JPS6036837A - Cleaned chamber device - Google Patents

Cleaned chamber device

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JPS6036837A
JPS6036837A JP11999384A JP11999384A JPS6036837A JP S6036837 A JPS6036837 A JP S6036837A JP 11999384 A JP11999384 A JP 11999384A JP 11999384 A JP11999384 A JP 11999384A JP S6036837 A JPS6036837 A JP S6036837A
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JP
Japan
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space
air
main
clean
room
Prior art date
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Pending
Application number
JP11999384A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kozo Takahashi
高橋 耕造
Katsuto Yagi
八木 克人
Yuji Isayama
諌山 雄二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enable a control over an air conditioned temperature to be performed for each of the manufacturing lines and to prevent an influence of a maintenance operation for the manufacturing lines by a method wherein a main space and a branched space are arranged to separate from a maintenance space and at the same time the cleaned section and an air conditioned section are made to the minimum possible. CONSTITUTION:A main passage unit 13 forms a main space 15 applied as a main passage, stores a cleaned air supplying means at the ceiling part of the space 15 and has a function for blowing the cleaned air into the main space 15. The manufacturing line unit 14 has a branch space 73 composed of a second region 16 where the manufacturing line equipment 5 is installed and the first region 17 acting as the branch passage, stores the cleaned air supplying means at the ceiling part to enable an air conditioned temperature to be controlled for each of the manufacturing lines. The maintenance space 18 has a door 20 in respect to a general room 3 and a person can enter or exit out from the general room 3 without passing within the cleaned room, so that the generated dust during maintenance operation may not exert influence on other manufacturing lines.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、半導体の製造などに必要とする清浄な作業環
境を作り出すための清浄室装置(クリーンルーム)に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a clean room apparatus (clean room) for creating a clean working environment necessary for semiconductor manufacturing and the like.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

従来、半導体製造工程に用いられていた清浄作業室の代
表的な例(全面ダウンフロ一式クリーンルーム)を第1
図に示す。(a)は製造ラインのレイアウトと共に示し
た切断平面図−(b)は側断面図で1は建屋、2はクリ
ーンルーム室内、′5は外部の一般室、4はクリーンル
ームの出入口に設置されたエアシャワー、5は露光、エ
ラチングル拡散、CVD、メタライズ、検査等の各製造
ライン用機器、6は水、ガス等の配管類、7は高性能フ
ィルタ、8は照明灯−9は天井部多孔板、10は床部多
孔板、11は空調用給気ダクト、12は空調用戻りダク
トであり、図中矢印で示すように高性能フィルタ7で処
理した清浄空気を天井全面より層流状としてクリーンル
ーム室内2に吹き出し、床下を通して室内空気を排出す
ることにより、製造ライン用機器5が設置されたクリー
ンルーム室内2をほぼ一様な高清浄度(たとえばクラス
100)に維持し、全工程の作業をこの清浄雰囲気中で
行えるようにしている。
A typical example of a clean work room conventionally used in the semiconductor manufacturing process (full-scale down flow clean room) is shown in the first example.
As shown in the figure. (a) is a cutaway plan view showing the layout of the production line, and (b) is a side sectional view where 1 is the building, 2 is the inside of the clean room, '5 is the general room outside, and 4 is the air conditioner installed at the entrance to the clean room. Shower, 5 is equipment for each production line such as exposure, elatingle diffusion, CVD, metallization, inspection, etc., 6 is piping for water, gas, etc., 7 is a high-performance filter, 8 is a lighting lamp, 9 is a ceiling perforated plate, 10 is a floor perforated plate, 11 is an air conditioning supply air duct, and 12 is an air conditioning return duct. As shown by the arrow in the figure, clean air treated with a high-performance filter 7 is flowed from the entire ceiling in a laminar flow into the clean room. By blowing air into the interior of the clean room 2 and discharging the indoor air through the floor under the floor, the clean room interior 2 in which the manufacturing line equipment 5 is installed can be maintained at a nearly uniform high cleanliness level (for example, class 100), and all process operations can be carried out using this cleanliness. I try to do it in an atmosphere.

この全面ダウンフロ一式クリーンルームは室全体の清浄
度を高める上からは最良の方式とされているが、次のよ
うな欠点がある。
Although this full-scale down-flow clean room is considered to be the best method for increasing the cleanliness of the entire room, it has the following drawbacks.

