JPS6056706B2 - 1−アルキル−2−アミノアルキルピロリジンの製造方法 - Google Patents
1−アルキル−2−アミノアルキルピロリジンの製造方法Info
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- JPS6056706B2 JPS6056706B2 JP10023476A JP10023476A JPS6056706B2 JP S6056706 B2 JPS6056706 B2 JP S6056706B2 JP 10023476 A JP10023476 A JP 10023476A JP 10023476 A JP10023476 A JP 10023476A JP S6056706 B2 JPS6056706 B2 JP S6056706B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は1−アルキルー2−アミノアルキルピロリジン
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
式
式中、R1はアルキレン基を表わし、
R2はアルキル基を表わす、
の1−アルキルー2−アミノアルキルピロリジンは、各
種の医薬品、工業薬品等の合成中間体として公知の化合
物であり、従来、例えば1−エチル一2−アミノメチル
ピロリジンは、1−エチルー3−クロロピロリジン塩酸
塩をアンモニアど加熱して得ることが提案されている(
米国特許第3,031,452号明細書)。
種の医薬品、工業薬品等の合成中間体として公知の化合
物であり、従来、例えば1−エチル一2−アミノメチル
ピロリジンは、1−エチルー3−クロロピロリジン塩酸
塩をアンモニアど加熱して得ることが提案されている(
米国特許第3,031,452号明細書)。
しかしこの公知の方法では、1−エチルー3−ヒドロキ
シペピリジンが副生し、その副生物の分離が困難である
ため、特に高純度のものが要求される医薬品の合成中間
体としては不適当であるという欠点がある。さらに、上
記公知方法の改良方法として、下記の反応工程により前
記式(1)の化合物を製造する方法も提案されている(
特公昭46−27457号公報)。上記式中、R1及び
R2は前記定義の通りである。しかしながら、上記の改
良方法は式(1)の化合物の収率が低く(原料のテトラ
ヒドロフラニルアルキルクロリドを基準にして約18〜
50%の収率)、また工業的に高価な試薬(フタルイミ
ドカリウム及びヨウ化カリウム)を必要とする、等の欠
点である。
シペピリジンが副生し、その副生物の分離が困難である
ため、特に高純度のものが要求される医薬品の合成中間
体としては不適当であるという欠点がある。さらに、上
記公知方法の改良方法として、下記の反応工程により前
記式(1)の化合物を製造する方法も提案されている(
特公昭46−27457号公報)。上記式中、R1及び
R2は前記定義の通りである。しかしながら、上記の改
良方法は式(1)の化合物の収率が低く(原料のテトラ
ヒドロフラニルアルキルクロリドを基準にして約18〜
50%の収率)、また工業的に高価な試薬(フタルイミ
ドカリウム及びヨウ化カリウム)を必要とする、等の欠
点である。
本発明者らは、上記式(1)の1−アルキルー2−アミ
ノアルキルピロリジンの工業的に有利な製造方法につき
種々研究を行なつた結果、工業的に極めて容易に入手し
得る安息香酸と2−テトラヒドロフラニルアルキルアミ
ンとから、以下に述べる方法により、式(1)の化合物
が極めて高収率で得ることができることを見い出し、本
発明に到つたものである。
ノアルキルピロリジンの工業的に有利な製造方法につき
種々研究を行なつた結果、工業的に極めて容易に入手し
得る安息香酸と2−テトラヒドロフラニルアルキルアミ
ンとから、以下に述べる方法により、式(1)の化合物
が極めて高収率で得ることができることを見い出し、本
発明に到つたものである。
すなわち、本発明によれば、上記式(1)の1−アルキ
ルー2−アミノアルキルピロリジンは、(a)安息香酸
又はその反応性誘導体を式式中、R1は前記安義の通り
である、 の2−テトラヒドロフラニルアルキルアミン又はその反
応性誘導体と反応せしめ、(b)得られる式 式中、R1は前記定義の通りである、 のN−(7−テトラヒドロフラニル)アルキル安息香酸
アミドを塩化チオニルと反応せしめ、(c)生成する式
式中、R1は前記定義の通りである、のN−ジクロロア
ルキル安息香酸アミドを式式中、R2は前記定義の通り
である、のアルキルアミンと反応せしめ、 (d)次いでかくして得られる式 式中、R1及びR2は前記定義の通りである、のN−(
『−アルキルー25−ピロリジニル)アルキル安息香酸
アミドをアルカリ金属水酸化物で処理してアミド結合を
開裂せしめることにより製造される。
ルー2−アミノアルキルピロリジンは、(a)安息香酸
又はその反応性誘導体を式式中、R1は前記安義の通り
である、 の2−テトラヒドロフラニルアルキルアミン又はその反
応性誘導体と反応せしめ、(b)得られる式 式中、R1は前記定義の通りである、 のN−(7−テトラヒドロフラニル)アルキル安息香酸
アミドを塩化チオニルと反応せしめ、(c)生成する式
式中、R1は前記定義の通りである、のN−ジクロロア
ルキル安息香酸アミドを式式中、R2は前記定義の通り
