JPS6032107A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
- Publication number
- JPS6032107A JPS6032107A JP14013683A JP14013683A JPS6032107A JP S6032107 A JPS6032107 A JP S6032107A JP 14013683 A JP14013683 A JP 14013683A JP 14013683 A JP14013683 A JP 14013683A JP S6032107 A JPS6032107 A JP S6032107A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- thin film
- glass
- groove
- magnetic head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
- G11B5/232—Manufacture of gap
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁気ヘッド特にＶＴＲ用等の磁気ヘッドに関す
る。
る。
背景技術とその問題点
近年、磁気記録技術の発展に伴ないＶＴＲ用の磁気ヘッ
ドとしては高磁束密度、高抗磁力の磁気テープへの記録
再生が可能であるとと又、磁気テープの面内での記録密
度を向上させるためにできるだけ狭トラツク化が可能で
あることが要求されている。前者の要求に対しては飽和
磁束密度の大きい金属磁性材料（アモルファス、センダ
スト、パーマロイ等）がフェライトに代わって用いられ
ている。又、後者の要求に対しても数十マイクロ以下の
・トラック幅を実現するためにスパッタリング、蒸着、
イオンシレーティング等の真空薄膜形成技術による金属
磁性薄膜が適している。
ドとしては高磁束密度、高抗磁力の磁気テープへの記録
再生が可能であるとと又、磁気テープの面内での記録密
度を向上させるためにできるだけ狭トラツク化が可能で
あることが要求されている。前者の要求に対しては飽和
磁束密度の大きい金属磁性材料（アモルファス、センダ
スト、パーマロイ等）がフェライトに代わって用いられ
ている。又、後者の要求に対しても数十マイクロ以下の
・トラック幅を実現するためにスパッタリング、蒸着、
イオンシレーティング等の真空薄膜形成技術による金属
磁性薄膜が適している。
この強磁性金属薄膜を形成する磁気ヘッドは各種提案さ
れている。例えば第１図に示す磁気ヘッド（１）は非磁
性基板（２）の上にスパッタリングによシセンダスト等
の金属磁性薄膜（３）を形成した磁気コア半休（ｌａ）
、（ｌｂ）を突き合わせて形成し、又、第２図に示す磁
気ヘッド（１′）はフェライト板（４ａ）。
れている。例えば第１図に示す磁気ヘッド（１）は非磁
性基板（２）の上にスパッタリングによシセンダスト等
の金属磁性薄膜（３）を形成した磁気コア半休（ｌａ）
、（ｌｂ）を突き合わせて形成し、又、第２図に示す磁
気ヘッド（１′）はフェライト板（４ａ）。
（４ｂ）を第１図に示すごとく形成した磁気コア半休（
ｌａ）、（ｌｂ）の両面から貼シ付けて形成し、更に又
、第３図に示す磁気ヘッド（１“）はフェライトへラド
コア（４）のギヤツブｇ部分だけに金属磁性薄膜（３）
をス／臂ツタで形成している。
ｌａ）、（ｌｂ）の両面から貼シ付けて形成し、更に又
、第３図に示す磁気ヘッド（１“）はフェライトへラド
コア（４）のギヤツブｇ部分だけに金属磁性薄膜（３）
をス／臂ツタで形成している。
