JPS60150865A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
- Publication number
- JPS60150865A JPS60150865A JP649984A JP649984A JPS60150865A JP S60150865 A JPS60150865 A JP S60150865A JP 649984 A JP649984 A JP 649984A JP 649984 A JP649984 A JP 649984A JP S60150865 A JPS60150865 A JP S60150865A
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- JP
- Japan
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- coating
- coated
- substrate
- viscosity
- low
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- Expired - Lifetime
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は低粘性液状物体の塗布方法に関し、更に詳しく
は塗布ムラ、塗布液のロスが改良された高速の低粘性液
状物体の塗布方法に関する。
は塗布ムラ、塗布液のロスが改良された高速の低粘性液
状物体の塗布方法に関する。
(従来技術)
粘性液状物体の塗布方法としては、従来から例えばIJ
/<−スロール塗布法、グラビア塗布法、ドクターナ
イフ塗布法、エアードクター塗布法およびエクストルー
ジョン塗布法等が広く知られ、また実用化されている。
/<−スロール塗布法、グラビア塗布法、ドクターナ
イフ塗布法、エアードクター塗布法およびエクストルー
ジョン塗布法等が広く知られ、また実用化されている。
しかしながら、粘度が1ポアズ未滴の低粘性液状物体を
高速で均一に薄膜塗布するには未だ従来公知の塗布方法
では必ずしも満足し得るものではない。例えばリバース
ロール塗布の場合には低粘性液状物体の高速塗布に際し
て塗布液がロールから飛び散ったり塗布ムラを生じたり
することがある。また薄膜塗布を行なう場合には、アプ
リケーターロールとメータリングロールのギャップを約
巽μ以下に調整しなければならないことが多(、このよ
うにギャップを均一に調整するのは実際には困難である
。さらには被塗布基体を支持てるバ、クア、ブロールを
均一に作ることも難しく、その不均一パターンがそのま
ま塗布層の塗布ムラとなる。またゴミ等がバ、クア、ブ
ロールに付着した場合にも同様な転写ムラが発生する。
高速で均一に薄膜塗布するには未だ従来公知の塗布方法
では必ずしも満足し得るものではない。例えばリバース
ロール塗布の場合には低粘性液状物体の高速塗布に際し
て塗布液がロールから飛び散ったり塗布ムラを生じたり
することがある。また薄膜塗布を行なう場合には、アプ
リケーターロールとメータリングロールのギャップを約
巽μ以下に調整しなければならないことが多(、このよ
うにギャップを均一に調整するのは実際には困難である
。さらには被塗布基体を支持てるバ、クア、ブロールを
均一に作ることも難しく、その不均一パターンがそのま
ま塗布層の塗布ムラとなる。またゴミ等がバ、クア、ブ
ロールに付着した場合にも同様な転写ムラが発生する。
塗布液の種類圧よってはスジが発生し、全く均一塗布が
得られないこともある。塗布液の粘度やチキントロピー
性等圧よって塗布膜厚が著しく左右される。
得られないこともある。塗布液の粘度やチキントロピー
性等圧よって塗布膜厚が著しく左右される。
従ってバックアップロール、メータリングロール、アブ
リケータ−ロ゛−ル等の製造または設置に際しては極め
て高い精度が要求され、たとえ精度良く作製ないし設置
し得たとしても数μの塗布膜厚の変動はさけ雑いのが現
情である。
リケータ−ロ゛−ル等の製造または設置に際しては極め
て高い精度が要求され、たとえ精度良く作製ないし設置
し得たとしても数μの塗布膜厚の変動はさけ雑いのが現
情である。
一方、グラビア塗布の場合には、塗布液の粘度によって
グラビアロールかもトランスファーロールまたは被塗布
基体への塗布液の転移が大きく変わり、特に薄膜塗布の
場合には、その影響が顕著に現われる。またグラビア塗
布においては、塗布量を変えるためにはその度にグラビ
アロールな取替えなければならない。グラビア網目が乾
