JPS6076025A - 磁気記録媒体の製造法 - Google Patents

磁気記録媒体の製造法

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Publication number
JPS6076025A
JPS6076025A JP58183701A JP18370183A JPS6076025A JP S6076025 A JPS6076025 A JP S6076025A JP 58183701 A JP58183701 A JP 58183701A JP 18370183 A JP18370183 A JP 18370183A JP S6076025 A JPS6076025 A JP S6076025A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
vapor deposition
stage
vacuum
incident angle
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP58183701A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideaki Niimi
秀明 新見
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Maxell Ltd filed Critical Hitachi Maxell Ltd
Priority to JP58183701A priority Critical patent/JPS6076025A/ja
Publication of JPS6076025A publication Critical patent/JPS6076025A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Thin Magnetic Films (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は真空蒸着法による磁気記録媒体の製造法に関
する。
従来、ポリエステルフィルムなどの基体上に強磁性金属
またはその合金からなる蒸発源を真空蒸着させて磁気テ
ープなどの磁気記録媒体を製造する方法においては、一
般に蒸発源を基体表面に対して斜方向から真空蒸着させ
ることにより、蒸着膜の保磁力を増大させ電磁変換特性
に好結果を得ている。
ところが、上記の斜方向蒸着により形成される蒸着膜は
耐食性に劣り、飽和磁束密度が経口的に低下しやすいと
いう問題があった。このため、斜方向蒸着膜の上にさら
に他種の金属または合金あるいは酸化物などの薄膜を通
常の真空蒸着やスパッタリングなどによって形成して、
上記耐食性の向上を図っている。しかるに、かかる方法
では2種の蒸発源が必要でしかも操作上面倒となるなど
工業的に必ずしも望ましい方法とはいえなかった。
この発明者らは、上記観点から、1種の蒸発源から電磁
変換特性と耐食性とに共にすぐれる蒸着膜を作業容易に
形成しうる方法を探究するべく鋭意検討した結果、この
発明を完成するに至った。
すなわち、この発明は、基体上に強磁性金属またはその
合金からなる蒸発源を基体表面に対して斜方向から真空
蒸着させたのち、この蒸着膜」二にさらに上記蒸着時の
基体表面に対する入射角度より小さな入射角度で上記蒸
発源を連続して真空蒸着させることを特徴とする磁気記
録媒体の製造法に係るものである。
以下、この発明の磁気記録媒体の製造法につき図面を参
考にして説明する。
第1図および第2図において、1はポリエステルフィル
ムなどの基体2の供給ロール、3は円筒状の冷却回転キ
ャン、4は巻取りロール、5は強磁性金属またはその合
金からなる蒸発源、6は蒸発源5の基体表面に対する蒸
着方向を規制するための制御板、7は上記各要素1〜6
が配設された内部を真空ポンプ8により所定の真空度に
排気してなる真空槽である。
この装置において、まず蒸発源5を電子ビームの如き加
熱源(図示せず)によって蒸発させ、これを供給ロール
1から供給されて冷却回転キャン3に沿って所定速度で
一走行する基体2上に真空蒸着させる。この真空蒸着は
蒸着方向が基体2表面に対して斜方向とされた第1段目
の蒸着とこれに引き続(第2段目の蒸着とから構成され
、それぞれの蒸着は制御板6の開口部6a 、6bを介
して行われるようになっている。
すなわち、第1段目では、開口部6aを介した蒸着方向
線5Xが冷却回転キャンに沿って走行する基体2と交わ
る点における法線9Xと上記蒸着方向線5xとのなす角
つまり入射角度θが通常30〜90度、好適には45〜
90度となるように、基板2表面に対して蒸発源5を斜
方向から真空蒸着させ、一方策2段目では、上記蒸着後
の基板2の走行方向前方側において、開口=B6bを介
した蒸着方向線5yと前記同様の法線9yとのなす角で
表わされる入射角度lが通常30度未満、好適には20
〜0度となるように、つまり入射角度θ′が第1段目の
入射角度θより小さくなるように、第1段目の蒸着膜上
にさらに蒸発源5を連続して真空蒸着させる。
このようにして基体2上に蒸着膜10を形成してなる磁
気記録媒体11は、ついで冷却回転キャン3上を走行し
ながら巻取りロール4に巻取られ、その後裁断工程など
の所要の工程を経て製品とされる。
上記の説明によって明らかなように、この発明では、基
体2上に同一の蒸発源5を異なる入射角度θ、θ′で真
空蒸着させるようにして0る力)ら、入射角度の大きな
第1段目の斜方向蒸着によって蒸着膜10の電磁変換特
性に好結果を得ること力5できるとともに、入射角度の
小さな第2段目の真空蒸着によって膜表面部を緻密化し
こ泪こより蒸着膜10の耐食性を大巾に改善することが
できる。
また、この方法では、蒸発源5がひとつで足り、しかも
制御板6の所定位置にふたつの開口部6a。
6bを設ける以外は通常の蒸着手段をそのまま採用でき
るため、前記従来の他種金属の薄膜を形成する方法に比
