JPS6029951A - 光メモリ素子 - Google Patents
光メモリ素子Info
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- JPS6029951A JPS6029951A JP58139598A JP13959883A JPS6029951A JP S6029951 A JPS6029951 A JP S6029951A JP 58139598 A JP58139598 A JP 58139598A JP 13959883 A JP13959883 A JP 13959883A JP S6029951 A JPS6029951 A JP S6029951A
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- Japan
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- adhesive
- optical memory
- thin film
- methacrylate
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C65/00—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor
- B29C65/48—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C65/00—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor
- B29C65/48—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding
- B29C65/4805—Joining or sealing of preformed parts, e.g. welding of plastics materials; Apparatus therefor using adhesives, i.e. using supplementary joining material; solvent bonding characterised by the type of adhesives
- B29C65/483—Reactive adhesives, e.g. chemically curing adhesives
- B29C65/4845—Radiation curing adhesives, e.g. UV light curing adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C66/00—General aspects of processes or apparatus for joining preformed parts
- B29C66/40—General aspects of joining substantially flat articles, e.g. plates, sheets or web-like materials; Making flat seams in tubular or hollow articles; Joining single elements to substantially flat surfaces
- B29C66/41—Joining substantially flat articles ; Making flat seams in tubular or hollow articles
- B29C66/45—Joining of substantially the whole surface of the articles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2017/00—Carriers for sound or information
- B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
- B29L2017/003—Records or discs
- B29L2017/005—CD''s, DVD''s
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は、レーザ等の光により情報の記録・再生・消去
等を行なう光メモリ素子に関する。
等を行なう光メモリ素子に関する。
〈従来技術〉
近年、大容量、高密度、高速アクセス化の可能な記憶素
子への要望が高まる中で、光メモリ素子の研究開発が活
発に行なわれている。
子への要望が高まる中で、光メモリ素子の研究開発が活
発に行なわれている。
先メモリ＊子においては−ガラスやアクリル樹脂等の合