(1)清浄化区域および空調対象区域が広く、高価な高
性能フィルタを多量に使用しているため、設備費が非常
に高い。
(1) The cleaning area and the area to be air-conditioned are wide, and a large amount of expensive high-performance filters are used, so the equipment cost is extremely high.

(2)空調維持費、フィルタ交換費用などのランニング
コストが高い。
(2) Running costs such as air conditioning maintenance costs and filter replacement costs are high.

(3)室全体の空調を行うため、製造ライン別(工程別
)の空調温度制御ができない。
(3) Since the entire room is air-conditioned, it is not possible to control the air-conditioning temperature for each production line (each process).

(11)製造ライン用機器や配管類の補修をクリーンル
ーム宇内で行うため、それによる発塵が他の製造ライン
(工8)に及ぼす影響が太きい。
(11) Since the equipment and piping for the production line are repaired in the clean room Unai, the resulting dust generation has a significant impact on other production lines (Engine 8).

なお清浄室の公知例U S P i570.ろ85、U
In addition, a known example of a clean room is US P i570. Ro85, U
.

S、P 4.030,518、U、S、P 3,728
,866、US F 3.638,4 Q A、特開昭
53−82039、実開昭55−14990号各公報記
載のものがあるが、いずれも全面ダウンフロ一方式クリ
ーンルームである。
S, P 4.030,518, U, S, P 3,728
, 866, US F 3.638, 4 QA, Japanese Unexamined Patent Publication No. 53-82039, and Japanese Utility Model Application No. 55-14990, all of which are completely down-flow one-type clean rooms.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、上記した先行技術の欠点(1)〜(4
)を改善した、清浄室装置を提供することにある。
The purpose of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks (1) to (4) of the prior art.
).The purpose of the present invention is to provide a clean room device that is improved.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

上記目的を達成するため本発明では、主通路として用い
る主空間と、これから枝状に延びる枝空間とを設け、こ
れ等雨空間を覆って清浄化し、それほど清浄度を必要と
しない保全用スペースと区分する。枝空間は枝通路とし
て働く第1帯域と、製造用、検査用等の機器を設置する
ための第2帯域とに分けることができる。
In order to achieve the above object, the present invention provides a main space used as a main passage and branch spaces extending from this in the form of branches, which cover and clean the rain space and serve as a maintenance space that does not require a high degree of cleanliness. Separate. The branch space can be divided into a first zone that serves as a branch passage and a second zone for installing equipment for manufacturing, inspection, etc.

また〜隣り合った枝空間の間には製造ライン用機器への
各種配管および機器の補修などに必要な保全用スペース
を設け、この保全用スペースには清浄室内を通過せずに
外部の一般室から出入りできろようにする。
In addition, a maintenance space necessary for various piping and equipment repairs to the production line equipment will be provided between adjacent branch spaces. Allow access from.

こうすることによって、高清浄度に維持する清浄化区域
および空調対象区域を必要最小限度とすると共に、製造
ライン別の空調温度制御を可能とし、昔た、製造ライン
用機器や配管類のメンテナンス作業による発塵が他の製
造ライン(工程)に影響を及ぼ丁ことを防止した。
By doing this, it is possible to keep the clean areas and air-conditioned areas to the minimum necessary to maintain a high level of cleanliness, and to control the air conditioning temperature for each production line. This prevents dust generation from affecting other manufacturing lines (processes).

