JPS60168720A - 改善された加工性を示すコポリエステル−カ−ボネ−ト樹脂 - Google Patents
改善された加工性を示すコポリエステル−カ−ボネ−ト樹脂Info
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- JPS60168720A JPS60168720A JP59268738A JP26873884A JPS60168720A JP S60168720 A JPS60168720 A JP S60168720A JP 59268738 A JP59268738 A JP 59268738A JP 26873884 A JP26873884 A JP 26873884A JP S60168720 A JPS60168720 A JP S60168720A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/64—Polyesters containing both carboxylic ester groups and carbonate groups
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G63/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G63/68—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G63/688—Polyesters containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen containing sulfur
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
コポリエステル−カーボネート樹脂は、その多くの有用
々物理的、機械的性質のため熱可塑性エンジニアリング
材料として用途が増大している種類の強靭な熱可塑性樹
脂の１つである。これらのコポリエステル−カーボネー
ト樹脂は、例工ば強靭さ、可撓性、衝撃強さ、光学的透
明度、及び良好な熱変形温度のようなすぐれた性質を示
す。
々物理的、機械的性質のため熱可塑性エンジニアリング
材料として用途が増大している種類の強靭な熱可塑性樹
脂の１つである。これらのコポリエステル−カーボネー
ト樹脂は、例工ば強靭さ、可撓性、衝撃強さ、光学的透
明度、及び良好な熱変形温度のようなすぐれた性質を示
す。
従来のコポリエステル−カーボネートは、例えば、２価
フェノール、ジカルボン酸又はその反応性誘導体及びホ
スゲンのようなカーボネート前駆体の反応によって製造
される。これら従来のコポリエステル−カーボネートは
製造方法と共に特に米国特許第３．１６９．１２１号に
開示されている。
フェノール、ジカルボン酸又はその反応性誘導体及びホ
スゲンのようなカーボネート前駆体の反応によって製造
される。これら従来のコポリエステル−カーボネートは
製造方法と共に特に米国特許第３．１６９．１２１号に
開示されている。
しかしながら、これらのコポリエステル−カーボネート
樹脂はあいにく加工がかなり困難である３、従って、多
くの点で従来のコポリエステル−カーボネート樹脂妬似
ており、しかも改善された加工性をも示すコポリエステ
ル−カーボネート樹脂を得ることが非常に望ましい。
樹脂はあいにく加工がかなり困難である３、従って、多
くの点で従来のコポリエステル−カーボネート樹脂妬似
ており、しかも改善された加工性をも示すコポリエステ
ル−カーボネート樹脂を得ることが非常に望ましい。
よって、改善された加工性を示すコポリエステル−カー
ボネート樹脂を得ることが本発明の目的である。
ボネート樹脂を得ることが本発明の目的である。
発明の要約
本発明は、
（ｊ）（ａ）少くとも１種の芳香族ヒドロキシカルボン
酸又はそのエステル形成性反応性誘導体、及び（ｂ）少
くとも１種のジオールの反応生成物である少くとも１種
のモノエステルージオール （１１）少くとも１種の２価フェノール及び（ｉｉｉ）
ハロゲン化カルボニルカーボネート前駆体から誘導され
た改善された加工性を示すコポリエステル−カーボネー
ト樹脂に係る。
酸又はそのエステル形成性反応性誘導体、及び（ｂ）少
くとも１種のジオールの反応生成物である少くとも１種
のモノエステルージオール （１１）少くとも１種の２価フェノール及び（ｉｉｉ）
ハロゲン化カルボニルカーボネート前駆体から誘導され
た改善された加工性を示すコポリエステル−カーボネー
ト樹脂に係る。
発明の記載
本発明は、従来のコポリエステル−カーボネートの有用
な性質の大部分を概［７てかなりの程度まで示し、しか
も改善された加工性をも示す熱可塑性芳香族コポリエス
テル−カーボネート樹脂に係る。
な性質の大部分を概［７てかなりの程度まで示し、しか
も改善された加工性をも示す熱可塑性芳香族コポリエス
テル−カーボネート樹脂に係る。
簡単に述べると、本発明のコポリエステル−カーボネー
トは重合体鎖中に、くり返（−７カーボネー ト 基 １ （−ｏ−ｃ、−ｏ −） カルボキシレート基 １ （−ａ−ｏ−） 及び芳香族炭素環基から構成され、少くともいくつかの
カーボネート基と少くともいくつかのカルボキシレート
基が芳香族炭素環基の甲炭素原子に直接結合している。
トは重合体鎖中に、くり返（−７カーボネー ト 基 １ （−ｏ−ｃ、−ｏ −） カルボキシレート基 １ （−ａ−ｏ−） 及び芳香族炭素環基から構成され、少くともいくつかの
カーボネート基と少くともいくつかのカルボキシレート
基が芳香族炭素環基の甲炭素原子に直接結合している。
本発明のコポリエステル−カーボネートは、一般式
％式％）
（式中Ｒは２価芳香族基から選ばれ、
Ｒ１け２価脂肪族炭化水素基、２価脂肪族エーテル残基
及び２価芳香族基から選ばれ、 Ｒ２は２価フェノールの２価の残基から選ばれる）で表
わされるくり返し構造単位から成る。
及び２価芳香族基から選ばれ、 Ｒ２は２価フェノールの２価の残基から選ばれる）で表
わされるくり返し構造単位から成る。
式１中のＲは２価芳香族基であり、好ましくは一般式
（式中Ｒ３は独立に１価炭化水素基及びハロゲン基カラ
ａＨ’し、ｂけ０〜４の値を有する正のｔ数である） によって表わされるものである。
ａＨ’し、ｂけ０〜４の値を有する正のｔ数である） によって表わされるものである。
Ｒ３で表わされろ１価炭化水素基は好ましくはアルキル
及びシクロアルキル基から選ばれる。好ましいアルキル
基は１〜約１０個の炭素原子を含有するものである。こ
れらのアルキル基にけ直鎖アルキル基及び枝分れアルキ
ル基が含まれる。こレジのアルキル基のうち限定されな
いいくつかの例をあげるとメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ペンチル、ネオペンチル及ヒヘ
キシルがある。好ましいシクロアルキル基は４〜約７個
の環炭素原子を含むものである。これらのシクロアルキ
ル基の限定されないいくつかの例にはシクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル
及びシクロヘゲチルがある。
及びシクロアルキル基から選ばれる。好ましいアルキル
基は１〜約１０個の炭素原子を含有するものである。こ
れらのアルキル基にけ直鎖アルキル基及び枝分れアルキ
ル基が含まれる。こレジのアルキル基のうち限定されな
いいくつかの例をあげるとメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル、ペンチル、ネオペンチル及ヒヘ
キシルがある。好ましいシクロアルキル基は４〜約７個
の環炭素原子を含むものである。これらのシクロアルキ
ル基の限定されないいくつかの例にはシクロブチル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル
及びシクロヘゲチルがある。
Ｒ３で表わされる好ましいハロゲン基は塩素及び臭素で
ある。
ある。
Ｒ３置換基が１個以上存在する場合、それらは同じでも
異なっていてもよい。
異なっていてもよい。
式Ｉ中のＲ１は２価脂肪族炭化水素基、２価脂肪族エー
テル残基、及び２価芳香族基から選ばれる。
テル残基、及び２価芳香族基から選ばれる。
Ｒ１で表わされる２価脂肪族炭化水素基にはアルキレジ
基、アルキリデン基、シクロアルキレン基及びシクロア
ルキリデン基がある。好ましい２価脂肪族炭化水素基は
アルキレン基及びシクロアルキレン基である。
基、アルキリデン基、シクロアルキレン基及びシクロア
ルキリデン基がある。好ましい２価脂肪族炭化水素基は
アルキレン基及びシクロアルキレン基である。
好ましいアルキレン基は１〜約２０個の炭素原子を含有
するものである。これらのアルキレン基には直鎖アルキ
レン基及び枝分れアルキレン基がある。好ましいシクロ
アルキレン基は４〜約７個の炭素原子を含むものである
。
するものである。これらのアルキレン基には直鎖アルキ
レン基及び枝分れアルキレン基がある。好ましいシクロ
アルキレン基は４〜約７個の炭素原子を含むものである
。
Ｒ１で表わされる２価脂肪族エーテル残基は一般式
％式％
（式中Ｒ４はアルキレン及びシクロアルキレン基から選
ばれ、 Ｒ５はアルキレン及びシクロアルキレン基から選ばれ、 ｎは１〜約１０までの値を有する正の整数である）によ
って表わされる。
ばれ、 Ｒ５はアルキレン及びシクロアルキレン基から選ばれ、 ｎは１〜約１０までの値を有する正の整数である）によ