成樹脂よりなる基体上に記憶媒体が形成され、傷、汚れ
、はこりといった外乱からの保護の目的から媒体形成面
同士を相対峙する形で貼り合わせ、合わせて両面使用可
能な構成をとるのが一般的である。また、記憶媒体が形
成された基体と、記憶媒体が形成されていない基体とを
、その記憶媒体を挾むように２枚の基体を貼り合わせる
こともある。その際、外気にさらされる周辺部からの媒
体の酸化腐食を避けるために、該周辺部の媒体を除去し
た緩衝部を形成する必要がある。
成樹脂よりなる基体上に記憶媒体が形成され、傷、汚れ
、はこりといった外乱からの保護の目的から媒体形成面
同士を相対峙する形で貼り合わせ、合わせて両面使用可
能な構成をとるのが一般的である。また、記憶媒体が形
成された基体と、記憶媒体が形成されていない基体とを
、その記憶媒体を挾むように２枚の基体を貼り合わせる
こともある。その際、外気にさらされる周辺部からの媒
体の酸化腐食を避けるために、該周辺部の媒体を除去し
た緩衝部を形成する必要がある。
ところで、上記光メモリ素子の作成にあたっては、次の
２通りの方法が、広く知られている。一つは上記緩衝部
のみをスペーサを介して貼り合わせ、２枚の基体の間隙
には、不活性ガス等を充填する〔エアサンドウィッチ構
造〕方法である。しかしこの方法では、貼り合わせ時の
工程が、煩雑になる点、及び貼り合わせ後の機械的強度
の確保の必要上接着部面積を成る程度、広く確保せねば
ならず、ために記憶素子の全記憶容量の減少はまぬがれ
ない欠点がある。
２通りの方法が、広く知られている。一つは上記緩衝部
のみをスペーサを介して貼り合わせ、２枚の基体の間隙
には、不活性ガス等を充填する〔エアサンドウィッチ構
造〕方法である。しかしこの方法では、貼り合わせ時の
工程が、煩雑になる点、及び貼り合わせ後の機械的強度
の確保の必要上接着部面積を成る程度、広く確保せねば
ならず、ために記憶素子の全記憶容量の減少はまぬがれ
ない欠点がある。
他の方法では、全面を接着剤にて、貼り合わせる。この
方法であれば、前記問題は回避出来る。
方法であれば、前記問題は回避出来る。
その場合接着剤には、−液性で、オープンタイム（接着
剤塗布から貼り合わせまでの時間）が長（とれ、作業性
でも有利として、紫外線硬化型接着剤が広く使用されて
いる。この場合、主に金属質より成る媒体形成部は、紫
外線が透過しにくいため、その媒体形成部間の接着硬化
を完結するために、嫌気硬化性を付与した紫外線硬化接
着剤を用いる必要がある。そのような接着剤として、例
えばアクリルウレタンオリゴマーにカットモノマー。
剤塗布から貼り合わせまでの時間）が長（とれ、作業性
でも有利として、紫外線硬化型接着剤が広く使用されて
いる。この場合、主に金属質より成る媒体形成部は、紫
外線が透過しにくいため、その媒体形成部間の接着硬化
を完結するために、嫌気硬化性を付与した紫外線硬化接
着剤を用いる必要がある。そのような接着剤として、例
えばアクリルウレタンオリゴマーにカットモノマー。
光開始剤、安定剤等を適宜調合したものに加えて、嫌気
性付与剤としてハイドロパーオキサイドと３級アミンを
添加したもの等が挙げられる。
性付与剤としてハイドロパーオキサイドと３級アミンを
添加したもの等が挙げられる。
一方、光メモリ素子の記憶媒体を構成する物質には、酸
化によって特性劣化するものが多く、特に水分の介在に
よって急速に腐食が進行し畢いため、素子の耐湿性の向
上は実用化にとって不可避の問題となっている。ところ
が；従来の接着剤に基づく前述の封止技術では、例えば
、高温・多湿下といった保存環境によっては、接着剤自
体の吸湿、膨潤による基体からの剥離、密着性低下に伴
って、界面を通しての水分の侵入が加速され、記憶媒体
の腐食の引金となる問題が避は得なかった。
化によって特性劣化するものが多く、特に水分の介在に
よって急速に腐食が進行し畢いため、素子の耐湿性の向
上は実用化にとって不可避の問題となっている。ところ
が；従来の接着剤に基づく前述の封止技術では、例えば
、高温・多湿下といった保存環境によっては、接着剤自
体の吸湿、膨潤による基体からの剥離、密着性低下に伴
って、界面を通しての水分の侵入が加速され、記憶媒体
の腐食の引金となる問題が避は得なかった。
〈目的〉
本発明は、以上の従来技術を改善するためになされたも
のであり、従来の嫌気性を付与した紫外線硬化接着剤に
、密着性付与剤を添加し、特に両面接着後の耐湿性を強
化して信頼性を強化せしめた、光メモリ素子を提供する
ことを目的とする。
のであり、従来の嫌気性を付与した紫外線硬化接着剤に
、密着性付与剤を添加し、特に両面接着後の耐湿性を強
化して信頼性を強化せしめた、光メモリ素子を提供する
ことを目的とする。
〈構成〉
本発明は、光メモリ媒体を基体上に形成した後、媒体部
を挾んで２枚の基体を接着剤にて貼り合わせた光メモリ
素子において、前記接着剤として、紫外線硬化性及び嫌