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明の実施例を図面を参照して説明するO 第2図は本発明を半導体製造工程に適用した一実施例の
切断平面図、第6図1(a)、 (h)はそれぞれ第2
図のA−A線およびB−B線にそった側断面図であり、
第1図と同一符号は対応する部分を示している。第2.
3図において、13は建家1内に設置された主通路用ユ
ニット、1Aは主通路用ユニット13に枝状に間隔を置
いて平行に複数ユニット導杆して建家1内に設置された
製造ライン用ユニットである。主連路用ユニット16は
、主通路として用いる主空間15を形成しており、これ
は天板25、両箱1側板24、両用1端板71、扉72
及びエアーシャワー装置4で主空間15f;!:トンネ
ル状に葎い構成しである。詳しくは後で述べるように主
通路用ユニット13けその天井部に清浄空気供給手段を
内蔵して、主空間15内に天井面から清浄空気を吹き出
す機能を有している。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 is a cutaway plan view of an embodiment in which the present invention is applied to a semiconductor manufacturing process, and FIGS. 1(a) and 1(h) are respectively Second
It is a side sectional view along the A-A line and the B-B line of the figure,
The same reference numerals as in FIG. 1 indicate corresponding parts. Second.
In Figure 3, 13 is a main passage unit installed in building 1, and 1A is a main passage unit 13 with multiple units connected in parallel at intervals in the form of branches and installed in building 1. This is a unit for production lines. The main communication unit 16 forms a main space 15 used as a main passage, which consists of a top plate 25, a double box 1 side plate 24, a dual use 1 end plate 71, and a door 72.
and main space 15f with air shower device 4;! : It has a tunnel-like structure. As will be described in detail later, a clean air supply means is built into the ceiling of the main passage unit 13 and has the function of blowing clean air into the main space 15 from the ceiling surface.

また、製造ライン用ユニット14は、製造ライン用機器
5を設置する第2帯域16と主空間15に連通して枝通
路として働く第1帯域17とから成る枝空間73を製造
ライン毎に有している。枝空間73は、天板37、両用
2側板36及び第2端板19で枝空間73トンネル状に
覆い構成しである。製造ライン用ユニット14は詳しく
は後で述べるようにその天井部に清浄空気供給手段を内
蔵して、第2帯域16と第1帯域17にそれぞわの天井
面から清浄空気を吹き出し清浄化する機部を有しており
、この製造ライン用ユニット14の空気吸込み口に空調
用給気ダクト11を接続することにより製造ライン別の
空調温度制御を可能にしている。隣り合った製造ライン
用ユニット140問および製造ライン用ユニット17I
と建家1の壁面との間には保全用スペース1Bが設けら
ね2ている。第2端板19には図示してないが扉μつい
ておりユニット14で棟われた室内と保全用スペース1
8内とを往復できるようになっている。また、主通路用
ユニット13の両端は建家1の壁面で仕切り、−膜室6
から主空間15へはエアシャワー装置4を辿って出入さ
せる。保全用スペース18と一般室3との間には扉20
を設け、保全用スペース1Bには清浄室内を通過せずに
一般室6から出入りできるようにしている。製造ライン
用ユニット1Aの天井面から吹き出した清浄空気は第2
帯域16および第1帯域17を下向に流り2、製造ライ
ン用ユニット1Aの第2側板36の下部に設けられた流
出口21から排出される。同様例、主通路用ユニット1
3の天井面から吹き出した清浄空気も主空間15内を下
向に流れ、主通路用ユニット13の第1側板24の下部
に設けられた流出口(図示せず)から排出される。した
がって、保全用スペース18は主通路用ユニット13と
製造ライン用ユニット14から排出される清浄空気によ
っである程度清浄化されるが、ユニット13゜14で柳
われた室内よりは清浄度が低い。製造ラインで使用する
水、ガス等の配管類や′a線等の動力伝達手段6は保全
用スペース18に設置され、製造ライン用ユニット14
の流出口21を通して製造ライン用機器5へ引き込1れ
φ。こうすること−によって、配管類や電線等のメンテ
ナンスは保全用スペース18で行うことができる。寸だ
、製造ライン用ユニット14の第2側板36を部分的に
取りはずすことによって製造ライン用機器5の補修もそ
のほとんどが保全用スペース18から行なえる。しかも
、前述のように保全用スペース18には清浄室内を通過
せずに一般室ろから出入りできるので、メンテナンス作
業による発塵が他の製造ラインに影Vを及ぼすことはほ
とんどない。ぼた、ある工程の製造装置一式を補修する
ような場合にも、その工程の清浄室内でのみ処理でき、
他の製造ラインへの影響を防止できる。
The manufacturing line unit 14 also has a branch space 73 for each manufacturing line, which is composed of a second zone 16 in which the manufacturing line equipment 5 is installed and a first zone 17 that communicates with the main space 15 and serves as a branch passage. ing. The branch space 73 is covered with a top plate 37, two dual-use side plates 36, and a second end plate 19 in the form of a tunnel. As will be described in detail later, the manufacturing line unit 14 has a built-in clean air supply means in its ceiling, and cleans the second zone 16 and the first zone 17 by blowing clean air from the respective ceiling surfaces. By connecting the air conditioning air supply duct 11 to the air suction port of this production line unit 14, it is possible to control the air conditioning temperature for each production line. 140 questions for adjacent production line units and 17 I for production line units
A maintenance space 1B is provided between the building 1 and the wall of the building 1. Although not shown, the second end plate 19 has a door μ, and the room built by the unit 14 and the maintenance space 1
You can go back and forth between 8 and 8. In addition, both ends of the main passage unit 13 are partitioned by the wall of the building 1, and - membrane chamber 6
The main space 15 is entered and exited by following the air shower device 4. There is a door 20 between the maintenance space 18 and the general room 3.
is provided so that the maintenance space 1B can be accessed from the general room 6 without passing through the clean room. The clean air blown from the ceiling of the production line unit 1A is
The liquid flows 2 downward through the zone 16 and the first zone 17 and is discharged from the outlet 21 provided at the lower part of the second side plate 36 of the production line unit 1A. Similar example, main passage unit 1
The clean air blown from the ceiling surface of No. 3 also flows downward in the main space 15 and is discharged from an outlet (not shown) provided at the lower part of the first side plate 24 of the main passage unit 13. Therefore, although the maintenance space 18 is cleaned to some extent by the clean air discharged from the main passage unit 13 and the production line unit 14, the degree of cleanliness is lower than that of the room enclosed by the units 13 and 14. Piping for water, gas, etc. used in the production line and power transmission means 6 such as 'a line' are installed in the maintenance space 18, and the production line unit 14 is installed in the maintenance space 18.
φ is drawn into the production line equipment 5 through the outlet 21 of the φ. By doing this, maintenance of piping, electric wires, etc. can be performed in the maintenance space 18. In fact, by partially removing the second side plate 36 of the production line unit 14, most repairs to the production line equipment 5 can be performed from the maintenance space 18. Furthermore, as described above, since the maintenance space 18 can be entered and exited from the general room without passing through the clean room, dust generated by maintenance work hardly affects other production lines. Also, when repairing a set of manufacturing equipment for a certain process, it can only be processed in the clean room of that process.
This can prevent the impact on other production lines.

