JPS6034171B2 - 光学記録方式によるビデオデイスク原盤 - Google Patents
光学記録方式によるビデオデイスク原盤Info
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- JPS6034171B2 JPS6034171B2 JP52038738A JP3873877A JPS6034171B2 JP S6034171 B2 JPS6034171 B2 JP S6034171B2 JP 52038738 A JP52038738 A JP 52038738A JP 3873877 A JP3873877 A JP 3873877A JP S6034171 B2 JPS6034171 B2 JP S6034171B2
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- Japan
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- light
- master
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B7/2542—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/825—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antireflection means or visible-light filtering means, e.g. antihalation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ビデオディスクを製造する際に用いるビデオ
ディスク原盤、特にその記録を光学的手法によって行う
光学記録方式によるビデオディスク原盤に係る。
ディスク原盤、特にその記録を光学的手法によって行う
光学記録方式によるビデオディスク原盤に係る。
ビデオディスクを製造する場合、先ず原盤を得、これに
記録内容に応じた凹凸パターンを形成し、この原盤に基
いてスタンパーを作成し、このスタンバーによってビデ
オディスクをプレス成型し、表面に保護膜を被着して得
る。
記録内容に応じた凹凸パターンを形成し、この原盤に基
いてスタンパーを作成し、このスタンバーによってビデ
オディスクをプレス成型し、表面に保護膜を被着して得
る。
通常、この原盤は、基板上にポジタィプ（光照射によっ
て可溶性となるタイプ）のフオトレジスト層が塗布され
て成り、このフオトレジスト層に記録信号に応じた露光
をなし、その後このフオトレジスト層を現像し、露光し
た部分を除去して、記録に応じた凹凸パターンを形成す
るという、いわば写真技術による光学的記録を行う。
て可溶性となるタイプ）のフオトレジスト層が塗布され
て成り、このフオトレジスト層に記録信号に応じた露光
をなし、その後このフオトレジスト層を現像し、露光し
た部分を除去して、記録に応じた凹凸パターンを形成す
るという、いわば写真技術による光学的記録を行う。
第１図は、原盤への光学的記録の一例を示すもので、図
中１は原盤で、この原盤は基板２上にポジタィプのフオ
トレジスト層３を塗布されて成る。
中１は原盤で、この原盤は基板２上にポジタィプのフオ
トレジスト層３を塗布されて成る。
この原盤１は、回転面盤４（ターンテーフル）上に配置
される。この面盤４は、例えばその表面が黒化処理され
て光が反射しないようにされている。このように、面盤
４によって回転する原盤１に対し、記録用光線例えば記
録信号によって変調されたレーザー光５を半径方向に移
動して原盤１のフオトレジスト層３上に走査して露光を
行う。図において、６はしーザー源、７は記録信号によ
って制御される光変調器、８及び９はしンズ系、１０は
ミラーである。レーザ−光源５は、レンズ系特に対物レ
ンズ９によってて第２図に示すようにフオトレジスト層
３にフオーカシングするようになされる。このようにし
て露光処理の施されたフオトレジスト層３は、これを現
像し、露光した部分を除去し、露光パターン、即ち記録
信号に応じた凹凸を形成する。このような光学的手法に
よって記録を行う場合、トラックピッチが例えば１．６
７ムのというような高密度記録を行わんとすると、フオ
トレジスト層３は、特に厚みむらがなく、しかも平坦性
の良い層として形成されることが要求され、これがため
、原盤１を構成する基板２としては、秀れた表面性が得
られるガラス基板によって構成される。また、フオトレ
ジスト層３を露光するためのレーザー光５も、できるだ
け細い径にフオーカシングされることが要求される。と
ころがこのような方法によってその記録を行うと、かぶ
りが生じたり、フオトレジスト層に剥れが生じたりする
。本発明者等は、種々の実験考察を行った結果、このか
ぶりや剥れが、原盤を構成するガラス基板、即ち透明基
板の裏面における露光光線の反射に起因していることを
