JPS603545B2 - 倣い型彫盤用スタイラス - Google Patents
倣い型彫盤用スタイラスInfo
- Publication number
- JPS603545B2 JPS603545B2 JP11962479A JP11962479A JPS603545B2 JP S603545 B2 JPS603545 B2 JP S603545B2 JP 11962479 A JP11962479 A JP 11962479A JP 11962479 A JP11962479 A JP 11962479A JP S603545 B2 JPS603545 B2 JP S603545B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stylus
- surface treatment
- treatment layer
- carving machine
- engraving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Machine Tool Copy Controls (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、耐摩耗性を向上させ、しかも摩耗限界値を目
で確認できるようにした倣い型彫盤用スタイラスに関す
るものである。
で確認できるようにした倣い型彫盤用スタイラスに関す
るものである。
倣い型彫盤用スタィラスは、一般的には表面処理なしで
使用される場合が多いが、一部のスタィラスで耐摩耗性
向上を目的として表面処理をしているケースも見受けら
れる。
使用される場合が多いが、一部のスタィラスで耐摩耗性
向上を目的として表面処理をしているケースも見受けら
れる。
しかし、‘１）表面処理のされていないスタィラスは摩
耗が早くその都度再研摩をし修正しなければならない。
耗が早くその都度再研摩をし修正しなければならない。
■ 表面処理の有無にかかわらず測定器などを利用した
摩耗量の把握が難しく摩耗限界が明確にわからない。
摩耗量の把握が難しく摩耗限界が明確にわからない。
いよいよ摩耗限界値を超えて使用され、型彫加工品質を
悪くする｛３’表面処理層の方法によっては導電性が悪
くなり、電位線倣いが使用できない。
悪くする｛３’表面処理層の方法によっては導電性が悪
くなり、電位線倣いが使用できない。
などの問題があった。
本発明は、上述の問題を全て同時に解消するために、摩
耗限界値に相当する表面処理層の内側に材質の異なる表
面処理層を設け、最外層の表面処理層の摩耗により、内
側の表面処理層が露出し、容易に摩耗限界が視認できる
ようにした倣い型彫盤用スタィラスを提供することを目
的とする。
耗限界値に相当する表面処理層の内側に材質の異なる表
面処理層を設け、最外層の表面処理層の摩耗により、内
側の表面処理層が露出し、容易に摩耗限界が視認できる
ようにした倣い型彫盤用スタィラスを提供することを目
的とする。
以下に本発明の倣い型彫盤用スタィラスの実施例を図に
従って説明する。第１図において、倣い型彫盤１は倣い
型彫盤用スタイラス２を備えており、該倣い型彫盤用ス
タイラス２で倣ってカッター３の切削により加工物４を
モデル５と同一形状に加工できるようになっている。
従って説明する。第１図において、倣い型彫盤１は倣い
型彫盤用スタイラス２を備えており、該倣い型彫盤用ス
タイラス２で倣ってカッター３の切削により加工物４を
モデル５と同一形状に加工できるようになっている。
第２図は倣い型彫盤用スタィラス２を断面にして示した
ものであるが、本倣い型彫盤用スタィラス２は、スタィ
ラス本体６の表面に材質の異なる表面処理層７，８を内
、外２層に設けたものから成っている。
ものであるが、本倣い型彫盤用スタィラス２は、スタィ
ラス本体６の表面に材質の異なる表面処理層７，８を内
、外２層に設けたものから成っている。
このうち、外側の表面処理層８は、その膜厚を使用限界
値に形成されており、加工時表面処理層８が摩耗しても
、内側の表面処理層７が露出しないうちは、加工精度が
限界値以内にあることが保証されるようになっている。
スタィラス本体６は、表面処理膜が形成され得る材料か
らなるものであれば如何なる材料から形成されてもよい
が、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鉄系合金の
ものが通常用いられる。
値に形成されており、加工時表面処理層８が摩耗しても
、内側の表面処理層７が露出しないうちは、加工精度が
限界値以内にあることが保証されるようになっている。
スタィラス本体６は、表面処理膜が形成され得る材料か
らなるものであれば如何なる材料から形成されてもよい
が、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、鉄系合金の
ものが通常用いられる。
外側表面処理層８は、耐摩耗性の優れた金属層からなる
ものであればよいが、電位線倣いでのトラブルを除去す
るために導電性の材料から形成されることが望ましい。
内側表面処理層７は、外層表面処理層８とは色の異なる
金属材から形成される。
ものであればよいが、電位線倣いでのトラブルを除去す
るために導電性の材料から形成されることが望ましい。
内側表面処理層７は、外層表面処理層８とは色の異なる
金属材から形成される。
第２図はスタィラス本体６がアルミニウムから、内側表
面処理層７が銅メツキから、外側表面処理層８が硬質ク
ロムメッキからそれぞれ形成されている場合を示してい
る。
面処理層７が銅メツキから、外側表面処理層８が硬質ク
ロムメッキからそれぞれ形成されている場合を示してい
る。
またスタイラス本体６の表面部には銅を拡散浸透させた
カッパーラィジング層９を前処理で形成しておくことが
望ましく、これによって表面処理被膜の耐久性を向上さ
せることができる。第３図は形状が第２図の例と異なり
、またスタィラス本体１０の材料が鉄からなる倣い型彫
盤用スタィラスを示している。
カッパーラィジング層９を前処理で形成しておくことが
望ましく、これによって表面処理被膜の耐久性を向上さ
せることができる。第３図は形状が第２図の例と異なり
、またスタィラス本体１０の材料が鉄からなる倣い型彫
