JPS606942B2 - 1―(β―アリール)エチル―1H―イミダゾールエーテル及びその酸付加塩の酸造方法 - Google Patents
1―(β―アリール)エチル―1H―イミダゾールエーテル及びその酸付加塩の酸造方法Info
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- JPS606942B2 JPS606942B2 JP13315375A JP13315375A JPS606942B2 JP S606942 B2 JPS606942 B2 JP S606942B2 JP 13315375 A JP13315375 A JP 13315375A JP 13315375 A JP13315375 A JP 13315375A JP S606942 B2 JPS606942 B2 JP S606942B2
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D231/00—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
- C07D231/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings
- C07D231/10—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D231/12—Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C43/00—Ethers; Compounds having groups, groups or groups
- C07C43/02—Ethers
- C07C43/03—Ethers having all ether-oxygen atoms bound to acyclic carbon atoms
- C07C43/14—Unsaturated ethers
- C07C43/178—Unsaturated ethers containing hydroxy or O-metal groups
- C07C43/1786—Unsaturated ethers containing hydroxy or O-metal groups containing halogen
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
- C07C51/06—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides from carboxylic acid amides
-
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- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D249/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D249/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having three nitrogen atoms as the only ring hetero atoms not condensed with other rings
- C07D249/08—1,2,4-Triazoles; Hydrogenated 1,2,4-triazoles
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式
で示される1−(8−アリール)エチル−IH−ィミダ
ゾールェーテル及び治療上許容し得るその酸付加塩の新
規な製造方法に関する。
ゾールェーテル及び治療上許容し得るその酸付加塩の新
規な製造方法に関する。
上記式中:
Ayはモノー及びジーハロフェニル、低級アルキルフェ
ニル、及び低級アルコキシフェニルから成る群より選ば
れた一員であり;そしてRはペンジル、モノー、ジー及
びトリーハロベンジル、モノー及びジー低級アルキルベ
ンジル、低級アルコキシベンジル、シアノベンジル、フ
ェネチル、モノー、ジー及びトリーハロフェネチル、モ
ノー及びジー低級アルキルフェネチル、低級アルコキシ
フヱネチル、シアノフヱネチル、モノー及びジーニトロ
フェニル、モノー及びジーアミノフェニル、低級アルキ
ル、低級アルケニル及び低級アルキニルから成る群より
選ばれた一員である。
ニル、及び低級アルコキシフェニルから成る群より選ば
れた一員であり;そしてRはペンジル、モノー、ジー及
びトリーハロベンジル、モノー及びジー低級アルキルベ
ンジル、低級アルコキシベンジル、シアノベンジル、フ
ェネチル、モノー、ジー及びトリーハロフェネチル、モ
ノー及びジー低級アルキルフェネチル、低級アルコキシ
フヱネチル、シアノフヱネチル、モノー及びジーニトロ
フェニル、モノー及びジーアミノフェニル、低級アルキ
ル、低級アルケニル及び低級アルキニルから成る群より
選ばれた一員である。
Ay及びRの前記定義に関してより詳細に説明すれば、
アリール置換基の定義において使用された「低級アルキ