半導体工C等の製造工程は第4図にその一例を示すよう
に、拡散、露光、エツチング、OVD。
The manufacturing process of semiconductor process C etc. includes diffusion, exposure, etching, and OVD, as shown in FIG. 4 as an example.

メタライズ等の諸工程をランダムにくり返して行なわれ
る。そのため、第2図に示すように主空間15の両11
11に枝状に製造ライン用ユニット14を配し、各工程
別にレイアラトラ組めば、主空間15を通じて次の工程
へ最短距離で製品の移送ができ〜非常に便利が良い。し
かし、建家の制約などで主空間150片側にしか製造ラ
イン用ユニットを配置できない場合でも、後述する本発
明の効果は十分ある。
Processes such as metallization are repeated randomly. Therefore, as shown in FIG.
By arranging the manufacturing line units 14 in a branch-like manner on the 11 and assembling them in a layout for each process, products can be transferred to the next process through the main space 15 in the shortest distance, which is very convenient. However, even if the manufacturing line unit can only be placed on one side of the main space 150 due to building restrictions, the effects of the present invention described later can be sufficiently achieved.

次に、主通路用ユニッ)43−製造ライン用ユニット1
4の具体的構成について説明する。
Next, main passage unit) 43 - production line unit 1
The specific configuration of No. 4 will be explained.

第5図は主通路用ユニット13の長手方向に直角な断面
を示す。この図に示すように、支柱22と横梁23とで
門形フレームを組み、これに両側の第1側板24と天板
25を張って主空間15を覆う趨いを構成し7、主通路
用清浄空気吹出し口100と天板25との間に清浄空気
供給手段を構成する送風機26、送風チャンバ27、高
性能フィルタ28それに主通路照明灯29を収納する。
FIG. 5 shows a cross section of the main passage unit 13 perpendicular to the longitudinal direction. As shown in this figure, a gate-shaped frame is assembled with the pillars 22 and cross beams 23, and first side plates 24 and a top plate 25 on both sides are attached to this to form a chain that covers the main space 15. A blower 26, a blow chamber 27, a high performance filter 28, and a main passage illumination light 29, which constitute a clean air supply means, are housed between the clean air outlet 100 and the top plate 25.