である、のアルキルアミンと反応せしめ、 (d)次いでかくして得られる式 式中、R1及びR2は前記定義の通りである、のN−(
『−アルキルー25−ピロリジニル)アルキル安息香酸
アミドをアルカリ金属水酸化物で処理してアミド結合を
開裂せしめることにより製造される。
本明細書においてJアルキル基ョは直鎖状又は分岐鎖状
のいずれであつてもよく、炭素原子数1−まで、特に炭
素原子数5個までの低級のものが好ましく、例えばメチ
ル、エチル、n−もしくはIsO−プロピル、n−、I
sO−、Sec−もしくはTert−ブチル、n−ペン
チル等が包含され、R2に対しては特にエチルが好まし
い。
のいずれであつてもよく、炭素原子数1−まで、特に炭
素原子数5個までの低級のものが好ましく、例えばメチ
ル、エチル、n−もしくはIsO−プロピル、n−、I
sO−、Sec−もしくはTert−ブチル、n−ペン
チル等が包含され、R2に対しては特にエチルが好まし
い。
また、1アルキル基ョは直鎖状又は分岐鎖のいずれであ
つてもよく、特に炭素原子数5個までの低級のものが好
適であり、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、
メチルエチレン、ブチレン、メチルプロピレン、ジメチ
ルエチレン等が挙げられるが、R1に対しては就中メチ
レンが好ましい。本発明において先ず、安息香酸又はそ
の反応性誘導体が前記式(■)の2−テトラヒドロフラ
ニルアルキルアミン又はその反応性誘導体と反応せしめ
られる。
つてもよく、特に炭素原子数5個までの低級のものが好
適であり、例えば、メチレン、エチレン、プロピレン、
メチルエチレン、ブチレン、メチルプロピレン、ジメチ
ルエチレン等が挙げられるが、R1に対しては就中メチ
レンが好ましい。本発明において先ず、安息香酸又はそ
の反応性誘導体が前記式(■)の2−テトラヒドロフラ
ニルアルキルアミン又はその反応性誘導体と反応せしめ
られる。
安息香酸の反応性誘導体としては、ペプチド化学の分野
においてアミド化反応を行なうに際しカルボキシル基の
活性化に使用されているものはいずれも使用可能であり
、例えば次のものが挙げられる。
においてアミド化反応を行なうに際しカルボキシル基の
活性化に使用されているものはいずれも使用可能であり
、例えば次のものが挙げられる。
(1)酸ハライド
式中、X1はハロゲン原子、特に塩素原子である、(I
i)エステル 式中、R1は低級アルキル基、特にメチル基又はエチル
基;又は活性エステル残基、例えば− (YNO2
CH2CNl又は−N/ I である、 (11i)混合酸無水物 式中、R,は有機又は無機の酸残基、例えばアセチル、
プロピオニル等のアシル基;基−COOR5(式中、R
5は炭素数6以下の低級アルキル基である):又は(式
中、R6及びR7は同一もしくは相異なり、各々アルキ
ル基、アリール基又はアラールキル基を表わすか、或い
はR6とR7とは一緒になつてアルキレン基又はo−フ
ェニレン基を表わす)である、
*(Iv)活性アミド
\o/ ゜゛゜゜V− 式中、R1は前記定義の通りである、 (Ji)フオスフオロアミダイト化合物 、
式中、R1、2及びR7は前記定義の通りであ式中、R
8は置換又は未置換の1−イミダゾリル基又は1−ピラ
ゾリル基を表わす、(v)酸アジド また、前記式(■)のアミンの反応性誘導体としては、
ペプチド化学の分野においてアミド化反応を行なうに際
しアミノ基の活性化に使用されているものはいずれも使
用可能であり、例えば次のものが挙げられる。
i)エステル 式中、R1は低級アルキル基、特にメチル基又はエチル
基;又は活性エステル残基、例えば− (YNO2
CH2CNl又は−N/ I である、 (11i)混合酸無水物 式中、R,は有機又は無機の酸残基、例えばアセチル、
プロピオニル等のアシル基;基−COOR5(式中、R
5は炭素数6以下の低級アルキル基である):又は(式
中、R6及びR7は同一もしくは相異なり、各々アルキ
ル基、アリール基又はアラールキル基を表わすか、或い
はR6とR7とは一緒になつてアルキレン基又はo−フ
ェニレン基を表わす)である、
*(Iv)活性アミド
\o/ ゜゛゜゜V− 式中、R1は前記定義の通りである、 (Ji)フオスフオロアミダイト化合物 、
式中、R1、2及びR7は前記定義の通りであ式中、R
8は置換又は未置換の1−イミダゾリル基又は1−ピラ
ゾリル基を表わす、(v)酸アジド また、前記式(■)のアミンの反応性誘導体としては、
ペプチド化学の分野においてアミド化反応を行なうに際
しアミノ基の活性化に使用されているものはいずれも使
用可能であり、例えば次のものが挙げられる。
(1)イソシアネート(又はイソチオシアネート)式中
、R1は前記定義の通りである、(Ii)フオスフアゾ
化合物 又は 3(Iv)フオスフオロアミデート化合物又は 式中、R1、R6及びR7は前記定義の通りである。
、R1は前記定義の通りである、(Ii)フオスフアゾ
化合物 又は 3(Iv)フオスフオロアミデート化合物又は 式中、R1、R6及びR7は前記定義の通りである。
安息香酸又はその反応性誘導体と式(■)のアミン又は
その反応性誘導体とのアミド化反応はそれ自体公知の種
々の方法に従つて行なうことができる。
その反応性誘導体とのアミド化反応はそれ自体公知の種
々の方法に従つて行なうことができる。