って表わされる。
Ｒ４及びＲ５によって表わされる好ましいアルキレン基
は１〜約２０個の炭素原子を含むものである。これらの
アルキレン基は直鎖アルキレン基及び枝分れアルキレン
基を含む。Ｒ４及びＲ５で表わされる好ましいシクロア
ルキレン基は４〜約７個の環炭素原子を含むものである
。
は１〜約２０個の炭素原子を含むものである。これらの
アルキレン基は直鎖アルキレン基及び枝分れアルキレン
基を含む。Ｒ４及びＲ５で表わされる好ましいシクロア
ルキレン基は４〜約７個の環炭素原子を含むものである
。
Ｒ１で表わされる２価脂肪族炭化水素基及び２価脂肪族
エーテル残基の限定されない例をいくつかあげろと次の
ようなものがある。
エーテル残基の限定されない例をいくつかあげろと次の
ようなものがある。
−０１（、−ＣＨ，−１
−ＣＲ２（ＣＨ２）Ｂ ＣＲ２−１
−ＣＨ，−０Ｈ２−０−（’！Ｈ，−（！Ｈ２−１Ｈ３
−ＣＨ，−０−ａＨ，−１
ＣＨ３
−ａｎ、−（ＯＨ，）、−ＯＨ，−
ＣＨ３
−ａＨ，−（！Ｈ−ＣＨ２−及び
Ｒ１で表わされる２価芳香族基は一般式％式％
（式中Ｒ６は独立に１価炭化水素基及び・・ロゲン基か
ら選ばれ、Ａｒ は２価芳香族基であり、ｑは０からＡ
ｒ 上の置換可能な水素原子の数までの値を有する正の
整数である ） に工っで表わされる。Ｒ６によって表わされる１価炭化
水素基にはアルキル基、アリール基、シクロアルキル基
及びアルアルキル及びアルカリール基がある。好ましい
アルキル基は１〜約１０個の炭素原子を有するものであ
る。好ましいシクロアルキル基は４〜約７個の環炭素原
子を含有するものである。好ましいアリール基は６〜１
２個の炭素原子を含有するものである。好ましいアルア
ルキル及びアルカリール基は７〜約１４個の炭素原子を
含有するものである。
ら選ばれ、Ａｒ は２価芳香族基であり、ｑは０からＡ
ｒ 上の置換可能な水素原子の数までの値を有する正の
整数である ） に工っで表わされる。Ｒ６によって表わされる１価炭化
水素基にはアルキル基、アリール基、シクロアルキル基
及びアルアルキル及びアルカリール基がある。好ましい
アルキル基は１〜約１０個の炭素原子を有するものであ
る。好ましいシクロアルキル基は４〜約７個の環炭素原
子を含有するものである。好ましいアリール基は６〜１
２個の炭素原子を含有するものである。好ましいアルア
ルキル及びアルカリール基は７〜約１４個の炭素原子を
含有するものである。
Ｒ６で表わされる好ましいノ・ロゲン基は塩素及び臭素
である。
である。
Ａｒ（ｔｉｔｓ〜１２個の炭素原子を有するアＩＪ−レ
ンヲ含み、フェニレン、ナフチレン及ヒヒフエニレンが
ある。
ンヲ含み、フェニレン、ナフチレン及ヒヒフエニレンが
ある。
Ａｒ はまた、アルキレン又はその他の橋かけ基で結合
された２個のフェニレン基も含む。即ち、Ｒ１は一般式 （式中Ｒ６及びｑは前述の定義の通りであり、Ｒ７はア
ルキレン、シクロアルキレン、アルキリテン、シクロア
ルキリデン、−〇−１−ｓ−１−Ｓ−Ｓ−１＋１ によって表わされる２価の芳香族基であってもよい。
された２個のフェニレン基も含む。即ち、Ｒ１は一般式 （式中Ｒ６及びｑは前述の定義の通りであり、Ｒ７はア
ルキレン、シクロアルキレン、アルキリテン、シクロア
ルキリデン、−〇−１−ｓ−１−Ｓ−Ｓ−１＋１ によって表わされる２価の芳香族基であってもよい。
Ｒ７で表わされる好ましいアルキレン基は２〜約１０個
の炭素原子を含むものである。これらのアルキレン基に
は直鎖及び枝分れアルキレン基が含壕れる。好ましいア
ルキリデン基は１〜約１０個の炭素原子を含むものであ
る。これらのアルキリデン基には直鎖アルキリデン基及
び枝分れアルキリデン基がある。好ましいシクロアルキ
レン及びシクロアルキリデンは４〜約７個の環炭素原子
を有するものである。
の炭素原子を含むものである。これらのアルキレン基に
は直鎖及び枝分れアルキレン基が含壕れる。好ましいア
ルキリデン基は１〜約１０個の炭素原子を含むものであ
る。これらのアルキリデン基には直鎖アルキリデン基及
び枝分れアルキリデン基がある。好ましいシクロアルキ
レン及びシクロアルキリデンは４〜約７個の環炭素原子
を有するものである。
式１のＲ１は好ましくは２価脂肪族炭化水素基及び２価
脂肪族エーテル残基から選ばれる。
脂肪族エーテル残基から選ばれる。
弐■のＲ２は２価フェノールの２価の残基から選ばれる
。好ましい２価フェノールの２価残基は一般式 （式中Ｗは２価炭化水素基、−〇−１−ｓ−１−Ｓ−Ｓ
−１ｏ ＯＯ ｌｌ Ｒ８は独立に１価炭化水素基及びハロゲン基より選ばれ
、 ２け０〜４オでの値を有する正の整数から独立に選ばれ
、 ｄは０又け１である ） によって表わされる。
。好ましい２価フェノールの２価残基は一般式 （式中Ｗは２価炭化水素基、−〇−１−ｓ−１−Ｓ−Ｓ
−１ｏ ＯＯ ｌｌ Ｒ８は独立に１価炭化水素基及びハロゲン基より選ばれ
、 ２け０〜４オでの値を有する正の整数から独立に選ばれ
、 ｄは０又け１である ） によって表わされる。
Ｗで表わされる２価炭化水素基は好ましくはアルキレン
基、アルキリデン基、シクロアルキレン基及びシクロア
ルキリデン基から選ばれる。好ま１７いアルキレン基は
２〜約１０個の炭素原子を含むものである。これらのア
ルキレン基には直鎖及び枝分れアルキレン基がある。好
ましいアルキリデン基は１〜約１０個の炭素原子を含む
ものである。これらのアルキリデン基には直鎖及び枝分
れアルキリデン基がある。好ましいシクロアルキレン及
びシクロアルキリデン基は４〜約７個の環炭素原子を含
むものである。
基、アルキリデン基、シクロアルキレン基及びシクロア
ルキリデン基から選ばれる。好ま１７いアルキレン基は
２〜約１０個の炭素原子を含むものである。これらのア
ルキレン基には直鎖及び枝分れアルキレン基がある。好
ましいアルキリデン基は１〜約１０個の炭素原子を含む
ものである。これらのアルキリデン基には直鎖及び枝分
れアルキリデン基がある。好ましいシクロアルキレン及
びシクロアルキリデン基は４〜約７個の環炭素原子を含
むものである。
Ｒ８によって表わされる１価炭化水素基にはアルキル基
、シクロアルキル基、アリール基、アルアルキル基及び
アルカリール基がある。好ましいアルキル基は１〜約１
０個の炭素原子を有するものである。好ましいシクロア
ルキル基は４〜約７個の環炭素原子を含むものである。
、シクロアルキル基、アリール基、アルアルキル基及び
アルカリール基がある。好ましいアルキル基は１〜約１
０個の炭素原子を有するものである。好ましいシクロア
ルキル基は４〜約７個の環炭素原子を含むものである。
好ましいアリール基は６〜１２個の環炭素原子を含むも
のである。これらの好ましいアリール基にはフェニル、
ナフチル及びビフェニルがある。好ま【７いアルアルキ
ル及びアルカリール基は７〜約１４個の炭素原子を含む
ものである。
のである。これらの好ましいアリール基にはフェニル、
ナフチル及びビフェニルがある。好ま【７いアルアルキ
ル及びアルカリール基は７〜約１４個の炭素原子を含む
ものである。
Ｈａで表わされる好１１−２いノ・ロゲン基は塩素及び
臭素である。
臭素である。
Ｒ８置換基が１個以上ある場合、それらは同じでも異な
っていてもよい。
っていてもよい。
本発明のコポリエステル−カーボネート樹脂は
（ｉ）（ａ）少くとも１種の芳香族ヒドロキシカルボン
酸又はそのエステル形成性反応性誘導体及び（ｂ）脂肪
族ジオール、脂肪族エーテルジオール、及び芳香族シ万
一ルから選ばれる少くとも１種のジオールの反応生成物
である少くとも１種のモノエステル−ジオール、 （ｉｉ）少くとも１種の２価フェノール、及び（ｉｉｉ
）・・ロゲン化カルボニルカーボネート前駆体を反応さ
せることにより製造される。
酸又はそのエステル形成性反応性誘導体及び（ｂ）脂肪
族ジオール、脂肪族エーテルジオール、及び芳香族シ万
一ルから選ばれる少くとも１種のジオールの反応生成物
である少くとも１種のモノエステル−ジオール、 （ｉｉ）少くとも１種の２価フェノール、及び（ｉｉｉ
）・・ロゲン化カルボニルカーボネート前駆体を反応さ
せることにより製造される。
モノエステル−ジオールの製造に用いられる芳香族ヒド
ロキシカルボン酸反応物質は一般式％式％ （式中Ｒけ前述の定義の通りである） によって表わされる。より詳細には、芳香族ヒドロキシ
カルボン酸は一般式 （式中Ｒ３及びｂは前述の定義の通りである）によって
表わされる。
ロキシカルボン酸反応物質は一般式％式％ （式中Ｒけ前述の定義の通りである） によって表わされる。より詳細には、芳香族ヒドロキシ
カルボン酸は一般式 （式中Ｒ３及びｂは前述の定義の通りである）によって
表わされる。
これらの芳香族ヒドロキシカルボン酸の限定されないい
くつかの例にはｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキ
シ安息香酸、３−ヒドロキシ−５−クロロ安息香酸、３
−クロロ−４−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ−
５−メチル安息香酸、及び３−エチル−４−ヒドロキシ
安息香酸がある。
くつかの例にはｐ−ヒドロキシ安息香酸、ｍ−ヒドロキ
シ安息香酸、３−ヒドロキシ−５−クロロ安息香酸、３
−クロロ−４−ヒドロキシ安息香酸、３−ヒドロキシ−
５−メチル安息香酸、及び３−エチル−４−ヒドロキシ
安息香酸がある。
これらの芳香族ヒドロキシ安息香酸そのものよ妙もむし