ル」なる表現は、例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル「イソブチル、ィソアミル等の如き1個乃
至約6個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状炭化水
素を表わしている。
アリール置換基の定義において使用された「低級アルキ
ル」なる表現は、例えば、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル「イソブチル、ィソアミル等の如き1個乃
至約6個の炭素原子を有する直鎖状又は分岐鎖状炭化水
素を表わしている。
Rの定義において使用された「低級アルキル」なる語は
、例えば、メチル、ブチル、第二級ペンチル、n−へプ
チル、n−オクチル等の如き1個乃至約8個の炭素原子
を有する直鎖状又は分岐鎖状炭化水素を意味しており、
;そして「低級アルケニル」及び「低級アルキニル」な
る表現は3個乃至約5個の炭素原子を有する不飽和炭化
水素基を表わし、但し該不飽和はエーテル結合に関して
8位置の炭素原子上に存在するのが好ましいが然しy又
は6炭素原子に存在していてもよい。Ay及びRの前記
定義において「ハロ」なる表現は127より小さい原子
量のハロゲン原子、即ち塩素、臭素、弗素及び沃素を表
わしている。
、例えば、メチル、ブチル、第二級ペンチル、n−へプ
チル、n−オクチル等の如き1個乃至約8個の炭素原子
を有する直鎖状又は分岐鎖状炭化水素を意味しており、
;そして「低級アルケニル」及び「低級アルキニル」な
る表現は3個乃至約5個の炭素原子を有する不飽和炭化
水素基を表わし、但し該不飽和はエーテル結合に関して
8位置の炭素原子上に存在するのが好ましいが然しy又
は6炭素原子に存在していてもよい。Ay及びRの前記
定義において「ハロ」なる表現は127より小さい原子
量のハロゲン原子、即ち塩素、臭素、弗素及び沃素を表
わしている。
式(1)の化合物は非常に効力のある抗真菌剤及び抗細
菌剤である。それら自体米国特許第3717655号及
び第3658813号の主題を成している。式(X)で
示される一連の化合物のうち特に重要なものは、一般に
ミコナゾール(mico雌zole)の名称で呼ばれて
いる1−{2,4ージクロルー8−〔(2,4ージクロ
ルベンジル)オキシ〕ーフエネチル}イミダゾールであ
り「この化合物は抗微生物剤として広く使用されている
。
菌剤である。それら自体米国特許第3717655号及
び第3658813号の主題を成している。式(X)で
示される一連の化合物のうち特に重要なものは、一般に
ミコナゾール(mico雌zole)の名称で呼ばれて
いる1−{2,4ージクロルー8−〔(2,4ージクロ
ルベンジル)オキシ〕ーフエネチル}イミダゾールであ
り「この化合物は抗微生物剤として広く使用されている
。
式(1)の範囲内の他の非常に重要な化合物は、例えだ
、一般にェコナゾール(eco岬zole)の名称で呼
ばれている1一{2,4ージクロルー8一〔(p−ク。
、一般にェコナゾール(eco岬zole)の名称で呼
ばれている1一{2,4ージクロルー8一〔(p−ク。
ルベンジル)オキシ〕フヱネチル}ーイミダゾール、一
般にインコナゾール(jsoco腿zole)の名称で
呼ばれている1一{2,4ージクロルー8一〔(2,6
−ジクロルベンジル)オキシ〕ーフエネチル}イミダゾ
ール硝酸塩、及び、一般にィマザリル(imazali
l)の名称で呼ばれている1−〔8−(アリルオキシ)
−2,4−ジクロルフエネチル〕−イミダゾールである
。
般にインコナゾール(jsoco腿zole)の名称で
呼ばれている1一{2,4ージクロルー8一〔(2,6
−ジクロルベンジル)オキシ〕ーフエネチル}イミダゾ
ール硝酸塩、及び、一般にィマザリル(imazali
l)の名称で呼ばれている1−〔8−(アリルオキシ)
−2,4−ジクロルフエネチル〕−イミダゾールである
。
前述の米国特許第3717655号及び第365881
3号において式(1)の本主題化合物の製造方法が記載
されているが、その方法は本質的には適切なQ−アリー
ルーIHーイミダゾールー1ーエタノールの○−アルキ
レーションから成る。
3号において式(1)の本主題化合物の製造方法が記載
されているが、その方法は本質的には適切なQ−アリー
ルーIHーイミダゾールー1ーエタノールの○−アルキ
レーションから成る。
本発明は所望の1−(Bーアリール)エチル−IH−ィ
ミダゾールェーテルの新規製造方法を提供する。
ミダゾールェーテルの新規製造方法を提供する。
それらの化合物はィミダゾール(ロ)と式(阻)の適切
な反応性ェステル等とを反応させることにより高収率で
且つ純粋な形で得られる。(但し上記式中、Ar及びR
は前記した意味を有しそしてYは、例えば、ハロ、メシ
レート、トシレート等の如き反応性ェステル残基である
)ィミダゾール(ロ)と(血)との反応は、例えば、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニ
トリル、ベンゾニトリル及びその他同種の溶媒の如き適
切な反応不活性有機溶媒中で行なわれる。反応速度を高
めるために幾らか高い温度が適切でありそして該反応は
反応混合物の還流温度で行なうのが好ましい。反応性ェ
ステル(虹)が臭化物又は塩化物である場合には反応混
合物に少量のョウ化物塩、好ましくはョウ化ナトリウム
又はョウ化カリウムを追加するのが適切である。反応が