例えば、該アミド化は安息香酸と式(■)のアミンとの
直接縮合により行なうことができる。
直接縮合により行なうことができる。
反応は無溶媒の状態で行なうこともできるが、一般に不
活性有機溶媒中、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
の如き炭化水素;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ダイグライムの如きエーテル類;ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドの如きアミド
類;ジクロロメタン、クロロホルムの如きハロゲン化炭
化水素:ジメチルスルホキシドなどの中で行なうのが好
ましい。反応温度及び圧力には特に制約はなく、使用す
る原料物質等に応じて広範に変化させることができるが
、通常反応温度は約0℃乃至反応混合物の還流温度、好
ましくは室温乃至200℃であり、圧力は有利には常圧
である。また、反応は必要に応じて、縮合剤の存在下に
実施することができ、使用し得る縮合剤としては、例え
ばルイス酸、特に四塩化硅素、トリクロロフェニルシラ
ン及び四塩化チタン等、N−エチルーN−ジエチルアミ
ノプロピルカルボジイミド、N,N″ージシクロヘキシ
ルカルボジイミド等;トリアリールフオスフインとジス
ルフィドとの組合せ;アンパーライトIR−12蒔の強
酸性イオン交換樹脂が挙げられる。また、前記アミド化
は、安息香酸の前述した如一き反応性誘導体と前記式(
■)の遊離アミンとの間で、或いは遊離の置換安息香酸
と前記式(■)のアミンの前述した如き反応性誘導体と
の間で行なうこともできる。
活性有機溶媒中、例えばベンゼン、トルエン、キシレン
の如き炭化水素;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシエタン、ダイグライムの如きエーテル類;ジメ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミドの如きアミド
類;ジクロロメタン、クロロホルムの如きハロゲン化炭
化水素:ジメチルスルホキシドなどの中で行なうのが好
ましい。反応温度及び圧力には特に制約はなく、使用す
る原料物質等に応じて広範に変化させることができるが
、通常反応温度は約0℃乃至反応混合物の還流温度、好
ましくは室温乃至200℃であり、圧力は有利には常圧
である。また、反応は必要に応じて、縮合剤の存在下に
実施することができ、使用し得る縮合剤としては、例え
ばルイス酸、特に四塩化硅素、トリクロロフェニルシラ
ン及び四塩化チタン等、N−エチルーN−ジエチルアミ
ノプロピルカルボジイミド、N,N″ージシクロヘキシ
ルカルボジイミド等;トリアリールフオスフインとジス
ルフィドとの組合せ;アンパーライトIR−12蒔の強
酸性イオン交換樹脂が挙げられる。また、前記アミド化
は、安息香酸の前述した如一き反応性誘導体と前記式(
■)の遊離アミンとの間で、或いは遊離の置換安息香酸
と前記式(■)のアミンの前述した如き反応性誘導体と
の間で行なうこともできる。
本アミド化もまた、必要に応じて溶媒を用いずに行なう
こともできるが、通常上記した如き不活性有機溶媒又は
高沸点のアルコール類(例えばエチレングリコール、グ
リセリン等)中で行なうのが有利である。反応温度及び
圧力は臨界的ではないが、通常反応温度としては、約−
2CfC乃至反応混合物の還流温度、好ましくは0℃乃
至180℃であり、圧力は有利には常圧である。かくし
て、前記式(■)のN−(2′−テトラヒドロフラニル
)アルキル安息香酸アミドが得られる。
こともできるが、通常上記した如き不活性有機溶媒又は
高沸点のアルコール類(例えばエチレングリコール、グ
リセリン等)中で行なうのが有利である。反応温度及び
圧力は臨界的ではないが、通常反応温度としては、約−
2CfC乃至反応混合物の還流温度、好ましくは0℃乃
至180℃であり、圧力は有利には常圧である。かくし
て、前記式(■)のN−(2′−テトラヒドロフラニル
)アルキル安息香酸アミドが得られる。
このものはそのまま又は単離した後に次の反応に供する
ことができる。反応後の反応混合物からの式(■)の化
合物の分離及び精製はそれ自体公知の方法、例えばろ過
、抽出、再結晶、クロマトグラフィー等の方法で容易に
行なうことができる。得られる式(■)のN−(7−テ
トラヒドロフラニル)アルキル安息香酸アミドは従来の
文献に未載の新規な化合物であり、その代表例を示せば
次の通りである。
ことができる。反応後の反応混合物からの式(■)の化
合物の分離及び精製はそれ自体公知の方法、例えばろ過
、抽出、再結晶、クロマトグラフィー等の方法で容易に
行なうことができる。得られる式(■)のN−(7−テ
トラヒドロフラニル)アルキル安息香酸アミドは従来の
文献に未載の新規な化合物であり、その代表例を示せば
次の通りである。
N−(2′−テトラヒドロフラニル)メチル安息香酸ア
ミド、N−(7−テトラヒドロフラニル)エチル安息香
酸アミド、N−(7−テトラヒドロフラニル)プロピル
安息香酸アミド、N−0″(2″−テトラヒドロフラニ
ル)エチル〕安息香酸アミド。
ミド、N−(7−テトラヒドロフラニル)エチル安息香
酸アミド、N−(7−テトラヒドロフラニル)プロピル
安息香酸アミド、N−0″(2″−テトラヒドロフラニ