ろそのエステル形成性の反応性誘導体を用いることは可
能であり、むしろ好ましい場合もある。芳香族ヒドロキ
シカルボン酸のエステル形成性反応性誘導体は一般式 ％式％ 〔式中Ｒは上記の通りであり、Ｘは）・ロゲン基（好ま
しくは塩素及び臭素）及び−０Ｒ１０基 （ＢＩＯは１
価炭化水素基を表わす）を含む］ によって表わされる。Ｒ１０によって表わされる１価炭
化水素基にはアルキル基（好ましくは１〜約１０個の炭
素原子を有するもの）、シクロアルキル基（好ましくは
４〜約７個の環炭素原子を有するもの）、アリール基（
好ましくは６〜１２個の炭素原子を有するもの）及びア
ルアルキル及びアルカリール基（好まＬ ＜は７〜約１
４個の炭素原子を有するもの）がある。
ろそのエステル形成性の反応性誘導体を用いることは可
能であり、むしろ好ましい場合もある。芳香族ヒドロキ
シカルボン酸のエステル形成性反応性誘導体は一般式 ％式％ 〔式中Ｒは上記の通りであり、Ｘは）・ロゲン基（好ま
しくは塩素及び臭素）及び−０Ｒ１０基 （ＢＩＯは１
価炭化水素基を表わす）を含む］ によって表わされる。Ｒ１０によって表わされる１価炭
化水素基にはアルキル基（好ましくは１〜約１０個の炭
素原子を有するもの）、シクロアルキル基（好ましくは
４〜約７個の環炭素原子を有するもの）、アリール基（
好ましくは６〜１２個の炭素原子を有するもの）及びア
ルアルキル及びアルカリール基（好まＬ ＜は７〜約１
４個の炭素原子を有するもの）がある。
より詳細には、芳香族ヒドロキシカルボン酸のエステル
形成性反応性誘導体は一般式（式中Ｒ３、ｂ及びＸけ前
に定義された通りである）によって表わされる。
形成性反応性誘導体は一般式（式中Ｒ３、ｂ及びＸけ前
に定義された通りである）によって表わされる。
モチろん、本発明のモノ−エステルジオールの製造の際
に、個々の酸又はその反応性誘導体と同様に２種又はそ
れ以上の芳香族ヒドロキシカルボン酸又はエステル形成
性反応性誘導体の混合物を用いることは可能である。
に、個々の酸又はその反応性誘導体と同様に２種又はそ
れ以上の芳香族ヒドロキシカルボン酸又はエステル形成
性反応性誘導体の混合物を用いることは可能である。
この発明のモノ−エステル−ジオールの製造に用いる脂
肪族、脂肪族エーテル及び芳香族ジオール反応物質は一
般式 ％式％ （式中Ｂｌけ前の定義の通りである ）によって表わさ
れる。
肪族、脂肪族エーテル及び芳香族ジオール反応物質は一
般式 ％式％ （式中Ｂｌけ前の定義の通りである ）によって表わさ
れる。
脂肪族ジオールは一般式
％式％
（式中Ｒ■はアルキレン基、シクロアルキレン基、アル
キリデン基又はシクロアルキリデン基を表わす） によって表わされる。好ましくはＲ１１は上述、した種
類のアルキレン基又はシクロアルキレン基を表わす。
キリデン基又はシクロアルキリデン基を表わす） によって表わされる。好ましくはＲ１１は上述、した種
類のアルキレン基又はシクロアルキレン基を表わす。
脂肪族エーテルジオールは一般式
％式％
（式中Ｒ４、Ｒ’ｌ及びｎは前の定義通りである）によ
って表わされる。
って表わされる。
脂肪族ジオール及び脂肪族エーテルジオールの限定され
ないいくつかの具体例は次の通りである。
ないいくつかの具体例は次の通りである。
ＨＯ−ＣＨ，（ＣＨ，）、 ＯＨ，−０ＨＯＨ。
ＨＯ−ＣＨ，−ＣＨ−（！Ｈ，−ＯＨ。
Ｈｏ−ｃＨｌＩ（ＣＨ，）ｓａＨ，−ｏＨ％ＨＯ−（！
Ｈ，０Ｈ２−０−ＣＨ２（’！Ｈ，−ＯＨ。
Ｈ，０Ｈ２−０−ＣＨ２（’！Ｈ，−ＯＨ。
ＯＨ。
ＨＯ−（’！Ｈ，−ｒ！−ＣＨ，−ＯＨ及び番
（Ｈ３
芳香族ジオールは一般式
（式中Ｒ’、Ａｒ 及びｑは前の定義の通り）で表わさ
れる。
れる。
芳香族ジオールの限定されないいくつかの具体例は次の
通りである。
通りである。
ＣＲ３
（４Ｒ３
式■の好ましいジオールは脂肪族ジオール及び脂肪族エ
ーテルジオールである。
ーテルジオールである。
もちろん、本発明のモノエステル−ジオールの製造にお
いて、個々のジオールと同様２種又はそれ以上の異なる
ジオール混合物を用いることは可能である。
いて、個々のジオールと同様２種又はそれ以上の異なる
ジオール混合物を用いることは可能である。
本発明のコポリエステル−カーボネートの製造において
は、まず芳香族ヒドロキシカルボン酸をジオールと反応
させ、一般式 Ｖｌ、 ）Ｔｏ−Ｒ−Ｃ−０−Ｒ’ −ＯＨ（式中Ｒ及
びＲ１は前の定義の通りである ）によって表わされる
モノエステル−ジオールを生成させる。より詳細には、
式■のモノエステル−ジオールは一般式 （式中Ｈ３、Ｒ１及びｂは前述の定義の通りである）に
よって表わされる。
は、まず芳香族ヒドロキシカルボン酸をジオールと反応
させ、一般式 Ｖｌ、 ）Ｔｏ−Ｒ−Ｃ−０−Ｒ’ −ＯＨ（式中Ｒ及
びＲ１は前の定義の通りである ）によって表わされる
モノエステル−ジオールを生成させる。より詳細には、
式■のモノエステル−ジオールは一般式 （式中Ｈ３、Ｒ１及びｂは前述の定義の通りである）に
よって表わされる。
これらのモ２ジエステルージオールの製造においては、
芳香族ヒドロキシカルボン酸又はソのエステル形成性反
応性誘導体１モルをジオール１モルと反応させる。理論
的には酸又はその反応性誘導体１モルとジオール１モル
の反応がおこってモノエステル−ジオールが生成するが
、実際にはジオール反応物質を過剰に用いるのが一般に
好ましい。
芳香族ヒドロキシカルボン酸又はソのエステル形成性反
応性誘導体１モルをジオール１モルと反応させる。理論
的には酸又はその反応性誘導体１モルとジオール１モル
の反応がおこってモノエステル−ジオールが生成するが
、実際にはジオール反応物質を過剰に用いるのが一般に
好ましい。
本発明のモノエステル−ジオールの製造において、芳香
族ヒドロキシカルボン酸自身をジオールと反応させる場
合、反応は実質的に無水の状態で行なわれる。酸それ自
身又はそのエステル誘導体（即ちＸが−ＯＲ’°）が用
いられる場合は、反応はエステル化−エステル交換触媒
の存在下で行なわれる。そのような触媒は当分野ではよ
く知られており、プロトン酸及びルイス酸がある。いく
つかの有用なルイス酸触媒は米国特許第４，０４５，４
６４号に開示されている。酸ハロゲン化物、即ちＸがハ
ロゲン基であるものが用いられる場合は、酸・・ロゲン
化物とジオールの反応は好ましくけ酸結合剤の存在下で
行なわれる。とれらの酸結合剤は当分野ではよく知られ
ており、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基及び
水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等の無機塩基があ
る。
族ヒドロキシカルボン酸自身をジオールと反応させる場
合、反応は実質的に無水の状態で行なわれる。酸それ自
身又はそのエステル誘導体（即ちＸが−ＯＲ’°）が用
いられる場合は、反応はエステル化−エステル交換触媒
の存在下で行なわれる。そのような触媒は当分野ではよ
く知られており、プロトン酸及びルイス酸がある。いく
つかの有用なルイス酸触媒は米国特許第４，０４５，４
６４号に開示されている。酸ハロゲン化物、即ちＸがハ
ロゲン基であるものが用いられる場合は、酸・・ロゲン
化物とジオールの反応は好ましくけ酸結合剤の存在下で
行なわれる。とれらの酸結合剤は当分野ではよく知られ
ており、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基及び
水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等の無機塩基があ
る。
酸又はそのエステル形成性反応性誘導体とジオールの反
応の間に、望ましいモノエステル−ジオール以外に副生
物が生成するのを避けるか最小に保つために、反応条件
及び／又は反応物質はモノエステル−ジオールが主な生
成物であるように選択される。このように、例えばビス
フェノール−Ａのような芳香族ジオールを用いる場合、
それをエステル交換触媒の存在下芳香族ヒドロキシカル
ボン酸のフェニルエステルと反応サセ、フェノール副生
物を蒸留によって除去する。脂肪族ジオールを用いる場
合、主な反応生成物は酸と脂肪族ジオールとの反応生成
物、即ちモノエステル−ジオールであるため、芳香族ヒ
ドロキシ酸自体のエステルを生成させる酸自身の間の反
応は一般にわずかである。
応の間に、望ましいモノエステル−ジオール以外に副生
物が生成するのを避けるか最小に保つために、反応条件
及び／又は反応物質はモノエステル−ジオールが主な生
成物であるように選択される。このように、例えばビス
フェノール−Ａのような芳香族ジオールを用いる場合、
それをエステル交換触媒の存在下芳香族ヒドロキシカル
ボン酸のフェニルエステルと反応サセ、フェノール副生
物を蒸留によって除去する。脂肪族ジオールを用いる場
合、主な反応生成物は酸と脂肪族ジオールとの反応生成
物、即ちモノエステル−ジオールであるため、芳香族ヒ
ドロキシ酸自体のエステルを生成させる酸自身の間の反
応は一般にわずかである。
２価フェノール反応物質は一般式
（式中Ｒ”ＸＷ、Ｚ及びｄは前述の定義の通りである
） Ｋよって表わされる。
） Ｋよって表わされる。
これらの２価フェノールの限定されないいくつかの例に
は次のようなものがある。
は次のようなものがある。
２、２− ヒス（４−ヒドロキシフェニル）フロパン（
ビスフェノール−Ａ）、 ２．２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフエ
ニ ゝプロパン、 ２、２− ヒス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン、 ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１．１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、 １．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、４．
４′−チオジフェノール、 １．５−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フロパン、へ
３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２．２
゛−ビス（５−クロロ−５−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、 及び ２．２−ビス（３Ｖ５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン。
ビスフェノール−Ａ）、 ２．２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフエ
ニ ゝプロパン、 ２、２− ヒス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル
）プロパン、 ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１．１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、 １．１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、４．
４′−チオジフェノール、 １．５−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フロパン、へ
３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２．２
゛−ビス（５−クロロ−５−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、 及び ２．２−ビス（３Ｖ５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン。
本発明のコポリエステル−カーボネート樹脂を製造する
ためには、モノエステル−ジオール、２価フェノール及
びハロゲン化カルボニルカーボネート前駆体を、式１及
び■のくり返し構造単位を含むコポリエステル−カーボ
ネートの生成に有効な条件下で反応させる。
ためには、モノエステル−ジオール、２価フェノール及
びハロゲン化カルボニルカーボネート前駆体を、式１及
び■のくり返し構造単位を含むコポリエステル−カーボ
ネートの生成に有効な条件下で反応させる。
コポリエステル−カーボネートはよく知られたコポリエ
ステル−カーボネート生成反応又はプロセスの任意のも
のを用いて製造される。本発明のコポリエステル−カー
ボネートの製造においては、用いる方法によってモノエ
ステル−ジオールそれ自身又はそのハロホルメートのい
ずれかを反応物質の１つと［７て用いる。モノエステル
−ジオールのモノハロホルメートは一般式 （式中Ｒ及びＲ１け前述の定義の通りであり、Ｙはハロ
ゲン基、好ましくは塩素又は臭素を表わす）によって表
わされる。これらのモノエステル−ジオールのモノハロ
ホルメートはホスゲンのようなハロゲン化カルボニルカ
ーボネート前駆体１モルをモノエステル−ジオール１モ
ルと反応させて製造するのが都合よい。
ステル−カーボネート生成反応又はプロセスの任意のも
のを用いて製造される。本発明のコポリエステル−カー
ボネートの製造においては、用いる方法によってモノエ
ステル−ジオールそれ自身又はそのハロホルメートのい
ずれかを反応物質の１つと［７て用いる。モノエステル
−ジオールのモノハロホルメートは一般式 （式中Ｒ及びＲ１け前述の定義の通りであり、Ｙはハロ
ゲン基、好ましくは塩素又は臭素を表わす）によって表
わされる。これらのモノエステル−ジオールのモノハロ
ホルメートはホスゲンのようなハロゲン化カルボニルカ
ーボネート前駆体１モルをモノエステル−ジオール１モ
ルと反応させて製造するのが都合よい。
本発明のコポリニステルルカーボネートの製造において
反応物質の１つとしてモノエステル−ジオールそれ自身
が用いられる場合は、ピリジン又はトリエチルアミン
塩化メチレン法のような有機塩基性溶剤法が使用される
。これらの有機塩基性溶剤法は当分野ではよく知られ、
中でも米国特許第４０３０．３３５号に記載されている
コポリエステル−カーボネート製造のだめのピリジン法
がある。
反応物質の１つとしてモノエステル−ジオールそれ自身
が用いられる場合は、ピリジン又はトリエチルアミン
塩化メチレン法のような有機塩基性溶剤法が使用される
。これらの有機塩基性溶剤法は当分野ではよく知られ、
中でも米国特許第４０３０．３３５号に記載されている
コポリエステル−カーボネート製造のだめのピリジン法
がある。
モノエステル−ジオールのモノハロポルメートが本発明
のコポリエステル−カーボネート樹脂の製造において反
応物質の１つとして用いられる場合は、コポリエステル
−カーボネート樹脂製造古 のだめの界面重合法が用いられる。コポリエステル−カ
ーボネート製造のための界面重合〜は当分野でよく知ら
れ、例えば米国特許第４１６９．１２１号に記載されて
いる。
のコポリエステル−カーボネート樹脂の製造において反
応物質の１つとして用いられる場合は、コポリエステル
−カーボネート樹脂製造古 のだめの界面重合法が用いられる。コポリエステル−カ
ーボネート製造のための界面重合〜は当分野でよく知ら
れ、例えば米国特許第４１６９．１２１号に記載されて
いる。
本発明コポリエステル−カーボネート中に存在する式１
及び■の構造単位の相対量は、用いるモノエステル−ジ
オール又はそのモノハロホルメート及び２価フェノール
の相対量による。このように、例えばモノエステル−ジ
オール又はそのモノハロホルメートを多く用いれば用い
るホト、コポリエステル−カーボネート中に存在する式
１のくり返］２構造単位の量が増大する。２価フェノー
ルの使用量が増えれば増に−るほど、コポリエステル−
カーボネート中に存在する式■のくり返し構造単位の量
が増える。
及び■の構造単位の相対量は、用いるモノエステル−ジ
オール又はそのモノハロホルメート及び２価フェノール
の相対量による。このように、例えばモノエステル−ジ
オール又はそのモノハロホルメートを多く用いれば用い
るホト、コポリエステル−カーボネート中に存在する式
１のくり返］２構造単位の量が増大する。２価フェノー
ルの使用量が増えれば増に−るほど、コポリエステル−
カーボネート中に存在する式■のくり返し構造単位の量
が増える。
モノエステル−ジオール又はそのモノハロホルメートの
使用量は加工性改善のだめの量である。
使用量は加工性改善のだめの量である。
加工性改善量は、コポリエステル−カーボネート樹脂の
加工性改善に有効であるが、コポリエステル−カーボネ
ート樹脂のその他の有利な性質のは与 とんどに対し悪い影響をえ々い量を意味する。一般に、
この量は、２価フェノールの使用量に対して約１〜約４
５モルパーセントであり、好ましくけ２価フェノール使
用量の約２〜約２５モルパー七ントである。
加工性改善に有効であるが、コポリエステル−カーボネ
ート樹脂のその他の有利な性質のは与 とんどに対し悪い影響をえ々い量を意味する。一般に、
この量は、２価フェノールの使用量に対して約１〜約４
５モルパーセントであり、好ましくけ２価フェノール使
用量の約２〜約２５モルパー七ントである。
モノエステル−ジオールのモノハロホルメート、２価フ
ェノール、及びホスゲンのよウナハロゲン化カルボニル
カーボネート前駆体からの本発明のコポリエステル−カ
ーボネート樹脂を製造する１つの方法としては、不均質
界面重合法がある。
ェノール、及びホスゲンのよウナハロゲン化カルボニル
カーボネート前駆体からの本発明のコポリエステル−カ
ーボネート樹脂を製造する１つの方法としては、不均質
界面重合法がある。
この方法において、２つの混和しない溶剤系を用いるが
、１方は水性溶剤系であり、他方は塩化メチレンのよう
な水と混和しない有機溶剤系である。
、１方は水性溶剤系であり、他方は塩化メチレンのよう
な水と混和しない有機溶剤系である。
２価フェノールをアルカリ性水性溶剤系のような水性系
に溶解する。ハロゲン化カルボニルカーボネート前駆体
の添加は、ｐＨを塩基性範囲に保つために好ましくはア
ルカリ水溶液を用いて塩基性条件下で行なう。反応混合
物中には触媒及び分子量調整剤も含まれする。
に溶解する。ハロゲン化カルボニルカーボネート前駆体
の添加は、ｐＨを塩基性範囲に保つために好ましくはア
ルカリ水溶液を用いて塩基性条件下で行なう。反応混合
物中には触媒及び分子量調整剤も含まれする。
使用できる触媒は、コポリエステル−カーボネート生成
反応を促進するよく知られた触媒の任意のものである。
反応を促進するよく知られた触媒の任意のものである。
適した触媒には、トリエチルアミンのような第三アミン
、第四アンモニウム化合物及び第四ホスホニウム化合物
があるが、それら゛釦限定されない。