終了すれば生成物を反応媒体から単離しそして必要に応
じて通常の方法によって更に精製しそして所望により適
切な酸と反応させることによりその酸付加塩に転換する
。多数の式(m)の中間反応性ヱステルは既知の化合物
である。
な反応性ェステル等とを反応させることにより高収率で
且つ純粋な形で得られる。(但し上記式中、Ar及びR
は前記した意味を有しそしてYは、例えば、ハロ、メシ
レート、トシレート等の如き反応性ェステル残基である
)ィミダゾール(ロ)と(血)との反応は、例えば、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニ
トリル、ベンゾニトリル及びその他同種の溶媒の如き適
切な反応不活性有機溶媒中で行なわれる。反応速度を高
めるために幾らか高い温度が適切でありそして該反応は
反応混合物の還流温度で行なうのが好ましい。反応性ェ
ステル(虹)が臭化物又は塩化物である場合には反応混
合物に少量のョウ化物塩、好ましくはョウ化ナトリウム
又はョウ化カリウムを追加するのが適切である。反応が
終了すれば生成物を反応媒体から単離しそして必要に応
じて通常の方法によって更に精製しそして所望により適
切な酸と反応させることによりその酸付加塩に転換する
。多数の式(m)の中間反応性ヱステルは既知の化合物
である。
かかる化合物及びそれらの製造は、例えばChimTh
ercp,3‘2},81一86(1968)において
記載されている。反応性ェステル(m)を製造する一般
的方法は下記の一連の反応によるものである。
ercp,3‘2},81一86(1968)において
記載されている。反応性ェステル(m)を製造する一般
的方法は下記の一連の反応によるものである。
式(W)で示される(但しAyは前記に定義した通りで
ある)適切に置換されたQーヒドロキシーアリールァセ
トアミドと式(V)(但し×はハロでありそしてR′は
モノ及びジアミノフェニルを除くRの範囲内の残基の群
の一員である)のハ。
ある)適切に置換されたQーヒドロキシーアリールァセ
トアミドと式(V)(但し×はハロでありそしてR′は
モノ及びジアミノフェニルを除くRの範囲内の残基の群
の一員である)のハ。
化合物とを反応させる。該反応は、例えば水素化ナトリ
ウム、の如き適切な塩基の存在下に、例えばテトラヒド
ロフラン(THF)の如き適切な溶媒中で行われる。次
いで得られるアミド(の)は酸、例えば塩酸で処理する
ことによって通常の如く加水分解して、対応するカルボ
ン酸(肌)にする。次に該カルボン酸(肌)又は普通の
ェステル化処理によりそれから誘導される低級アルキル
ェステル(風)を適切な還元剤で還元して式(K)のア
ルコールを得る。この反応の目的に適する還元剤は、例
えば、リチウム塩、好ましくはョウ化リチウム又は塩化
リチウムの存在下での水素化ホウ素リチウム及び水素化
ホウ素ナトリウム、を包含する。該還元段階は、例えば
、アセトニトリル、テトラヒドロフラン又は両溶媒の混
合物の如き適切な溶媒中で行なわれる。次にアルコール
(K)を公知方法、例えば、該アルコ−ルをメタンスル
ホニルクロリド又はpートルェンスルホニルクロリドと
反応させて各々メシレート又はトシレートを得る方法、
或いは適切なハロゲン化剤と反応させることによりハラ
ィドを得る方法、により所望の反応性ェステル(m)に
転換する。
ウム、の如き適切な塩基の存在下に、例えばテトラヒド
ロフラン(THF)の如き適切な溶媒中で行われる。次
いで得られるアミド(の)は酸、例えば塩酸で処理する
ことによって通常の如く加水分解して、対応するカルボ
ン酸(肌)にする。次に該カルボン酸(肌)又は普通の
ェステル化処理によりそれから誘導される低級アルキル
ェステル(風)を適切な還元剤で還元して式(K)のア
ルコールを得る。この反応の目的に適する還元剤は、例
えば、リチウム塩、好ましくはョウ化リチウム又は塩化
リチウムの存在下での水素化ホウ素リチウム及び水素化
ホウ素ナトリウム、を包含する。該還元段階は、例えば
、アセトニトリル、テトラヒドロフラン又は両溶媒の混
合物の如き適切な溶媒中で行なわれる。次にアルコール
(K)を公知方法、例えば、該アルコ−ルをメタンスル
ホニルクロリド又はpートルェンスルホニルクロリドと
反応させて各々メシレート又はトシレートを得る方法、
或いは適切なハロゲン化剤と反応させることによりハラ
ィドを得る方法、により所望の反応性ェステル(m)に
転換する。
Rがモノー又はジーアミノフェノール基である際の式(
皿)の反応性ェステルは、R′が各々モノ又はジェトロ
フェニルである際の式(K)の適切なアルコールをニト
ロよりアミノへと還元し(例えば、伍及びPd−C又は
Zn及び酢酸等を使用して)そして得られるモノ及びジ
アミノフェノキシアルコールを前記した如き所望の反応
性ェステルにその後転換することによって得られる。
皿)の反応性ェステルは、R′が各々モノ又はジェトロ
フェニルである際の式(K)の適切なアルコールをニト
ロよりアミノへと還元し(例えば、伍及びPd−C又は
Zn及び酢酸等を使用して)そして得られるモノ及びジ
アミノフェノキシアルコールを前記した如き所望の反応
性ェステルにその後転換することによって得られる。
前述の反応は下記の式による表現により更に十分に説明
される。前記反応系列における出発物質として使用され