ル)エチル〕安息香酸アミド。
これらのうち、N−(7−テトラヒドロフラニル)メチ
ル安息香酸アミドが特に好適である。
ル安息香酸アミドが特に好適である。
上記で得られる式(■)の化合物は、塩化チオニル(S
OCl2)と反応せしめることにより、前記式(■)の
N−ジクロロアルキル安息香酸アミドに変えられる。式
(■)の化合物と塩化チオニルとの反応は、溶媒の存在
下に行なうこともできるが、一般に溶媒の不存在下で行
なうのが有利である。
OCl2)と反応せしめることにより、前記式(■)の
N−ジクロロアルキル安息香酸アミドに変えられる。式
(■)の化合物と塩化チオニルとの反応は、溶媒の存在
下に行なうこともできるが、一般に溶媒の不存在下で行
なうのが有利である。
溶媒を用いる場合に使用し得る溶媒としては、ベンゼン
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;四塩化炭素
、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素等が挙げられる。該反応の温度は臨界的ではないが、
一般に約60℃以上の加熱下に行なうのが好ましく、反
応混合物の還流温度において有利に行なわれる。
、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;四塩化炭素
、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素等が挙げられる。該反応の温度は臨界的ではないが、
一般に約60℃以上の加熱下に行なうのが好ましく、反
応混合物の還流温度において有利に行なわれる。
塩化チオニルの使用量もまた臨界的なものではないが、
一般に式(■)の化合物1モルに対して、少なくとも3
モル、好ましくは4〜6モルの過剰量で使用するのが好
適である。
一般に式(■)の化合物1モルに対して、少なくとも3
モル、好ましくは4〜6モルの過剰量で使用するのが好
適である。
かくして、本反応により、実質的に無水の条件下に式式
中、R1は前記定義の通りである、 の化合物が生成し、この式(■)の化合物は反応系から
単離することもできるが、反応混合物に水を加えれば直
ちに前記式(■)の化合物に変る。
中、R1は前記定義の通りである、 の化合物が生成し、この式(■)の化合物は反応系から
単離することもできるが、反応混合物に水を加えれば直
ちに前記式(■)の化合物に変る。
生成する式(V)の化合物はそのまま次の反応に供する
か、或いは反応混合物から一旦単離するようにしてもよ
い。式(■)の化合物の分離及び精製はそれ自体公知の
方法で行なうことができ、例えばp過、遠心分離、抽出
、クロマトグラフィー、再結晶等の手段をいることがで
きる。かくして得られる前記式(■)のN−ジクロロア
ルキル安息香酸アミドもまた、従来の文献に未載の新規
な化合物であり、その代表例を示せば次の通りである。
か、或いは反応混合物から一旦単離するようにしてもよ
い。式(■)の化合物の分離及び精製はそれ自体公知の
方法で行なうことができ、例えばp過、遠心分離、抽出
、クロマトグラフィー、再結晶等の手段をいることがで
きる。かくして得られる前記式(■)のN−ジクロロア
ルキル安息香酸アミドもまた、従来の文献に未載の新規
な化合物であり、その代表例を示せば次の通りである。
N−(7,5″ージクロルペンチル)安息香酸アミド、
N−(3″,6″−ジク曵レヘキシル)安息香酸アミド
、N(−4″,7″ージクロルヘプチル)安息香酸アミ
ド、N−(7,5′ージクロルー1−メチルペンチル)
安息香酸アミド。
N−(3″,6″−ジク曵レヘキシル)安息香酸アミド
、N(−4″,7″ージクロルヘプチル)安息香酸アミ
ド、N−(7,5′ージクロルー1−メチルペンチル)
安息香酸アミド。
これら化合物のうち
N−(2″,5″ージクロルペンチル)安息香酸アミド
が特に好適な化合物である。
が特に好適な化合物である。
かくして生成せしめられた式(■)のN−ジク口ごア1
■ナル安息香酸アミドは、次いで式式中、R2は前記定
義の通りである、のアルキルアミンと反応せしめること
により、式N−(『アルキルー7−ピロリジニル)アル
キル安息香酸アミドにすることができる。
■ナル安息香酸アミドは、次いで式式中、R2は前記定
義の通りである、のアルキルアミンと反応せしめること
により、式N−(『アルキルー7−ピロリジニル)アル
キル安息香酸アミドにすることができる。
式(■)の化合物と式(■)のアルキルアミンとの反応
は、溶媒の存在下又は不存在下のいずれの状態において
も行なうことができる。
は、溶媒の存在下又は不存在下のいずれの状態において
も行なうことができる。
溶媒を使用する場合に用いうる溶媒としては、例えばエ
タノール、イソプロパノール、n−ブタノール、Ter
t−ブタノール、エチレングリコールの如きアルコール
類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、jジメトキシエ
タンの如きエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド(
DMSO);トリエチルアミン、ピリジン、コリシン、
ピコリンの如き有機アミン類−;水、等の極性溶媒が好
適に使用さ;れる。反応温度は厳密ではないが、一般に