、第四アンモニウム化合物及び第四ホスホニウム化合物
があるが、それら゛釦限定されない。
用いられる分子量調整剤は、連鎖停止機構によりコポリ
エステル−カーボネート樹脂の分子量を調整するよく知
られた化合物の任意のものである。これらの化合物には
フェノール、ｐ−ターシャリ−ブチルフェノール及びク
ロマン−■がアルが、これに限定はされない。
エステル−カーボネート樹脂の分子量を調整するよく知
られた化合物の任意のものである。これらの化合物には
フェノール、ｐ−ターシャリ−ブチルフェノール及びク
ロマン−■がアルが、これに限定はされない。
界面重合法においてホスゲン化反応が進む温度は０℃以
下から１００℃以上までの範囲である。
下から１００℃以上までの範囲である。
室温（２５℃）から約５０℃寸での温度において反応は
よく進む。
よく進む。
本発明のコポリエステル−カーボネートは一般に、約１
００００〜約１５０．０００、好ましくけ約１５．００
０〜約１ｏ ｎ、 ｏ ｏ ａの範囲の重量平均分子量
を有する。
００００〜約１５０．０００、好ましくけ約１５．００
０〜約１ｏ ｎ、 ｏ ｏ ａの範囲の重量平均分子量
を有する。
この発明のコポリエステル−カーボネート樹脂は寸だ任
意に、ガラス、タルク、マイカ及びクレーのような不活
性充填剤、耐衝撃性改善剤、ベンゾフェノンやベンゾト
リアゾールのような紫外線吸収剤、米国特許第５．４８
９，７１６号、第４．１３８．３７９号及び第３．８３
９．２４７号に記載されたエポキシドのような加水分解
安定剤、有機ホスファイトのよう々色安定剤及び難燃剤
などのある種の普通に知られ用いられる添加剤を混合し
てもよい。いくつかの特に有用な難燃剤はスルホン酸の
アルカリ又はアルカリ土類金属塩である。この種類の難
燃剤は米国特許第４９５３．７ ！１４号、第３、９４
８．８５１号、第５．９２６．９０８号、第６，９１９
、１６７号、第３．９０９．４９０号、第３．９５へ３
９６号、第３．９３１．ｊ Ｏ０号、第４９７１１１，
０２４号、第３．９５３．３９９号、第３．９５１．９
１０号及び３．９４０，３６６号に記載されている。
意に、ガラス、タルク、マイカ及びクレーのような不活
性充填剤、耐衝撃性改善剤、ベンゾフェノンやベンゾト
リアゾールのような紫外線吸収剤、米国特許第５．４８
９，７１６号、第４．１３８．３７９号及び第３．８３
９．２４７号に記載されたエポキシドのような加水分解
安定剤、有機ホスファイトのよう々色安定剤及び難燃剤
などのある種の普通に知られ用いられる添加剤を混合し
てもよい。いくつかの特に有用な難燃剤はスルホン酸の
アルカリ又はアルカリ土類金属塩である。この種類の難
燃剤は米国特許第４９５３．７ ！１４号、第３、９４
８．８５１号、第５．９２６．９０８号、第６，９１９
、１６７号、第３．９０９．４９０号、第３．９５へ３
９６号、第３．９３１．ｊ Ｏ０号、第４９７１１１，
０２４号、第３．９５３．３９９号、第３．９５１．９
１０号及び３．９４０，３６６号に記載されている。
本発明をより詳しく明確に説明するために次の実施例を
示す。実施例はここで開示され請求される発明を限定す
るのではなく例示ととらえられるべきである。実施例中
すべての部及び百分率は特に指示がない限り重量を基準
とする。
示す。実施例はここで開示され請求される発明を限定す
るのではなく例示ととらえられるべきである。実施例中
すべての部及び百分率は特に指示がない限り重量を基準
とする。
次の実施例は本発明のモノエステル−ジオールの製造を
説明するものである。
説明するものである。
例 １
この実施例は４−ヒドロキシブチルｐ−ヒドロキシ安息
香酸エステルの製造を説明するものである。
香酸エステルの製造を説明するものである。
メチルｐ−ヒドロキシ安息香酸エステル４５６７（０３
モル）、１．４−ブタンジオール２７ｏ２（３モル）及
びテトラキス（２−エチルヘキシル）チタン酸エステル
０．３１ ｔを含む反応混合物を１７０℃において約５
時間の間かく拌しながら加熱する。加熱の間、エステル
交換反応で生成する遊離メタノールを大気圧下で蒸留に
より除去する。
モル）、１．４−ブタンジオール２７ｏ２（３モル）及
びテトラキス（２−エチルヘキシル）チタン酸エステル
０．３１ ｔを含む反応混合物を１７０℃において約５
時間の間かく拌しながら加熱する。加熱の間、エステル
交換反応で生成する遊離メタノールを大気圧下で蒸留に
より除去する。
メタ／−ルを除去した後、反応フラスコを減圧にして過
剰の１．４−ブタンジオールも除去する。蒸留残留物を
エーテルに溶かし、得られる溶液を水で洗い、ろ適し、
エーテルを蒸発させる。残留物を自動混合機中で塩化メ
チレン少量を用いて簡単に粉砕し、ろ過し、乾燥させ、
ガスクロマトグラフィー分析を行なう。得られる純粋々
白色固体は９１〜９３℃で溶融し、ガスクロマトグラフ
ィーにより純度約９９チ、対照として用いろｐ−りεル
フェノールの１４． Ｏ０分に対して１６８１分の２０
溶出時間が示された。
剰の１．４−ブタンジオールも除去する。蒸留残留物を
エーテルに溶かし、得られる溶液を水で洗い、ろ適し、
エーテルを蒸発させる。残留物を自動混合機中で塩化メ
チレン少量を用いて簡単に粉砕し、ろ過し、乾燥させ、
ガスクロマトグラフィー分析を行なう。得られる純粋々
白色固体は９１〜９３℃で溶融し、ガスクロマトグラフ
ィーにより純度約９９チ、対照として用いろｐ−りεル
フェノールの１４． Ｏ０分に対して１６８１分の２０
溶出時間が示された。
次の実施例は本発明のモノエステル−ジオールのモノハ
ロホルメートの製造を説明する。
ロホルメートの製造を説明する。
例 ２
この実施例は４−ヒドロキシブチルｐ−ヒドロキシ安息
香酸エステルのクロロホルメートの製造を説明する。
香酸エステルのクロロホルメートの製造を説明する。
実施例１の操作にほとんど従って製造された４−ヒドロ
キシブチルｐ−安息香酸エステル８７．。
キシブチルｐ−安息香酸エステル８７．。
ｆ （０，４４モル）を塩化メチレン５［１０ｍ７！に
溶かした溶液へ、ホスゲン４８ｙを導入し、その間は外
部から水冷によって反応混合物の温度を３〜１０℃に保
つ。ホスゲンの添加が完了した後、反応混合物を除々に
周囲温度まで上げ、その時点で過剰のホスゲンをチッ素
パージによって除去する。存在する固形分をろ過し、塩
化メチレン溶液を周囲温度においてアスピレータ−によ
る真空でストリッピングし、クロロホルメートを残留物
として残す。この残留物は７５１）の重さであシ、これ
は理論的収率の６１％を示す。赤外分析を行ない、ｊ６
９５ｔｓ におけるエステルカルボニルの伸縮振動の存
在以外に、１７８０ｍ−’ Ｋおける強い吸収によって
クロロホルメート基の存在が確認される。
溶かした溶液へ、ホスゲン４８ｙを導入し、その間は外
部から水冷によって反応混合物の温度を３〜１０℃に保
つ。ホスゲンの添加が完了した後、反応混合物を除々に
周囲温度まで上げ、その時点で過剰のホスゲンをチッ素
パージによって除去する。存在する固形分をろ過し、塩
化メチレン溶液を周囲温度においてアスピレータ−によ
る真空でストリッピングし、クロロホルメートを残留物
として残す。この残留物は７５１）の重さであシ、これ
は理論的収率の６１％を示す。赤外分析を行ない、ｊ６
９５ｔｓ におけるエステルカルボニルの伸縮振動の存
在以外に、１７８０ｍ−’ Ｋおける強い吸収によって
クロロホルメート基の存在が確認される。
次の例は本発明の範囲外の従来のコポリエステル−カー
ボネート樹脂の製造を説明するものである。この例は比
較の目的で示されるだけである。
ボネート樹脂の製造を説明するものである。この例は比
較の目的で示されるだけである。
例 ３
かく拌機を備えだ反応容器へ脱イオン水１０ｔ、塩化メ
チレン１６ｔ１ ビスフェノール−Ａ Ｉ。
チレン１６ｔ１ ビスフェノール−Ａ Ｉ。
９ ｊ Ｏｆ （８，３６モル）、トリエチルアミン２
４−、グルコン酸ナトリウム３４１及びパラ−ターシャ
リ−ブチルフェノール６５１を入れる。この反応混合物
をかく拌し、かく拌１７だ混合物へ１５分間にわたって
二塩化テレフタロイル９２６ｆ及び二塩化イソフタロイ
ル１６５２を塩化メチレン中２５重量パーセント固形分
溶液として加える。
４−、グルコン酸ナトリウム３４１及びパラ−ターシャ
リ−ブチルフェノール６５１を入れる。この反応混合物
をかく拌し、かく拌１７だ混合物へ１５分間にわたって
二塩化テレフタロイル９２６ｆ及び二塩化イソフタロイ
ル１６５２を塩化メチレン中２５重量パーセント固形分
溶液として加える。
酸塩化物の添加の間、水酸化す） ＩＪウム２５チ水溶
液の添加によってｐ）Ｔ を８．５〜１１５の範囲に維
持する。水酸化す） ＩＪウム水溶液の添加によりｐＨ
を９５〜１２に調節しながら１５分間３６２分の速度で
ホスゲンを導入することによって、得られる混合物をホ
スゲン化する。ホスゲン化が終った後、塩化メチレン６
ｔを加え、プライン層を遠心によって分離し、樹脂を希
釈Ｈｏｔ水溶液で洗浄し、水で３回洗浄する。樹脂を蒸
気沈澱させ、約２４０℃でチッ素流動層乾燥機において
乾燥させる。
液の添加によってｐ）Ｔ を８．５〜１１５の範囲に維
持する。水酸化す） ＩＪウム水溶液の添加によりｐＨ
を９５〜１２に調節しながら１５分間３６２分の速度で
ホスゲンを導入することによって、得られる混合物をホ
スゲン化する。ホスゲン化が終った後、塩化メチレン６
ｔを加え、プライン層を遠心によって分離し、樹脂を希
釈Ｈｏｔ水溶液で洗浄し、水で３回洗浄する。樹脂を蒸