る相当な数の式(W)のQーヒドロキシーアリールアセ
トアミドは既知の化合物である。
される。前記反応系列における出発物質として使用され
る相当な数の式(W)のQーヒドロキシーアリールアセ
トアミドは既知の化合物である。
それらは対応する遊離Q−ヒドロキシーアリール酢酸を
標準的方法によってアミドーこ転換することにより容易
に得られる。前駆物質の該遊離酸は公知であり且つかか
る既知の化合物の製造のために文献中に記載された方法
に従って製造することができる。式(K)で示される多
数の中間体アルコールも又既知の化合物である。かかる
アルコール及びその製造は、例えば、ケミカルアブスト
ラクト66,104.809.(C.A.66,104
.809.)に記載されている。下記の実施例は本発明
を例証することを意図するものであり、本発明の範囲を
限定することを意図するものではない。
標準的方法によってアミドーこ転換することにより容易
に得られる。前駆物質の該遊離酸は公知であり且つかか
る既知の化合物の製造のために文献中に記載された方法
に従って製造することができる。式(K)で示される多
数の中間体アルコールも又既知の化合物である。かかる
アルコール及びその製造は、例えば、ケミカルアブスト
ラクト66,104.809.(C.A.66,104
.809.)に記載されている。下記の実施例は本発明
を例証することを意図するものであり、本発明の範囲を
限定することを意図するものではない。
特記しない限り、すべての「部(pans)」は重量に
よる。実施例 1 2,4ージクロルマンデル酸32郡、メタノール24碇
部及び硫酸5部の混合物を擁拝しそして3時間還流した
。
よる。実施例 1 2,4ージクロルマンデル酸32郡、メタノール24碇
部及び硫酸5部の混合物を擁拝しそして3時間還流した
。
反応混合物を水上に技加しそして生成物をクロロホルム
で抽出した。後者を炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、
乾燥しそして蒸発させてメチル2,4−ジクロルマンデ
レートが残澄として得られる。メタノール40戊部中の
メチル2,4−ジクロルマンデレート37部の混合物を
アンモニアガスで飽和させそして一夜放置した。
で抽出した。後者を炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、
乾燥しそして蒸発させてメチル2,4−ジクロルマンデ
レートが残澄として得られる。メタノール40戊部中の
メチル2,4−ジクロルマンデレート37部の混合物を
アンモニアガスで飽和させそして一夜放置した。
反応混合物を蒸発させそして残溝をジイソプロピルェー
テルから結晶化させて2,4−ジクロルマンデルアミド
を得る。融点108.が○。実施例 2 テトラヒドロフラン45部中の水素化ナトリウム50%
分散液1部の混合物を櫨拝しそして還流させながら、そ
の中にテトラヒドロフラン45部中の2,4ージクロル
マンデルアミド4.4部の溶液を滴力0し、続いて2,
4−ジクロルベンジルクロリド4部を加える。
テルから結晶化させて2,4−ジクロルマンデルアミド
を得る。融点108.が○。実施例 2 テトラヒドロフラン45部中の水素化ナトリウム50%
分散液1部の混合物を櫨拝しそして還流させながら、そ
の中にテトラヒドロフラン45部中の2,4ージクロル
マンデルアミド4.4部の溶液を滴力0し、続いて2,
4−ジクロルベンジルクロリド4部を加える。
添加が終了した後、還流下の蝿拝を12時間続行する。
反応混合物を水に注加する。有機相を分離し、乾燥し炉
遇しそして蒸発させる。銭澄は、溶離剤としてクロロホ
ルム及びメタノール5%の混合物を使用してシリカゲル
上でカラムクロマトグラフにより精製する。純粋なフラ
クションを集めそしてジイソプロピルェーテルから結晶
化させることにより2一(2,4ージクロルベンジルオ
キシ)一2一(2,4ージクロルフェニル)アセトアミ
ドを得る。融点142.3午0。塩酸溶液15碇部中の
2一(2,4一ジクロルべンジルオキシ)−2−(2,
4−ジクロルフエニル)ァセトアミド6部の混合物を一
夜鷹梓及び還流する。生成物をクロロホルムで抽出する
。後者を乾燥し、炉過しそして蒸発させる。残澄をベン
ゼン及びnーヘキサンの混合物から結晶化させて2,4
ージクロルベンジルオキシー2,4ージクロルフェニル
酢酸を得る。融点119.が○。1,1′ーオキシビス
ェタン175部及び水素化リチウムアルミニウム2部の
縄粋された混合物に2,4ージクロルベンジルオキシ2
,4ージクロルフェニル酢酸11部を室温で(発熱反応
)分割して加える。
反応混合物を水に注加する。有機相を分離し、乾燥し炉
遇しそして蒸発させる。銭澄は、溶離剤としてクロロホ
ルム及びメタノール5%の混合物を使用してシリカゲル
上でカラムクロマトグラフにより精製する。純粋なフラ
クションを集めそしてジイソプロピルェーテルから結晶
化させることにより2一(2,4ージクロルベンジルオ
キシ)一2一(2,4ージクロルフェニル)アセトアミ
ドを得る。融点142.3午0。塩酸溶液15碇部中の
2一(2,4一ジクロルべンジルオキシ)−2−(2,
4−ジクロルフエニル)ァセトアミド6部の混合物を一
夜鷹梓及び還流する。生成物をクロロホルムで抽出する
。後者を乾燥し、炉過しそして蒸発させる。残澄をベン
ゼン及びnーヘキサンの混合物から結晶化させて2,4