加熱下、好ましくは約60℃以上特に80℃以上反応混
合物の還流温度までの温度において反応を行なうのが有
利である。
タノール、イソプロパノール、n−ブタノール、Ter
t−ブタノール、エチレングリコールの如きアルコール
類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、jジメトキシエ
タンの如きエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類;ジメチルスルホキシド(
DMSO);トリエチルアミン、ピリジン、コリシン、
ピコリンの如き有機アミン類−;水、等の極性溶媒が好
適に使用さ;れる。反応温度は厳密ではないが、一般に
加熱下、好ましくは約60℃以上特に80℃以上反応混
合物の還流温度までの温度において反応を行なうのが有
利である。
また反応の圧力も特に制限はなく通常常ノ圧で行なわれ
るが、必要に応じて減圧又は加圧下に行なつてもよい。
式(■)のアルキルアミンの使用量も臨界的ではなく、
式(■)の化合物及び/又は式(■)のアルキルアミン
の種類、反応条件等に応じて広範に変えることができる
が、通常、式(V)の化合物1モルに対して少なくとも
等モル、好ましくは3モル以上であり、上限は特に制限
はないが、必要以上に多量に使つても無駄であり、10
モル以下で充分である。
るが、必要に応じて減圧又は加圧下に行なつてもよい。
式(■)のアルキルアミンの使用量も臨界的ではなく、
式(■)の化合物及び/又は式(■)のアルキルアミン
の種類、反応条件等に応じて広範に変えることができる
が、通常、式(V)の化合物1モルに対して少なくとも
等モル、好ましくは3モル以上であり、上限は特に制限
はないが、必要以上に多量に使つても無駄であり、10
モル以下で充分である。
また、反応に際しては、該アルキルアミンを過剰に使用
する代りに、酸結合剤を使用してもよい。式(V)の化
合物から式(■)の化合物への閉環反応の機構は正確に
はわからないが、例えばR1がメチレン基である場合に
は、式(■)の化合物から式(■)の化合物への閉環反
応において、中間で式式中、R2は前記定義の通りであ
る、 の化合物の存在が認められる。
する代りに、酸結合剤を使用してもよい。式(V)の化
合物から式(■)の化合物への閉環反応の機構は正確に
はわからないが、例えばR1がメチレン基である場合に
は、式(■)の化合物から式(■)の化合物への閉環反
応において、中間で式式中、R2は前記定義の通りであ
る、 の化合物の存在が認められる。
かくの如くして得られる式(■)の化合物は必要に応じ
て反応混合物から分離した後、本発明の最終工程の反応
に供することができる。
て反応混合物から分離した後、本発明の最終工程の反応
に供することができる。
該分離は常法に従つて、例えば枦過、遠心分離、クロマ
トグラフィー、抽出、蒸留等の手段により行なうことが
できる。得られる式(■)の化合物もまた、従来の文献
に未載の新規な化合物であり、その代表例なものを例示
すれば次の通りである。
トグラフィー、抽出、蒸留等の手段により行なうことが
できる。得られる式(■)の化合物もまた、従来の文献
に未載の新規な化合物であり、その代表例なものを例示
すれば次の通りである。
N−(丁一エチノレー2″−ピロリジニノレ)メチノレ
安息香酸アミド、N−(『−メチルー7−ピロリジニル
)メチル安息香酸アミド、N−(1″−プロピルー2″
−ピロリジニル)メチル安息香酸アミド、N−(『−イ
ソプロピルー7−ピロリジニル)メチル安息香酸アミド
、N−(1″−ブチルー2″−ピロリジニル)メチル安
息香酸アミド、N−(『一エチルー7−ピロリジニル)
エチル安息香酸アミド、N−(『−ブチルー2″−ピロ
リジニル)エチル安息香酸アミド、N−(『一エチルー
2′−ピロリジニル)プロピル安息香酸アミド、N−(
『−プロピルー2″−ピロリジニル)プロピル安息香酸
アミド、N−〔1″−(1″″−プロピルー7−ピロリ
ジニル)エチル〕安息香酸アミド、N−0゛−(11−
エチルー7−ピロリジニル)エチル〕安息香酸アミド。
安息香酸アミド、N−(『−メチルー7−ピロリジニル
)メチル安息香酸アミド、N−(1″−プロピルー2″
−ピロリジニル)メチル安息香酸アミド、N−(『−イ
ソプロピルー7−ピロリジニル)メチル安息香酸アミド
、N−(1″−ブチルー2″−ピロリジニル)メチル安
息香酸アミド、N−(『一エチルー7−ピロリジニル)
エチル安息香酸アミド、N−(『−ブチルー2″−ピロ
リジニル)エチル安息香酸アミド、N−(『一エチルー
2′−ピロリジニル)プロピル安息香酸アミド、N−(
『−プロピルー2″−ピロリジニル)プロピル安息香酸
アミド、N−〔1″−(1″″−プロピルー7−ピロリ
ジニル)エチル〕安息香酸アミド、N−0゛−(11−
エチルー7−ピロリジニル)エチル〕安息香酸アミド。
上記化合物中式
式中、R2lは低級アルキル基を表わす、の化合物が好
適であり、就中N−(1″一エチルー7−ピロリジニル
)メチル安息香酸アミドが好ましい化合物である。
適であり、就中N−(1″一エチルー7−ピロリジニル
)メチル安息香酸アミドが好ましい化合物である。
上記の如くして得られた式(■)の化合物は、本発明に
よれば、アルカリ金属水酸化物で処理することにより、
アミド結合が開裂せしめられ、目的とする式(1)の1
