JP2738970B2 - 二酸化塩素計 - Google Patents
二酸化塩素計Info
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Description
されている二酸化塩素の連続測定装置に係り、特に長期
間安定して正確な測定が可能な二酸化塩素計に関する。
ロメタンが大きな社会問題になっている。トリハロメタ
ンは浄水処理の不可欠な過程である塩素処理工程で、フ
ミン質などの原水中の有機物質と遊離の塩素が反応して
生成するもので、発癌性があることから低減下対策が種
々検討されている。
から二酸化塩素に変更するということがあげられてい
る。
ンなどの漂白に広く使用されてきているが、水道水の殺
菌に使用した場合には、トリハロメタンを生成しな
い、塩素より消毒力が強い、クロラミンを生成しな
いため消毒効果の低下がないなどの特長がある。
線を吸収することを利用して、波長395nmの吸光度から
濃度を求める紫外吸光度法が知られている。但しこの方
法は、UV計の測定セルの汚れがあること、濁度,フ
ミン質などの有機物の妨害があることから連続測定装置
の測定方法としては実用的ではない。
ョンアナリシスが新たに提案されている(Analitical C
hemistry 1985,57,PP.2851−2854)。この測定システム
は第5図に示すように、内部が多孔質フッ素樹脂膜1で
仕切られた分離室2、試料水を注入するためのインジェ
クター3、紫外部(395nm)の吸光度を測定するためのU
V計4、ペリスタチックポンプ5から構成される。
のように行われる。まず試料水は一定量インジェクター
3に注入され、次いでペリスタチックポンプ5によって
分離室2に移送される。分離室2には多孔質フッ素樹脂
膜1を隔てて吸収液(蒸留水またはしゅう酸溶液)も流
入してきている、試料水中に溶存している二酸化塩素は
ガス拡散により多孔質フッ素樹脂膜1中を拡散し、この
吸収液に吸収される。そしてこの吸収液の吸光度をUV計
4で測定することによって二酸化塩素濃度を求めるもの
である。
法に較べて、UV計の測定セルの汚れが少なくなり、試料
水中の濁度,フミン質などの有機物の吸光度測定時にお
ける妨害のない優れた方法であるが、一方では感度が経
時的に劣化するという問題がある。
起因するものである。つまり、試料水中に含まれる濁
度,有機物によって多孔質フッ素樹脂膜が次第に汚染さ
れ、また分離室内の圧力によって多孔質フッ素樹脂膜が
次第に変形するこめにそのガス透過性が変化し、感度の
劣化が生ずるものである。従って、長期間安定した正確
な測定ができないという問題があった。
化塩素の抽出法を改良することにより、試料水中に濁度
や有機物の影響を受けずしかも感度の長期安定性に優れ
る二酸化塩素計を提供することにある。
とを有する二酸化塩素計であって、 前記分離器は試料水とキャリアガスとを接触させて試
料水中の二酸化塩素をキャリアガス中に移行させるもの
であり、 前記ガス検出器はIn2O3を主成分とする半導体式ガス
センサであり,キャリアガス中の二酸化塩素をガスの状
態で検出し、二酸化塩素を連続的に測定するものである
とすることにより達成される。
ス中に移行する。気液平衡の手段としては、カウンタカ
レント法,ハブリング法,カラム抽出法等の方法があ
る。上述のハブリング法はキャリアガスを直接試料水中
に吹きこむものであり、カラム抽出法はラシヒリング等
をカラムに充填しておき、気液接触の機会を増やすもの
である。
衡させると、試料水中の二酸化塩素はキャリアガスに移
行するが、濁りの原因となる物質や、有機物はキャリア
ガスに移行しない。また気液平衡における物質移動は気
液界面を通して直接的に行われ何らの介在物がないので
物質移動は経時的に安定である。ガス検出器はキャリア
ガス中の二酸化塩素をそのまま検出することができる。
図において、11は試料水中の二酸化塩素をキャリアガス
中に移行さすための分離器で、試料水が内部を自然流下
するように水平に対し傾きαで設置されている。12は試
料水を排出するためのペリスタチックポンプで、試料水
は分離器11内に吸引されてこれを自然流下した後、この
ペリスタチックポンプ12で排出される。13はキャリアガ
ス吸引用のエアポンプで、キャリアガスは周囲空気から
活性炭カラム14,シリカゲルカラム15で洗浄,除湿され
て作られ、分離器11を通過する間に試料水中に溶存して
いる二酸化塩素を捕捉して半導体式ガスセンサを内蔵し
た測定チャンバ16に到達する。ここで半導体式ガスセン
サによって二酸化塩素が測定された後、排出される。測
定チャンバ16はヒータ17で加熱されており、内蔵された
半導体式ガスセンサの出力はレコーダ18に記録される。
細を第2図をもって説明する。第2図(a)は半導体式
ガスセンサを示す斜視図、第2図(b)は半導体式ガス
センサの断面図である。半導体式ガスセンサは電気絶縁
性基板、例えばアルミナ基板21、アルミナ基板21の表面
に蒸着により形成されたIn2O3を主成分とする金属酸化
物半導体薄膜22、半導体薄膜22の抵抗変化を測定する白
金膜電極23、アルミナ基板21の裏面に形成された気相中
の水分,油脂分による感度の経時的劣化を避けるための
白金膜ヒータ24により構成されている。
導体薄膜に吸着され、この半導体薄膜の抵抗を変化させ
る。抵抗変化の度合いは二酸化塩素濃度に比例するか
ら、キャリアガス中の二酸化塩素濃度、ひいては試料水
中の二酸化塩素濃度が測定される。
は以下の通りである。分離器11には内径8mm,外径10mm,
長さ20cmのガラス管を用い、傾きαは30度である。また
試料水流量は8.5ml/min.、キャリアガス流量は50ml/mi
n.、ヒータ17は設定濃度87℃である。
と二酸化塩素濃度との関係を示す線図である。二酸化塩
素濃度が0.065〜6.5mg/lの範囲では、二酸化塩素濃度と
センサ出力とは良好な直線関係にある。
半導体式ガスセンサ法による測定値との相関を示した。
この測定装置による測定値とは、半導体式ガスセンサの
出力を第3図に示した二酸化塩素濃度と半導体式ガスセ
ンサ出力との関係から濃度に換算したものである。紫外
吸光度法とは非常に高い相関があることがわかる。