ージクロルベンジルオキシー2,4ージクロルフェニル
酢酸を得る。融点119.が○。1,1′ーオキシビス
ェタン175部及び水素化リチウムアルミニウム2部の
縄粋された混合物に2,4ージクロルベンジルオキシ2
,4ージクロルフェニル酢酸11部を室温で(発熱反応
)分割して加える。
終了後、還流温度で鷹拝を一夜続行する。反応混合物を
希塩酸溶液で酸性にしそして層に分離させる。有機相を
乾燥し、炉遇しそして蒸発させる。残澄をメチルベンゼ
ン及びへキサンの混合物から結晶化させる。生成物を炉
過しそして乾燥して2,4ージクロル−8一(2,4−
ジクロルフェニルメトキシ)ベンゼンエタノールを得る
。融点89qo(収率:38%)。2,4ージクロルー
8−(2,4ージクロルフェニルメトキシ)ベンゼンエ
タノール7.5部及びピリジン150部の混合物を燭拝
し且つ冷却し(氷格)、その中にメタンスルホニルクロ
リド3部を滴放する。
希塩酸溶液で酸性にしそして層に分離させる。有機相を
乾燥し、炉遇しそして蒸発させる。残澄をメチルベンゼ
ン及びへキサンの混合物から結晶化させる。生成物を炉
過しそして乾燥して2,4ージクロル−8一(2,4−
ジクロルフェニルメトキシ)ベンゼンエタノールを得る
。融点89qo(収率:38%)。2,4ージクロルー
8−(2,4ージクロルフェニルメトキシ)ベンゼンエ
タノール7.5部及びピリジン150部の混合物を燭拝
し且つ冷却し(氷格)、その中にメタンスルホニルクロ
リド3部を滴放する。
終了後、室温で一夜燈拝を流行する。反応混合物を水に
洋加しそして生成物をトリクロルメタンで抽出する。抽
出物を酸性の水で一度そして水で二度、連続して洗浄し
、乾燥し、炉遇しそして蒸発させる。残澄を溶離剤とし
てトリクロルメタンを使用してシリカゲル上でのカラム
クロマトグラフィーにより精製する。純粋なフラクショ
ンを集めそして溶離液を蒸発させる。残澄を2,2′ー
オキシビスプロパンと石油エーテルの混合物(1:1体
積で)から結晶化させる。生成物を炉過しそして乾燥し
て2,4ージクロルー8−(2,4ージクロルフエニル
メトキシ)ベンゼンエタノールメタンスルホネートを得
る。融点68.6℃(収率:57%)。IHーイミダゾ
ール10.5部、2,4ージクロルー8一(2,4ージ
クロルフエニルメトキシ)ベンゼンエタノールメタンス
ルホネート13.3部及びN,N一ジメチルホルムアミ
ド180部の混合物を額拝しそして一夜還流する。
洋加しそして生成物をトリクロルメタンで抽出する。抽
出物を酸性の水で一度そして水で二度、連続して洗浄し
、乾燥し、炉遇しそして蒸発させる。残澄を溶離剤とし
てトリクロルメタンを使用してシリカゲル上でのカラム
クロマトグラフィーにより精製する。純粋なフラクショ
ンを集めそして溶離液を蒸発させる。残澄を2,2′ー
オキシビスプロパンと石油エーテルの混合物(1:1体
積で)から結晶化させる。生成物を炉過しそして乾燥し
て2,4ージクロルー8−(2,4ージクロルフエニル
メトキシ)ベンゼンエタノールメタンスルホネートを得
る。融点68.6℃(収率:57%)。IHーイミダゾ
ール10.5部、2,4ージクロルー8一(2,4ージ
クロルフエニルメトキシ)ベンゼンエタノールメタンス
ルホネート13.3部及びN,N一ジメチルホルムアミ
ド180部の混合物を額拝しそして一夜還流する。
反応混合物を室温迄冷却せしめそして水に注加する。生
成を1,1′ーオキシビスェタン3回抽出する。一緒に
した抽出物を水で洗浄しそして過剰の濃硝酸溶液を加え
る。生成する硝酸塩を炉遇しそして2−ブロパノール及
び2,2′−オキシピスプロパンから結晶化させて1−
〔2,4−ジクロル−B−(2,4−ジクロルベンジル
オキシ)フエネチル〕イミダゾール硝酸塩を得る。融点
171℃(収率:73%)。実施例 3出発物質として
使用された2,4−ジクロルベンジルクロリドを当量の
式(V)で示される適切なハラィドでおき替えること以
外は実施例2の方法を繰り返しそして各段階で得られる
生成物を次の段階のための出発物質として使用すること
により、下記の化合物を得る:1一〔2,4ージクロル
ー8一(p一クロルベンジルオキシ)フェネチル〕イミ
ダゾール硝酸塩;融点161.5℃、1一〔2,4ージ
クロル−8一(2,6ージクロルベンジルオキシ)フエ
ネチル〕イミダゾール硝酸塩;融点180qo、1一〔
2,4ージクロルーP一(アリルオキシ)フェネチル〕
ィミダゾール硝酸塩;融点89.10〇、1一(B−プ
トキシー2,4ージクロルフヱネチル)ィミダゾール硝
酸塩;融点127℃、1一〔2,4ージクロルー8一(
2ープロピニルオキシ)フェネチル〕ィミダゾール硝酸
塩;融点12600、1一〔2,4−ジクロル−8一(
pーニトロフェノキシ)フェネチル〕ィミダゾール硝酸
塩;融点16600、1一〔2,4−ジクロルー3一(
pーメトキシベンジルオキシ)フヱネチル〕ィミダゾー
ル硝酸塩;融点149つ0。
成を1,1′ーオキシビスェタン3回抽出する。一緒に
した抽出物を水で洗浄しそして過剰の濃硝酸溶液を加え
る。生成する硝酸塩を炉遇しそして2−ブロパノール及
び2,2′−オキシピスプロパンから結晶化させて1−
〔2,4−ジクロル−B−(2,4−ジクロルベンジル
オキシ)フエネチル〕イミダゾール硝酸塩を得る。融点
171℃(収率:73%)。実施例 3出発物質として
