌとが接触しないようにしなければならない。これは
、塩素ガス供給ノズル１ＴＩＩ−反応液が接触し、塩化
ナトリウムが接触部で析出するのを防ぐ為である。塩素
ガスを吸収反応した反応液は反応器３下部に直結した貯
槽７に入る。貯槽７は攪拌されているのが好寸しく、こ
の中の反応液は循環ポンプで一部抜き出され、反応液供
給ノズル２に至る。塩素と苛性ソーダの反応は発熱反応
であり、貯（・ａ７もしくは反応液循環ラインにおいて
冷却機（図示せず）による除熱を必要とする。反応液の
温度を２００〜３０℃に保持するのが副反応防止の為好
ましい。
ならない必要はなく、２〜ａｏｖｏｔ％の塩素を含む粗
塩素ガスでもかまわない。この塩素含有ガスの液膜への
拡散を助長する為、塩素ガス供給ノズル１の先端に、気
流分散器４を設け、気流が真直に下方に移動するのでな
く、横方向にも移動する様に工夫してもかまわない。塩
素ガス供給ノズルｌは図面では円筒状反応器３の中央に
挿入されているが、これに限定されるものではなく、複
数個中央以外の所に配置されてもかまわない。もちろん
この場合も上述の如く塩素ガス供給ノズルｌの管径及び
、取り付は位置を適切に選ひ、液膜と塩素ガス供給ノズ
ルｌとが接触しないようにしなければならない。これは
、塩素ガス供給ノズル１ＴＩＩ−反応液が接触し、塩化
ナトリウムが接触部で析出するのを防ぐ為である。塩素
ガスを吸収反応した反応液は反応器３下部に直結した貯
槽７に入る。貯槽７は攪拌されているのが好寸しく、こ
の中の反応液は循環ポンプで一部抜き出され、反応液供
給ノズル２に至る。塩素と苛性ソーダの反応は発熱反応
であり、貯（・ａ７もしくは反応液循環ラインにおいて
冷却機（図示せず）による除熱を必要とする。反応液の
温度を２００〜３０℃に保持するのが副反応防止の為好
ましい。
以上述べた如く、本発明によれば塩素ガス供給ノズル１
、円筒状反応器３−において、塩化ナトリウムの析出に
よる閉塞が起こらず、長ｌｑ間安冗して、反応が継続で
きる。尚本発明はバッチ運転に於ても連続運転に於ても
適用できる。
、円筒状反応器３−において、塩化ナトリウムの析出に
よる閉塞が起こらず、長ｌｑ間安冗して、反応が継続で
きる。尚本発明はバッチ運転に於ても連続運転に於ても
適用できる。
以下、実施例によシ本発明を説明する。
実施例１
攪拌機及び反応液循環ポンプ、構内冷却コイルを備えた
容積５００ｔの貯槽７に、直径１５０Ｍｑ長さ２ｒｒＬ
の図面に示すような反応器３を取り付けた。
容積５００ｔの貯槽７に、直径１５０Ｍｑ長さ２ｒｒＬ
の図面に示すような反応器３を取り付けた。
この貯槽７に次亜塩素酸ソーダ濃度２４重量％、結晶を
含む全塩化ナトリウム濃度２１重ｉ％苛性ソーダ濃度３
重量％のスラリー状反応液を３５０を仕込み、循環速度
２ｒｒｌ／ｈｒで反応液供給ノズル６を通じ、接線方向
から円筒状反応器３に循環させた。この循環ラインに３
５重量−の苛性ソーダを約８０ Ｋｇ／ ｈｒの速度で
供給し、塩素ガス２０ ｖｏＡ％含有の粗塩素ガスを純
分換算で２６ Ｋｇ／ ｈｒで直径３０ｍａの塩素ガス
供給ノズル五を通して供給した。
含む全塩化ナトリウム濃度２１重ｉ％苛性ソーダ濃度３
重量％のスラリー状反応液を３５０を仕込み、循環速度
２ｒｒｌ／ｈｒで反応液供給ノズル６を通じ、接線方向
から円筒状反応器３に循環させた。この循環ラインに３
５重量−の苛性ソーダを約８０ Ｋｇ／ ｈｒの速度で
供給し、塩素ガス２０ ｖｏＡ％含有の粗塩素ガスを純
分換算で２６ Ｋｇ／ ｈｒで直径３０ｍａの塩素ガス
供給ノズル五を通して供給した。
また、貯槽７及び円筒状反応器３の系を約５０関ａ＋０
減圧とし、反応器上部に、径３闘の穴を４個あけて、そ
の穴より空気の導入を計った。この間貯槽の苛性ソーダ
の濃度を４〜１重ｉ％に保つよう、苛性ソーダ供給量を
調節し、貯槽７は攪拌し、冷却コイルにより温度を２０
°〜２５℃に保った。反応液は貯槽液量が３５０ｔにな
るように一部連続で抜き出した。抜き出した液の組成は
最初仕込んだ液組成とほぼ同じであった。反応は開始後
７日間を経過しても反応器の閉塞は起こらなかった。
減圧とし、反応器上部に、径３闘の穴を４個あけて、そ
の穴より空気の導入を計った。この間貯槽の苛性ソーダ
の濃度を４〜１重ｉ％に保つよう、苛性ソーダ供給量を
調節し、貯槽７は攪拌し、冷却コイルにより温度を２０
°〜２５℃に保った。反応液は貯槽液量が３５０ｔにな
るように一部連続で抜き出した。抜き出した液の組成は
最初仕込んだ液組成とほぼ同じであった。反応は開始後
７日間を経過しても反応器の閉塞は起こらなかった。
図面は本発明方法に用いる装置の１例であり、（５）図
は正面図、（Ｂ）図は平面図である。図中１は塩素ガス
供給ノズル、２は反応液供給ノズル、３は円筒状反応器
、４は気流分散器、５は望気、窒素及ｑ又は不活性ガス
尋人口、６は苛性ソーダを含む反応液、７は貯槽、８は
接線方向を示す。 荷量出願人 旭化戚工業株式会社 図 面 （Ａ） 図 面 （Ｂ） 手続補正書（自発） ５ 昭牙口５９年２月；２Ｙ日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第 １８９８９４