30は照明灯29の下に設置した格子状の散光板である
。主空間15の空気吹出し口高さは作業者が立って通行
できる程度の高さくたとえば2200龍) とする。
30 is a lattice-shaped light scattering plate installed under the illumination light 29. The height of the air outlet in the main space 15 is set to a height that allows a worker to stand and pass through, for example, 2200 mm.

送風機26の運転により、外部空気はブレフィルタ32
を通して空気吸込み口31から吸込まれる。送風機26
から送り出された空気は送風チャンバ27を通って高性
能フィルタ28により清浄化された後、天井面の清浄空
気吹出し口100から0.2m/θ程度の風速で主空間
15へ下向に吹き出す。図中の矢印はこの空気の流れを
示している。散光板30は、照明の散光と清浄気流の整
流のために設はられたものである。主空間15内に吹き
出した清浄気流は図の矢印で示すように流ね−て〜第1
側板24の下部に設けた流出口63から外部へ排出され
一流出口33での圧力損失分だけ、主空間15内は外気
に対して正圧となる。こわ、によって、主空間15内は
製造ライン間の製品の移送および作業者の通行中の汚染
防止に必要な清浄度に維持されろ。この主通路用ユニッ
ト1ろは、製造ライン用ユニット14およびエアシャワ
ー装置4との接続口に当る部分のみ第1側板24を取り
除き開放されている。
Due to the operation of the blower 26, external air is passed through the blur filter 32.
The air is sucked in from the air suction port 31 through the air. Blower 26
The air sent out passes through the ventilation chamber 27 and is purified by the high-performance filter 28, and then is blown downward into the main space 15 from the clean air outlet 100 on the ceiling surface at a wind speed of about 0.2 m/θ. The arrows in the figure indicate this air flow. The light scattering plate 30 is provided for scattering the illumination and rectifying the clean air current. The clean airflow blown into the main space 15 flows as shown by the arrow in the figure.
The pressure inside the main space 15 becomes positive with respect to the outside air by the pressure loss at the first outlet 33 when the main space 15 is discharged to the outside from the outlet 63 provided at the lower part of the side plate 24 . The interior of the main space 15 is maintained at a level of cleanliness necessary to prevent contamination during the transfer of products between manufacturing lines and the passage of workers. The main passage unit 1 is opened by removing the first side plate 24 only at the portion corresponding to the connection port with the production line unit 14 and the air shower device 4.

第6〜8図は製造ライン用ユニットの一例を示す図で〜
第6図は長平方向に直角な断面図、第7図はその要部拡
大図、第8図は外観を示す斜視図である。第6図に′お
いて、製造ライン用機器5は向い合せに配列され、2ラ
インを1組としている。
Figures 6 to 8 are diagrams showing an example of a manufacturing line unit.
FIG. 6 is a sectional view perpendicular to the longitudinal direction, FIG. 7 is an enlarged view of the main part, and FIG. 8 is a perspective view showing the external appearance. In FIG. 6', the production line equipment 5 is arranged facing each other, and two lines form one set.

支柱64と横梁65とで門形フレームを組み、これに両
側の第2側板36と天板37を張って製造ライン部を覆
う覆いを構成し、この覆いとそれを設置する床面とで囲
まれた清浄室内に製造ライン用機器5を設置する第2帯
域16と作業者が通行する第1帯域17を第2側板36
と平行に設ける。
A gate-shaped frame is assembled with the pillars 64 and the cross beams 65, and a second side plate 36 and a top plate 37 on both sides are attached to this to form a cover that covers the production line section, and is surrounded by this cover and the floor surface on which it is installed. A second side plate 36 separates the second zone 16 in which the production line equipment 5 is installed and the first zone 17 through which workers pass in the clean room.
installed parallel to the

1’01,102はそれぞれ作業用清浄空気吹出し口お
よび通路部用清浄空気吹出し20である。作業部用清浄
空気吹出し口101と天板37との間には清浄空気供給
手段を構成する送風機4Q、41、送風チャンバ42.
a3、高性能フィルタ44゜45それに作業部照明灯4
6を収納し、照明灯46の下に格子状の作業部用散光板
38を設置する。
1'01 and 102 are a working clean air outlet and a passage section clean air outlet 20, respectively. Between the clean air outlet 101 for the work section and the top plate 37, there are blowers 4Q, 41 and a blow chamber 42, which constitute clean air supply means.
A3, high performance filter 44゜45 and work area lighting 4
6 is stored, and a lattice-shaped work section light diffusion plate 38 is installed under the illumination light 46.