気沈澱させ、約２４０℃でチッ素流動層乾燥機において
乾燥させる。
樹脂のカージャインデックス（Ｋａ日ｈａ Ｉｎｄｅｘ
）ＣＫＩ）を測定し、結果を表１に示す。
）ＣＫＩ）を測定し、結果を表１に示す。
カージャインデックスは樹脂の加工性の指標又は尺度で
ある。カージャインデックスが低くなればなるほど、樹
脂の溶融流れが大きくなり、その結果樹脂の加工性が良
好になる。基本的にはカージャインデックスは樹脂の溶
融粘度の大きさである。カージャインデックスを測定す
る操作は次の通りである。樹脂ペレット７２を１２５℃
に？いて最低９０分乾燥させ、改良チニウスーオルゼン
（Ｔｌｎｔｕｇ−０：Ｌｅａｎ ）Ｔ ５メルトインデ
クサ−に加える。インデクサ−の温度を５００℃に保ち
、樹脂を６分間この温度に加熱する。６分後、径４．７
調のプランジャーを用い７．７ ｋｌＰｓの力を加えて
１０５咽径のオリフィスを通す。プランジャーが５、１
ｃｎＩ進むのに必要な時間はセンチ秒で測定され、こ
れがカージャインデックス（Ｋ工）として報告される。
ある。カージャインデックスが低くなればなるほど、樹
脂の溶融流れが大きくなり、その結果樹脂の加工性が良
好になる。基本的にはカージャインデックスは樹脂の溶
融粘度の大きさである。カージャインデックスを測定す
る操作は次の通りである。樹脂ペレット７２を１２５℃
に？いて最低９０分乾燥させ、改良チニウスーオルゼン
（Ｔｌｎｔｕｇ−０：Ｌｅａｎ ）Ｔ ５メルトインデ
クサ−に加える。インデクサ−の温度を５００℃に保ち
、樹脂を６分間この温度に加熱する。６分後、径４．７
調のプランジャーを用い７．７ ｋｌＰｓの力を加えて
１０５咽径のオリフィスを通す。プランジャーが５、１
ｃｎＩ進むのに必要な時間はセンチ秒で測定され、こ
れがカージャインデックス（Ｋ工）として報告される。
Ｋ工 が高くなればなるほど、樹脂の溶融粘度は高くな
り、樹脂が粘稈になり、従って加工がより困難に々る。
り、樹脂が粘稈になり、従って加工がより困難に々る。
次の例は本発明の範囲外の従来のポリカーボネート樹脂
の製造を説明する。この例は比較の目的だけで示される
。
の製造を説明する。この例は比較の目的だけで示される
。
例 ４
ビスフェノール−ｈ ５７．１ ｙ （０，２ｓモル）
、水５００ｍ１．塩化メチレン４００−、フェノール０
６２及びトリエチルアミン０５６２の混合物へ、周囲温
度において３１分間にわたりホスゲン３１ダを導入し、
その間水酸化ナトリウム２５チ水溶液を同時に加えるこ
とにより二相系のｐＨを約１１に維持する。ホスゲン添
加時間の終りには水相のｐＨけ１１７であり、この相の
ビスフェノール−Ａ含有量は紫外線分析により示される
ように１１）Ｉ）ｍ以下である。
、水５００ｍ１．塩化メチレン４００−、フェノール０
６２及びトリエチルアミン０５６２の混合物へ、周囲温
度において３１分間にわたりホスゲン３１ダを導入し、
その間水酸化ナトリウム２５チ水溶液を同時に加えるこ
とにより二相系のｐＨを約１１に維持する。ホスゲン添
加時間の終りには水相のｐＨけ１１７であり、この相の
ビスフェノール−Ａ含有量は紫外線分析により示される
ように１１）Ｉ）ｍ以下である。
塩化メチレン相を水相より分離（７、過剰の希釈（ｏ、
ｏ Ｉ Ｎ ） Ｈｃｔで洗浄し、次いで脱イオン水
で５回洗浄する。重合体をメタノールで沈澱させ、８０
℃で乾燥する。得られる重合体は２５℃における塩化メ
チレン中の１．■、が０．６２２であり、ガラス転移温
度が１４９℃である。
ｏ Ｉ Ｎ ） Ｈｃｔで洗浄し、次いで脱イオン水
で５回洗浄する。重合体をメタノールで沈澱させ、８０
℃で乾燥する。得られる重合体は２５℃における塩化メ
チレン中の１．■、が０．６２２であり、ガラス転移温
度が１４９℃である。
ポリカーボネート樹脂のに工 を測定し、結果を表１に
示す。
示す。
次の実施例は本発明のコポリエステル−カーボネート樹
脂の製造を説明する。
脂の製造を説明する。
例 ５
ビスフェノール−Ａ ２２．８ ｆ （０，１モル）、
フェノール（１，１？、）リエチルアミン０．２ ｆ！
、水３０ｎｍ／、塩化メチレン４００−の混合物に、は
とんど例２の操作に従って製造された４−ヒドロキシブ
チルｐ−ヒドロキシ安息香酸エステルのモノクロロホル
メー） ２．４ ｆ （： ０．０１モル）をｐＨ１１
において滴加する。モノクロロホルメートの添加が完了
した後、Ｏ，Ｓ ｔ ７分の速度で２０分間ホスゲンを
導入し、その間は水酸化ナトリウム２５チ水溶液を同時
に加えることによりｐＨを約１１に維持する。ホスゲン
添加時間の終りには水相のｐＨけ１１７である。
フェノール（１，１？、）リエチルアミン０．２ ｆ！
、水３０ｎｍ／、塩化メチレン４００−の混合物に、は
とんど例２の操作に従って製造された４−ヒドロキシブ
チルｐ−ヒドロキシ安息香酸エステルのモノクロロホル
メー） ２．４ ｆ （： ０．０１モル）をｐＨ１１
において滴加する。モノクロロホルメートの添加が完了
した後、Ｏ，Ｓ ｔ ７分の速度で２０分間ホスゲンを
導入し、その間は水酸化ナトリウム２５チ水溶液を同時
に加えることによりｐＨを約１１に維持する。ホスゲン
添加時間の終りには水相のｐＨけ１１７である。
塩化メチレン相を水相から分離し、過剰の希釈（０，０
１Ｎ ）Ｈ（’、を水溶液で洗浄し、次いで脱イオン水
で３回洗浄する。重合体をメタノールで沈澱させ、８０
℃で乾燥する。得られる重合体は２５℃塩化メチレン中
における工、■、が０．２５ ｄｌ 、／ ９ｍであり
、ガラス転移温度が１３１℃である。
１Ｎ ）Ｈ（’、を水溶液で洗浄し、次いで脱イオン水
で３回洗浄する。重合体をメタノールで沈澱させ、８０
℃で乾燥する。得られる重合体は２５℃塩化メチレン中
における工、■、が０．２５ ｄｌ 、／ ９ｍであり
、ガラス転移温度が１３１℃である。
この重合体のＫＩ を測定し、結果を表１に示す。
表 １
例醜 ＫＩ
５ ４２．６３０
４ ９．２４０
５ １．５５０
表１のデータにより説明されるように、本発明のコポリ
エステル−カーボネート樹脂は従来のコポリエステル−
カーボネート（例５）よりも低いに工 を示す。さらに
、本発明コポリエステル−カーボネートは従来のコポリ
エステル−カーボネートよりも低いに工 を示すだけで
なく、従来のポリカーボネート（実施例４）よりも低い
に工 を示す。このように本発明のコポリエステル−カ
ーボネートは従来のコポリエステル−カーボネート樹脂
に比べて改善された加工性を示すだけでなく、従来のポ
リカーボネートに比較しても改善された加工性を示す。
エステル−カーボネート樹脂は従来のコポリエステル−
カーボネート（例５）よりも低いに工 を示す。さらに
、本発明コポリエステル−カーボネートは従来のコポリ
エステル−カーボネートよりも低いに工 を示すだけで
なく、従来のポリカーボネート（実施例４）よりも低い
に工 を示す。このように本発明のコポリエステル−カ
ーボネートは従来のコポリエステル−カーボネート樹脂
に比べて改善された加工性を示すだけでなく、従来のポ
リカーボネートに比較しても改善された加工性を示す。
一般に、ポリカーボネートはコポリエステル−カーボネ
ートよりもすぐれた加工性を示すから、従来のポリカー
ボネートに比べて加工性がこのように改善されたことは
普通でありえず予測しえないことである。
ートよりもすぐれた加工性を示すから、従来のポリカー
ボネートに比べて加工性がこのように改善されたことは
普通でありえず予測しえないことである。
上記指示に照らして、本発明のその他の変形及び変更が
可能であることは明らかである。従って、本発明の個、
々の具体例において、特許請求の範囲に明らかにされた
本発明の範囲内で変更をなしうろことは当然である。
可能であることは明らかである。従って、本発明の個、
々の具体例において、特許請求の範囲に明らかにされた
本発明の範囲内で変更をなしうろことは当然である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、一般式 ］ ％式％） Ｃ式中Ｒは２価芳香族基から独立に選ばれ、Ｒ’ｌ−＋
２価脂肪族炭化水素基、２価脂肪族エーテル残基及び２
価芳香族基から選ばれ、 ＲＦは２価フェノールの２価の残基から選ばれる）で表
わされるくり返し構造単位を含む改善された加工性を示
す熱可塑性芳香族コポリエステル−カーボネート樹脂。 ２、 １で表わされる前記２価芳香族基が一般式（式中
Ｒ３は独立に１価炭化水素基及びハロゲン基から選択さ
れ、ｂはθ〜４の値を有する正の整数である） で表わされる基から選ばれる特許請求の範囲第１項に記
載の樹脂。 ３、Ｒ３で表わされる前記１価炭化水素基がアルキル基
及びシクロアルキル基から選ばれる特許請求の範囲第２
項に記載の樹脂。 ４、Ｒ３で表わされる前記ノ・ロゲン基が塩素及び臭素
から選ばれる特許請求の範囲第２項に記載の樹脂。 ５、Ｒ１で表わされる前記２価炭化水素基がアルキレン
基及びシクロアルキレン基から選ばれる特許請求の範囲
第２項に記載の樹脂。 ６、Ｒ１で表わされる前記２価脂肪族エーテル残基が一
般式 （−Ｒ’−００−Ｒ５− （式中Ｒ’はアルキレン基及びシクロアルキレン基から
選ばれ、 Ｒ６はアルキレン基及びシクロアルキレン基から選ばれ
、 ｎは１〜約１０の値を有する正の整数である ）で表わ
される特許請求の範囲第２項に記載の樹脂。 ７、Ｒ１で表わされる前記２価芳香族基が一般式％式％ （式中Ｒ６は独立に１価炭化水素基及びハロゲン基から
選ばれ、Ａｒ は２価芳香族基から選ばれ、ｑは０から
Ａｒ 上の置換可能な水素原子の数までの値を有する正
の整数である） で表わされる特許請求の範囲第２項に記載の樹脂。 Ｂ、Ａ、ｒ ７５”フェニレン、ビフェニレン及ヒナフ
チレンから選ばれる特許請求の範囲第７項に記載の樹脂
。 ？、Ｒ６で表わされる前記１価炭化水素基がアルキル基
、シクロアルキル基、了り−ル基、アルアルキル基及び
アルカリール基から選ばれる特許請求の範囲第８項に記
載の樹脂。 ｊＯ，Ｒ２で表わされる前記２価フェノールの２価の残
基が一般式 （式中Ｗは２価炭化水素基、−〇−１−８−１−Ｓ−Ｓ
−１＋１ Ｒ８は１価炭化水素基及び）・ロゲン基から独立に選ば
れ、 ２は０〜４の値を有する正の整数であり、ｄは０又は１
であるー ） で表わされる特許請求の範囲第２項に記載の樹脂。 １１、Ｗで表わされる前記２価炭化水素基がアルキレン
基、シクロアルキレン基、アルキリデン基及びシクロア
ルキリデン基から選ばれる特許請求の範囲第１０項に記
載の樹脂。 １２、Ｒ”で表わされる前記１価炭化水素基がアルキル
基、シクロアルキル基、アリール基、アルアルキル基及
びアルカリール基から選ばれる特許請求の範囲第１０項
に記載の樹脂。 １５、Ｆｔ’で表わされる前記・・ロゲン基が塩素及び
臭素から選ばれる特許請求の範囲第１０項に記載の樹脂
。 １４− 前記２ 価フェノール残基がビスフェノール−
Ａの残基である特許請求の範囲第１０項に記載の樹脂。 １５、 Ｒがフェニレン基である特許請求の範囲第１４
項に記載の樹脂。 １６、前記ノ・ロゲン化カルボニルカーボネート前駆体
がホスゲンである特許請求の範囲第１５項に記載の樹脂
。 １７、Ｒ’がアルキレン及びシクロアルキレン基から選
ばれる特許請求の範囲第１６項に記載の樹脂。 １Ｂ、Ｒ’が２価エーテル残基から選ばれる特許請求の
範囲第１６項に記載の樹脂。 １９、（１）少くとも１種のモノエステル−ジオール又
はそのモノハロホルメート、 （１ｊ）少くとも１種の２価フェノール、及び（ｉｉｉ
）ハロゲン化カルボニルカーｙｋｌ−ト前駆体、 から誘導された改善された加工性を示す熱可塑性芳香族
コポリエステル−カーボネート樹脂。 ２０、前記モノエステル−ジオール又はそのモノハロホ
ルメートが加工性を改善する量で用いられる特許請求の
範囲第１９項に記載の樹脂。 ２１、前記加工性改善のための量が存在する２価フェノ
ールの量に対して約１〜約４５ モル／ニーセントであ
る特許請求の範囲第２０項に記載の樹脂。 ２２、前記加工性改善のための量が存在する２価フェノ
ールの量に対して約２゛〜約２５モル・く−セントであ
る特許請求の範囲第２１項に記載の樹脂。 ２３、前記モノエステル−ジオールが芳香族ヒドロキシ
カルボン酸又はそのエステル形成性反応性誘導体と、脂
肪族ジオール、脂肪族エーテルジオール及び芳香族ジオ
ールから選ばれたジオールとの反応生成物である特許請
求の範囲第２０項に記載の樹脂。 ２４．前記ジオールが脂肪族ジオール及び脂肪族エーテ
ルジオールから選ばれる特許請求の範囲第２３項に記載
の樹脂。 ２５、モノニステルルジオールのモノハロポルメートが
前記モノエステル−ジオール及びハロゲン化カルボニル
の反応生成物である特許請求の範囲第２５項に記載の樹
脂。 ２６、前記２価フェノールが一般式 （式中Ｗは２価炭化水素基、−ｏ−１−８−１−Ｓ−Ｓ
−１−〇 Ｒｓは独立に１価炭化水素基及びハロゲン基から選ばれ
、 ２は独立に０〜４の値を有する正の整数から選ばれ、 ｄは０又は１である。） で表わされる特許請求の範囲第２０項に記載の樹脂。 ２７、Ｗで表わされる前記２価炭化水素基がアルキレン
基、シクロアルキレン基、アルキリデン基及びシクロア
ルキリデン基から選ばれる特許請求の範囲第２６項に記
載の樹脂。 ２８、Ｒ８で表わされる前記１価炭化水素基がアルキル
基、アリール基、シクロアルキル基、アルアルキル基及
びアルカリール基から選ばれる特許請求の範囲第２６項
に記載の樹脂。 ２９、Ｒ”で表わされる前記ハロゲン基が塩素及び臭素
から選ばれる特許請求の範囲第２６項に記載の樹脂。 ３０、前記２ 価フェノールがビスフェノール−Ａであ
る特許請求の範囲第２６項に記載の樹脂。 ３１、前記ハロゲン化カルボニルカーボネ−）前駆体が
ホスゲンである特許請求の範囲第５０項に記載の樹脂。 ３２、前記モノエステル−ジオールがヒドロキシ安息香
酸又はそのエステル形成性反応性誘導体と、脂肪族ジオ
ール及び脂肪族エーテルジオールから選ばれたジオール
との反応生成物である特許請求の範囲第３１項に記載の
樹脂。 ３３、前記モノエステル−ジオールの前記モノハロホル
メートが前記モノエステル−ジオール及ヒハロゲン化カ
ルボニルの反応生成物である特許請求の範囲第３１項に
記載の樹脂。 ３４、前記ハロゲン化カルボニルがホスゲンである特許
請求の範囲第３３項に記載の樹脂。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US563762 | 1983-12-21 | ||
| US06/563,762 US4487917A (en) | 1983-12-21 | 1983-12-21 | Copolyester-carbonate resins exhibiting improved processability |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60168720A true JPS60168720A (ja) | 1985-09-02 |
| JPS6411212B2 JPS6411212B2 (ja) | 1989-02-23 |
Family
ID=24251800
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59268738A Granted JPS60168720A (ja) | 1983-12-21 | 1984-12-21 | 改善された加工性を示すコポリエステル−カ−ボネ−ト樹脂 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4487917A (ja) |
| EP (1) | EP0146880B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60168720A (ja) |
| AU (1) | AU575356B2 (ja) |
| CA (1) | CA1224592A (ja) |
| DE (1) | DE3479219D1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61198006U (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-10 | ||
| JPH02631A (ja) * | 1987-12-04 | 1990-01-05 | General Electric Co <Ge> | ヒドロキシ末端停止ポリカーボネート |
| WO2006004022A1 (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-12 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ポリカーボネート共重合体の製造方法及びポリカーボネート共重合体 |
| WO2009037974A1 (ja) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 熱可塑性樹脂組成物及びそれからなる成形体 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4504649A (en) * | 1983-12-16 | 1985-03-12 | General Electric Company | Copolyester-carbonate resins |
| US4476294A (en) * | 1983-12-16 | 1984-10-09 | General Electric Company | Copolyester-carbonate resins |
| US4612362A (en) * | 1985-03-27 | 1986-09-16 | Allied Corporation | Thermotropic polyester-carbonates containing 2,2-dimethyl-1,3-propanediol |
| US4677183A (en) * | 1985-11-12 | 1987-06-30 | General Electric Company | Polycarbonate exhibiting improved impact properties containing divalent residue of polymerized, partially hydrogenated conjugated alkadiene monomer |
| DE3808274A1 (de) * | 1988-03-12 | 1989-09-21 | Bayer Ag | Fluessig-kristalline bischlorkohlensaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und aus ihnen hergestellte fluessig-kristalline n-alkyl-polyurethane und polycarbonate |