盤用スタィラスを示している。
他の部分の構成は第２図の例に準じるので準じる部分に
第２図と同一の符号を付することにより詳細説明を省略
する。上記実施例においては何れも表面処理層が内外２
層から構成されている場合を示したが、最外層の表面処
理層がその膜厚を使用限界値に設定されているものであ
れば、３層以上に形成されたものであってもよい。上託
構成を有する倣い型彫盤用スタィラスを使用して加工す
る場合、最外層の表面処理層８が摩耗して摩耗量がその
スタィラスの使用限界値を超えると内側の表面処理層７
が露出するが、この霧出は表層の色と異なるため容易に
目で確認され得ることとなる。
第２図と同一の符号を付することにより詳細説明を省略
する。上記実施例においては何れも表面処理層が内外２
層から構成されている場合を示したが、最外層の表面処
理層がその膜厚を使用限界値に設定されているものであ
れば、３層以上に形成されたものであってもよい。上託
構成を有する倣い型彫盤用スタィラスを使用して加工す
る場合、最外層の表面処理層８が摩耗して摩耗量がその
スタィラスの使用限界値を超えると内側の表面処理層７
が露出するが、この霧出は表層の色と異なるため容易に
目で確認され得ることとなる。
したがって本発明による倣い型彫盤用スタィラスによる
ときは次の種々の効果を得る。
ときは次の種々の効果を得る。
すなわち、材質の異なる表面処理層を少なくとも２層に
設けて最外層の表面処理層を使用限界厚さに形成したの
で、摩耗限界に達したことが煩しい測定をすることなく
目で容易に確認でき、摩耗限界を超えてスタィラスを使
用することがなくなり型彫加工品質を大中に改善するこ
とができる。
設けて最外層の表面処理層を使用限界厚さに形成したの
で、摩耗限界に達したことが煩しい測定をすることなく
目で容易に確認でき、摩耗限界を超えてスタィラスを使
用することがなくなり型彫加工品質を大中に改善するこ
とができる。
また、表面処理層を導電性でかつ耐摩耗性に優れた層に
形成することができるので、このように形成した場合は
、電位線倣いでのトラブルが皆無となり、かつ摩耗限界
迄の耐久性が大中に向上し、従来いよいよ発生していた
再研摩の費用をほとんど不要とすることができる。更に
また、型彫加工品質の改善により、後工程の仕上作業、
たとえばモデル合せ、型合せなど、における手直し作業
が不必要となり、仕上工数の低減を図ることができる。
形成することができるので、このように形成した場合は
、電位線倣いでのトラブルが皆無となり、かつ摩耗限界
迄の耐久性が大中に向上し、従来いよいよ発生していた
再研摩の費用をほとんど不要とすることができる。更に
また、型彫加工品質の改善により、後工程の仕上作業、
たとえばモデル合せ、型合せなど、における手直し作業
が不必要となり、仕上工数の低減を図ることができる。
第１図は本発明の倣い型彫盤用スタィラスを装着した倣
い型彫盤の正面図、第２図は本発明の倣い型彫盤用スタ
ィラスの一実施例の断面図、第３図は本発明の倣い型彫
盤用スタィラスの別の実施例の断面図、である。 ２…・・・倣い型彫盤用スタィラス、６・…・・スタィ
ラス本体、７，８・…−・表面処理層。 第１図 第２図 第３図
い型彫盤の正面図、第２図は本発明の倣い型彫盤用スタ
ィラスの一実施例の断面図、第３図は本発明の倣い型彫
盤用スタィラスの別の実施例の断面図、である。 ２…・・・倣い型彫盤用スタィラス、６・…・・スタィ
ラス本体、７，８・…−・表面処理層。 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- １ スタイラスの本体に、材質の異なる表面処理層を少
なくとも２層に設け、最外層の表面処理層を使用限界厚
さに形成したことを特徴とする倣い型彫盤用スタイラス
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11962479A JPS603545B2 (ja) | 1979-09-18 | 1979-09-18 | 倣い型彫盤用スタイラス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11962479A JPS603545B2 (ja) | 1979-09-18 | 1979-09-18 | 倣い型彫盤用スタイラス |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5645350A JPS5645350A (en) | 1981-04-25 |
| JPS603545B2 true JPS603545B2 (ja) | 1985-01-29 |
Family
ID=14766040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11962479A Expired JPS603545B2 (ja) | 1979-09-18 | 1979-09-18 | 倣い型彫盤用スタイラス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS603545B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05217508A (ja) * | 1991-09-28 | 1993-08-27 | Samsung Display Devices Co Ltd | カラープラズマディスプレイパネル |
-
1979
- 1979-09-18 JP JP11962479A patent/JPS603545B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05217508A (ja) * | 1991-09-28 | 1993-08-27 | Samsung Display Devices Co Ltd | カラープラズマディスプレイパネル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5645350A (en) | 1981-04-25 |
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