気硬化性を有する接着剤に、撥水性を有するシランカッ
プリング剤、又はチタンカップリング剤等の密着性付与
剤を添加した接着剤を使用したものである。
を挾んで２枚の基体を接着剤にて貼り合わせた光メモリ
素子において、前記接着剤として、紫外線硬化性及び嫌
気硬化性を有する接着剤に、撥水性を有するシランカッ
プリング剤、又はチタンカップリング剤等の密着性付与
剤を添加した接着剤を使用したものである。
本発明の対象となる光メモリ媒体は、Ｔｅ薄膜。
Ｔｅ低低級酸化物薄膜１素素薄膜希土類−遷移金属合金
非晶質薄膜等のように、大気あるいは水分５により腐食
されやすい媒体である。希土類−遷移金属合金非晶質薄
膜としては、後に実施例で示すＧｄＴｂＦｅ薄膜のほか
、ＴｂＤｙＦｅ系薄膜などがある。
非晶質薄膜等のように、大気あるいは水分５により腐食
されやすい媒体である。希土類−遷移金属合金非晶質薄
膜としては、後に実施例で示すＧｄＴｂＦｅ薄膜のほか
、ＴｂＤｙＦｅ系薄膜などがある。
これらの光メモリ媒体を用いて構成される光メモリ素子
は、貼り合わされた２枚の基体の間に光メモリ媒体が挾
まれた構造になっているが、その光メモリ媒体は、実施
例の如き２層のものであってもよ（、あるいは１層のも
のであってもよい。
は、貼り合わされた２枚の基体の間に光メモリ媒体が挾
まれた構造になっているが、その光メモリ媒体は、実施
例の如き２層のものであってもよ（、あるいは１層のも
のであってもよい。
本発明で用いられる接着剤は、前述の如き嫌気硬化性を
付与した紫外線硬化接着剤に更に密着性付与剤を添加し
たものであり、具体的、に例示すると以下の如くである
。
付与した紫外線硬化接着剤に更に密着性付与剤を添加し
たものであり、具体的、に例示すると以下の如くである
。
ベースとなるアクリルウレタンオリゴマーとしては、ポ
リエステルウレタンメタクリレート、ポリエーテルウレ
タンメタクリレート、ポリブタジェンウレタンメタクリ
レート等が使用される。さらに詳しく述べればポリエス
テルウレタンメタクリレートは、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，
６−へキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のポ
リオールとアジピン酸、フマル酸、フタル酸、テレフタ
ル酸等のポリカルボン酸を構成成分とする水酸基価が２
０から２００を有するポリエステルポリオールに、ポリ
インシアネート、例えば１．６−へキサメチレンジイン
シアネート、メチレン−ビス−（４−フェニルインシア
ネート）、トリレンジインシアネートからなく少くとも
１種を、ポリエステルポリオールの水酸基１個に対しポ
リイソシアネート１個を反応させ、さらにポリイソシア
ネートに残存するインシアネート基１個に水酸基含有メ
タクリレート、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート等のうち少
くとも一種、を１個反応させて得られるものを言い、ポ
リエーテルウレタンメタクリレートはポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレ
ンエーテルグリコール等の水酸基価２０から２００を有
するポリエーテルポリオールの水酸基１個に前述のポリ
インシアネート１個を反応させ、さらにボリインシアネ
ートに残存するインシアネート基１個に前述の水酸基含
有メタクリレートを反応させて得られるものを言い、ポ
リブタジェンメタクリレートは、末端に水酸基を有す−
るポリブタジェン。
リエステルウレタンメタクリレート、ポリエーテルウレ
タンメタクリレート、ポリブタジェンウレタンメタクリ
レート等が使用される。さらに詳しく述べればポリエス
テルウレタンメタクリレートは、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，
６−へキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のポ
リオールとアジピン酸、フマル酸、フタル酸、テレフタ
ル酸等のポリカルボン酸を構成成分とする水酸基価が２
０から２００を有するポリエステルポリオールに、ポリ
インシアネート、例えば１．６−へキサメチレンジイン
シアネート、メチレン−ビス−（４−フェニルインシア
ネート）、トリレンジインシアネートからなく少くとも
１種を、ポリエステルポリオールの水酸基１個に対しポ
リイソシアネート１個を反応させ、さらにポリイソシア
ネートに残存するインシアネート基１個に水酸基含有メ
タクリレート、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート等のうち少
くとも一種、を１個反応させて得られるものを言い、ポ
リエーテルウレタンメタクリレートはポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレ
ンエーテルグリコール等の水酸基価２０から２００を有
するポリエーテルポリオールの水酸基１個に前述のポリ
インシアネート１個を反応させ、さらにボリインシアネ
ートに残存するインシアネート基１個に前述の水酸基含
有メタクリレートを反応させて得られるものを言い、ポ
リブタジェンメタクリレートは、末端に水酸基を有す−
るポリブタジェン。
エポキシ変性ポリブタジェン、水素添加したポリブタジ
ェン等の水酸基価２０〜２００を有するポリブタジェン
の水酸基１個に前述のポリインシアネート１個を反応さ
せ、さらにポリインシアネートに残存するインシアネー
ト基１個に前述の水酸基含有メタクリレート１個を反応
させて得られるものを言う。上記アクリルウレタンオリ
ゴマー３０から８０部に、接着剤を低粘度化し平面作業
性を改善するカットモノマーとしてヒドロキシアルキル
メタクリレート、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等から
なる少くとも１種、とアルキルメタクリレート、例えば
２−エチルへキシルメタクリレート、ラウリルメタクリ
レート、トリデシルメタクリレート等からなる少くとも
１種、とを２０部から７０部調合添加し、光増感剤とし
てジメチルベンジルケタール、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインインプロピルエーテル、ベンゾフェノン
、ベンジル等からなる少くとも１種を０．１部から１０
部、好ましくは１部がら３部、さらに嫌気性付与剤とし
てハイドロパーオキサイド、例エバｌ、１，３．３−テ
トラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、ターシャリ−ブチルハイドロパー
オキサイド等からなる少くとも１種、を０．１部から３
部と、３級アミン、例えばＮ、Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｐ−トルイジン等からなる少くと
も１種。
ェン等の水酸基価２０〜２００を有するポリブタジェン
の水酸基１個に前述のポリインシアネート１個を反応さ
せ、さらにポリインシアネートに残存するインシアネー
ト基１個に前述の水酸基含有メタクリレート１個を反応
させて得られるものを言う。上記アクリルウレタンオリ
ゴマー３０から８０部に、接着剤を低粘度化し平面作業
性を改善するカットモノマーとしてヒドロキシアルキル
メタクリレート、例えば２−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等から
なる少くとも１種、とアルキルメタクリレート、例えば
２−エチルへキシルメタクリレート、ラウリルメタクリ
レート、トリデシルメタクリレート等からなる少くとも
１種、とを２０部から７０部調合添加し、光増感剤とし
てジメチルベンジルケタール、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインインプロピルエーテル、ベンゾフェノン
、ベンジル等からなる少くとも１種を０．１部から１０
部、好ましくは１部がら３部、さらに嫌気性付与剤とし
てハイドロパーオキサイド、例エバｌ、１，３．３−テ
トラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイ
ドロパーオキサイド、ターシャリ−ブチルハイドロパー
オキサイド等からなる少くとも１種、を０．１部から３
部と、３級アミン、例えばＮ、Ｎ−ジメチルアニリン、
Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｐ−トルイジン等からなる少くと
も１種。
を０．０１部から１部、また貯蔵安定剤としてハイドロ
キノン、メトキノン、ジターシャリ−ブチル−Ｐ−クレ
ゾール等のうち少くとも１種を０．０１部から０．５部
添加し、さらに本発明の特徴たる密着性向上の添加剤と
して撥水性のあるシランカップリング剤またはチタンカ
ップリング剤のうち少くとも１種を接着剤に対し０．５
部から１部部、好ましくは２部から５部を使用する。シ
ランカップリング剤としてはビニルトリメトキシシラン
、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン。
キノン、メトキノン、ジターシャリ−ブチル−Ｐ−クレ
ゾール等のうち少くとも１種を０．０１部から０．５部
添加し、さらに本発明の特徴たる密着性向上の添加剤と
して撥水性のあるシランカップリング剤またはチタンカ
ップリング剤のうち少くとも１種を接着剤に対し０．５
部から１部部、好ましくは２部から５部を使用する。シ
ランカップリング剤としてはビニルトリメトキシシラン
、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン。