使用された2,4−ジクロルベンジルクロリドを当量の
式(V)で示される適切なハラィドでおき替えること以
外は実施例2の方法を繰り返しそして各段階で得られる
生成物を次の段階のための出発物質として使用すること
により、下記の化合物を得る:1一〔2,4ージクロル
ー8一(p一クロルベンジルオキシ)フェネチル〕イミ
ダゾール硝酸塩;融点161.5℃、1一〔2,4ージ
クロル−8一(2,6ージクロルベンジルオキシ)フエ
ネチル〕イミダゾール硝酸塩;融点180qo、1一〔
2,4ージクロルーP一(アリルオキシ)フェネチル〕
ィミダゾール硝酸塩;融点89.10〇、1一(B−プ
トキシー2,4ージクロルフヱネチル)ィミダゾール硝
酸塩;融点127℃、1一〔2,4ージクロルー8一(
2ープロピニルオキシ)フェネチル〕ィミダゾール硝酸
塩;融点12600、1一〔2,4−ジクロル−8一(
pーニトロフェノキシ)フェネチル〕ィミダゾール硝酸
塩;融点16600、1一〔2,4−ジクロルー3一(
pーメトキシベンジルオキシ)フヱネチル〕ィミダゾー
ル硝酸塩;融点149つ0。
実施例 4
出発物質として使用された2,4−ジクロルマンデルア
ミド及び2,4ージクロルベンジルクロリドの代わりに
各々当量の式(W)で示される適切なQーヒドロキシー
アリールアセトアミド及び式(V)で示される適切なハ
ラィドを使用すること以外は実施例2の方法を繰り返す
ことにより、式(1)で示される下記の化合物を得る:
1−〔pークロル−3一(2,4ージクロルベンジルオ
キシ)フヱネチル〕ィミダゾール硝酸塩;融点111℃
、1一〔pークロルーB一(p一クロルベソジルオキシ
)フヱネチル〕ィミダゾール硝酸塩;融点155.チ○
、1一〔pークロルー8一(o一メチルベンジルオキシ
)フェネチル〕イミダゾール硝酸塩;融点14ぴ0、1
一〔pークロルー8−(2,6ージクロルベンジルオキ
シ)フェネチル〕イミダゾール硝酸塩:融点144q○
、1−〔o−クロルー8一(p一クロルベンジルオキシ
)フェネチル〕ィミダゾール硝酸塩;融点127.げ0
、1一〔8一(2,4ージクロルベンジルオキシ)−o
ーメトキシフェネチル〕イミダゾール硝酸塩;融点13
2.ず○、及び1一〔8一(p一クロルベンジルオキシ
)一pーメチルフェネチル〕ィミダゾール硝酸塩浦虫点
12〆0。
ミド及び2,4ージクロルベンジルクロリドの代わりに
各々当量の式(W)で示される適切なQーヒドロキシー
アリールアセトアミド及び式(V)で示される適切なハ
ラィドを使用すること以外は実施例2の方法を繰り返す
ことにより、式(1)で示される下記の化合物を得る:
1−〔pークロル−3一(2,4ージクロルベンジルオ
キシ)フヱネチル〕ィミダゾール硝酸塩;融点111℃
、1一〔pークロルーB一(p一クロルベソジルオキシ
)フヱネチル〕ィミダゾール硝酸塩;融点155.チ○
、1一〔pークロルー8一(o一メチルベンジルオキシ
)フェネチル〕イミダゾール硝酸塩;融点14ぴ0、1
一〔pークロルー8−(2,6ージクロルベンジルオキ
シ)フェネチル〕イミダゾール硝酸塩:融点144q○
、1−〔o−クロルー8一(p一クロルベンジルオキシ
)フェネチル〕ィミダゾール硝酸塩;融点127.げ0
、1一〔8一(2,4ージクロルベンジルオキシ)−o
ーメトキシフェネチル〕イミダゾール硝酸塩;融点13
2.ず○、及び1一〔8一(p一クロルベンジルオキシ
)一pーメチルフェネチル〕ィミダゾール硝酸塩浦虫点
12〆0。
実施例 5
出発物質として使用された2,4−ジクロルベンジルク
ロリドの代わりに当量の式(V)で示される適切なハラ
ィドを使用すること以外は実施例2の方法を繰り返しそ
して各段階で得られた生成物を次の段階のための出発物
質として使用することにより下記の化合物が得られる:
1一〔2,4ージブロム−8一(ベンジルオキシ)フェ
ネチル〕ィミダゾール塩酸塩、1一〔2,4−ジブロム
ー8一(p一シアノベンジルオキシ)フェネチル〕ーィ
ミダゾール塩酸塩、1一(2,4−ジブロムー8−(フ
エネチルオキシ)フヱネチル〕ィミダゾール塩酸塩、1
−〔2,4−ジブロム−B−(2,4−ジメチルフエネ
チルオキシ)フエネチル〕ーイミダゾール塩酸塩、1−
〔pークロルーB一(pーイソプロポキシフエネチルオ
キシ)フエネチル〕ーイミダゾール臭化水素酸塩、1一
〔pークロルー8−(pーシアノフエネチルオキシ)フ
ェネチル〕イミダゾール−臭化水素酸塩、1一〔oーメ
チル−8一(pーニトロフエノキシ)フェネチル〕イミ
ダゾール臭化水素酸塩、1一〔oーメチル−8一(p−
アミノフエノキシ)フェネチル〕ィミダゾール臭化水素
酸塩。
ロリドの代わりに当量の式(V)で示される適切なハラ
ィドを使用すること以外は実施例2の方法を繰り返しそ
して各段階で得られた生成物を次の段階のための出発物
質として使用することにより下記の化合物が得られる:
1一〔2,4ージブロム−8一(ベンジルオキシ)フェ
ネチル〕ィミダゾール塩酸塩、1一〔2,4−ジブロム
ー8一(p一シアノベンジルオキシ)フェネチル〕ーィ
ミダゾール塩酸塩、1一(2,4−ジブロムー8−(フ
エネチルオキシ)フヱネチル〕ィミダゾール塩酸塩、1
−〔2,4−ジブロム−B−(2,4−ジメチルフエネ
チルオキシ)フエネチル〕ーイミダゾール塩酸塩、1−
〔pークロルーB一(pーイソプロポキシフエネチルオ
キシ)フエネチル〕ーイミダゾール臭化水素酸塩、1一
