JPS6052822A - レーザｃｖｄ装置 - Google Patents
レーザｃｖｄ装置Info
- Publication number
- JPS6052822A JPS6052822A JP58161576A JP16157683A JPS6052822A JP S6052822 A JPS6052822 A JP S6052822A JP 58161576 A JP58161576 A JP 58161576A JP 16157683 A JP16157683 A JP 16157683A JP S6052822 A JPS6052822 A JP S6052822A
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- Japan
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- mirror
- laser
- laser light
- light
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- Laser Beam Processing (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１） 発明の属する分野
本発明はレーザ装置に係シ、特に被照射基板の高精度な
位置合わせが可能なレーザＣＶＤ装置に関する。
位置合わせが可能なレーザＣＶＤ装置に関する。
■ 従来技術の説明
レーザＣＶＤ技術は、近年光エネルギーを利用し九〇Ｖ
Ｄ技術の一つとして注目されている。この方法はシリコ
ン基板などの基板をモノシ゛ラン（５ＩＨ４）などの雰
囲気中に置き、アルゴンレーザなどで局所的に加熱して
基板の酸化ｇ （５ｉｎ２）上にアモルファスシリコン
膜を選択的に形成するものである。
Ｄ技術の一つとして注目されている。この方法はシリコ
ン基板などの基板をモノシ゛ラン（５ＩＨ４）などの雰
囲気中に置き、アルゴンレーザなどで局所的に加熱して
基板の酸化ｇ （５ｉｎ２）上にアモルファスシリコン
膜を選択的に形成するものである。
従来、とのレーザＣＶＤ装置は第１図に示すような構成
となっていた。すなわち、レーザ発振器１からのレーザ
光は側内プリズム２．１／４波長板３を経てＸステージ
１８上のプリズム４でその方向が変えられ、しかる後に
Ｙステージ１９上に導びかれてアぶ一チャ５を経てバー
７ミラー６で９９チ程度のレーザ光が反射されてメカニ
カルシャッタ７、投影レンズ８を経てチャンバ９内のシ
リコン基板１０上に照射される。その際にシリコン基板
１０上でのレーザ光の位置およびスポット径の制御（Ｚ
軸方向）の制御は極めて重要であるので、シリコン基板
１０上に予め位置合わせマークを設け、レーザ照射の際
にＸステージ１８、Ｙステージ１９、投影レンズ８を制
御してスポットの調整を行なう。
となっていた。すなわち、レーザ発振器１からのレーザ
光は側内プリズム２．１／４波長板３を経てＸステージ
１８上のプリズム４でその方向が変えられ、しかる後に
Ｙステージ１９上に導びかれてアぶ一チャ５を経てバー
７ミラー６で９９チ程度のレーザ光が反射されてメカニ
カルシャッタ７、投影レンズ８を経てチャンバ９内のシ
リコン基板１０上に照射される。その際にシリコン基板
１０上でのレーザ光の位置およびスポット径の制御（Ｚ
軸方向）の制御は極めて重要であるので、シリコン基板
１０上に予め位置合わせマークを設け、レーザ照射の際
にＸステージ１８、Ｙステージ１９、投影レンズ８を制
御してスポットの調整を行なう。
この調整は、ハーフミラ−６を透過したシリコン基板１
０からの反射光を第１のミラー１１、集光レンズ１２、
第２のミラー１３、マイクロスコープレンメ１４に導び
き、テレビカメラ１５でそのパターン、すなわち位置合
わせマークのパターンを検出することによシ行なう。こ
こで、この反射光を作る光源として前記レーザ光を用い
ると入射光と反射光のおのおのもしくは相互の散乱光に
よってスペックルパターンなどを生じ、第３図のように
位置合わせパターンが見えなくなシ、したがって高精度
な位置合わせが困難であった。
０からの反射光を第１のミラー１１、集光レンズ１２、
第２のミラー１３、マイクロスコープレンメ１４に導び
き、テレビカメラ１５でそのパターン、すなわち位置合
わせマークのパターンを検出することによシ行なう。こ
こで、この反射光を作る光源として前記レーザ光を用い
ると入射光と反射光のおのおのもしくは相互の散乱光に
よってスペックルパターンなどを生じ、第３図のように
位置合わせパターンが見えなくなシ、したがって高精度
な位置合わせが困難であった。
そこで、Ｙステージ上にさらに白色光源１６、可動ミラ
ー１７を設けて、位置合わせの際にこの可動ミラー１７
を動かしてハーフミラ−乙に白色光を入射きせることに
よって位置合ゎせを行なっていた。しかしながら、この
ような方法では不所望な発熱による位置精度の低下、位
置合わせ用の光とＣＶＤに使用する光の波長の違いなど
による精度の低下が生じるので、高精度なレーザＣＶＤ
装置は実現できなかった。