燥工程終了時まで無(ならず均一塗布が不可能になる場
合も少なくない。エクストルージョン塗布の場合には上
記の塗布方法に比べて膜厚を流量のみによって容易に制
御することかできるほかに塗布表面性も良好である。
グラビアロールかもトランスファーロールまたは被塗布
基体への塗布液の転移が大きく変わり、特に薄膜塗布の
場合には、その影響が顕著に現われる。またグラビア塗
布においては、塗布量を変えるためにはその度にグラビ
アロールな取替えなければならない。グラビア網目が乾
燥工程終了時まで無(ならず均一塗布が不可能になる場
合も少なくない。エクストルージョン塗布の場合には上
記の塗布方法に比べて膜厚を流量のみによって容易に制
御することかできるほかに塗布表面性も良好である。
しかしながら、例えば特公昭46−27158号や同4
6−16330号に記載されたエクストルージ、ン塗布
機の場合には、コーターへ、ドの液体押出口と塗布され
る被塗布基体との間隙なバ、クア。
6−16330号に記載されたエクストルージ、ン塗布
機の場合には、コーターへ、ドの液体押出口と塗布され
る被塗布基体との間隙なバ、クア。
ブロールにより数10μ以下に設定しなければならず、
そのような狭いギヤ、プ中に分散液を押し出し塗布を何
なう場合には、塗布液中のゴミや凝集物によって、ある
いはコーターへ、ドの少しばかりのゆがみによって被塗
布基体が傷ついたり、甚だしい場合には切断することも
ある。またエクストルージョン塗布では薄膜塗布が困難
である。特開昭5+1−138036号には、注液器か
ら被塗布帯状物上に該帯状物の走行する位置を規制する
ことな(、塗布液を流出させて塗布を行なう装置につい
て記載がある。
そのような狭いギヤ、プ中に分散液を押し出し塗布を何
なう場合には、塗布液中のゴミや凝集物によって、ある
いはコーターへ、ドの少しばかりのゆがみによって被塗
布基体が傷ついたり、甚だしい場合には切断することも
ある。またエクストルージョン塗布では薄膜塗布が困難
である。特開昭5+1−138036号には、注液器か
ら被塗布帯状物上に該帯状物の走行する位置を規制する
ことな(、塗布液を流出させて塗布を行なう装置につい
て記載がある。
上記に開示された塗布装置では比較的好都合に塗布する
ことができるが、塗布速度を90 m 7分以上に上昇
させ乾燥後の塗布膜厚な6μ以下になるような条件で塗
布すると急激にスジや塗布ムラが発生し始め均一塗布が
できなくなる。
ことができるが、塗布速度を90 m 7分以上に上昇
させ乾燥後の塗布膜厚な6μ以下になるような条件で塗
布すると急激にスジや塗布ムラが発生し始め均一塗布が
できなくなる。
この装置による塗布方法は、上記明細書の第3頁、9行
目に記載があるように水中にハロゲン化銀を分散せしめ
た写真用感光乳剤を塗布する目的で開発されたものであ
る。
目に記載があるように水中にハロゲン化銀を分散せしめ
た写真用感光乳剤を塗布する目的で開発されたものであ
る。
また特公昭84−7306 号には、コーターへ。
ドの走行するつLツブと接触する部分にウェッブな支持
するロールがな(、その接触する部分のコーターへ、ド
の上端部および下端部が鋭角罠なっていて、かつ液体溜
を有する如き塗布装置について記載されている。この装
置による塗布方法では比較的良好な塗布が得られるが、
塗布速度を90 rnZ分以上に上げ、さらに乾燥後の
被膜の厚さを1.5μ以下になるよ5に薄膜塗布を行’
fx ウ場合には急激にスジや塗布ムラが増加し、均一
塗布が非常に困難になる。さらにはコーターへ、ドの端
部が鋭角になっているために洗浄その他の取扱い中にへ
、ドに傷がつきや丁く、平滑度の維持か難かしいが、傷
が付くと直ちに塗布スジが発生して実用的に使用するこ
とは至難である。
するロールがな(、その接触する部分のコーターへ、ド
の上端部および下端部が鋭角罠なっていて、かつ液体溜
を有する如き塗布装置について記載されている。この装
置による塗布方法では比較的良好な塗布が得られるが、
塗布速度を90 rnZ分以上に上げ、さらに乾燥後の
被膜の厚さを1.5μ以下になるよ5に薄膜塗布を行’
fx ウ場合には急激にスジや塗布ムラが増加し、均一
塗布が非常に困難になる。さらにはコーターへ、ドの端
部が鋭角になっているために洗浄その他の取扱い中にへ
、ドに傷がつきや丁く、平滑度の維持か難かしいが、傷
が付くと直ちに塗布スジが発生して実用的に使用するこ
とは至難である。
また特開昭58−189070号および同58−189
069号公報にも塗布方法が記載されているが、この塗
布方法は塗布液の粘度が1′ポアズ(シェアレーF 1
