JPS60117731A - ウエハ−現像装置 - Google Patents

ウエハ−現像装置

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Publication number
JPS60117731A
JPS60117731A JP22624083A JP22624083A JPS60117731A JP S60117731 A JPS60117731 A JP S60117731A JP 22624083 A JP22624083 A JP 22624083A JP 22624083 A JP22624083 A JP 22624083A JP S60117731 A JPS60117731 A JP S60117731A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
developer
rinsing liquid
cup
ejecting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22624083A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshiki Iwata
岩田　義樹
Nobuo Kawase
信雄 川瀬
Keitoku Tanaka
田中　佳徳
Takashi Miyake
隆 三宅
Hiroshi Kawaura
廣 川浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Canon Marketing Japan Inc
Original Assignee
Canon Inc
Canon Hanbai KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc, Canon Hanbai KK filed Critical Canon Inc
Priority to JP22624083A priority Critical patent/JPS60117731A/ja
Publication of JPS60117731A publication Critical patent/JPS60117731A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は回転しているウェハーに現像液を与え現像する
ウェハー現像装置に関するものである。
〔従来技術〕
従来のウェハー現像装置は現像液がウニノ・−裏面に巻
り込んで付着し、この現像液が縦向しウェハー裏面の平
面性が損なわれるため、次工程で不都合が生じていた。
ホトレジストをウェハーに塗布する回転塗布装置ｉ’ｆ
の分野（（おいては、特公昭５６−７７４４に示される
如くウェハーの裏面を覆う飛沫防止板によってウェハー
の裏面にホトレジストが付着するのを防止する方法、又
実開昭４８−８４８５７に示される如くウェハーの裏面
にガスをふき付けることによって、ホトレジストの裏面
への巻り込みを防止する方法等が知られている。
ウェハーの回転速度が速く、又、粘度の高いホトレジス
トを使用する回転塗布機の場合はこの方法が有効である
が、ウニノ・−の回転速度も低く、又、粘度の低い現像
液の場合この方法はあまり有スリＣはない。
［［］　的〕 従って、本発明の目的は、現像液がウニノ・−の＃、＋
ｊ＋ｉ　Ｋ付着することを有効に防止したウェハー現像
装置を提供することにある。そして、この目的は現像中
にウェハー裏面に純水等のリンス液を噴出する構成によ
って達成している。
〔実施例〕
第１図中、１は回転して（・るウェハーチャック２によ
って吸着されたウェハーである。このウェハーは不図示
のノズルからの現像液の噴出によつて現像されている。
６，４は現像液が飛散するのを防止するための外カップ
及び内カップである。
内カップ４は不図示の部材によって外カッ７３内圧保持
されている。外カップ６の一個所若しくは複数個所には
純水等のリンス液をウェハー下面に噴出するための噴出
口５がウェハー裏面の周辺部に対向して配されて℃・る
。このリンス液によってウェハー裏面に巻り込もうとし
ている、若しくは付着した現像液は洗い流される。この
リンス液及び現像液は内カップ４の排出口乙によって排
出される。
〔効　果〕
本発明はウェハー現像中にウェハー裏面にリンス液を噴
出しているため、ウェハー裏面に現像液が付着すること
がないため、ウェハーの裏面の平面性が得られる等の効
果を有している。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明のウェハー現像装置を示す図である。 図中、１はウェハー、２はチャック、６は外カップ、４
は内カップ、５は噴出口、６は排出口である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェハー下面に近接し設げられた覆部材の先端部にリン
    ス液噴出口を設け、該噴出口よりリンス液をウェハー下
    面に噴出することを特徴とするウェハー現像装置。
JP22624083A 1983-11-30 1983-11-30 ウエハ−現像装置 Pending JPS60117731A (ja)

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JP22624083A JPS60117731A (ja) 1983-11-30 1983-11-30 ウエハ−現像装置

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JPS60117731A true JPS60117731A (ja) 1985-06-25

Family

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02185032A (ja) * 1989-01-11 1990-07-19 Nec Corp エッチング方法及びエッチング装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5511311A (en) * 1978-07-10 1980-01-26 Hitachi Ltd Method of photoresist developing

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5511311A (en) * 1978-07-10 1980-01-26 Hitachi Ltd Method of photoresist developing

Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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