〔pークロルー8−(pーシアノフエネチルオキシ)フ
ェネチル〕イミダゾール−臭化水素酸塩、1一〔oーメ
チル−8一(pーニトロフエノキシ)フェネチル〕イミ
ダゾール臭化水素酸塩、1一〔oーメチル−8一(p−
アミノフエノキシ)フェネチル〕ィミダゾール臭化水素
酸塩。
なお本発明の主な実施態様を示せば次の通りである。1
式 (式中、Ayはモノ一及びジーハロフェニル、低級アル
キルフェニル、及び低級アルコキシフェニルから成る群
より選ばれた一員であり:そしてRはペンジル、モノー
、ジー及びトリーハロベンジル、モノー及びジー低級ア
ルキルベンジル、低級アルコキシベンジル、シアノベン
ジル、フェネチル、モノー、ジー及びトリーハロフェネ
チル、モノー及びジー低級アルキルフェネチル、低級ア
ルコキシフェネチル、シアノフェネチル、モノー及びジ
ーニトロフェニル・モノ−及びジーアミノフェニル、低
級アルキル、低級アルケニル及び低級アルキニルから成
る群より選ばれた一員である)で示される1一〔B一A
y−B(R−オキシ)エチル〕ィミダゾール又は治療上
活性なその酸付加塩を製造する方法において、式のイミ
ダゾールと 式 (但しYは式 の対応 するアルコールの反応性ュスル残基でありそしてAy及
びRは前記に定義した通りである)の化合物とを有機溶
媒中で反応させそして前記1一〔8−Ay−B一(R−
オキシ)エチル〕イミダゾールと酸とを接触させて治療
上活性なその酸付加塩を得ることを特徴とする、上記製
造方法。
式 (式中、Ayはモノ一及びジーハロフェニル、低級アル
キルフェニル、及び低級アルコキシフェニルから成る群
より選ばれた一員であり:そしてRはペンジル、モノー
、ジー及びトリーハロベンジル、モノー及びジー低級ア
ルキルベンジル、低級アルコキシベンジル、シアノベン
ジル、フェネチル、モノー、ジー及びトリーハロフェネ
チル、モノー及びジー低級アルキルフェネチル、低級ア
ルコキシフェネチル、シアノフェネチル、モノー及びジ
ーニトロフェニル・モノ−及びジーアミノフェニル、低
級アルキル、低級アルケニル及び低級アルキニルから成
る群より選ばれた一員である)で示される1一〔B一A
y−B(R−オキシ)エチル〕ィミダゾール又は治療上
活性なその酸付加塩を製造する方法において、式のイミ
ダゾールと 式 (但しYは式 の対応 するアルコールの反応性ュスル残基でありそしてAy及
びRは前記に定義した通りである)の化合物とを有機溶
媒中で反応させそして前記1一〔8−Ay−B一(R−
オキシ)エチル〕イミダゾールと酸とを接触させて治療
上活性なその酸付加塩を得ることを特徴とする、上記製
造方法。
2 1−日一イミダゾールと2,4−ジクロル−8一(
2,4ージクロルフエニルメトキシ)ベンゼンエタノー
ルメタンスルホネートとを反応させることを特徴とする
1一{2,4ージクロルー8一〔(2,4ージクロルベ
ンジル)オキシ〕−フェネチル}ィミダゾールの製造方
法。
2,4ージクロルフエニルメトキシ)ベンゼンエタノー
ルメタンスルホネートとを反応させることを特徴とする
1一{2,4ージクロルー8一〔(2,4ージクロルベ
ンジル)オキシ〕−フェネチル}ィミダゾールの製造方
法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Aγはモノ及びジ−ハロフエニル、低級アルキ
ルフエニル、及び低級アルコキシフエニルから成る群よ
り選ばれた一員であり:そしてRはベンジル、モノ−、
ジ−及びトリ−ハロベンジル、モノ−及びジ−低級アル
キルベンジル、低級アルコキシベンジル、シアノベンジ
ル、フエネチル、モノ−、ジ−及びトリ−ハロフエネチ
ル、モノ−及びジ−低級アルキルフエネチル、低級アル
コキシフエネチル、シアノフエネチル、モノ−及びジ−
ニトロフエニル、モノ−及びジ−アミノフエニル、低級
アルキル、低級アルケニル及び低級アルキニルから成る
群より選ばれた一員である)で示される1−〔β−Aγ
−β−(R−オキシ)エチル〕イミダゾール又は治療上
活性なその酸付加塩を製造する方法において、式▲数式
、化学式、表等があります▼ のイミダゾールと 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しYは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の対応す るアルコールの反応性エステル残基でありそしてAγ及
びRは前記に定義した通りである)の化合物とを有機溶
媒中で反応させ、そして前記治療上活性な酸付加塩の場
合には1−〔β−Aγ−β−(R−オキシ)エチル〕イ
ミダゾールと酸とを接触させることを特徴とする、上記
製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US52514774A | 1974-11-19 | 1974-11-19 | |
US525147 | 1974-11-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5182273A JPS5182273A (en) | 1976-07-19 |
JPS606942B2 true JPS606942B2 (ja) | 1985-02-21 |
Family
ID=24092119