究明した。
される。この面盤４は、例えばその表面が黒化処理され
て光が反射しないようにされている。このように、面盤
４によって回転する原盤１に対し、記録用光線例えば記
録信号によって変調されたレーザー光５を半径方向に移
動して原盤１のフオトレジスト層３上に走査して露光を
行う。図において、６はしーザー源、７は記録信号によ
って制御される光変調器、８及び９はしンズ系、１０は
ミラーである。レーザ−光源５は、レンズ系特に対物レ
ンズ９によってて第２図に示すようにフオトレジスト層
３にフオーカシングするようになされる。このようにし
て露光処理の施されたフオトレジスト層３は、これを現
像し、露光した部分を除去し、露光パターン、即ち記録
信号に応じた凹凸を形成する。このような光学的手法に
よって記録を行う場合、トラックピッチが例えば１．６
７ムのというような高密度記録を行わんとすると、フオ
トレジスト層３は、特に厚みむらがなく、しかも平坦性
の良い層として形成されることが要求され、これがため
、原盤１を構成する基板２としては、秀れた表面性が得
られるガラス基板によって構成される。また、フオトレ
ジスト層３を露光するためのレーザー光５も、できるだ
け細い径にフオーカシングされることが要求される。と
ころがこのような方法によってその記録を行うと、かぶ
りが生じたり、フオトレジスト層に剥れが生じたりする
。本発明者等は、種々の実験考察を行った結果、このか
ぶりや剥れが、原盤を構成するガラス基板、即ち透明基
板の裏面における露光光線の反射に起因していることを
究明した。
即ち、原盤１の基板２がガラスのような透明基板によっ
て構成される場合、：第４図に示すようにフオトレジス
ト層３に対する露光光線５が、基板２中に入ることにな
るが、この基板２の裏面、即ちフオトレジスト層３が塗
布された側とは反対側の面と、空気との間に生ずる界面
ｂ（原盤１が第１図に説明したように面盤４上に萩層さ
れていても光学的には原盤１と面盤４との間にはギャッ
プが存在し界函和，が生ずる）において破線図示のよう
に一部の光が反射し、これがフオトレジスト層３へと向
うこと、更に、フオーカシングされたのち発散する光が
、界面ｂ．にその臨界面より大なる入射角をもって到来
することによって全反射することに大きく影響されてい
ることを究きとめた。即ち、今、空気の屈折率がｎ，、
ガラス基板２の屈折率が〜、フオトレジスト層の屈折率
からであるとすると、これら屈折率はｎ，くりの関係を
有するので、基板２の裏面及び表面の各界面Ｑ及びＱに
基板２中より向う光の入射角が臨界角以上となるとこれ
が全反射する。したがってフオーカシングされてのち発
散する光が、フオトレジスト層３→基板２を通じて界面
ｂ，に臨界角以上の角度をもって入射すると、これが全
反射して界面Ｑへと向い、この界面ｂ２への入射角がそ
の臨界角以上であれば、こ）において再び全反射するこ
とによって、光は、基板２の面内にこれに沿って全反射
が繰返えされて広がっていくが、この場合一部の光はフ
オトレジスト層３中に入り込むので、これを露光して爾
後の現像液に対して可溶性を呈してしまう。そして、こ
の全反射による光の広がりは、高密度記録のために細い
径の露光光線５を得んとしてフオーカシングを強めれば
強めるほど、フオーカシング後の光の発散角が大となる
ことによって顕著に生ずる。なお、ガラスとフオトレジ
ストがほぼ同じ屈折率を有する場合には、光は基板２の
下面とフオトレジスト層３の上面との間で全反射を繰返
すことになり、フオトレジスト層を露光する。したがっ
て得られた記録パターンにかぶりが生ずると共に、特に
高密度記録を行わんとすると、フオトレジスト層３の現
像に際して、あるいはその後にこのフオトレジスト層３
が基板２より剥れる。本発明においては、このような「
かぶり」や「剥れ」の原因究明に塞いて、原盤を構成す
る基板として、表面性に秀れたガラス基板を用いても上
述した「かぶり」や「剥れ」の発生を効果的に回避でき
るようにした新規な光学記録方式によるビデオディスク
原盤を提供するものである。
て構成される場合、：第４図に示すようにフオトレジス
ト層３に対する露光光線５が、基板２中に入ることにな
るが、この基板２の裏面、即ちフオトレジスト層３が塗
布された側とは反対側の面と、空気との間に生ずる界面
ｂ（原盤１が第１図に説明したように面盤４上に萩層さ
れていても光学的には原盤１と面盤４との間にはギャッ
プが存在し界函和，が生ずる）において破線図示のよう
に一部の光が反射し、これがフオトレジスト層３へと向
うこと、更に、フオーカシングされたのち発散する光が
、界面ｂ．にその臨界面より大なる入射角をもって到来
することによって全反射することに大きく影響されてい
ることを究きとめた。即ち、今、空気の屈折率がｎ，、
ガラス基板２の屈折率が〜、フオトレジスト層の屈折率
からであるとすると、これら屈折率はｎ，くりの関係を
有するので、基板２の裏面及び表面の各界面Ｑ及びＱに
基板２中より向う光の入射角が臨界角以上となるとこれ