ー１７を設けて、位置合わせの際にこの可動ミラー１７
を動かしてハーフミラ−乙に白色光を入射きせることに
よって位置合ゎせを行なっていた。しかしながら、この
ような方法では不所望な発熱による位置精度の低下、位
置合わせ用の光とＣＶＤに使用する光の波長の違いなど
による精度の低下が生じるので、高精度なレーザＣＶＤ
装置は実現できなかった。
（３） 発明の目的
本発明の目的は、かかる従来の欠点のない、容易に高精
度な位置合わせが可能なレーザ装置を提供することにあ
る。
度な位置合わせが可能なレーザ装置を提供することにあ
る。
（４） 発明の特徴
本発明の特徴は、レーザ光を所定の導光路を経て基板上
に照射するレーザ装置において、酌記導光路に前記レー
ザ光のコピーレンズを低下せしめる手段が設けられてい
るレーザ装置にろる。そして、この変換手段はレーザビ
ームの各点での位相を分布きせる散乱板、たとえば任意
の各点で厚みが異なるガラス板（すりガラス）、所定の
パターンにカットされたガラス板、網、特に金属網など
でろることが好ましい。さらにこの散乱板を振動させて
、位相の乱れを平均化することが好ましい。
に照射するレーザ装置において、酌記導光路に前記レー
ザ光のコピーレンズを低下せしめる手段が設けられてい
るレーザ装置にろる。そして、この変換手段はレーザビ
ームの各点での位相を分布きせる散乱板、たとえば任意
の各点で厚みが異なるガラス板（すりガラス）、所定の
パターンにカットされたガラス板、網、特に金属網など
でろることが好ましい。さらにこの散乱板を振動させて
、位相の乱れを平均化することが好ましい。
（５） 発明の効果
本発明によれば、加工に用いるレーザ光を用いて極めて
高精度な位置合わせが可能である。さらに、レーザ光散
乱手段を振動させることによって不所望な解像ムラが平
均化源れるので、視覚的に極めて鮮明な位置合わせパタ
ーン像が得られる。
高精度な位置合わせが可能である。さらに、レーザ光散
乱手段を振動させることによって不所望な解像ムラが平
均化源れるので、視覚的に極めて鮮明な位置合わせパタ
ーン像が得られる。
（６） 実施例
以下、図面を用いて本発明の一実施例を説明する。
第２図は本発明の一実施例のレーザＣＶＤ装置である。
第１図の従来例と同様にレーザ発振器１からのレーザ光
は偏向プリズム２，１／４波長板３を経てＸステージ１
８上のプリズム４でその方向が変えられ、しかる後にＹ
ステージ１９上に導ひかれてアパーチャ５を経てハーフ
ミラ−６で９９係程度のレーザ光が反射されて、メカニ
カルシャッタ７、投影レンズ８を経てチャンバ９内のシ
リコン基板１０上に照射される。その際にシリコン基板
１０上でのレーザ光の位置およびスポット径の制御（ｚ
軸方向）の制御はシリコン基板１ｏ上に予め位置合わせ
マークを設け、レーザ照射の際にＸステージ１８、Ｙス
テージ１９、投影レンズ８を制御してスポットの調整を
行なう。
は偏向プリズム２，１／４波長板３を経てＸステージ１
８上のプリズム４でその方向が変えられ、しかる後にＹ
ステージ１９上に導ひかれてアパーチャ５を経てハーフ
ミラ−６で９９係程度のレーザ光が反射されて、メカニ
カルシャッタ７、投影レンズ８を経てチャンバ９内のシ
リコン基板１０上に照射される。その際にシリコン基板
１０上でのレーザ光の位置およびスポット径の制御（ｚ
軸方向）の制御はシリコン基板１ｏ上に予め位置合わせ
マークを設け、レーザ照射の際にＸステージ１８、Ｙス
テージ１９、投影レンズ８を制御してスポットの調整を
行なう。
この調整は、ハーフミラ−６を透過したシリコン基板１
０からの反射光を第１のミラー１１、集光レンズ１２、
第２のミラー１３、マイクロスコープレンズ１４に導び
き、テレビカメラ１５でそのパターン、すなわち位置合
わせマークのパターンを検出することにょ）行なう。こ
こで、位置合わせ時に散乱板２０をハーフミラ−６と偏
向プリズム４との間に設ける。この散乱板２０によって
レーザ光はインコピーレフト光とナシ、位置合わせパタ
ーンは第４図のようになって見かけ上の精度が大幅に向
上する。さらにこの散乱板２０をレーザ光に対して垂直
方向に動かすことによって散乱は一層平均化され第５図
のように位置合わせパターンの視認性は一層向上する。
０からの反射光を第１のミラー１１、集光レンズ１２、
第２のミラー１３、マイクロスコープレンズ１４に導び
き、テレビカメラ１５でそのパターン、すなわち位置合
わせマークのパターンを検出することにょ）行なう。こ
こで、位置合わせ時に散乱板２０をハーフミラ−６と偏
向プリズム４との間に設ける。この散乱板２０によって
レーザ光はインコピーレフト光とナシ、位置合わせパタ
ーンは第４図のようになって見かけ上の精度が大幅に向
上する。さらにこの散乱板２０をレーザ光に対して垂直
方向に動かすことによって散乱は一層平均化され第５図
のように位置合わせパターンの視認性は一層向上する。
なお、この動かす速さは散乱板の表面の変動の一周期、
すなわち同じ位置における変化の周期が目視した場合に
ちらつかない程度で十分であり、散乱板２０に金属線間
隔３００μｍ以下の金属網を用いた場合には２０１１１
ｍ７秒以上で十分でめる。
すなわち同じ位置における変化の周期が目視した場合に