し経済性および製造作業性の面できわめて有利となる。
この発明において蒸発源5として用し)られる強磁性金
属またはその合金としては、Fe 、Co 、 Niも
しくはこれらの合金、またはこれらとCu、Zn。
Mn、Cr、klなどの他の金属との合金、あるし)番
マFe、Co、Niの窒化物、酸化物、ホウ化物なと力
(挙げられる。これら蒸発源5を第1段目および第2段
目の真空蒸着によって基体2上に蒸着させたときの蒸着
膜10の厚みとしては、500〜5,0OOA程度であ
る。基体2の走行速度や蒸発源5の蒸発速度などは、上
記蒸着1漠10の厚みに応じて適宜設定される。
第1段目の入射角度θと第2段目の入射角度θ′との差
は大きいほど好ましい。しかし、一般には10度以上、
特に好適には30度以上の差とされておればよ(、これ
によって電磁変換特性良好にして耐食性の向上を図りう
る。
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。
実施例 基体として20.”I厚のポリエステルフィルムを使用
し、これを第1図で示される真空槽内にセットし、これ
に蒸発源としてのCO金金属ふたつの開口部を設けた制
御板を介して入射角度40〜90度の範囲の第1段目の
蒸着とこれに引き続く入射角度5〜10度の範囲の第2
段目の蒸着とによって真空蒸着して、厚さ2,000λ
で保磁力800エルステツド、飽和磁束密度8.000
ガウスの蒸着膜を形成した。蒸着条件の詳細は、下記の
とおりである。
円筒状の冷却回転キャン;直径300mm加熱諒 ;電
子ビームガン 蒸発源から基体までの最短距離;250τm雰 囲気 
;酸素/アルゴン=1/10真空度; 5 X 10−
5Torr 基体の走行速度;0.5tn1分 上記真空蒸着後、所定幅に裁断して、この発明の磁気テ
ープを得た。
比較例 第1図で示されるふたつの開口部を持った制御板の代り
にひとつの開口部のみを有する制御板を用いて、入射角
度40°〜9♂の範囲の第1段目の蒸着だけを行い、第
2段目の蒸着を行わなかった以外は、実施例と全く同様
にして厚さ1,5ooXで保磁力850エルステツド、
飽和磁束密度7,000ガウスの蒸着膜を有する従来の
磁気テープを作製した。
上記実施例および比較例の電磁変換特性および耐食性を
調べた結果は、次の表に示されるとおりであった。なお
、電磁変換特性は記録波長IPでの再生出力を測定し、
比較例を基準(0)としてその相対値で表わした。また
、耐食性は60℃、90%RHの雰囲気中に1週間放置
したときの飽和磁束密度を測定し、初期値に対する減少
率(イ)で表わした。
上表から明らかなように、この発明法によって得られた
磁気テープは、従来のテープに比し遜色のない電磁変換
特性を有しているとともに、耐食性が高度に改善されて
いることが判る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の方法を実施するための真空蒸着装置
の一例を示す概略図、第2図はこの発明の方法の要部を
説明するための;概略図である。 2 基体、5・・・蒸発源、θ・・・斜方向蒸着時の入
射角度、θ′・・・上記角度より小さな入射角度。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基体上に強磁性金属またはその合金からなる蒸発
    源を基体表面に対して斜方向から真空蒸着させたのち、
    この蒸着膜上にさらに上記蒸着時の基体表面に対する入
    射角度より小さな入射角度で上記蒸発源を連続して真空
    蒸着させることを特徴とする磁気記録媒体の製造法。
JP58183701A 1983-09-30 1983-09-30 磁気記録媒体の製造法 Pending JPS6076025A (ja)

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JP58183701A JPS6076025A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 磁気記録媒体の製造法

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JP58183701A JPS6076025A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 磁気記録媒体の製造法

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JPS6076025A true JPS6076025A (ja) 1985-04-30

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ID=16140431

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JP58183701A Pending JPS6076025A (ja) 1983-09-30 1983-09-30 磁気記録媒体の製造法

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02129362A (ja) * 1988-11-07 1990-05-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高機能性薄膜の製造方法
US5525398A (en) * 1991-03-22 1996-06-11 Tdk Corporation Perpendicular magnetic recording medium and method for making

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5520686U (ja) * 1978-07-28 1980-02-08

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