が全反射する。したがってフオーカシングされてのち発
散する光が、フオトレジスト層３→基板２を通じて界面
ｂ，に臨界角以上の角度をもって入射すると、これが全
反射して界面Ｑへと向い、この界面ｂ２への入射角がそ
の臨界角以上であれば、こ）において再び全反射するこ
とによって、光は、基板２の面内にこれに沿って全反射
が繰返えされて広がっていくが、この場合一部の光はフ
オトレジスト層３中に入り込むので、これを露光して爾
後の現像液に対して可溶性を呈してしまう。そして、こ
の全反射による光の広がりは、高密度記録のために細い
径の露光光線５を得んとしてフオーカシングを強めれば
強めるほど、フオーカシング後の光の発散角が大となる
ことによって顕著に生ずる。なお、ガラスとフオトレジ
ストがほぼ同じ屈折率を有する場合には、光は基板２の
下面とフオトレジスト層３の上面との間で全反射を繰返
すことになり、フオトレジスト層を露光する。したがっ
て得られた記録パターンにかぶりが生ずると共に、特に
高密度記録を行わんとすると、フオトレジスト層３の現
像に際して、あるいはその後にこのフオトレジスト層３
が基板２より剥れる。本発明においては、このような「
かぶり」や「剥れ」の原因究明に塞いて、原盤を構成す
る基板として、表面性に秀れたガラス基板を用いても上
述した「かぶり」や「剥れ」の発生を効果的に回避でき
るようにした新規な光学記録方式によるビデオディスク
原盤を提供するものである。
第５図ないし第７図を参照して本発明による原盤を説明
するに、図中１１は本発明による光学記録方式によるビ
デオディスク原盤を全体として示す。本発明においては
、表面性に秀れたガラス基板、即ち光学的には透明基板
１２上に、ポジタィプのフオトレジスト層１３を塗布し
て構成するが、特に、基板１２の裏面、即ちフオトレジ
スト層１３が塗布された側とは反対側の面に光反射防止
処理を施す。
するに、図中１１は本発明による光学記録方式によるビ
デオディスク原盤を全体として示す。本発明においては
、表面性に秀れたガラス基板、即ち光学的には透明基板
１２上に、ポジタィプのフオトレジスト層１３を塗布し
て構成するが、特に、基板１２の裏面、即ちフオトレジ
スト層１３が塗布された側とは反対側の面に光反射防止
処理を施す。
この光反射防止処理とは、例えば第５図に示すように、
基板１２の裏面に、光吸収層１４を塗布する。この光吸
収層１４はフオトレジスト層１３に対する露光光線、特
にフオトレジスト層１３が感光性を示す波長の光を吸収
するように、例えば澄色ないしは赤色、若しくは黒色に
着色されたレジンを塗布することによって形成し得る。
或いは第６図に示すように基板１２の裏面を弗化水素に
よってエッチングするとか、機械的手法によってマット
処理して、光が乱反射するような微細な凹凸組面１５を
形成する。或いは第７図に示すように、基板１２の裏面
に、この基板１２則ちガラスの屈折率ｗと空気の屈折率
ｎ，との中間の値の屈折率ｎ４を有する材料層１６を塗
布する。この材料層１６は一層構造とする場合に限らず
、多層構造とし、基板１２側より遠去かるにしたがって
漸次その屈折率が仏からｎ，に近ずくような値の材料と
する。そして、このように基板１２の裏面に光吸収層１
４、粗面１５、材料層１６のような光反射防止処理が施
された本発明による原盤１ １に対し、例えば第１図な
いし第３図に説明したような光学的記録を行う。
基板１２の裏面に、光吸収層１４を塗布する。この光吸
収層１４はフオトレジスト層１３に対する露光光線、特
にフオトレジスト層１３が感光性を示す波長の光を吸収
するように、例えば澄色ないしは赤色、若しくは黒色に
着色されたレジンを塗布することによって形成し得る。
或いは第６図に示すように基板１２の裏面を弗化水素に
よってエッチングするとか、機械的手法によってマット
処理して、光が乱反射するような微細な凹凸組面１５を
形成する。或いは第７図に示すように、基板１２の裏面
に、この基板１２則ちガラスの屈折率ｗと空気の屈折率
ｎ，との中間の値の屈折率ｎ４を有する材料層１６を塗
布する。この材料層１６は一層構造とする場合に限らず
、多層構造とし、基板１２側より遠去かるにしたがって
漸次その屈折率が仏からｎ，に近ずくような値の材料と
する。そして、このように基板１２の裏面に光吸収層１
４、粗面１５、材料層１６のような光反射防止処理が施
された本発明による原盤１ １に対し、例えば第１図な
いし第３図に説明したような光学的記録を行う。
このような光学的記録を行っても本発明による原盤１１
はかぶり及び剥離の発生が確実且つ効果的に回避される
ことが確められた。即ち５図ないし第７図の何れの例に
おいても、露光光線が基板１２の裏面に生ずる光学的界
面で反射されてフオトレジスト層１３に向うような現象
が回避されている。上述したように本発明構成によれば
、かぶりや剥れを効果的に解消できるので高密度記録に
よるビデオディスクを容易に製造でき、その工業的利益
は大である。
はかぶり及び剥離の発生が確実且つ効果的に回避される