aee−’において)以上の高粘度の磁性粉分散液K
r!Aするもので、乾燥後カレンダ処理前における膜厚
が1μ以上、好ましくは6μ前後の塗布物に適用される
ものである。このような塗布方法では例えば1.5μ以
下、特に1μ〜0.1μの膜厚を有する塗布物に適用す
ると塗布スジが多発し、実用的な塗布は行い得ない。
069号公報にも塗布方法が記載されているが、この塗
布方法は塗布液の粘度が1′ポアズ(シェアレーF 1
aee−’において)以上の高粘度の磁性粉分散液K
r!Aするもので、乾燥後カレンダ処理前における膜厚
が1μ以上、好ましくは6μ前後の塗布物に適用される
ものである。このような塗布方法では例えば1.5μ以
下、特に1μ〜0.1μの膜厚を有する塗布物に適用す
ると塗布スジが多発し、実用的な塗布は行い得ない。
(発明の目的)
従って本発明の目的は、高速でしかも薄膜塗布を均一に
行なうことができ、その上塗布液のロスの軽減された低
粘性液状物体の塗布方法を提供することにある。
行なうことができ、その上塗布液のロスの軽減された低
粘性液状物体の塗布方法を提供することにある。
(発明の構成)
前記本発明の目的はエクストルージ、ン法により低粘性
液状物体を連続的に走行する被塗布基体上に塗布する方
法において、塗布装置のコーターへ、ドの押出口が該被
塗布基体を支持する支持体の存在しない位置において該
被塗布基体の下面側に対接し、該被塗布基体に対してほ
ぼ垂直で、かつ前記低粘性液状物体が重力方向とは逆方
向に流出される如(配設され、塗布装置のコーターへ。
液状物体を連続的に走行する被塗布基体上に塗布する方
法において、塗布装置のコーターへ、ドの押出口が該被
塗布基体を支持する支持体の存在しない位置において該
被塗布基体の下面側に対接し、該被塗布基体に対してほ
ぼ垂直で、かつ前記低粘性液状物体が重力方向とは逆方
向に流出される如(配設され、塗布装置のコーターへ。
ドの押出口の先端部と被塗布基体とは塗布が何われてい
ないとぎには接触しており、塗布が行われているときに
は離間せしめられて塗布が行われ、かつ前記低粘性液状
物体の粘度がlポアズ(シェアレー) 15ec= に
おいて)未満である塗布方法により達成することができ
る。
ないとぎには接触しており、塗布が行われているときに
は離間せしめられて塗布が行われ、かつ前記低粘性液状
物体の粘度がlポアズ(シェアレー) 15ec= に
おいて)未満である塗布方法により達成することができ
る。
以下、図面の実施例により本発明を更に詳細に説明する
。
。
第1図は本発明の塗布方法に用いられる塗布装置の概観
側面図である。第1図において、1は塗布装置のコータ
ーへ、ド、2は塗布される基体、3Fi基体2を支持す
る回転可能な対をな丁支持体である。またθは基体2の
搬送方向(図中の矢印の示す方向)に対して搬出側に位
置するコーターへ、ド1のブレード側面(後述)と基体
2とのなす角度を表わし、30’より太き(,90’よ
り小さいことが良好な塗布被膜を得るために必要である
。
側面図である。第1図において、1は塗布装置のコータ
ーへ、ド、2は塗布される基体、3Fi基体2を支持す
る回転可能な対をな丁支持体である。またθは基体2の
搬送方向(図中の矢印の示す方向)に対して搬出側に位
置するコーターへ、ド1のブレード側面(後述)と基体
2とのなす角度を表わし、30’より太き(,90’よ
り小さいことが良好な塗布被膜を得るために必要である
。
4けコーターヘッドlの中に蓄えられた低粘性液状物体
で、流出路5に案内されて、押出口6より押出されて、
搬送される基体2に塗布される。
で、流出路5に案内されて、押出口6より押出されて、
搬送される基体2に塗布される。
本発明に係る塗布装置におけるコーターヘッドlの押出
口6は、基体2を支持する回転可能な支持体3の存在し
ない位置に配置され、基体2に対してほぼ垂直な位置に
設置されている。そして本発明の塗布方法では低粘性液
状物体4は、その重力方向とは逆方向に流出して塗布が
行われることを特徴の1つとする。
口6は、基体2を支持する回転可能な支持体3の存在し
ない位置に配置され、基体2に対してほぼ垂直な位置に
設置されている。そして本発明の塗布方法では低粘性液
状物体4は、その重力方向とは逆方向に流出して塗布が
行われることを特徴の1つとする。
すなわち本発明外の塗布装置のように、コーターへ、ド
が水平方向に配置され、被塗布基体が垂直方向に移動す
る屋式の塗布方法の場合には、重力の作用によってコー
ターへ、ドと被塗布基体との接触部の下方端に塗布液や
乾燥固形物の付着が起り易く、このような現象は特に揮