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等があり
、チタンカップリング剤としてはジインプロポキシビス
（アセチルアセトナト）チタンｔジヒドロキシビスラク
タトチタン等がある。
、チタンカップリング剤としてはジインプロポキシビス
（アセチルアセトナト）チタンｔジヒドロキシビスラク
タトチタン等がある。
この接着剤の使用により基体との密着性が飛躍的に向上
し、加湿下にて従来問題となった接着部の吸湿、膨潤、
剥離といった問題もなくなり、その結果、光メモリ素子
自体の耐湿性の大幅な向上が可能となる。
し、加湿下にて従来問題となった接着部の吸湿、膨潤、
剥離といった問題もなくなり、その結果、光メモリ素子
自体の耐湿性の大幅な向上が可能となる。
〈実施例〉
以下、本発明に係る光メモリ素子の一実施例について、
図面を用いて詳細に説明する。
図面を用いて詳細に説明する。
第１図は、本発明に係わる光メモリ素子の一例たる光デ
ィスクの外観斜視図、第２図はその一部側面断面図であ
る。１はガラス或いは、アクリル樹脂等合成樹脂より成
る支持基体、２は光記録部材薄膜、３は接着剤層、４は
中心孔、５は記録部材を除去した緩衝部である。
ィスクの外観斜視図、第２図はその一部側面断面図であ
る。１はガラス或いは、アクリル樹脂等合成樹脂より成
る支持基体、２は光記録部材薄膜、３は接着剤層、４は
中心孔、５は記録部材を除去した緩衝部である。
支持基体１の表面に記録部材層２を形成し、その記録部
材層２を有する面に接着剤３を全面塗布した後、２枚の
支持基体を記録部材層が相対峙する形で貼り合わせ、一
方の基体側より紫外線を照射して透明緩衝部５を紫外線
硬化接着せしめ、記録部材部は嫌気硬化性にて接着せし
める。
材層２を有する面に接着剤３を全面塗布した後、２枚の
支持基体を記録部材層が相対峙する形で貼り合わせ、一
方の基体側より紫外線を照射して透明緩衝部５を紫外線
硬化接着せしめ、記録部材部は嫌気硬化性にて接着せし
める。
ここで、情報の追加記録及び消去を可能とする磁気光学
記憶素子を例に挙げてその効果を示す。
記憶素子を例に挙げてその効果を示す。
該磁気光学記憶素子は、ガラス基板上に、非晶質ＧｄＴ
ｂＦｅ記憶薄膜、ＡＩ！Ｎ誘電体膜、ＳＵ３反射膜を、
順次、スパッタリングにて、積層構造としたものを、膜
面を相対峙させた形で接着剤にて貼り合わせた構造をと
る。特に、該ＣｄＴｂＦｅ膜層は酸化腐食に弱く、この
種の記憶素子では確実な封止接着法が望まれる。本例に
ても素子周辺部には既述の緩衝部が設けである。
ｂＦｅ記憶薄膜、ＡＩ！Ｎ誘電体膜、ＳＵ３反射膜を、
順次、スパッタリングにて、積層構造としたものを、膜
面を相対峙させた形で接着剤にて貼り合わせた構造をと
る。特に、該ＣｄＴｂＦｅ膜層は酸化腐食に弱く、この
種の記憶素子では確実な封止接着法が望まれる。本例に
ても素子周辺部には既述の緩衝部が設けである。
ここで、接着剤を各種変えた該記憶素子を用意し、耐湿
環境試験を課した。環境試験条件としては、温湿度サイ
クル試験（−２０℃と７０℃、９５％Ｒ，Ｈ１の間のサ
イクルを１日４サイクルの割合で繰り返す〕、恒温、恒
湿試験（６０℃、９５％Ｒ，Ｈ，）及び温水浸漬試験（
８０℃温水）をそれぞれ行なった。
環境試験を課した。環境試験条件としては、温湿度サイ
クル試験（−２０℃と７０℃、９５％Ｒ，Ｈ１の間のサ
イクルを１日４サイクルの割合で繰り返す〕、恒温、恒
湿試験（６０℃、９５％Ｒ，Ｈ，）及び温水浸漬試験（
８０℃温水）をそれぞれ行なった。
従来の嫌気性付与紫外線硬化接着剤としては、エチレン
グリコール、アジピン酸を構成成分とする水酸基価１１
０を有するポリエステルポリオールとインホロンジイン
シアネート及びヒドロキ゛ジエチルメタクリレートを前
述の割合で反応せしめたベースとしてのポリエステルウ
レタンメタクリレート５５部に、ヒドロキシプロピルメ
タクリレ−）２５ｍと２−エチルへキシルメタクリレー
ト２０部をカットモノマーとして添加し、さらにＮ、Ｎ
−ジメチル−Ｐ−トルイジン０．１部とクメンハイドロ
パーオキサイド０．４部を嫌気性付与剤として、ベンジ
ルジメチルケタール２部を光増感剤として、それにハイ
ドロキノン０．０２部を貯蔵安定剤として添加して調合
したものを使用した。本発明に係る密着性付与剤を添加
した嫌気性付与紫外線硬化接着剤としては、上記の接着
剤組成に密着剤付与剤としてγ−メタクリしキシプロピ
ルトリメトキシシラン４部を調合したものを使用した。
グリコール、アジピン酸を構成成分とする水酸基価１１
０を有するポリエステルポリオールとインホロンジイン
シアネート及びヒドロキ゛ジエチルメタクリレートを前
述の割合で反応せしめたベースとしてのポリエステルウ
レタンメタクリレート５５部に、ヒドロキシプロピルメ
タクリレ−）２５ｍと２−エチルへキシルメタクリレー