ことが確められた。即ち５図ないし第７図の何れの例に
おいても、露光光線が基板１２の裏面に生ずる光学的界
面で反射されてフオトレジスト層１３に向うような現象
が回避されている。上述したように本発明構成によれば
、かぶりや剥れを効果的に解消できるので高密度記録に
よるビデオディスクを容易に製造でき、その工業的利益
は大である。
尚、基板１２に対する光反射防止処理としては、第５図
ないし第７図に説明した各構成を粗せて多重に行うこと
ができる。
ないし第７図に説明した各構成を粗せて多重に行うこと
ができる。
第１図はビデオディスク原盤への光学的記録方式の一列
を示す構成図、第２図及び第３図は同様の説明図、第４
図は従来の原盤における光の反射の態様を示す図、第５
図ないし第７図は夫々本発明による原盤の各例を示す要
部の拡大断面図である。 １１は原盤、１２は透明基板、１３はフオトレジスト層
、１４，１５，１６は光反射防止処理層である。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図
を示す構成図、第２図及び第３図は同様の説明図、第４
図は従来の原盤における光の反射の態様を示す図、第５
図ないし第７図は夫々本発明による原盤の各例を示す要
部の拡大断面図である。 １１は原盤、１２は透明基板、１３はフオトレジスト層
、１４，１５，１６は光反射防止処理層である。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図 第７図
Claims (1)
- １ 透明基板上にフオトレジスト層が塗布され、該フオ
トレジスト層に記録信号に応じた露光をなして光学的に
記録を行うようにしたビデオデイスク原盤において、上
記透明基板の裏面に光反射防止処理が施された光学記録
方式によるビデオデイスク原盤。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52038738A JPS6034171B2 (ja) | 1977-04-05 | 1977-04-05 | 光学記録方式によるビデオデイスク原盤 |
| AU34723/78A AU519663B2 (en) | 1977-04-05 | 1978-04-03 | Optical recording disc |
| AT0231878A AT365810B (de) | 1977-04-05 | 1978-04-03 | Scheibenfoermiges master-aufzeichnungsmedium fuer optische aufzeichnung |
| NL7803576A NL7803576A (nl) | 1977-04-05 | 1978-04-04 | Registratiemedium voor optische signaalregistratie. |
| FR7810130A FR2386883A1 (fr) | 1977-04-05 | 1978-04-05 | Support d'enregistrement photosensible |
| DE19782814723 DE2814723A1 (de) | 1977-04-05 | 1978-04-05 | Plattenfoermiges aufzeichnungsmedium zur optischen aufzeichnung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52038738A JPS6034171B2 (ja) | 1977-04-05 | 1977-04-05 | 光学記録方式によるビデオデイスク原盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS53123905A JPS53123905A (en) | 1978-10-28 |
| JPS6034171B2 true JPS6034171B2 (ja) | 1985-08-07 |
Family
ID=12533652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52038738A Expired JPS6034171B2 (ja) | 1977-04-05 | 1977-04-05 | 光学記録方式によるビデオデイスク原盤 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6034171B2 (ja) |
| AT (1) | AT365810B (ja) |
| AU (1) | AU519663B2 (ja) |
| DE (1) | DE2814723A1 (ja) |
| FR (1) | FR2386883A1 (ja) |