発性有機溶剤を含有した塗布液の場合に顕著であり、し
ばしば塗布スジの発生原因になり得る。
が水平方向に配置され、被塗布基体が垂直方向に移動す
る屋式の塗布方法の場合には、重力の作用によってコー
ターへ、ドと被塗布基体との接触部の下方端に塗布液や
乾燥固形物の付着が起り易く、このような現象は特に揮
発性有機溶剤を含有した塗布液の場合に顕著であり、し
ばしば塗布スジの発生原因になり得る。
更に本発明の塗布方法の特徴とするところは、低粘性液
状物体4が押出されていないとき、すなわち塗布が行わ
れていないときには、コーターへ、ドlの押出口6は、
支持体3により張架された被塗布基体20面に当接して
いるが、低粘性液状物体4が押出されているとき、すな
わち塗布が竹われているときには、上記押出口6は張架
された被塗布基体2の面から僅かばかり離間せしめられ
るととKある。
状物体4が押出されていないとき、すなわち塗布が行わ
れていないときには、コーターへ、ドlの押出口6は、
支持体3により張架された被塗布基体20面に当接して
いるが、低粘性液状物体4が押出されているとき、すな
わち塗布が竹われているときには、上記押出口6は張架
された被塗布基体2の面から僅かばかり離間せしめられ
るととKある。
次に1本発明に係るコーターへ、ドlの構造をより具体
的に理解するためには第2図の部分拡大図により更に詳
細に説明する。
的に理解するためには第2図の部分拡大図により更に詳
細に説明する。
第2図は、塗布が行われていない時のコーターへ、ドl
の状態を示す部分拡大図である。
の状態を示す部分拡大図である。
図において1mおよびlbは、それぞれ低粘性液状物体
4の押出口6を形成するコーターへ、ド1の上部ブレー
ドならびに下部のブレードである。
4の押出口6を形成するコーターへ、ド1の上部ブレー
ドならびに下部のブレードである。
本発明に係るコーターへ、ドIにおいては、被塗布基体
2の搬送方向(矢印)K対して搬出側に位置するブレー
ドIaの先端部を搬入側に位置するブレードlbの先端
部より突出(本発明では好ましくは1111程度)せし
め、かつ前記により明らかにされた通り、ブレードla
の側面1cと被塗布基体2とのなす角度を300〜90
°に設定せしめたことを特徴とする。すなわち匍0を越
えたとき、ならびにガ未満になったときは著しい塗布ス
ジが発生する。
2の搬送方向(矢印)K対して搬出側に位置するブレー
ドIaの先端部を搬入側に位置するブレードlbの先端
部より突出(本発明では好ましくは1111程度)せし
め、かつ前記により明らかにされた通り、ブレードla
の側面1cと被塗布基体2とのなす角度を300〜90
°に設定せしめたことを特徴とする。すなわち匍0を越
えたとき、ならびにガ未満になったときは著しい塗布ス
ジが発生する。
なお、本発明においては、ブレードlbの側面1dと被
塗布基体2とのなす角度は任意でよく、特に規定する必
要はないが、使用後のブレードの洗浄時の傷付き易さを
考慮すると被塗布基体に対して鋭角であることが好まし
い。
塗布基体2とのなす角度は任意でよく、特に規定する必
要はないが、使用後のブレードの洗浄時の傷付き易さを
考慮すると被塗布基体に対して鋭角であることが好まし
い。
本発明において使用される低粘性液状物体4としては、
例えば変成ポリウレタンを含むポリウレタン、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロール、フェノキ
シ、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタ
ジェン−アクリロニトリル共重合体、ポリエステル、ア
クリル酸ブチル−アクリロニトリル共重合体、エポキシ
等のポリマーやレシチン等の界面活性剤、脂肪酸エステ
ル、脂肪酸、シリコン系化合物、含フー1素系化合物等
の潤滑剤をシクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン
等の有機溶媒中に溶解した分散媒中にアルミナ、カーボ
ンブラック、二酸化チタン、炭酸カルシウム、グラファ
イト、二硫化タングステン、二硫化モリブデン、窒化ホ
ウ素、二酸化ケイ素、α−およびγ−酸化鉄、コバルト
被漸屋酸化鉄、二酸化クロム、二、ケルやコバルト等の
金属を含む合金鉄等の粉末を分散したもの等を挙げるこ
とができる。
例えば変成ポリウレタンを含むポリウレタン、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロール、フェノキ