これらの機材は図示しない支持部材を介して横梁ろ5か
ら吊り下げ支持されている。47は空気吸込口、48は
プレフィルタ、49は作業部用清浄空気吹出し口101
と通路部用清浄空気吹出し口102との間の仕切用化粧
板である。通路部用清浄空気吹出し口102と天板37
との間には空2通路50を設けて、通路部照明灯51を
収納し、その下に格子状の通路部用散光板39を設置す
る。
These equipments are suspended and supported from the cross beam filter 5 via support members (not shown). 47 is an air intake port, 48 is a pre-filter, and 49 is a clean air outlet 101 for the working part.
This is a decorative plate for partitioning between the air outlet 102 and the clean air outlet 102 for the passage section. Clean air outlet 102 for passage and top plate 37
Two empty passages 50 are provided between the two passages to house passage illumination lights 51, and a lattice-shaped passage light diffusion plate 39 is installed below.

通路部17の空気吹出し口高さは作業者が立って通行で
きる程度に高くし、作業部16の空気吹出し口高さは作
業に支障がない限り低くする(−例を示せば、通路部空
気吹出し口高さ2200fl11、作業部空気吹出し口
高さ1800M)。作業部空気吹出し口高さはできるだ
け低くした方が一作業部空間の気流の乱れが少なく、清
浄度保持性能が良くなるからである。
The height of the air outlet in the passage section 17 is set high enough for workers to stand and pass through, and the height of the air outlet in the working section 16 is set low as long as it does not impede work (for example, the height of the air outlet in the passage section Air outlet height: 2200fl11, work area air outlet height: 1800M). This is because the lower the height of the air outlet in the working area as possible, the less turbulence in the airflow in the working area and the better the cleanliness maintenance performance.

送風機、IIQ、711の運転により、外部空気はプレ
フィルタ48を通して空気吸込み口47から吸込まれる
。作業部用送風機40から送り出された空気は送風チャ
ンバ42を通って作業部用高性能フィルタ44により清
浄化された後、作業部用清浄空気吹出し口101から室
内の第2帯域16へ下向に吹き出し、一方、通路用送緘
機41から送り出された空気は送風チャンバ4ろを通っ
て通路部用高性能フィルタ45により清浄化された後、
空気連路5叶\入り、通路部用清浄空気吹出し口102
から室内の第1帯域17へ下向に吹き出す。
By operating the blower, IIQ, 711, external air is drawn through the pre-filter 48 from the air intake port 47. The air sent out from the working area blower 40 passes through the ventilation chamber 42 and is purified by the working area high performance filter 44, and then flows downward from the working area clean air outlet 101 to the second zone 16 in the room. On the other hand, the air sent out from the passageway blower 41 passes through the ventilation chamber 4 and is purified by the passageway high-performance filter 45.
5 air passages enter, clean air outlet 102 for passage section
The air is blown out downward into the first zone 17 inside the room.

図中の矢印はこの空気の流れを示している。散光板38
.’39は第5図の散光板30と同様に照明の散光と清
浄気流の整流のために設けたものであり、第7図の52
は第1帯域17の風速分布を調整するためのパンチング
板である。
The arrows in the figure indicate this air flow. Diffusing plate 38
.. '39 is provided for the purpose of scattering illumination and rectifying clean air, similar to the diffuser plate 30 in Figure 5, and 52 in Figure 7
is a punching plate for adjusting the wind speed distribution in the first zone 17.

清浄ケ、流の風速は、たとえば第2帯域16で0゜4 
m / s、第1帯域17で0.2m/Sというように
、各部の必要清浄度に応じて設置する。こうすることに
よって、第2帯域16の清浄度を第1帯域17の清浄度
よシも冒〈することができる。
For example, the wind speed of the flow is 0°4 in the second zone 16.
m/s, and 0.2 m/s in the first zone 17, depending on the required cleanliness of each part. By doing so, the cleanliness of the second zone 16 can be compromised as well as the cleanliness of the first zone 17.