| NL (1) | NL7803576A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3374969D1 (en) * | 1982-05-25 | 1988-01-28 | Unisys Corp | Aurous archival record films for digital data storage |
| EP0098046B1 (en) * | 1982-05-25 | 1988-04-06 | Unisys Corporation | Archival record films for digital data storage using low power write-laser |
| DE3377432D1 (en) * | 1982-05-25 | 1988-08-25 | Unisys Corp | Method for detecting fire |
| JPS59188856A (ja) * | 1983-04-12 | 1984-10-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | レ−ザ−記録媒体 |
| JPH03168943A (ja) * | 1989-11-29 | 1991-07-22 | Hitachi Ltd | 光メモリ及び情報処理装置 |
| WO2003046904A1 (fr) * | 2001-11-30 | 2003-06-05 | Tdk Corporation | Procede et dispositif de matriçage et de pressage de supports d'information |
| TWI258142B (en) * | 2002-01-08 | 2006-07-11 | Tdk Corp | Manufacturing method of stamper for manufacturing data medium, the stamper, and the stamper spacer with template |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1497272A (en) * | 1922-02-11 | 1924-06-10 | Hatt Joseph Arthur Henry | Photographic plate |
| US1929254A (en) * | 1929-11-16 | 1933-10-03 | Gen Electric | Nonhalation film |
| US1962310A (en) * | 1930-01-10 | 1934-06-12 | Eastman Kodak Co | Method of making sound records |
| AR200876A1 (es) * | 1972-09-02 | 1974-12-27 | Philips Nv | Metodo de fabricacion de un portador de informacion discoidal y portador de informacion fabricado por dicho metodo |
-
1977
- 1977-04-05 JP JP52038738A patent/JPS6034171B2/ja not_active Expired
-
1978
- 1978-04-03 AU AU34723/78A patent/AU519663B2/en not_active Expired
- 1978-04-03 AT AT0231878A patent/AT365810B/de not_active IP Right Cessation
- 1978-04-04 NL NL7803576A patent/NL7803576A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-04-05 FR FR7810130A patent/FR2386883A1/fr not_active Withdrawn
- 1978-04-05 DE DE19782814723 patent/DE2814723A1/de not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU519663B2 (en) | 1981-12-17 |
| ATA231878A (de) | 1981-06-15 |
| JPS53123905A (en) | 1978-10-28 |
| FR2386883A1 (fr) | 1978-11-03 |
| NL7803576A (nl) | 1978-10-09 |
| AT365810B (de) | 1982-02-25 |
| AU3472378A (en) | 1979-10-11 |
| DE2814723A1 (de) | 1978-10-12 |
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