しかし、第１図及び第２図に示すごとき構成のもの即ち
非磁性基板（２）上にスパッタリング等の真中薄膜形成
技術によって作成する金属磁性薄膜（３）は膜成長速度
が極めて遅く作成に時間を要する欠点がある。
非磁性基板（２）上にスパッタリング等の真中薄膜形成
技術によって作成する金属磁性薄膜（３）は膜成長速度
が極めて遅く作成に時間を要する欠点がある。
又、第３図に示すものは金５ＩＡ４４薄膜（３）が磁路
と直交する方向であるため渦電流損が多く、更に金焉繊
悸消嘆（３）を積層すると膜間の絶縁膜がギャップとし
ての働きをもってしまう欠点がある。
と直交する方向であるため渦電流損が多く、更に金焉繊
悸消嘆（３）を積層すると膜間の絶縁膜がギャップとし
ての働きをもってしまう欠点がある。
発明の目的
本発明は斯る点に鑑み、金属磁性薄膜でギャップ及び巻
線孔近傍を形成し、テープ摺接面の大部分を高耐摩耗性
の強磁性酸化物により形成して信頼性が高く且つ安価な
磁気ヘッドを提供するものである。
線孔近傍を形成し、テープ摺接面の大部分を高耐摩耗性
の強磁性酸化物により形成して信頼性が高く且つ安価な
磁気ヘッドを提供するものである。
発明の概要
本発明は上記の目的を達成するため、強磁性酸化物より
なる磁気コア半休対の接合面に真空薄膜形成技術により
強磁性金属薄膜を形成しこの磁気コア半休対を突き合わ
せて磁気ギャップを形成して々る磁気ヘッドにおいて、
この磁気ギャツゾ形成面と強磁性金属薄膜形成面とを所
要角度で傾斜して形成したものでおる。
なる磁気コア半休対の接合面に真空薄膜形成技術により
強磁性金属薄膜を形成しこの磁気コア半休対を突き合わ
せて磁気ギャップを形成して々る磁気ヘッドにおいて、
この磁気ギャツゾ形成面と強磁性金属薄膜形成面とを所
要角度で傾斜して形成したものでおる。
実施例
以下、第４図以降を参照して本発明の詳細な説明する。
先ず第４図及び第５図は本発明による一例の磁気ヘッド
α→を示すものである。強磁性酸化物例えばフェライト
よシなる磁気コア半休対（ｌｌａ）、（ｌｌｂ）の接合
面においてガラス等の非磁や性材（ロ）の充填によシ巾
が規定される磁気ギャップｇが金属磁性？）！Ｊ膜（１
１の積層方向とほぼ４５°を力しており金属磁性薄膜（
１１Ｃ（１３ｔ）、（１３ｉ）・・・〕間の積層の絶縁
ＩＩ（＋’））と磁気ギャップｇとのテープへの記録再
生時における相互作用が最も少ない向きになっている。
α→を示すものである。強磁性酸化物例えばフェライト
よシなる磁気コア半休対（ｌｌａ）、（ｌｌｂ）の接合
面においてガラス等の非磁や性材（ロ）の充填によシ巾
が規定される磁気ギャップｇが金属磁性？）！Ｊ膜（１
１の積層方向とほぼ４５°を力しており金属磁性薄膜（
１１Ｃ（１３ｔ）、（１３ｉ）・・・〕間の積層の絶縁
ＩＩ（＋’））と磁気ギャップｇとのテープへの記録再
生時における相互作用が最も少ない向きになっている。
即ち、本発明による磁気ヘッドは第６図に両磁気コア半
休（ｌ１ｍ）、（ｌｌｂ）をギャップ面ｇより分解して
示すように、磁路の最短距離の領域のほとんどを金属磁
性薄膜Ｑ１で形成しており、この金属磁性薄膜α罎の面
積が少なくても有効な配置であると共に金属磁性薄膜α
→は積虐構造でちシ且つテープ対接面のほとんどが両磁
気コア半休（ｌ１ｍ）、（ｌｌｂ）を形成するフェライ
トとなっているため高耐摩耗な磁気ヘッドが構成される
。なお、第４図及び第６図において（ｌりは巻線溝であ
る０ 次に第７図〜第１４図について本発明による磁気ヘッド
の一例の製造工程を説明する。
休（ｌ１ｍ）、（ｌｌｂ）をギャップ面ｇより分解して
示すように、磁路の最短距離の領域のほとんどを金属磁
性薄膜Ｑ１で形成しており、この金属磁性薄膜α罎の面
