JPS6050640A - デイスク基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明は光学的情報記録媒体用ディスク基板に関する。

さらに詳しくは、本発明は記録材を塗布する方式の光学
的情報記録媒体に適したディスク基板に関する。

従来技術 光学信号記録再生方式においてはレンズ光学系によシ光
を微小スポットに集めることによシ高密度記録再生を行
なっている故に、基板にゴミ、異物、キズ、凹凸などが
存在するとノイズ、ドロップアウトなどの原因となシ実
用上の支障となっている。そこで、基板に樹脂などの下
引層を設けて基板に存在するゴミ、異物などの影響をな
くしあるいは低減させよシ高精度の光学信号記録再生を
可能とすることが提案されている。また、との下引層は
基板表面のキズ、凹凸などを平滑にする効果もあり、そ
の上に設けられる記録層がよシ平滑な面となることから
、ノイズなどがよシ一層低減できることになる。一方、
第１図に示すように下引層２に記録層３を設ける場合に
は基板１の中心穴４の影響による塗布ムラを避けるため
に記録層３の内周径Ａを中心穴径Ｂよシも大きくする必
要がある。しかしながら、従来の下引層２は第１図に示
すように基板１の全面に設けられていることから記録層
３の内周径Ａを正確に決定することは困難である。それ
故、塗布ムラが発生するという問題があった。

目　的 本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、その
目的は記録材をディスク基板に塗布する方式の光学的情
報記録媒体（光デイスクメモリ〕において回転塗布にお
けるムラなどを減少させ均一な塗布を容易に達成できる
ディスク基板を提供することである。

構成 本発明のディスク基板は疎溶媒性の基板と親溶媒性の下
引層とからなうしかも下引層の内周径が基板の中心穴の
径よＱ大きいことを特徴とするものである。

ここで「疎溶媒性の基板」とは、基板の表面だけが疎溶
媒性材料でできている場合および基板全体が疎溶媒性材
料でできている場合を意味する。通常、基板の表面に疎
溶媒性材料を適用したものが使用される。疎溶媒性材料
の例としてはインブチレンゴム系、弗素系樹脂などをあ
げることができる。疎溶媒性の基板は、例えばプラスチ
ックなどの基板表面にインブチレンゴム系の薄膜をロー
ラー塗布、ディッピング法、回転塗布法などの通常の塗
布方法により適用して得られる。また、採掘シートとし
てインブチレンゴムのような疎溶媒性材料が付着したプ
ラスチック板（例えば三菱レーヨン製アクリライ）ＡＲ
）はそのまま本発明の目的に使用するととができる。

親溶媒性の下引層としてはほとんどの合成樹脂を使用す
ることができるが、記録層塗布時の耐溶剤性および最内
周の形成しやすさなどを考えると光硬化性樹脂が適当で
ある。光硬化性樹脂としては例えばアクリル系の光硬化
性樹脂やポリエンとポリチオール化合物との混合物など
が用いられる。

次に、図面について本発明のディスク基板の構成を説明
する。

第２図に示すように、本発明のディスク基板は疎溶媒性
の基板１と親溶媒性の下引層２とから構成される。下引
層２の内周径Ｃは任意であって基板１の中心穴径Ｂよシ
大きければよい。

しかしながら、下引層２の内周径Ｃをあまりブきくする
と記録層３の記録領域が小さくなってしまうので、基板
１の中心穴径Ｂが例えば３５鮨の基板であれば下引層２
の内周径ＣＩＩ′ｉ４０〜６０隨程度が適当である。ま
た第３図に示すように下引層の内周に環状突起５を設け
るとよシ効果的である。

また、本発明では基板表面が疎溶媒性であるところから
、第４図に示すように記録層３の形成時に記録材の塗布
液６は下引層２の内周７より内側（中心側）Ｋ入り込棟
ないで内周７を基準にして塗布される。その結果、均一
な記録層を得ることができる。さらに、下引層が親溶媒
性であるところから、塗布液はぬれが工〈下引層上にひ
ろがり均一な記録層を得ることができる。

実施例 以下に比較例とともに実施例を掲げて本発明をさらに説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

実施例　１ 第５図に示すように、疎溶媒性の表面を有するアクリラ
イトＡＲ基板（三菱レーヨン製）１に、下引層２として
アクリル系光硬化性樹脂を塗布し、中心部を円形マスク
８でマスクして紫外線９を照射した。中心部の未硬化の
樹脂を溶媒で洗去して本発明のディスク基板を作製した
。次に、上記基板の下引層の内周より外側に、ニトロセ
ルロース１０％、ウォーターブルー９５％およびアセト
ン８０．５　％よりなる記録材の塗布液を滴下した後回
転塗布して記録層を形成した。

乾燥後、記録層の膜厚ムラを測定したところ±５チ以内
であった。

比較例　１ 下引層のアクリル系光硬化性樹脂をマスクをせずに全面
硬化させる以外には実施例１と同様にしてディスク基板
を作製した。次に、この基板に実施例１と同じ記録材の
塗布液を塗布して記録層の膜厚ムラを測定したところ±
１０チであった。

実施例　２ アクリル基板上にテトラフロロエチレンのプラズマ重合
膜（厚さ０．１μｍ）を形成し、その上に実施例１と同
様にして下引層を形成して本発明のディスク基板を得た
。実施例１と同様にして記録層全形成した。乾燥後、記
録層の膜厚ムラを測定したところ＋４％以内であった。

効果 土述したようにして構成された本発明のディスク基板を
使用すると均一な記録層を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の光デイスクメモリの構成を示す断面図で
あり、第２図ないし第５図は本発明を説明する断面図で
あって第２図はディスク基板の構成を示し、第６図は下
引層が環状突起を有する場合の部分拡大図であり、第４
図にディスク基板の下引層に記録材の塗布液を適用した
時の様子を示しぞしてｐ＋；　ｓ図は下引層の形成法を
示すものである。 １・・・基板、２・・・下引層、３・・・記録層、４・
・・中心穴、５・・・環状突起、６・・・記録材の塗布
液、７・・・下引層の内周、８・・・円形マスク、９・
・・紫外線、Ａ・・・記録層の内周径、Ｂ・・・中心穴
径、Ｃ・・・下り１層の内周径。 特許出願人　株式会社　リ　コ　−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 疎溶媒性の基板と親溶媒性の下引層とからなシしかも下
   引層の内周径が基板の中心穴の径よ多大きいことを特徴
   とする、ディスク基板。