ちらつかない程度で十分であり、散乱板２０に金属線間
隔３００μｍ以下の金属網を用いた場合には２０１１１
ｍ７秒以上で十分でめる。
なお、プラスティック網などでも十分な効果が得られる
。
。
第１図は従来のレーザＣＶＤ装置の概略図、第２図は本
発明の一実施例のレーザＣＶＤ装置の概略図、第３図は
散乱板を用いない場合の位置合わせパターン像、第４図
は散乱板を用いた場合の位置合わせパターン像、第５図
は散乱板を振動させた場合の位置合わせパターン像、で
ある。 なお、図において、１・・・し〜ザ発振器、２・・・偏
向プリズム、３・・・１７４波長板、４・・・プリズム
、５・・・アパーチャ、６・・・ハーフミラ−１７・・
・メカニカルシャッタ、８・・・投影レンズ、９・・・
チャンバ、１０・・・シリコン基板、１１・・・第１の
ミラー、１２・・・集光レンズ、１３・・・第２のミラ
ー、１４・・・マイクロスコープレンズ、１５・・・テ
レビカメラ、１８・・・Ｘステージ、１９・・・Ｙステ
ージ、２ｏ・・・散乱板、である。 第３図 第４図 第５図 手続補正書（方式） ％式％ １、 事件の表示 昭和５８年特許原第１．６１５７６号 Ｚ 発明の名称 レーザ装置 ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 昭和５９年１月６１日（発送日） ５、補正の対象 明細書全文
発明の一実施例のレーザＣＶＤ装置の概略図、第３図は
散乱板を用いない場合の位置合わせパターン像、第４図
は散乱板を用いた場合の位置合わせパターン像、第５図
は散乱板を振動させた場合の位置合わせパターン像、で
ある。 なお、図において、１・・・し〜ザ発振器、２・・・偏
向プリズム、３・・・１７４波長板、４・・・プリズム
、５・・・アパーチャ、６・・・ハーフミラ−１７・・
・メカニカルシャッタ、８・・・投影レンズ、９・・・
チャンバ、１０・・・シリコン基板、１１・・・第１の
ミラー、１２・・・集光レンズ、１３・・・第２のミラ
ー、１４・・・マイクロスコープレンズ、１５・・・テ
レビカメラ、１８・・・Ｘステージ、１９・・・Ｙステ
ージ、２ｏ・・・散乱板、である。 第３図 第４図 第５図 手続補正書（方式） ％式％ １、 事件の表示 昭和５８年特許原第１．６１５７６号 Ｚ 発明の名称 レーザ装置 ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 昭和５９年１月６１日（発送日） ５、補正の対象 明細書全文
Claims (1)
- レーザ光を所定の導光路を経て基板上に照射するレーザ
装置において、前記導光路に前記レーザ光のコピーレン
ズを低下せしめる手段が設けられていることを特徴とす
るレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58161576A JPS6052822A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | レーザｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58161576A JPS6052822A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | レーザｃｖｄ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6052822A true JPS6052822A (ja) | 1985-03-26 |
| JPH0438833B2 JPH0438833B2 (ja) | 1992-06-25 |
Family
ID=15737740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58161576A Granted JPS6052822A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | レーザｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6052822A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61211356A (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-19 | Kuraray Co Ltd | 耐水性組成物 |
| JPH02248041A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ光照射装置 |
| KR100480435B1 (ko) * | 2002-07-05 | 2005-04-06 | 민성욱 | 레이저 마킹 시스템의 자동 마킹위치 판별장치 |
| US8262235B2 (en) | 2007-08-09 | 2012-09-11 | Konica Minolta Opto, Inc. | Laser projector and image projection method for projecting an image with reduced speckles on the projected laser light image |