積が少なくても有効な配置であると共に金属磁性薄膜α
→は積虐構造でちシ且つテープ対接面のほとんどが両磁
気コア半休（ｌ１ｍ）、（ｌｌｂ）を形成するフェライ
トとなっているため高耐摩耗な磁気ヘッドが構成される
。なお、第４図及び第６図において（ｌりは巻線溝であ
る０ 次に第７図〜第１４図について本発明による磁気ヘッド
の一例の製造工程を説明する。
先ず第７図に示すごとくフェライト基板ｅυに回転砥石
又は電解エツチングによシ溝加工を行ない例えば断面Ｖ
字状の溝（２１ａ）（（２１ａｘ）、（２１ａ＊）、（
２１ａｓ）・・・〕を形成し、この溝（２１ａ）に高融
点酸化物ガラス四を溶融充填した後、平面研摩加工を行
なう（第８図参照）。次に第９図に示すごとく溝（２１
３θ。
又は電解エツチングによシ溝加工を行ない例えば断面Ｖ
字状の溝（２１ａ）（（２１ａｘ）、（２１ａ＊）、（
２１ａｓ）・・・〕を形成し、この溝（２１ａ）に高融
点酸化物ガラス四を溶融充填した後、平面研摩加工を行
なう（第８図参照）。次に第９図に示すごとく溝（２１
３θ。
（２１ａｚ）、（２１ａｓ）・・・間即ちガラス四が充
填されなかった部分を溝加工し例えば前述と同様の断面
Ｖ字状の溝（２１ｂＸ（２１ｂｓ ） 、 （２１ｂｔ
） ＋ （２１ｂｓ）・・・〕を形成し、この溝（２１
ｂ）にセンダスト、アモルノ）ス等の金属磁性材料をス
フ４ツタリング、イオンシレーティング、蒸着等の薄膜
形成技術により金属磁性薄膜（ハ）Ｃ（２３１）、（２
３＊） ・・’Ｊき５１０２＋ Ｚｒ０２ｔ Ｔａ２０
５等の高硬度絶縁膜（２４）を介して積層形成する（第
１０図参照）。
填されなかった部分を溝加工し例えば前述と同様の断面
Ｖ字状の溝（２１ｂＸ（２１ｂｓ ） 、 （２１ｂｔ
） ＋ （２１ｂｓ）・・・〕を形成し、この溝（２１
ｂ）にセンダスト、アモルノ）ス等の金属磁性材料をス
フ４ツタリング、イオンシレーティング、蒸着等の薄膜
形成技術により金属磁性薄膜（ハ）Ｃ（２３１）、（２
３＊） ・・’Ｊき５１０２＋ Ｚｒ０２ｔ Ｔａ２０
５等の高硬度絶縁膜（２４）を介して積層形成する（第
１０図参照）。
然る後、第１１図に示すごとく平面研摩加工を再び行な
いコア半休ブロック（３１ｍ）、（３１ｂ）を形成する
。そして一方のコア半休ブロック（３１ａ）には第１２
図に示すごとく巻線溝（イ）及びガラス溝（イ）の溝加
工を行なう。次いでこの溝加工を施した一方のコア半休
ブロック（２１ａ）と溝の無い他方のコア半休ブロック
（３１ｂ）とをその平面部を突き合Ｊ）せて巻線溝（２
５１及びガラス溝（イ）にガラス棒を挿入し、このガラ
ス棒を溶融して金属磁性薄膜部（２３）の表面（ｌｕｌ
ｌ溝部（２１ｂ’）（（２１ｂ’ｔ） （２１ｂ’鵞）
（２１ｂ’ｓ）・・・］によりＪ杉成される中空部に
溶融ガラスＣ７）を充填して両ブロック（３１ａ）、（
３１ｂ）を融着合体する（第１３図参照）。
いコア半休ブロック（３１ｍ）、（３１ｂ）を形成する
。そして一方のコア半休ブロック（３１ａ）には第１２
図に示すごとく巻線溝（イ）及びガラス溝（イ）の溝加
工を行なう。次いでこの溝加工を施した一方のコア半休
ブロック（２１ａ）と溝の無い他方のコア半休ブロック
（３１ｂ）とをその平面部を突き合Ｊ）せて巻線溝（２
５１及びガラス溝（イ）にガラス棒を挿入し、このガラ
ス棒を溶融して金属磁性薄膜部（２３）の表面（ｌｕｌ
ｌ溝部（２１ｂ’）（（２１ｂ’ｔ） （２１ｂ’鵞）
（２１ｂ’ｓ）・・・］によりＪ杉成される中空部に
溶融ガラスＣ７）を充填して両ブロック（３１ａ）、（
３１ｂ）を融着合体する（第１３図参照）。
この合体ブロックを第１３図に示すＡ −Ａ’線のもｒ