−アルキルー2−アミノアルキルアミンにされる。
よれば、アルカリ金属水酸化物で処理することにより、
アミド結合が開裂せしめられ、目的とする式(1)の1
−アルキルー2−アミノアルキルアミンにされる。
該アルカリ金属水酸化物による処理は、該アルカリ金属
水酸化物の少なくとも一部を溶解し得る、実質的に水を
含まない不活性有機溶媒中で行なうのが有利である。
水酸化物の少なくとも一部を溶解し得る、実質的に水を
含まない不活性有機溶媒中で行なうのが有利である。
かかる不活性有機溶媒としては、メタノール、エタノー
ル、n−プロパノール、n−ブタノール、メトキシエタ
ノール、エトキシエタノール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン等の如き低級アルコールが最も適している。これらの
うち、特にメタノール、エタノール、エチレングリコー
ル及びグリセリンが便利に用いられる。これら溶媒は無
水であることが望ましいが、反応を大きく阻害しない程
度の少量(通常5重量%まで)の水の存在は許容しうる
。使用し得るアルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げら
れるが、本発明においては殊に前2者の使用が望ましい
。上記の処理の際の温度は厳密ではなく、使用す゛る式
(■)の化合物及び/又はアルカリ金属水酸化物の種類
や他の反応条件等に応じて広範に変えることができるが
、一般に約50C以上、特に6C)C以上反応混合物の
還流温度までの範囲の温度を使用することが有利である
。該処理の際の圧力も特”に制約はないが、通常大気圧
で充分であり、必要に応じて減圧又は加圧を用いること
ができる。上記アルカリ金属水酸化物の使用量もまた臨
界的ではなく、式(■)の化合物及び/又はアルカリ金
属水酸化物の種類や反応条件に応じて広範に変えること
ができるが、一般に該アルカリ金属水酸化物を過剰に使
用するのが適当であり、例えば式(■)の化合物1モル
に対して、アルカリ金属水酸化物少なくとも5当量、好
適には8〜15当量の範囲で用いるのが有利である。か
くして、前記式(1)の1−アルキルー2ーアミノアル
キルピロリジンを高収率で生成せしめることができる。
ル、n−プロパノール、n−ブタノール、メトキシエタ
ノール、エトキシエタノール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン等の如き低級アルコールが最も適している。これらの
うち、特にメタノール、エタノール、エチレングリコー
ル及びグリセリンが便利に用いられる。これら溶媒は無
水であることが望ましいが、反応を大きく阻害しない程
度の少量(通常5重量%まで)の水の存在は許容しうる
。使用し得るアルカリ金属水酸化物としては、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げら
れるが、本発明においては殊に前2者の使用が望ましい
。上記の処理の際の温度は厳密ではなく、使用す゛る式
(■)の化合物及び/又はアルカリ金属水酸化物の種類
や他の反応条件等に応じて広範に変えることができるが
、一般に約50C以上、特に6C)C以上反応混合物の
還流温度までの範囲の温度を使用することが有利である
。該処理の際の圧力も特”に制約はないが、通常大気圧
で充分であり、必要に応じて減圧又は加圧を用いること
ができる。上記アルカリ金属水酸化物の使用量もまた臨
界的ではなく、式(■)の化合物及び/又はアルカリ金
属水酸化物の種類や反応条件に応じて広範に変えること
ができるが、一般に該アルカリ金属水酸化物を過剰に使
用するのが適当であり、例えば式(■)の化合物1モル
に対して、アルカリ金属水酸化物少なくとも5当量、好
適には8〜15当量の範囲で用いるのが有利である。か
くして、前記式(1)の1−アルキルー2ーアミノアル
キルピロリジンを高収率で生成せしめることができる。
この式(1)の化合物の反応混合物からの単離は、それ
自体公知の方法、例えば抽出、クロマトグラフィー、蒸
留等の手段を用いて容易に行なうことができる。本発明
により提供される式(1)の化合物は、各種工業薬品、
医薬品の合成中間体として使用することができる。
自体公知の方法、例えば抽出、クロマトグラフィー、蒸
留等の手段を用いて容易に行なうことができる。本発明
により提供される式(1)の化合物は、各種工業薬品、
医薬品の合成中間体として使用することができる。
以下実施例により本発明をさらに説明する。
実施例1塩化ベンゾイル(14.15y)をベンゼン(
42.4m1)に溶かし、テトラヒドロフルフリルアミ
ン(10.1f1)およびトリエチルアミン(10.1
f)を冷却下に滴加する。
42.4m1)に溶かし、テトラヒドロフルフリルアミ
ン(10.1f1)およびトリエチルアミン(10.1
f)を冷却下に滴加する。
室温にて2時間攪拌した後、反応液に水を加える。有機
層を水洗し、芒硝で乾燥する。減圧下に溶媒を留去する
とN−(7!′−テトラヒドロフラニル)メチル安息香
酸アミド(20.1y)が結晶として得られる。融点羽
〜90℃。NMR(CDCl3,δ):1・9付近(4
H1多一重線)、3.1〜4.2(5H、多重線)、6
.8(1H、多重線)、7.3〜7.9(5H1多重線
)。N−(2″−テトラヒドロフラニル)メチル安息香
酸アミドは以下の方法によつても製造される。