室内に吹き出された清浄気流は図の矢印で示すように流
れ、第2側板36の下部に設けられた流出口21から外
部へ排出される。室内圧力は流出口21での圧力損失分
だけ外気に対し正圧となるので、外部からの汚染空気の
流入な防止できる。
The clean airflow blown into the room flows as shown by the arrow in the figure, and is discharged to the outside from the outlet 21 provided at the lower part of the second side plate 36. Since the indoor pressure becomes positive with respect to the outside air by the pressure loss at the outlet 21, it is possible to prevent contaminated air from entering from outside.

流出口21は、製造ライン用機器5への水、ガス等の配
管や′電線類の引き込みにも利用される。
The outlet 21 is also used for drawing in piping for water, gas, etc. and electric wires to the equipment 5 for the production line.

第2側板36は、配管や機器の補修などのため、ねじ止
めあるいは引掛金具などを用いて部分的に取りはずせる
ようにしておく。壕だ、室内の作業環境の改善と外部か
らの作業管理の必要上、第2側板66の一部を透明板と
することがある。
The second side plate 36 can be partially removed using screws or hooks for repairing piping or equipment. In order to improve the indoor working environment and to control work from the outside, a part of the second side plate 66 may be made of a transparent plate.

第8図にはモジュール化した糧いを多数連結してなる本
実施例による製造ライン用ユニットの外観を示す。
FIG. 8 shows the external appearance of a manufacturing line unit according to this embodiment, which is constructed by connecting a large number of modular supplies.

第6〜8図には室内空気を第1.第2側板の下部に設け
た流出口から流出さぎる例を示したが、第1図の従来方
式と同様に清浄室の床部に多孔機を用いて、室内空気の
一部寸たは全部を床下より流出させるようにすれば一室
内の清浄気流が完全な下向流となり、作業部である第2
帯域16の清浄度をさらに高めることができる。
In Figures 6 to 8, indoor air is shown in 1. An example is shown in which the flow is blocked from the outlet provided at the bottom of the second side plate, but similar to the conventional method shown in Figure 1, a perforated machine is used on the floor of the clean room to block some or all of the indoor air. If the air flows out from under the floor, the clean airflow in one room will become a complete downward flow, and the second
The cleanliness of zone 16 can be further improved.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明から明らかなように本発明により、ば、従来
半導体の製造などに最良の方式とされていた全面ダウン
フロ一式クリーンルームに比べ、(1)清浄化区域およ
び空調対象区域が大幅に減少するため、設備費が約半分
に低減する。
As is clear from the above explanation, the present invention has the following advantages: (1) The area to be cleaned and the area to be air-conditioned is significantly reduced compared to the full-scale down-flow clean room, which has traditionally been considered the best method for semiconductor manufacturing. , equipment costs will be reduced by about half.

(2)ランニングコストも約半分に低減し、省エネルギ
ー化できる。
(2) Running costs can be reduced by about half, resulting in energy savings.

(3)全面ダウンフロ一方式では難しかった製造ライン
別(工程別)の空調温度制御が可能になる。
(3) It becomes possible to control the air conditioning temperature for each production line (each process), which was difficult with a one-sided down-flow system.