号２ 発明の名称 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造法 ａ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜１丁目２番６号４ 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 補正の内容 （１）明細書第３頁第１８〜１９行の「図面は、・・・
・・・・・・・・・・・・・・・、但）図は平面図であ
る。」を、「第１図は。 本発明方法に用いる装置の１例の正面図を示し、第２図
は、第１図に示す装置の平面図である。」に訂正する。 （２）同第３貞第２０行の「図面において、」を、「第
１及び２図において、」に訂正する。 以上 手続補正＠（方式） ａ 昭和５９年２月−１日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第 １８９８９４
号２ 発明の名称 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造法 ａ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜１丁目２番６号４、補正の対象 明細書の「図面の簡単な説７、明」 及び「図面」 補正の内容 （１）明細書第８頁第６〜７行の「図面は・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・、（ハ）
図は平面図である。」を、「第１図は本発明方法に用い
る装置の１例の正面図、第２図は第１図に示す装置の平
面図である。」に訂正する。 （２）「図面（４）」を、「第１図」に訂正する。 （３）「図面［Ｆ］）」を、「第２図」に訂正する。 以上
は正面図、（Ｂ）図は平面図である。図中１は塩素ガス
供給ノズル、２は反応液供給ノズル、３は円筒状反応器
、４は気流分散器、５は望気、窒素及ｑ又は不活性ガス
尋人口、６は苛性ソーダを含む反応液、７は貯槽、８は
接線方向を示す。 荷量出願人 旭化戚工業株式会社 図 面 （Ａ） 図 面 （Ｂ） 手続補正書（自発） ５ 昭牙口５９年２月；２Ｙ日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第 １８９８９４
号２ 発明の名称 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造法 ａ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜１丁目２番６号４ 補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 補正の内容 （１）明細書第３頁第１８〜１９行の「図面は、・・・
・・・・・・・・・・・・・・・、但）図は平面図であ
る。」を、「第１図は。 本発明方法に用いる装置の１例の正面図を示し、第２図
は、第１図に示す装置の平面図である。」に訂正する。 （２）同第３貞第２０行の「図面において、」を、「第
１及び２図において、」に訂正する。 以上 手続補正＠（方式） ａ 昭和５９年２月−１日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 昭和５８年特許願第 １８９８９４
号２ 発明の名称 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造法 ａ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪府大阪市北区堂島浜１丁目２番６号４、補正の対象 明細書の「図面の簡単な説７、明」 及び「図面」 補正の内容 （１）明細書第８頁第６〜７行の「図面は・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・、（ハ）
図は平面図である。」を、「第１図は本発明方法に用い
る装置の１例の正面図、第２図は第１図に示す装置の平
面図である。」に訂正する。 （２）「図面（４）」を、「第１図」に訂正する。 （３）「図面［Ｆ］）」を、「第２図」に訂正する。 以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｌ 苛性ソーダと塩素の反応により次亜塩素酸ソーダ水
溶液を製造するに際し、苛性ソーダを含む反応液を反応
器の壁面の任意の位置から、壁面全面にわたって流下す
る濡れ壁を形成する如く供給し、塩素含有ガスを反応液
供給位置より下部で開口し、かつ壁面の濡れ壁とは独立
したノズルから供給することを特徴とする次亜塩素酸ソ
ーダ水溶液の製造法 ２ 苛性ソーダと塩素ガスとの反応が、反応液供給面よ
シ上部から導入されて流下する空気、窒素及び／又はそ
の他年活性ガス雰囲気下で行なわれることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の次亜塩素酸ソーダ水溶液の
製造法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18989483A JPS6081003A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | 次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18989483A JPS6081003A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | 次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6081003A true JPS6081003A (ja) | 1985-05-09 |