層を水洗し、芒硝で乾燥する。減圧下に溶媒を留去する
とN−(7!′−テトラヒドロフラニル)メチル安息香
酸アミド(20.1y)が結晶として得られる。融点羽
〜90℃。NMR(CDCl3,δ):1・9付近(4
H1多一重線)、3.1〜4.2(5H、多重線)、6
.8(1H、多重線)、7.3〜7.9(5H1多重線
)。N−(2″−テトラヒドロフラニル)メチル安息香
酸アミドは以下の方法によつても製造される。
すなわち、安息香酸(12.2g)をジメチルホルム,
アミド(60m1)およびトリエチルアミン(10.6
f)に溶かし、クロルギ酸イソプロピル(12.85′
)を冷却下に滴加する。室温にて1時間攪拌した後、再
び冷却し、テトラヒドロフルフリルアミン(10.6y
)を滴加する。室温にて2時間攪拌し.た後、反応液を
水にあけ、ベンゼンで抽出する。有機層を水洗し、芒硝
て乾燥する。溶媒を留去するとN−(7−テトラヒドロ
フラニル)メチル安息香酸アミド(20.0y)が得ら
れる。融点羽〜90℃。上で得られるN−(2′−テト
ラヒドロフラニル)メチル安息香酸アミド(40y)を
塩化チオニル(76.7y)とともに4時間加熱還流す
る。
アミド(60m1)およびトリエチルアミン(10.6
f)に溶かし、クロルギ酸イソプロピル(12.85′
)を冷却下に滴加する。室温にて1時間攪拌した後、再
び冷却し、テトラヒドロフルフリルアミン(10.6y
)を滴加する。室温にて2時間攪拌し.た後、反応液を
水にあけ、ベンゼンで抽出する。有機層を水洗し、芒硝
て乾燥する。溶媒を留去するとN−(7−テトラヒドロ
フラニル)メチル安息香酸アミド(20.0y)が得ら
れる。融点羽〜90℃。上で得られるN−(2′−テト
ラヒドロフラニル)メチル安息香酸アミド(40y)を
塩化チオニル(76.7y)とともに4時間加熱還流す
る。
反応液を氷水にあけ、炭酸カリウムで中和する。析出す
る結晶を酒取し、水洗した後乾燥するとN一(7,5″
ージクロルペンチル)安息香酸アミド(47.2f)が
得られる。融点56〜57℃。NMR(CDCl3,δ
):2.0付近(4H1多重線)、3.8〜4.3(5
H1多重線)、6.9付近(1H1多重線)、7.3〜
7.9(5H1多重線)。上で得られるN−(7,5″
ージクロルペンチル)安息香酸アミド(23.9fI)
を70%エチルアミン溶液(23.9m1)およびエタ
ノール(23.9m1)とともに2(転)間加熱する。
る結晶を酒取し、水洗した後乾燥するとN一(7,5″
ージクロルペンチル)安息香酸アミド(47.2f)が
得られる。融点56〜57℃。NMR(CDCl3,δ
):2.0付近(4H1多重線)、3.8〜4.3(5
H1多重線)、6.9付近(1H1多重線)、7.3〜
7.9(5H1多重線)。上で得られるN−(7,5″
ージクロルペンチル)安息香酸アミド(23.9fI)
を70%エチルアミン溶液(23.9m1)およびエタ
ノール(23.9m1)とともに2(転)間加熱する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II)で表わされる
N−(1′−アルキル−2′−ピロリジニル)アルキル
安息香酸アミドをアルカリ金属水酸化物で処理して、ア
ミド結合を開裂せしめることを特徴とする、式▲数式、
化学式、表等があります▼( I )で表わされる1−ア
ルキル−2−アミノアルキルピロリジンの製造方法。 但し、R_1はアルキレン基を表わし、R_2はアルキ
ル基を表わす。2 式(II)の化合物として式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II−a)で表わさ
れるN−(1′−低級アルキル−2′−ピロリジニル)
メチル安息香酸アミドを使用する、特許請求の範囲第1
項記載の方法。 但し、R_2_1は低級アルキル基を表わす。3 上記
処理を低級アルコールの存在下に行なう、特許請求の範
囲第1項記載の方法。 4 上記低級アルコールがメタノール、エタノール、エ
チレングリコール又はグリセリンである、特許請求の範
囲第3項記載の方法。 5 上記アルカリ金属水酸化物が水酸化ナトリウム又は
水酸化カリウムである、特許請求の範囲第1項記載の方
法。 6 上記処理を実質的に無水の条件下に行なう、特許請
求の範囲第1項記載の方法。 7 上記アルカリ金属水酸化物を式(II)の化合物1モ
ルに対して少なくとも5モル使用する、特許請求の範囲
第1項記載の方法。 8 上記処理を約50℃乃至反応混合物の還流温度で行
えう、特許請求の範囲第1項記載の方法。 9 式 (c)▲数式、化学式、表等があります▼(V)で表わ
されるN−ジクロロアルキル安息香酸アミドを式R_2
−NH_2(VI)で表わされるアルキルアミンと反応さ
せ、(d)こうして得られる式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II)で表わされる
N−(1′−アルキル−2′−ピロリジニル)アルキル
安息香酸アミドをアルカリ金属水酸化物で処理して、ア
ミド結合を開裂せしめることを特徴とする、式▲数式、
化学式、表等があります▼( I )で表わされる1−ア
ルキル−2−アミノアルキルピロリジンの製造方法。 但し、R_1はアルキレン基を表わし、R_2はアルキ
ル基を表わす。10 上記(c)の反応を溶媒の不存在