置でスライシング加工して後部のガラス溝部（ハ）を切
り取りヘッド素材を形成した後、この両１０１１面及び
前面のテープ摺接面を研摩加工することによυ第１４図
に示すごとき磁気ギャップｇが金桟磁ｔｔ？専膜層（２
階の積層方向と所要の角度をなす磁気ヘット。
置でスライシング加工して後部のガラス溝部（ハ）を切
り取りヘッド素材を形成した後、この両１０１１面及び
前面のテープ摺接面を研摩加工することによυ第１４図
に示すごとき磁気ギャップｇが金桟磁ｔｔ？専膜層（２
階の積層方向と所要の角度をなす磁気ヘット。
（３１）が得られる。
この様にして磁気ヘッドを形成することにより単位金属
磁性薄膜形成面積から作成可能な磁気へラドの個数が従
来の平面に金属磁性薄膜層を形成するものに比し極めて
多く、即ちヘッド幅３ｍ。
磁性薄膜形成面積から作成可能な磁気へラドの個数が従
来の平面に金属磁性薄膜層を形成するものに比し極めて
多く、即ちヘッド幅３ｍ。
ヘッドチップ厚１５０〜２００μ、スライシングの切シ
しろ１００〜１５０μとすると約１０倍の磁気ヘッドが
作成可能となる。
しろ１００〜１５０μとすると約１０倍の磁気ヘッドが
作成可能となる。
又、フェライトブロックＣυに溝加工したものカー直接
今風磁性薄膜（ハ）の形成時の基板となっているので第
２図に示したようなフェライト両側より貼り合わせる手
数も要せず農作工数が著しく削減されて安価な興法とな
っている。
今風磁性薄膜（ハ）の形成時の基板となっているので第
２図に示したようなフェライト両側より貼り合わせる手
数も要せず農作工数が著しく削減されて安価な興法とな
っている。
第１５図はアジマス記録用の磁気ヘッドを作成するコア
ブロック合体を示すもので各コア半休ブロック（３１ａ
）（３１ｂ）の酸化物ガラス＠を溶融充填する溝（２１
ａ）と金属磁性薄膜層（ハ）を形成する溝（２１ｂ）と
はその両辺の傾斜を非対称に形成し即ち一方を急角度に
他方を緩角度に形成してあり、夫々の溝（２１ｍ’）、
（２１ｂ）にガラス（２４を溶融充填し又、金属磁性薄
膜層（ハ）を形成した状態で両コア半休グロック（３１
ｍ）と（３１ｂ）を、金属性薄膜層（ハ）が緩角度傾斜
面において金属連続するように接合合体する。そしてＢ
−Ｂ’線の位置でスライシングすることにより第１６
図に示した様なアジマス磁気ギャップｇ′を有する磁気
ヘッド（３１’）が得られる０尚、本例の場合に限るも
のではないが第１６図に示すごとく巻線溝（ハ）の深さ
を浅く形成することにより、即ち巻線溝（ハ）を金属磁
性薄膜層（２３１の一部を残すように溝加工をすること
によシ巻線溝を形成した側のコア（３１ａ）においても
金属磁性？ｖ膜がフロントギャップよシバツクギャップ
に至るまで連続的に延在することになる。
ブロック合体を示すもので各コア半休ブロック（３１ａ
）（３１ｂ）の酸化物ガラス＠を溶融充填する溝（２１
ａ）と金属磁性薄膜層（ハ）を形成する溝（２１ｂ）と
はその両辺の傾斜を非対称に形成し即ち一方を急角度に
他方を緩角度に形成してあり、夫々の溝（２１ｍ’）、
（２１ｂ）にガラス（２４を溶融充填し又、金属磁性薄
膜層（ハ）を形成した状態で両コア半休グロック（３１
ｍ）と（３１ｂ）を、金属性薄膜層（ハ）が緩角度傾斜
面において金属連続するように接合合体する。そしてＢ
−Ｂ’線の位置でスライシングすることにより第１６
図に示した様なアジマス磁気ギャップｇ′を有する磁気
ヘッド（３１’）が得られる０尚、本例の場合に限るも
のではないが第１６図に示すごとく巻線溝（ハ）の深さ
を浅く形成することにより、即ち巻線溝（ハ）を金属磁
性薄膜層（２３１の一部を残すように溝加工をすること