シ、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタ
ジェン−アクリロニトリル共重合体、ポリエステル、ア
クリル酸ブチル−アクリロニトリル共重合体、エポキシ
等のポリマーやレシチン等の界面活性剤、脂肪酸エステ
ル、脂肪酸、シリコン系化合物、含フー1素系化合物等
の潤滑剤をシクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン
等の有機溶媒中に溶解した分散媒中にアルミナ、カーボ
ンブラック、二酸化チタン、炭酸カルシウム、グラファ
イト、二硫化タングステン、二硫化モリブデン、窒化ホ
ウ素、二酸化ケイ素、α−およびγ−酸化鉄、コバルト
被漸屋酸化鉄、二酸化クロム、二、ケルやコバルト等の
金属を含む合金鉄等の粉末を分散したもの等を挙げるこ
とができる。
上記の粉末の重i%は0.5%〜20%、好ましくは2
%前後である。
%前後である。
あるいは上記の溶媒中に低分子の化合物を0.01〜1
%程度溶解しただけのものでもよい。
%程度溶解しただけのものでもよい。
本発明においては、前述の如(低粘性液状物体4が押出
されていないときにはコーターヘッドlの先端は、張架
されている被塗布基体に当接している。
されていないときにはコーターヘッドlの先端は、張架
されている被塗布基体に当接している。
このときの被塗布基体2の張力は、塗布速度が速いほど
、塗布液の粘度が大きいほど、また塗布液の流量が少な
いほど大きくする必要があるものの通常は10〜100
0g/、の範囲であることが好ましい。張力が1097
cmより小さいと塗布速度90 m、Anxr以上で粘
度1ポアズ以下の液を塗布する際+/Cは、液切れが生
じたり塗布スジが発生する。また、1000g/mより
太きいとスジが発生する。
、塗布液の粘度が大きいほど、また塗布液の流量が少な
いほど大きくする必要があるものの通常は10〜100
0g/、の範囲であることが好ましい。張力が1097
cmより小さいと塗布速度90 m、Anxr以上で粘
度1ポアズ以下の液を塗布する際+/Cは、液切れが生
じたり塗布スジが発生する。また、1000g/mより
太きいとスジが発生する。
コーターへ、ド1かも流出する低粘性液状物体4の圧力
は、塗布膜厚と塗布スピードに左右されるが、実際的に
は0.1〜9 kg / 771’の程度であることが
好ましい。圧力が0.1 ky / m′より小さいと
、塗布速度90 mA苺以上で粘度lポアズ以下の液を
塗布する際には液切れが生じたり、塗布スジが発生する
。また9 kg / mより太きいと、膜厚が不均一に
なり、中央部が厚くなる。
は、塗布膜厚と塗布スピードに左右されるが、実際的に
は0.1〜9 kg / 771’の程度であることが
好ましい。圧力が0.1 ky / m′より小さいと
、塗布速度90 mA苺以上で粘度lポアズ以下の液を
塗布する際には液切れが生じたり、塗布スジが発生する
。また9 kg / mより太きいと、膜厚が不均一に
なり、中央部が厚くなる。
本発明において塗布に供せられる低粘性液状物体4の粘
度は実用上では1ポアズ(シェアレート15ec−’
Icおいて)以下でなければならない。
度は実用上では1ポアズ(シェアレート15ec−’
Icおいて)以下でなければならない。
また塗布温度については余り高温であると塗布工程中に
溶媒が蒸発するので好ましくな(、余り低温であると粘
度が大きくなり過ぎてこれまた好ましくない。そこで本
発明における塗布温度は加℃前後であることが好ましい
。
溶媒が蒸発するので好ましくな(、余り低温であると粘
度が大きくなり過ぎてこれまた好ましくない。そこで本
発明における塗布温度は加℃前後であることが好ましい
。
次に塗布速度については90 m 7分以上である場合
に本発明の効果が最も発揮される。
に本発明の効果が最も発揮される。
本発明の塗布方法によれば塗布膜厚は乾燥後4μ以下で
本発明に係る装置の能力が最も高度に発揮されるが、1
μ以下の場合には更に効果的に発揮される。ただしこの
場合、塗布液の粘度が1ポアズ(シェアレート15ec
−’ において)以下であることが必要である。次に使
用される被塗布基体については厚さが200μ〜5μ、
あるいはこれ以下のポリエステルペース等を用いること
かでざるが、本発明においては特に20μ以下の厚さの
基体が好ましい。
本発明に係る装置の能力が最も高度に発揮されるが、1
μ以下の場合には更に効果的に発揮される。ただしこの
場合、塗布液の粘度が1ポアズ(シェアレート15ec
−’ において)以下であることが必要である。次に使