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13315375A Expired JPS606942B2 (ja) | 1974-11-19 | 1975-11-07 | 1―(β―アリール)エチル―1H―イミダゾールエーテル及びその酸付加塩の酸造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS606942B2 (ja) |
EG (1) | EG11779A (ja) |
GB (1) | GB1522848A (ja) |
HU (1) | HU172027B (ja) |
IT (1) | IT1052320B (ja) |
NL (1) | NL7513439A (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54157560A (en) * | 1978-06-01 | 1979-12-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | Preparation of n-substituted imidazole derivative |
NZ196075A (en) * | 1980-02-04 | 1982-12-07 | Janssen Pharmaceutica Nv | Agent to protect wood coatings and detergents from micro-organisms using a triazole |
AU542623B2 (en) * | 1980-05-16 | 1985-02-28 | Bayer Aktiengesellschaft | 1-hydroxyethyl-azole derivatives |
DE3018865A1 (de) * | 1980-05-16 | 1981-11-26 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Antimikrobielle mittel |
JPS57179164A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-04 | Ota Seiyaku Kk | Preparation of imidazole derivative |
US6545163B1 (en) | 1995-10-02 | 2003-04-08 | Napp Technologies | Process to prepare 1-aryl-2-(1-imidazolyl) alkyl ethers and thioethers |
JP2002173287A (ja) * | 2000-12-08 | 2002-06-21 | Furukawa Co Ltd | 作業車両用のマグネット装置 |
BR112019010809A2 (pt) * | 2016-11-28 | 2019-10-01 | Cellix Bio Private Ltd | composto de fórmula i, composto de fórmula ii, composto de fórmula iii, composto de fórmula iv, composto de fórmula v, composto de fórmula vi, composto de fórmula vii, composto de fórmula viii, composto de fórmula ix, composto de fórmula x, composto de fórmula xi, composto de fórmula xii, e composição farmacêutica |
-
1975
- 1975-09-29 EG EG57775A patent/EG11779A/xx active
- 1975-10-24 GB GB4381375A patent/GB1522848A/en not_active Expired
- 1975-11-07 JP JP13315375A patent/JPS606942B2/ja not_active Expired
- 1975-11-18 IT IT5228175A patent/IT1052320B/it active
- 1975-11-18 NL NL7513439A patent/NL7513439A/xx not_active Application Discontinuation
- 1975-11-18 HU HU75JA00000744A patent/HU172027B/hu unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HU172027B (hu) | 1978-05-28 |
IT1052320B (it) | 1981-06-20 |
NL7513439A (nl) | 1976-05-21 |
EG11779A (en) | 1978-06-30 |
GB1522848A (en) | 1978-08-31 |
JPS5182273A (en) | 1976-07-19 |
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