によシ巻線溝を形成した側のコア（３１ａ）においても
金属磁性？ｖ膜がフロントギャップよシバツクギャップ
に至るまで連続的に延在することになる。
第１７図は本発明の他の実施例を示すもので金属磁性薄
膜層（２′３を両コア半休（３１ａ）、（３１ｂ）の両
側面側に配した場合である。
膜層（２′３を両コア半休（３１ａ）、（３１ｂ）の両
側面側に配した場合である。
又、第１８図に示す他の実施例は金属磁性薄膜（２，１
を一層のみにより形成しギャップ幅を狭くした場合であ
る。
を一層のみにより形成しギャップ幅を狭くした場合であ
る。
又、第１９図に示す更に他の実施例はテープ摺動面にお
いてコア半休（３１＆ル（３１ｂ）を形成するフェライ
トの先端をギャップ面よシ後方に位置するようになしコ
アブロック（３１ｍ）、（３１ｂ）の研摩寸法精度（研
摩終了時点の判断）に余裕をもたせてもよい。
いてコア半休（３１＆ル（３１ｂ）を形成するフェライ
トの先端をギャップ面よシ後方に位置するようになしコ
アブロック（３１ｍ）、（３１ｂ）の研摩寸法精度（研
摩終了時点の判断）に余裕をもたせてもよい。
そのためには上述した第３工程の金属磁性薄膜層（ハ）
の形成溝（２１ｂ）の溝入加工においてその溝幅及び深
さを大となし溝エツジ部がガラス部（２２１に充分かか
るように加工しておけばよい＠ 以上の様に構成される本発明の磁気ヘッドにおいて金属
磁性薄膜層（ハ）の積層面とギャップ面ｇとのなす角は
２Ｏ２以上であることが必要で、それ以下の角度では隣
接トラックからのクロストークが大きくなり、最も望ま
しくは３０°以上の角度を付けるのがよい。又、角度の
最大値については９０゜まで可能であるが耐摩耗性の観
点から８０°以下が望ましい・ 尚、本例では金属磁性薄膜層（ハ）間に介在させる絶縁
膜（２４）は５１０２ｔＴａ２０５としたがＡｔ２０．
＊ ＺｒＯ２゜５１３Ｎ４等その他の高耐摩耗性絶縁
膜であってもよいＯ又、金属磁性薄膜層（２濠もス／４
’ツタリングによるセンダストに限らず、スノ母ツタリ
ングによるアモルハス磁性膜等高飽和磁束密度の金属磁
性薄膜であればよい。
の形成溝（２１ｂ）の溝入加工においてその溝幅及び深
さを大となし溝エツジ部がガラス部（２２１に充分かか
るように加工しておけばよい＠ 以上の様に構成される本発明の磁気ヘッドにおいて金属
磁性薄膜層（ハ）の積層面とギャップ面ｇとのなす角は
２Ｏ２以上であることが必要で、それ以下の角度では隣
接トラックからのクロストークが大きくなり、最も望ま
しくは３０°以上の角度を付けるのがよい。又、角度の
最大値については９０゜まで可能であるが耐摩耗性の観
点から８０°以下が望ましい・ 尚、本例では金属磁性薄膜層（ハ）間に介在させる絶縁
膜（２４）は５１０２ｔＴａ２０５としたがＡｔ２０．
＊ ＺｒＯ２゜５１３Ｎ４等その他の高耐摩耗性絶縁
膜であってもよいＯ又、金属磁性薄膜層（２濠もス／４
’ツタリングによるセンダストに限らず、スノ母ツタリ
ングによるアモルハス磁性膜等高飽和磁束密度の金属磁
性薄膜であればよい。
又、ガラス（２りその他の非磁性材料を充填埋設して基
板とする酸化物磁性材料はＮｉ−Ｚｎフェライト、フエ
ロクスグレーナその他の高周波酸化物磁性林料であって
もよいことは言うまでもない。
板とする酸化物磁性材料はＮｉ−Ｚｎフェライト、フエ
ロクスグレーナその他の高周波酸化物磁性林料であって
もよいことは言うまでもない。
以上の様に本例では磁性ギャップｇを形成する金属磁性
薄膜層Ｃ漕は真空薄膜形成技術即ち−ＩＩｉ−空薄膜形
成装置の中で絶縁膜（２４）との交互１１［により形成
するので従来のごとく金属弾磁性箔をガラス無機接着剤
、有機接着剤等の接着層を積層して形成するものに比し
