JPS60151580U - 回転塗布装置の基板ホルダ− - Google Patents

回転塗布装置の基板ホルダ−

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JPS60151580U
JPS60151580U JP4148984U JP4148984U JPS60151580U JP S60151580 U JPS60151580 U JP S60151580U JP 4148984 U JP4148984 U JP 4148984U JP 4148984 U JP4148984 U JP 4148984U JP S60151580 U JPS60151580 U JP S60151580U
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JP
Japan
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substrate holder
substrate
spin coating
coating equipment
holder
Prior art date
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Pending
Application number
JP4148984U
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English (en)
Inventor
越川　誉生
筧　朗
均 金井
良夫 高橋
畑　邦夫
Original Assignee
富士通株式会社
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Publication date
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Priority to JP4148984U priority Critical patent/JPS60151580U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の基板ホルダーにより塗布したフォトレジ
スト膜厚分布を示す図、第２図は本考案の一実施例によ
る基板ホルダーの斜視図、第３図は本考案の基板ホルダ
ーを使用して塗布したフォトレジスト膜厚分布を示す断
面図、第４図は基板ホルダー凹部に深さ調節機構を設け
た本考案の変形実施例によるホルダーの断面図である。 図において、１は基板、２はフォトレジスト膜、２１は
フォトレジスト膜凸部、３及び４はホルダー、３１及び
４１はホルダー凹部、３２及び４２、はホルダー周辺部
、４３は基板受は台、４４は調節ネジである。

Claims (2)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）基板にフォトレジスト膜を回転塗布する装置にお
    ける基板ホルダーであって、その上面に基板の外形と同
    一形状で、かつ該基板の厚さと同一の深さの凹部を設け
    たことを特徴とする回転塗布装置の基板ホルダー。
  2. （２）　　上記凹部内に、基板の厚みに応じて該凹部の
    深さを変え、基板上面と基板ホルダー上面とを同一平面
    となす調節機構を設けたことを特徴とする実用新案登録
    請求の範囲第（１）項に記載の回転塗布装置の基板ホル
    ダー。
JP4148984U 1984-03-22 1984-03-22 回転塗布装置の基板ホルダ− Pending JPS60151580U (ja)

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JP4148984U JPS60151580U (ja) 1984-03-22 1984-03-22 回転塗布装置の基板ホルダ−

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JP4148984U JPS60151580U (ja) 1984-03-22 1984-03-22 回転塗布装置の基板ホルダ−

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Publication Number Publication Date
JPS60151580U true JPS60151580U (ja) 1985-10-08

Family

ID=30551361

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4148984U Pending JPS60151580U (ja) 1984-03-22 1984-03-22 回転塗布装置の基板ホルダ−

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JP (1) JPS60151580U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002336764A (ja) * 2001-05-14 2002-11-26 Tatsumo Kk 成膜装置

Cited By (1)

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