(4)各種配管類のメンテナンスが保全用スペースで行
なえ、筐た、製造ライン用機器のメンテナンスもほとん
ど保全用スペースから行うことができるので、メンテナ
ンス作業による発塵が他の製造ラインに影響を及ぼすこ
とを防止できる○等の効果がある。
(4) Maintenance of various types of piping can be performed in the maintenance space, and most of the maintenance of the casing and production line equipment can also be done from the maintenance space, so dust generated from maintenance work can affect other production lines. There are effects such as ○ that can prevent this.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は先行技術である全面ダウンフロ一式クリーンル
ームのレイアウトの一例を示す図で、(alは切断平面
図、(b)は側断面図〜第2図は本発明によg清浄室装
置のレイアウトの一例を示す切断平面図、第3図(a)
、 (b)はそれぞれ第2図のA−A線およびB−13
線にそった側断面図、第4図は参考のために示した半導
体ICの製造工程図、第5図は主通路用ユニットの具体
的構成を示す長手方向に直角な断面図、第6図は製造ラ
イン用ユニットの具体的構成を示す長手方向に直角な断
面図、第7図はその要部拡大図、第8図は製造ライン用
ユニットの外観を示す斜視図である。 4:エアーシャワー装置、13:主通路用ユニット−1
4:製造ライン用ユニット、15:主空間、16:清浄
室内の第2帯域、17:清浄室内の第2帯域、18:保
全用スペース、19:第2端板、20:保全用スペース
の出入り用層、21゜5ろ:流出口、26.ao、tl
:清浄空気供給手段を形成する送風機−23,AA、4
5:清浄空気供給手段を形成する高性能フィルタ、10
0:主通路用清浄字句吹出し口、101:作業部用清浄
空気吹出し口、102:通路部用清浄空気吹11且2口
、5:製造ライン用機器〜6:@力伝達手段、25,3
7:天板、2C36’:舅1及び第2側板〜71:第1
端板、73:枝空間第 1 図 第 2[21 第 3 図 (Ql $ 4 図 0 伏声合材十キ、薬品耳i庁、1゜ −一シー 物あ゛よひ゛作i/I流れち示J。 第 、5I21 J3 /、5 33 第 6 図
FIG. 1 is a diagram showing an example of the layout of a clean room with a full down flow system according to the prior art (al is a cutaway plan view, (b) is a side sectional view, and FIG. 2 is a layout of a clean room equipment according to the present invention). A cutaway plan view showing an example of FIG. 3(a)
, (b) are lines A-A and B-13 in Figure 2, respectively.
4 is a manufacturing process diagram of the semiconductor IC shown for reference; FIG. 5 is a sectional view perpendicular to the longitudinal direction showing the specific configuration of the main passage unit; FIG. 6 is a side sectional view along the line; 7 is an enlarged view of the main part thereof, and FIG. 8 is a perspective view showing the appearance of the manufacturing line unit. 4: Air shower device, 13: Main passage unit-1
4: Production line unit, 15: Main space, 16: Second zone in the clean room, 17: Second zone in the clean room, 18: Maintenance space, 19: Second end plate, 20: Entry/exit of the maintenance space Layer, 21°5: Outlet, 26. ao, tl
: Blower forming clean air supply means-23, AA, 4
5: High performance filter forming clean air supply means, 10
0: Clean air outlet for main passage, 101: Clean air outlet for working area, 102: Clean air outlet 11 and 2 for passage, 5: Equipment for production line ~ 6: @ Force transmission means, 25, 3
7: Top plate, 2C36': Leg 1 and 2nd side plate ~ 71: 1st
End plate, 73: Branch space Fig. 1 Fig. 2 [21 Fig. 3 (Ql $ 4 Fig. 0 Showing J. No., 5I21 J3/, 5 33 Fig. 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 天板、第1幸板、扉及び第1側板で覆われた主空間と、
天板、第2端板及び夫々第2両側板で覆われており、前
記主空間に連通しており、且つ間隔を置いて平行を成す
ように配設しである複数の枝空間と、こわ等主9間と枝
空間内に、夫々−トから下へ向けて清浄空気を流す清浄
空気供給手段と、前記主空間及び枝空間の下方に夫々設
けてあシ、前記主空間、枝空間内の空気が流出する流出
口と、前記枝空間内に設置した機器と、前記隣接する両
枝空IMの間に位噴する両前記第2側板の間に形成した
スペースと、該スペースに配置してあり、前記機器に動
力を伝達する動力伝達手段とから成る清浄室装置。
A main space covered with a top plate, a first plate, a door and a first side plate,
A plurality of branch spaces are covered with a top plate, a second end plate, and second side plates, respectively, communicate with the main space, and are arranged parallel to each other at intervals; Clean air supply means for flowing clean air downward from the top into the main space and the branch spaces, respectively, and a foot provided below the main space and the branch spaces, respectively. an outlet through which air flows out, an equipment installed in the branch space, a space formed between both the second side plates that inject air between the two adjacent branch spaces IM, and a space disposed in the space. and a power transmission means for transmitting power to the equipment.
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