て金属磁性薄膜間に間隙があくこともなく又、金属磁性
薄膜の積層は従来のハンドリングによる積層に較らべ簡
単且つ確実に行なうことができ高周波特性の優れた高磁
束密度の記録再生が可能な高耐摩耗性磁気ヘッドを得る
ことができる。
薄膜層Ｃ漕は真空薄膜形成技術即ち−ＩＩｉ−空薄膜形
成装置の中で絶縁膜（２４）との交互１１［により形成
するので従来のごとく金属弾磁性箔をガラス無機接着剤
、有機接着剤等の接着層を積層して形成するものに比し
て金属磁性薄膜間に間隙があくこともなく又、金属磁性
薄膜の積層は従来のハンドリングによる積層に較らべ簡
単且つ確実に行なうことができ高周波特性の優れた高磁
束密度の記録再生が可能な高耐摩耗性磁気ヘッドを得る
ことができる。
発明の効果
以上の様に本発明によれば磁気ギャップ近傍は金属磁性
薄膜で形成され磁気ギャップ近傍から２ｑすれた領域に
おいては即ちテープ摺動面の大部分が高耐摩耗性−の強
磁性酸化物より形成されるので高周波特性の優れた高磁
束密度の記録再生が可能な高耐摩耗性磁気ヘッドを安価
に提供できる等の効果を有する。
薄膜で形成され磁気ギャップ近傍から２ｑすれた領域に
おいては即ちテープ摺動面の大部分が高耐摩耗性−の強
磁性酸化物より形成されるので高周波特性の優れた高磁
束密度の記録再生が可能な高耐摩耗性磁気ヘッドを安価
に提供できる等の効果を有する。
第１図〜第３図は従来のＶＴＲ用の磁気ヘッドの各側の
斜視図、第４図は本発明による磁気ヘッドの一例の斜視
図、第５図は同一部の拡大正面図、第６図は同磁気ヘッ
ドの分解斜視図、第７図〜第１３図は本発明による磁気
ヘッドの一例の装造工程図、第１４図は同工程によル製
造された磁気ヘッドの斜視図、第１５図はアジマス記録
用磁気ヘッドの切削工程を示す斜視図、第１６図は囮ア
ジマス記録用磁気ヘッドの斜視図、第１７図〜第１９図
は本発明による磁気ヘッドの他側の斜視図である。 図中、（ｌｉｔ 、（３１−） 、（３１っけ磁気ヘッ
ド、（ｌ１ｍ）、（ｌｌｂ）。 （３１ａ） 、 （３１ｂ）は磁気コア半休、０１．
（２３１は金属磁性薄膜層、０２ 、 （２３は非磁性
材、ｇは磁気ギャップである。 第１５図 第１６図 第１７図 第１８図 第１頁の続き ０発 明 者 久 村 達 雄 東京部品川区北品川口
ダクツ株式会社内 ６丁目５番６号 ソニー・マグネ・プ
斜視図、第４図は本発明による磁気ヘッドの一例の斜視
図、第５図は同一部の拡大正面図、第６図は同磁気ヘッ
ドの分解斜視図、第７図〜第１３図は本発明による磁気
ヘッドの一例の装造工程図、第１４図は同工程によル製
造された磁気ヘッドの斜視図、第１５図はアジマス記録
用磁気ヘッドの切削工程を示す斜視図、第１６図は囮ア
ジマス記録用磁気ヘッドの斜視図、第１７図〜第１９図
は本発明による磁気ヘッドの他側の斜視図である。 図中、（ｌｉｔ 、（３１−） 、（３１っけ磁気ヘッ
ド、（ｌ１ｍ）、（ｌｌｂ）。 （３１ａ） 、 （３１ｂ）は磁気コア半休、０１．
（２３１は金属磁性薄膜層、０２ 、 （２３は非磁性
材、ｇは磁気ギャップである。 第１５図 第１６図 第１７図 第１８図 第１頁の続き ０発 明 者 久 村 達 雄 東京部品川区北品川口
ダクツ株式会社内 ６丁目５番６号 ソニー・マグネ・プ
Claims (1)
- 強磁性酸化物よりなる磁気コア半休対の接合面に真空薄
膜形成技術によル強磁性金属薄膜を形成し、この磁気コ
ア半休対を突き合わせて磁気ギャップを形成してなる磁
気ヘッドにおいて、上記磁気ギャップ形成面と上記強磁
性金属薄膜形成面とが所要角度で傾斜していることを特
徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14013683A JPS6032107A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14013683A JPS6032107A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6032107A true JPS6032107A (ja) | 1985-02-19 |
| JPH0546009B2 JPH0546009B2 (ja) | 1993-07-12 |
Family
ID=15261716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14013683A Granted JPS6032107A (ja) | 1983-07-30 | 1983-07-30 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6032107A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4682256A (en) * | 1984-11-01 | 1987-07-21 | Victor Company Of Japan, Ltd. | Method of manufacturing a composite type magnetic head |
| US4926276A (en) * | 1987-02-20 | 1990-05-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic head having reinforcing block |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5496013A (en) * | 1978-01-13 | 1979-07-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Compound magnetic head |
| JPS56124112A (en) * | 1980-03-06 | 1981-09-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic head |
| JPS56169214A (en) * | 1980-06-02 | 1981-12-25 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | Magnetic head |
| JPS58155513A (ja) * | 1982-03-10 | 1983-09-16 | Hitachi Ltd | 複合型磁気ヘツドおよびその製造方法 |
| JPS58175122A (ja) * | 1982-04-07 | 1983-10-14 | Hitachi Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
-
1983
- 1983-07-30 JP JP14013683A patent/JPS6032107A/ja active Granted
Patent Citations (5)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0546009B2 (ja) | 1993-07-12 |
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