JPS60227423A - インゴツトの接着方法 - Google Patents

インゴツトの接着方法

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JPS60227423A
JPS60227423A JP8453884A JP8453884A JPS60227423A JP S60227423 A JPS60227423 A JP S60227423A JP 8453884 A JP8453884 A JP 8453884A JP 8453884 A JP8453884 A JP 8453884A JP S60227423 A JPS60227423 A JP S60227423A
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JP
Japan
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ingots
ingot
flat
wax
jig
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Pending
Application number
JP8453884A
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Oana
*** 裕司
Akira Matsumoto
明 松本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP8453884A priority Critical patent/JPS60227423A/ja
Publication of JPS60227423A publication Critical patent/JPS60227423A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • H01L21/3046Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting using blasting, e.g. sand-blasting
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work

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  • Power Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (a)発明の技術分野 本発明はインゴットの接着方法、特に圧電性材料にてな
る複数個のインゴットを一つのテーブルに接着する方法
に関する。
Cb>技術の背景 単結晶の基板(チップ)に所望のパターン等を形成させ
るウェーハプロセスにおいて、ウェーハは単結晶のイン
ゴットにオリエンテーションフラット及び該フラットに
直交しインゴットの長さ方向に対向する双方の端面を加
工したのち、インゴット切断装置の台にワックスで接着
してカソクーやワイヤでスライスし、次いで該スライス
面を鏡面に仕上げてから、分割により採取できる素子の
複数個に相当する所望パターンが形成されるようになる
(C)従来技術と問題点 第1図はワイヤー及び研磨剤を用いてインゴットを多数
枚のウェーハにスライスする方法を説明するための図で
ある。
第1図において、■は図示しないコイルから供給される
ピアノ線(ワイヤ) 、2,3. 4は所定(例えば0
.8mm) ピッチの溝が多数本削成されピアノ線1を
ガイドするローラであり、長尺のピアノ線1は ガイドローラ2→3→4−2→−一一一−−−−→2の
如く掛は渡しされ、駆動ガイドローラ2は例えば右方向
へ大きく回転し左方向へ小さく回転し、ガイドローラ3
と4はガイドローラ2に従動するように構成されている
従って、矢印方向へ順次送り出されるピアノ線1はガイ
ドローラ2,3.4を手前から後方、又は後方から手前
へ掛は渡し移送したのち、図示しない巻き取りリールに
巻回されるようになる。一方、ガイドローラ2,3.4
の下方に上下動可能な台5が配設され、熱可塑性樹脂(
ワックス)にて台5に接着されたインゴット6は、台5
の上下動により適当な速度で上昇し、ピアノ線1の往復
動及びインゴット6に振り掛けられた研磨剤(例えばG
C#1000砥粒)による切断が終了すると、降下する
ようになる。
このような装置において、インゴットの長さに対しガイ
ドローラ3と4に掛は渡しされたワイヤの掛は渡し長さ
が十分であり、複数個(例えば2個)のインゴットを同
時にスライス可能なときは、該複数個を直列状にスライ
ス台に接着してスライスされている。
そこで、例えば2個のインゴットを同時にスライスする
従来の前記接着は、第2図に示す如(、インゴット7と
8はそれぞれのオリエントフラ・ノドをスライス台9の
上面に当接させ、かつインゴット7と8の対向端面を接
着剤(例えば一般工作用の速乾性強力接着剤)10で接
着したのち、熱可塑性ワックス11を用いてスライス台
9に接着させていた。
しかし、かかる接着方法においてインゴ・ノドが圧電性
の単結晶であるとき、即ち振動子用素子を切り出すため
ニオブ酸リチウム(LiNbO3)等の圧電材にてなる
ときは、接着されたインゴ・ノドの端面間で放電がおこ
り、当該部にクラ、ツクや割れの発生することがあった
(d)発明の目的 本発明の目的は、上記問題点を除去しインゴットのウェ
ーハ採取枚数を高めることである。
(e)発明の構成 上記目的は、オリエンテーションフラット及び該フラッ
トに直交し長さ方向に対向する端面が作成された複数個
のインゴットを定盤等の平面にそれぞれの該フラットが
接するように置き、複数個の該インゴットを直列状に当
接させ、該当接させた状態で複数個の該インゴットを治
具に固定し、次いで該治具に保持された複数個のインゴ
ットをインゴット接着テーブルに熱可塑性を有するワッ
クスで接着させてから該金具を取り外すことを特徴とす
る、インゴットの接着方法により達成される。
(f)発明の実施例 以下に、図面を用いて本発明に係わる実施例を説明する
第3図は本発明の一実施例になるインゴット接着用治具
の主要構成と該治具を用いて2個のインゴットの取り付
は方法を説明するための斜視図、第4図は2個の前記イ
ンゴットをスライシング装置の台に接着させた斜視図で
ある。
第3図において、12はインゴット接着用治具、16、
17は種結晶を成長させたのちオリエンテーションフラ
ット及び該フラットに直交し長さ方向に対向する双方の
端面並びに円筒外周面を研削、ラップ等で加工形成され
たインゴット、18はインゴットを治具12にクランプ
するための定盤である。
治具12は平面視角形の枠金具13と押し金具14と押
しねじ15にて構成され、押し金具14は枠金具13の
一方に螺合されたねじ15の内側先端に回動自在に保持
されている。
第4図において、19はスライシング装置のインゴット
接着用の台、20はインゴット接着用のワックスである
以下に、治具12を用い2個のインゴソ目6,17を台
19に接着する具体的手法につき、第3図と第4図を用
いて説明する。
インボッF 16.17を台19に接着する第1の段階
として、治具12にインゴット16.17を挟持させる
そのため、定盤18の上面にオリエンテーションフラッ
トが接するように、かつ、それぞれの一方の端面がほぼ
当接するように2個のインゴット16,17を置いたの
ち、そのインゴット16.17それぞれの他方の端面を
、治具12の枠金具13の一方の内側と押し金具14の
先端との間に挟み、押しねじ15を適当な力でねじ込む
ようにする。その結果、インゴット16.17はオリエ
ンテーションフラットが同一面に揃い、かつ、その長さ
方向へ直列状態で治具12に挟持される。
次いで、冶具12とともにインゴソ日6.17 、及び
予め適量のワックス20を上面に塗布した台19をワッ
クス20の軟化温度、例えば120℃で十分加熱したの
ち、オリエンテーションフラットが台19の上面にほぼ
接するようにインゴット16.17を押し付は後、冷却
させワックス20を固化させ、ねし15を緩め治具12
をインゴット16.17から取り除く。
その結果インゴット16.17は、第1図のインゴット
6と同様に、ワックス20にて台19の上面に接着され
2個が同時にスライスされ、多数枚のウェーハが一度に
得られることになるが、インゴット16と17の当接さ
れた端面間には接着材(電気的絶縁層)が形成されてな
いため、ワックス20を軟化させるために加熱しても該
端面にクラックの発生される心配がない。
(g)発明の詳細 な説明した如く本発明によれば、複数個のインゴットを
同時にスライスするため同一台板に接着するも、該イン
ゴットの当接端面を接着させる必要がないことにより、
該端面に従来方法で発生していたクラックを無くすこと
ができた。
【図面の簡単な説明】
第1図はワイヤー及び研磨剤を用いてインゴットを多数
枚のウェーハにスライスする方法を説明するための図、
第2図は従来方法で接着された2個のインゴットを示す
斜視図、第3図は本発明の一実施例になるインゴット接
着用治具の主要構成と該治具を用いて2個のインゴット
の取り付は方法を説明するための斜視図、第4図は2個
の前記インゴットをスライシング装置の台に接着させた
斜視図である。 図中において、■はピアノ線(ワイヤ) 、2,3゜4
はピアノ線ガイトローラ、5.9.19はスライシング
装置のインゴット接着用台、6,7,8.16.17は
インゴット、11.20はワックス、12はインゴット
接着用治具、18は定盤である。 晃1 図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) オリエンテーションフラット及び該フラットに
    直交し長さ方向に対向する端面が作成された複数個のイ
    ンゴットを定盤等の平面にそれぞれの該フラットが接す
    るように置き、複数個の該インゴットを直列状に当接さ
    せ、該当接させた状態で複数個の該インゴットを治具に
    固定し、次いで該治具に保持された複数個のインゴット
    をインゴット接着テーブルに熱可塑性を有するワックス
    で接着させてから該金具を取り外すことを特徴とするイ
    ンゴットの接着方法。
  2. (2)前記インゴットが圧電性材料のインゴットである
    ことを特徴とする特許 に記載したインゴットの接着方法。
JP8453884A 1984-04-26 1984-04-26 インゴツトの接着方法 Pending JPS60227423A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US5100839A (en) * 1988-11-01 1992-03-31 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of manufacturing wafers used for electronic device
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