によって測定チャンバ16を加熱しているが、これは二酸
化塩素と同様にキャリアガス中に移行してくる試料水中
の溶存ガスの妨害を防ぐためである。例えば、次亜塩素
酸は常温では半導体式ガスセンサで検知されるが、この
ように測定チャンバを加熱すると次亜塩素酸は分解さ
れ、半導体式ガスセンサでは検知されない。従ってヒー
タによる加熱は必ずしも必要なものではなく、次亜塩素
酸などの妨害成分が試料水中に含有されていなければ不
要である。
またはしゅう酸が不要で、保守が容易になるというメリ
ットがある。
酸化塩素計であって、 前記分離器は試料水とキャリアガスとを接触させて試
料水中の二酸化塩素をキャリアガス中に移行させるもの
であり、 前記ガス検出器はIn2O3を主成分とする半導体式ガス
センサであり,キャリアガス中の二酸化塩素をガスの状
態で検出し、二酸化塩素を連続的に測定するものである
ので、濁りの原因となる物質や、有機物が試料水よりキ
ャリアガスへ移行せずまた試料水中の二酸化塩素のキャ
リアガス中への移行も気液界面を通して直接的に行われ
何らの介在物も存在しないので、極めて安定であり、フ
ッ素樹脂膜を会する物質移動に見られるような膜の汚
染,変形による変動がない。キャリアガス中の二酸化塩
素はIn2O3を主成分とする半導体ガス検出器でそのまま
検出することができるので試料水中の濁りや有機物の影
響を受けず、さらに検出感度の安定性にも優れる二酸化
塩素計が得られる。
部配置図、第2図はこの発明の実施例に係る二酸化塩素
計のガス検出器を示し、第2図(a)は斜視図、第2図
(b)は断面図、第3図はこの発明の実施例に係る二酸
化塩素計の検量関係を示す線図、第4図はこの発明の実
施例に係る二酸化塩素計の半導体式ガスセンサにつきそ
の測定値と従来の紫外吸光度法による測定値との相関を
示す線図、第5図は従来の二酸化塩素計を示す要部配置
図である。 1:多孔質フッ素樹脂膜、2:分離室、3:インジェクター、
4:UV計、5:ペリスタチックポンプ、11:分離器、12:ペリ
スタチックポンプ、13:エアポンプ、14:活性炭カラム、
15:シリカゲルカラム、16:測定チャンバ、17:ヒータ、1
8:レコーダ、21:アルミナ基板、22:半導体薄膜、23:白
金膜電極、24:白金膜ヒータ。
Claims (1)
- 【請求項1】分離器とガス検出器とを有する二酸化塩素
計であって、 前記分離器は試料水とキャリアガスとを接触させて試料
水中の二酸化塩素をキャリアガス中に移行させるもので
あり、 前記ガス検出器はIn2O3を主成分とする半導体式ガスセ
ンサであり,キャリアガス中の二酸化塩素をガスの状態
で検出し、二酸化塩素を連続的に測定するものであるこ
とを特徴とする二酸化塩素計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2064987A JP2738970B2 (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 二酸化塩素計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2064987A JP2738970B2 (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 二酸化塩素計 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03264840A JPH03264840A (ja) | 1991-11-26 |
JP2738970B2 true JP2738970B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=13273915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2064987A Expired - Lifetime JP2738970B2 (ja) | 1990-03-15 | 1990-03-15 | 二酸化塩素計 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2738970B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
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Family Cites Families (5)
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---|---|---|---|---|
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JPS5879149A (ja) * | 1981-11-05 | 1983-05-12 | Fuigaro Giken Kk | ガス検出素子 |
JPS58205835A (ja) * | 1982-05-26 | 1983-11-30 | Toshiba Corp | 溶存オゾン測定装置 |
JPH01314938A (ja) * | 1988-06-15 | 1989-12-20 | Fujikura Ltd | ガス濃度測定方法 |
JP3081554U (ja) * | 2001-05-02 | 2001-11-09 | 株式会社モリタ東京製作所 | 殺菌水生成装置 |
-
1990
- 1990-03-15 JP JP2064987A patent/JP2738970B2/ja not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
化学大辞典編集委員会編 「化学大辞典」 縮刷版,昭54−11−10、共立出版株式会社発行 P.695−696 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH03264840A (ja) | 1991-11-26 |
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