ト２０部をカットモノマーとして添加し、さらにＮ、Ｎ
−ジメチル−Ｐ−トルイジン０．１部とクメンハイドロ
パーオキサイド０．４部を嫌気性付与剤として、ベンジ
ルジメチルケタール２部を光増感剤として、それにハイ
ドロキノン０．０２部を貯蔵安定剤として添加して調合
したものを使用した。本発明に係る密着性付与剤を添加
した嫌気性付与紫外線硬化接着剤としては、上記の接着
剤組成に密着剤付与剤としてγ−メタクリしキシプロピ
ルトリメトキシシラン４部を調合したものを使用した。
これらの接着剤を使用した記憶素子の環境試験結果を比
較した結果、前者ではサイクル試験及び恒温恒湿試験１
週間前後で接着面部にｍｌ潤帰因と思われる皺状の浮き
剥がれかみえてきたのに対し、後者では３週間経過後も
何ら異常は認められなかった。また温水浸漬試験でも、
浮き剥がれが見え始める時間が、前者では５時間以内で
あるのに対し、後者では２５時間以上との結果を得た。
較した結果、前者ではサイクル試験及び恒温恒湿試験１
週間前後で接着面部にｍｌ潤帰因と思われる皺状の浮き
剥がれかみえてきたのに対し、後者では３週間経過後も
何ら異常は認められなかった。また温水浸漬試験でも、
浮き剥がれが見え始める時間が、前者では５時間以内で
あるのに対し、後者では２５時間以上との結果を得た。
さらに、接着剤の引張り接着強さを比較してみても、温
水浸漬テスト（６０℃、１０時間）を行う前は供に６０
ＫＰ／ｃＪ以上の接着強度があるが、温水浸漬テスト後
は前者は８に９／ａＲしかないのに対し、後者は４４〜
／ｄの引張り接着強さを示した。
水浸漬テスト（６０℃、１０時間）を行う前は供に６０
ＫＰ／ｃＪ以上の接着強度があるが、温水浸漬テスト後
は前者は８に９／ａＲしかないのに対し、後者は４４〜
／ｄの引張り接着強さを示した。
以上の例からも、確実に、記憶素子の耐湿性の改善がは
かられていることがわかる。
かられていることがわかる。
〈効果〉
本発明によれば、光メモリ素子の耐湿性が著しく強化さ
れるため、記憶素子としての信頼性が大きく向上する。
れるため、記憶素子としての信頼性が大きく向上する。
第１図は本発明に係わる光メモリ素子の一実施例たるデ
ィスクを示す外観斜視図、第２図はその一部を示す側面
断面図である。 １・・・ガラス或いは合成樹脂より成る支持基体、２・
・・光記録部材薄膜、３・・・接着剤層、４・・・中心
孔、５・・・緩衝部。 特許出願人 シャープ株式会社 はか１名代 理 人
弁理士 前出葆 外 ２名特許庁長官 殿 １事件の表示 お３−ｙ、ｙｉ’ｔ７と２発明の名称 光メモリ素子 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 大阪府大阪市阿倍野区長池町２２番２２号名称（
５０４） シャープ株式会社 （ほか１名）代表者 佐
伯 旭 ４、代理人 ６、補正の対象：明細書の発明の詳細な説明の欄７、補
正の内容 （１）明細書５頁１５〜１９行目に「ポリエステルウレ
タン・・・・・・メタクリレートは、」とある・を次の
ように補正する。 ［ポリエステルウレタン（メタ）アクリレートにこで（
メタ）アクリレートはメタクリレート及びアクリレート
の両方を包含する意味で使用する。以下同じ）、ポリエ
ーテルウレタン（メタ）アクリレート、ポリブタジェン
ウレタン（メタ）アクリレート等が使用される６さらに
詳しく述べればポリエステルウレタン（メタ）アクリレ
ートは、」（２）同６頁１２〜１４行目に「メタクリレ
ート、・・・・・・メタクリレート」とあるを次のよう
１こ補正する。 「（メタ）アクリレート、例えば２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ
）アクリレート」 （３）同６頁１５〜１６行目に［ポリエーテルウレタン
メタクリレート］とあるを「ポリエーテλレウレタン（
メタ）アクリレート」と補正する。 （４）同７頁２行目及び１０行目に「メタクリレート」
とあるを「（メタ）アクリレート」と補正する。 （５）同７頁３〜４行目に「ポリブタジェンメタクリレ
ート」とあるを［ポリブタジェン（メタ）アクリレート
」と補正する。 （６）同７頁１３〜１９行目に［ヒドロキシアルキルメ
タクリレート、・・・・・・トリデシルメタクリレート
」とあるを次のように補正する。 ［ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、例えば２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ−Ｆ。 ２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等からな
る少くとも１種、とアルキル（メタ）アクリレート、例
えば２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリ
ル（メタ）アクリレート、）リゾシル（メタ）アクリレ
−日
ィスクを示す外観斜視図、第２図はその一部を示す側面
断面図である。 １・・・ガラス或いは合成樹脂より成る支持基体、２・
・・光記録部材薄膜、３・・・接着剤層、４・・・中心
孔、５・・・緩衝部。 特許出願人 シャープ株式会社 はか１名代 理 人
弁理士 前出葆 外 ２名特許庁長官 殿 １事件の表示 お３−ｙ、ｙｉ’ｔ７と２発明の名称 光メモリ素子 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 大阪府大阪市阿倍野区長池町２２番２２号名称（
５０４） シャープ株式会社 （ほか１名）代表者 佐
伯 旭 ４、代理人 ６、補正の対象：明細書の発明の詳細な説明の欄７、補
正の内容 （１）明細書５頁１５〜１９行目に「ポリエステルウレ
タン・・・・・・メタクリレートは、」とある・を次の
ように補正する。 ［ポリエステルウレタン（メタ）アクリレートにこで（
メタ）アクリレートはメタクリレート及びアクリレート
の両方を包含する意味で使用する。以下同じ）、ポリエ
ーテルウレタン（メタ）アクリレート、ポリブタジェン
ウレタン（メタ）アクリレート等が使用される６さらに
詳しく述べればポリエステルウレタン（メタ）アクリレ
ートは、」（２）同６頁１２〜１４行目に「メタクリレ
ート、・・・・・・メタクリレート」とあるを次のよう
１こ補正する。 「（メタ）アクリレート、例えば２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ
）アクリレート」 （３）同６頁１５〜１６行目に［ポリエーテルウレタン
メタクリレート］とあるを「ポリエーテλレウレタン（
メタ）アクリレート」と補正する。 （４）同７頁２行目及び１０行目に「メタクリレート」
とあるを「（メタ）アクリレート」と補正する。 （５）同７頁３〜４行目に「ポリブタジェンメタクリレ
ート」とあるを［ポリブタジェン（メタ）アクリレート
」と補正する。 （６）同７頁１３〜１９行目に［ヒドロキシアルキルメ
タクリレート、・・・・・・トリデシルメタクリレート
」とあるを次のように補正する。 ［ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、例えば２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレ−Ｆ。 ２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等からな
る少くとも１種、とアルキル（メタ）アクリレート、例
えば２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリ
ル（メタ）アクリレート、）リゾシル（メタ）アクリレ
−日
Claims (1)
- （１）光メモリ媒体を基体上に形成した後、媒体部を挾
んで２枚の基体を接着剤にて貼り合わせた光メモリ素子
において、前記接着剤として、紫外線硬化性及び嫌気硬
化性を有する接着剤に、撥水性を有するシランカップリ
ング剤、又はチタンカップリング剤等の密着性付与剤を
添加した接着剤を使用したことを特徴とする光メモリ素
子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58139598A JPS6029951A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 光メモリ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58139598A JPS6029951A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 光メモリ素子 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6138612A Division JP2527534B2 (ja) | 1994-06-21 | 1994-06-21 | 光メモリ素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6029951A true JPS6029951A (ja) | 1985-02-15 |
| JPH0554185B2 JPH0554185B2 (ja) | 1993-08-11 |
Family
ID=15248997
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58139598A Granted JPS6029951A (ja) | 1983-07-29 | 1983-07-29 | 光メモリ素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6029951A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60185234A (ja) * | 1984-03-05 | 1985-09-20 | Ricoh Co Ltd | 情報記録媒体 |