| EP0351796A3 (en) * | 1988-07-20 | 1991-02-06 | Nippon Steel Corporation | Aromatic polyester carbonate and process for producing same |
| CA2013354A1 (en) * | 1989-07-03 | 1991-01-03 | John C. Schmidhauser | Thermoplastic polycarbonate compositions having improved oxygen barrier properties |
| US5247053A (en) * | 1990-02-08 | 1993-09-21 | The Dow Chemical Company | Halogenated copolycarbonates having improved end group selectivity and resistance to degradation |
| US5106904A (en) * | 1990-04-20 | 1992-04-21 | General Electric Company | Composition containing an aromatic copolyestercarbonate and an inert filler |
| WO1992018459A1 (en) * | 1991-04-18 | 1992-10-29 | Yoshitomi Pharmaceutical Industries, Ltd. | Benzoic ester compound and production thereof |
| US5360861A (en) * | 1993-05-28 | 1994-11-01 | General Electric Company | Polyester-carbonate resin compositions of improved impact-resistance |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3030335A (en) * | 1959-01-02 | 1962-04-17 | Gen Electric | Aromatic polycarbonate reaction products |
| CH421517A (de) * | 1960-12-06 | 1966-09-30 | Inventa Ag | Verfahren zur Herstellung hochmolekularer linearer Kopolyester |
| GB968390A (en) * | 1960-12-19 | 1964-09-02 | Ici Ltd | Manufacture of novel copolyesters |
| US3207814A (en) * | 1961-01-03 | 1965-09-21 | Gen Electric | Carbonate-polyester copolymer resinous compositions |
| US3493534A (en) * | 1967-12-11 | 1970-02-03 | Gen Mills Inc | Polycarbonates of diols derived from dimeric fat acids |
| JPS5644093B2 (ja) * | 1972-07-24 | 1981-10-17 | ||
| DE2704315C3 (de) * | 1976-02-12 | 1981-04-30 | Teijin Ltd., Osaka | Aromatische Polyestercarbonate, Verfahren zu ihrer Herstellung und deren Verwendung |
| US4381358A (en) * | 1981-10-16 | 1983-04-26 | General Electric Co. | Copolyester-carbonates containing aliphatic diol co-monomers |
| DE3325704A1 (de) * | 1983-07-16 | 1985-01-24 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Mesomorphe aromatishe polyestercarbonate, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung zur herstellung von formkoerpern, filamenten, fasern und folien |
| US4611074A (en) * | 1983-12-06 | 1986-09-09 | Southern Research Institute | (Alkylsulfonyl)methanesulfonates as anticancer agents |
| US4504649A (en) * | 1983-12-16 | 1985-03-12 | General Electric Company | Copolyester-carbonate resins |
-
1983
- 1983-12-21 US US06/563,762 patent/US4487917A/en not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-11-20 AU AU35701/84A patent/AU575356B2/en not_active Ceased
- 1984-12-12 EP EP84115251A patent/EP0146880B1/en not_active Expired
- 1984-12-12 DE DE8484115251T patent/DE3479219D1/de not_active Expired
- 1984-12-14 CA CA000470172A patent/CA1224592A/en not_active Expired
- 1984-12-21 JP JP59268738A patent/JPS60168720A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61198006U (ja) * | 1985-05-31 | 1986-12-10 | ||
| JPH02631A (ja) * | 1987-12-04 | 1990-01-05 | General Electric Co <Ge> | ヒドロキシ末端停止ポリカーボネート |
| WO2006004022A1 (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-12 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | ポリカーボネート共重合体の製造方法及びポリカーボネート共重合体 |
| JP2006016497A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Idemitsu Kosan Co Ltd | ポリカーボネート共重合体の製造方法及びポリカーボネート共重合体 |
| US7678875B2 (en) | 2004-07-01 | 2010-03-16 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Method for producing polycarbonate copolymer and polycarbonate copolymer |
| JP4731134B2 (ja) * | 2004-07-01 | 2011-07-20 | 出光興産株式会社 | ポリカーボネート共重合体の製造方法及びポリカーボネート共重合体 |
| WO2009037974A1 (ja) * | 2007-09-21 | 2009-03-26 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | 熱可塑性樹脂組成物及びそれからなる成形体 |
| JPWO2009037974A1 (ja) * | 2007-09-21 | 2011-01-06 | 出光興産株式会社 | 熱可塑性樹脂組成物及びそれからなる成形体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPS6411212B2 (ja) | 1989-02-23 |
| AU575356B2 (en) | 1988-07-28 |
| CA1224592A (en) | 1987-07-21 |
| DE3479219D1 (en) | 1989-09-07 |
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| AU3570184A (en) | 1985-06-27 |
| EP0146880A3 (en) | 1985-08-07 |
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