| JPH05324B2 JPH05324B2 (ja) | 1993-01-05 |
Family
ID=16248962
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18989483A Granted JPS6081003A (ja) | 1983-10-13 | 1983-10-13 | 次亜塩素酸ソ−ダ水溶液の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6081003A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005075347A3 (en) * | 2004-02-02 | 2005-10-06 | Powell Technologies Llc | Concurrent packed tower manufacture of hypochlorite |
| WO2018159233A1 (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-07 | 日本軽金属株式会社 | 次亜塩素酸ナトリウム５水和物の結晶体およびその製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5818919U (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-05 | 株式会社トクヤマ | 次亜塩素酸ソ−ダ製造用反応装置 |
| JPS5820703A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-07 | Tokuyama Soda Co Ltd | 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法、及びその装置 |
| JPS59102806A (ja) * | 1982-11-27 | 1984-06-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高濃度次亜塩素酸ナトリウム水溶液の製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5818919B2 (ja) * | 1979-08-02 | 1983-04-15 | 石津 皓史 | 色紙の製作方法 |
-
1983
- 1983-10-13 JP JP18989483A patent/JPS6081003A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5820703A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-07 | Tokuyama Soda Co Ltd | 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法、及びその装置 |
| JPS5818919U (ja) * | 1981-07-28 | 1983-02-05 | 株式会社トクヤマ | 次亜塩素酸ソ−ダ製造用反応装置 |
| JPS59102806A (ja) * | 1982-11-27 | 1984-06-14 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 高濃度次亜塩素酸ナトリウム水溶液の製造方法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005075347A3 (en) * | 2004-02-02 | 2005-10-06 | Powell Technologies Llc | Concurrent packed tower manufacture of hypochlorite |
| WO2018159233A1 (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-07 | 日本軽金属株式会社 | 次亜塩素酸ナトリウム５水和物の結晶体およびその製造方法 |
| JP2018145031A (ja) * | 2017-03-02 | 2018-09-20 | 日本軽金属株式会社 | 次亜塩素酸ナトリウム５水和物の結晶体およびその製造方法 |
| US11377349B2 (en) | 2017-03-02 | 2022-07-05 | Nippon Light Metal Company, Ltd. | Sodium hypochlorite pentahydrate crystals and method for producing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05324B2 (ja) | 1993-01-05 |
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