| JPS61217945A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 情報記録ディスクの接着方法 |
| JPS626448A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-13 | Sharp Corp | 光メモリ素子 |
| JPS6394445A (ja) * | 1986-10-08 | 1988-04-25 | Matsushita Graphic Commun Syst Inc | 光学式情報記録媒体 |
| EP0383015A2 (en) * | 1989-01-13 | 1990-08-22 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Production of laminated film |
| JPH03116459A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスクの製造方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5372506U (ja) * | 1976-11-19 | 1978-06-17 | ||
| JPS54133586A (en) * | 1978-04-10 | 1979-10-17 | Hitachi Ltd | Photo-setting adhesive composition |
| JPS54142299A (en) * | 1978-04-28 | 1979-11-06 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Photo-setting composition |
| JPS57130229A (en) * | 1981-02-04 | 1982-08-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | Manufacture of magnetic recording material |
-
1983
- 1983-07-29 JP JP58139598A patent/JPS6029951A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5372506U (ja) * | 1976-11-19 | 1978-06-17 | ||
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| JPS54142299A (en) * | 1978-04-28 | 1979-11-06 | Denki Kagaku Kogyo Kk | Photo-setting composition |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0648547B2 (ja) * | 1985-03-25 | 1994-06-22 | 松下電器産業株式会社 | 情報記録ディスクの接着方法 |
| JPS626448A (ja) * | 1985-07-02 | 1987-01-13 | Sharp Corp | 光メモリ素子 |
| JPS6394445A (ja) * | 1986-10-08 | 1988-04-25 | Matsushita Graphic Commun Syst Inc | 光学式情報記録媒体 |
| EP0383015A2 (en) * | 1989-01-13 | 1990-08-22 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Production of laminated film |
| EP0383015A3 (en) * | 1989-01-13 | 1991-11-06 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Production of laminated film |
| JPH03116459A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光ディスクの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0554185B2 (ja) | 1993-08-11 |
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