用される被塗布基体については厚さが200μ〜5μ、
あるいはこれ以下のポリエステルペース等を用いること
かでざるが、本発明においては特に20μ以下の厚さの
基体が好ましい。
第3図は本発明に係る塗布装置の他の実施例を示す概観
側面図である。
側面図である。
図において7は、支持体30間に張架されたエンドレス
ラバーブランケットである。このエンドレスラバーブラ
ンケ、ドアは被塗布基体2の支持、走行を安定かつ確実
に行なうことを目的として用いたものであり、低粘性液
状物体4の塗布機構、条件等は前記第1図において示さ
れた装置と変るところはない。
ラバーブランケットである。このエンドレスラバーブラ
ンケ、ドアは被塗布基体2の支持、走行を安定かつ確実
に行なうことを目的として用いたものであり、低粘性液
状物体4の塗布機構、条件等は前記第1図において示さ
れた装置と変るところはない。
以上詳細に説明された本発明に係わる塗布装置を用いて
行われる本発明の塗布方法によれば、低粘性液状物体を
高速でかつ均一に薄膜塗布を行うことが可能になる。
行われる本発明の塗布方法によれば、低粘性液状物体を
高速でかつ均一に薄膜塗布を行うことが可能になる。
そして塗布過程において被塗布基体を傷つけたり、切断
したりすることがなく、塗布液の流量をギヤポンプ等の
送液手段を用いて正確に制御すると、4μ以下の膜厚を
一定に、かつ均一に塗布することができる。
したりすることがなく、塗布液の流量をギヤポンプ等の
送液手段を用いて正確に制御すると、4μ以下の膜厚を
一定に、かつ均一に塗布することができる。
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。
実施例1
二酸化チタンをポリウレタンとニトロセルロースとレシ
チンとのシクロヘキサノンとテトラヒドロフランの3=
1の混合溶液に溶解せしめた溶液中に分散せしめた分散
液(シェアレー) 15ec−’における粘度が頷セン
チポアズ)を100m/分ノ塗布速度で塗布乾燥後の膜
厚が0.8μになるように第1図に示された塗布装置を
用いて塗布した。
チンとのシクロヘキサノンとテトラヒドロフランの3=
1の混合溶液に溶解せしめた溶液中に分散せしめた分散
液(シェアレー) 15ec−’における粘度が頷セン
チポアズ)を100m/分ノ塗布速度で塗布乾燥後の膜
厚が0.8μになるように第1図に示された塗布装置を
用いて塗布した。
この時被塗布基体の張力は500g/clLであった。
得られた被塗布基体は塗布工程中に切断したり傷ついた
りすることなく、平滑な表面を有する塗布薄膜が得られ
た。塗布液の流量はギヤポンプを用いて一定に制御され
ているので乾燥後の塗布膜厚は塗布の始めから終りまで
極めて正確に保つことができた。
りすることなく、平滑な表面を有する塗布薄膜が得られ
た。塗布液の流量はギヤポンプを用いて一定に制御され
ているので乾燥後の塗布膜厚は塗布の始めから終りまで
極めて正確に保つことができた。
比較例
磁性鉄粉をポリウレタンと塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合体とレシチンをシクロヘキサノンとテトラヒドロフラ
ンの3:1の混合溶媒に溶解した溶液中に分散せしめた
分散液(シェアレート1111Iclにおける粘度が加
ポアズ)を100m/分の塗布速度で乾燥後の膜厚が0
.8μになるように第1図に示された装置を用いて被塗
布基体の張力500 g/cn*で塗布した。得られた
基体は、塗布工程中に切断したり傷ついたりてることは
なかったが、塗布表面にスジが多発した。
合体とレシチンをシクロヘキサノンとテトラヒドロフラ
ンの3:1の混合溶媒に溶解した溶液中に分散せしめた
分散液(シェアレート1111Iclにおける粘度が加
ポアズ)を100m/分の塗布速度で乾燥後の膜厚が0
.8μになるように第1図に示された装置を用いて被塗
布基体の張力500 g/cn*で塗布した。得られた
基体は、塗布工程中に切断したり傷ついたりてることは
なかったが、塗布表面にスジが多発した。
(発明の効果)
本発明の塗布方法によれば、低粘性液状物体の塗布に際
し高速、かつ均一に薄膜状に塗布することができ、塗布
物に傷がつくこともない。
し高速、かつ均一に薄膜状に塗布することができ、塗布
物に傷がつくこともない。
it図は、本発明の塗布方法に用いられる塗布装置の概
観側面図、第2図は同上装置の部分拡大図、また第3図
は本発明の他の実施例における塗布装置の概観側面図で
ある。 l・・・コーターへ、ド ■&および1b・・・上、下部のブレードlc 、 l