下に行なう、特許請求の範囲第9項に記載する方法。 11 上記(c)の反応を極性溶媒の存在下に行なう、
特許請求の範囲第9項に記載する方法。 12 上記(c)の反応を約60℃乃至反応混合物の還
流温度で行なう、特許請求の範囲第9項に記載する方法
。 13 (b)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IV)で表わされる
N−(2′−テトラヒドロフラニル)アルキル安息香酸
アミドを塩化チオニルと反応せしめ、(c)生成する式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V)で表わされる
N−ジクロロアルキル安息香酸アミドを式R_2−NH
_2(VI)で表わされるアルキルアミンと反応せしめ、
(d)次いでかくして得られる式▲数式、化学式、表等
があります▼(II)で表わされるN−(1′−アルキル
−2′−ピロリジニル)アルキル安息香酸アミドをアル
カリ金属水酸化物で処理して、アミド結合を開裂せしめ
ることを特徴とする、式▲数式、化学式、表等がありま
す▼( I )で表わされる1−アルキル−2−アミノア
ルキルピロリジンの製造方法。 但し、R_1はアルキレン基を表わし、R_2はアルキ
ル基を表わす。14 上記(b)の反応を溶媒の不存在
下に行なう、特許請求の範囲第13項に記載する方法。 15 上記(b)の反応を不活性有機溶媒の存在下に行
なう、特許請求の範囲第13項に記載する方法。 16 上記(b)の反応を60℃乃至反応混合物の還流
温度において行なう、特許請求の範囲第13項に記載す
る方法。 17 上記(b)の反応において、塩化チオニルを式(
IV)で表わされるN−(2′−テトラヒドロフラニル)
アルキル安息香酸アミド1モルに対して少なくとも3モ
ル、好ましくは4−6モル使用する、特許請求の範囲第
13項に記載する方法。 18 上記(b)の反応生成物を水で処理する、特許請
求の範囲第13項に記載する方法。 19 (a)安息香酸又はその反応性誘導体を式▲数式
、化学式、表等があります▼(III)で表わされる2−
テトラヒドロフラニルアルキルアミン又はその反応性誘
導体反応せしめ、(b)得られる式▲数式、化学式、表
等があります▼(IV)で表わされるN−(2′−テトラ
ヒドロフラニル)アルキル安息香酸アミドを塩化チオニ
ルと反応せしめ、(c)生成する式 ▲数式、化学式、表等があります▼(V)で表わされる
N−ジクロロアルキル安息香酸アミドを式R_2−NH
_2(VI)で表わされるアルキルアミンと反応せしめ、
(d)次いでかくして得られる式▲数式、化学式、表等
があります▼(II)で表わされるN−(1′−アルキル
−2′−ピロリジニル)アルキル安息香酸アミドをアル
カリ金属水酸化物で処理して、アミド結合を開裂せしめ
ることを特徴とする、式▲数式、化学式、表等がありま
す▼( I )で表わされる1−アルキル−2−アミノア
ルキルピロリジンの製造方法。 但し、R_1はアルキレン基を表わし、R_2はアルキ
ル基を表わす。20 上記(a)の反応を溶媒の不存在
下で行なう、特許請求の範囲第19項に記載する方法。 21 上記(a)の反応を不活性有機溶媒の存在下に行
なう、特許請求の範囲第19項に記載する方法。 22 上記(a)の反応を縮合剤の存在下に行なう、特
許請求の範囲第19項に記載する方法。 23 上記(a)の反応を0℃乃至反応混合物の還流温
度で行なう、特許請求の範囲第19項に記載する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10023476A JPS6056706B2 (ja) | 1976-08-24 | 1976-08-24 | 1−アルキル−2−アミノアルキルピロリジンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10023476A JPS6056706B2 (ja) | 1976-08-24 | 1976-08-24 | 1−アルキル−2−アミノアルキルピロリジンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5325560A JPS5325560A (en) | 1978-03-09 |
JPS6056706B2 true JPS6056706B2 (ja) | 1985-12-11 |
Family
ID=14268569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10023476A Expired JPS6056706B2 (ja) | 1976-08-24 | 1976-08-24 | 1−アルキル−2−アミノアルキルピロリジンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6056706B2 (ja) |
-
1976
- 1976-08-24 JP JP10023476A patent/JPS6056706B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5325560A (en) | 1978-03-09 |
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