| JP2017186240A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の製造方法、ガラス基板に孔を形成する方法、およびガラス基板に孔を形成する装置 |
| JP2019091698A (ja) * | 2013-09-18 | 2019-06-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 積層体の作製装置 |
| US11123822B2 (en) * | 2016-03-31 | 2021-09-21 | AGC Inc. | Manufacturing method for glass substrate, method for forming hole in glass substrate, and apparatus for forming hole in glass substrate |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5068347A (ja) * | 1973-10-22 | 1975-06-07 | ||
| JPS5565940A (en) * | 1978-11-13 | 1980-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Laser image display device |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP58161576A patent/JPS6052822A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5068347A (ja) * | 1973-10-22 | 1975-06-07 | ||
| JPS5565940A (en) * | 1978-11-13 | 1980-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Laser image display device |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61211356A (ja) * | 1985-03-15 | 1986-09-19 | Kuraray Co Ltd | 耐水性組成物 |
| JPH02248041A (ja) * | 1989-03-20 | 1990-10-03 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ光照射装置 |
| KR100480435B1 (ko) * | 2002-07-05 | 2005-04-06 | 민성욱 | 레이저 마킹 시스템의 자동 마킹위치 판별장치 |
| US8262235B2 (en) | 2007-08-09 | 2012-09-11 | Konica Minolta Opto, Inc. | Laser projector and image projection method for projecting an image with reduced speckles on the projected laser light image |
| JP2019091698A (ja) * | 2013-09-18 | 2019-06-13 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 積層体の作製装置 |
| JP2017186240A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-12 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の製造方法、ガラス基板に孔を形成する方法、およびガラス基板に孔を形成する装置 |
| TWI725155B (zh) * | 2016-03-31 | 2021-04-21 | 日商Ａｇｃ股份有限公司 | 玻璃基板之製造方法、於玻璃基板形成孔之方法、及於玻璃基板形成孔之裝置 |
| US11123822B2 (en) * | 2016-03-31 | 2021-09-21 | AGC Inc. | Manufacturing method for glass substrate, method for forming hole in glass substrate, and apparatus for forming hole in glass substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0438833B2 (ja) | 1992-06-25 |
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