d・・・上、下部のブレードの側面2・・・被塗布基体
3・・・支持体 4・・・低粘性液状物体 5・・・(分散液の)流通路
6・・・(分散液の)押出口 7・・・プランヶ、ト代
理人 弁理士 野 1)義 親 A口?
観側面図、第2図は同上装置の部分拡大図、また第3図
は本発明の他の実施例における塗布装置の概観側面図で
ある。 l・・・コーターへ、ド ■&および1b・・・上、下部のブレードlc 、 l
d・・・上、下部のブレードの側面2・・・被塗布基体
3・・・支持体 4・・・低粘性液状物体 5・・・(分散液の)流通路
6・・・(分散液の)押出口 7・・・プランヶ、ト代
理人 弁理士 野 1)義 親 A口?
Claims (1)
- エクストルージョン法により低粘性液状物体を連銃的に
走行する被塗布基体に塗布する方法において、塗布装置
のコーターへ、ドの押出口が該被塗布基体を支持する支
持体の存在しない位置において該被塗布基体の下面側に
対接し、該被塗布基体に対してほぼ垂直で、かつ前記低
粘性液状物体が重力方向とは逆方向に流出される如く配
設され、塗布装置のコーターヘッドの押出1」の先端部
と被塗布基体とは塗布が行われていないときには接触し
ており、塗布が行われているときには離間せしめられて
塗布が何われ、かつ前記低粘性液状物体の粘度が1ポア
ズ(シェアレートl 5ec−’において)未満である
ことを特徴とする塗布方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP649984A JPS60150865A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP649984A JPS60150865A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 塗布方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60150865A true JPS60150865A (ja) | 1985-08-08 |
Family
ID=11640134
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP649984A Expired - Lifetime JPS60150865A (ja) | 1984-01-17 | 1984-01-17 | 塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60150865A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62117666A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
JPH02237675A (ja) * | 1989-03-08 | 1990-09-20 | Konica Corp | 塗布方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50138036A (ja) * | 1974-04-22 | 1975-11-04 | ||
JPS58189070A (ja) * | 1982-04-09 | 1983-11-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁性体分散液の塗布方法 |
-
1984
- 1984-01-17 JP JP649984A patent/JPS60150865A/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50138036A (ja) * | 1974-04-22 | 1975-11-04 | ||
JPS58189070A (ja) * | 1982-04-09 | 1983-11-04 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 磁性体分散液の塗布方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62117666A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
JPH02237675A (ja) * | 1989-03-08 | 1990-09-20 | Konica Corp | 塗布方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |