JPS60116775A - 蒸着処理装置 - Google Patents
蒸着処理装置Info
- Publication number
- JPS60116775A JPS60116775A JP22497783A JP22497783A JPS60116775A JP S60116775 A JPS60116775 A JP S60116775A JP 22497783 A JP22497783 A JP 22497783A JP 22497783 A JP22497783 A JP 22497783A JP S60116775 A JPS60116775 A JP S60116775A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gear
- gears
- planetary gears
- vapor deposition
- fixed gear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、蒸着処理装置に関し、特に光学式情報記録媒
体(以下単にディスクと称する)の信号面上に金属を真
空蒸着して反射膜を形成するための蒸着処理装置に関す
るものである。
体(以下単にディスクと称する)の信号面上に金属を真
空蒸着して反射膜を形成するための蒸着処理装置に関す
るものである。
従来この種の装置として第1図に示すものがあった。図
において、基台1及びハウジング2によシ、真空で金属
蒸気雰囲気の蒸着室が画定され、基台1の中央部には固
定ギア3が配置きれている。
において、基台1及びハウジング2によシ、真空で金属
蒸気雰囲気の蒸着室が画定され、基台1の中央部には固
定ギア3が配置きれている。
固定ギア3の中心部には、蒸着されるべき金属の蒸着源
4が配置されている。蒸着源4には、第2図に示す如く
、支柱5によシ保持された電極6(よって電位が与えら
れる。固定ギア3の下方に設せられた駆動、部材7は固
定ギア3の中心軸の周シに回転自在であシ、この駆動部
材7上でかつ固定ギア3を中心とする所蓚円周1には、
例えば81周の遊星ギア8a〜8hが等間隔にて回転自
在に軸支されている。
4が配置されている。蒸着源4には、第2図に示す如く
、支柱5によシ保持された電極6(よって電位が与えら
れる。固定ギア3の下方に設せられた駆動、部材7は固
定ギア3の中心軸の周シに回転自在であシ、この駆動部
材7上でかつ固定ギア3を中心とする所蓚円周1には、
例えば81周の遊星ギア8a〜8hが等間隔にて回転自
在に軸支されている。
これら遊星ギア8a〜8hは互いに同一径を有して固定
ギア3に噛合し、前記駆動部材7の回転に伴って固定ギ
ア3の周シを自転しつつ公転する。
ギア3に噛合し、前記駆動部材7の回転に伴って固定ギ
ア3の周シを自転しつつ公転する。
例えば、固定ギア3のピッチ円を53’Qm、歯数を3
1”5.モジュールを2とし、遊星ギア8α〜8hのピ
ッチ円を210IIB、歯数を105.モジュールを2
とすると、公転直径が84 Q wb 、公転/自転=
173となる。遊星ギア8α〜8h上には、8枚のディ
スク9a〜9hがホルダ(図示せず)を介して担持され
る。
1”5.モジュールを2とし、遊星ギア8α〜8hのピ
ッチ円を210IIB、歯数を105.モジュールを2
とすると、公転直径が84 Q wb 、公転/自転=
173となる。遊星ギア8α〜8h上には、8枚のディ
スク9a〜9hがホルダ(図示せず)を介して担持され
る。
8枚のディスク9α〜9hは駆動部材7の回転に伴って
各遊星ギア8LL〜8hと一体に固定ギア3の周シを自
転しつつ公転する。そして各ディスクの表面及び裏面が
蒸着源4とほぼ対向する角度範囲X、Xが蒸着有効範囲
となり、他の角度範囲Y。
各遊星ギア8LL〜8hと一体に固定ギア3の周シを自
転しつつ公転する。そして各ディスクの表面及び裏面が
蒸着源4とほぼ対向する角度範囲X、Xが蒸着有効範囲
となり、他の角度範囲Y。
このように構成された従来装置では、隣り、ディスク同
士が自転するときにぶつかシ合わないようにするために
は、隣シ合う遊星ギアの軸間距離をディスクの自転直径
よシ大に設定しなければならないので、所定の公転直径
に対し1′バツチ当シのディスクの収容数量に限界が生
じていた。例えば、公転直径を84011とした場合に
は、30crnデイスクで8枚/バッチ、20I:In
ディスクで12枚/バッチが限界となっていた。
士が自転するときにぶつかシ合わないようにするために
は、隣シ合う遊星ギアの軸間距離をディスクの自転直径
よシ大に設定しなければならないので、所定の公転直径
に対し1′バツチ当シのディスクの収容数量に限界が生
じていた。例えば、公転直径を84011とした場合に
は、30crnデイスクで8枚/バッチ、20I:In
ディスクで12枚/バッチが限界となっていた。
但し、物理的には、隣り合うディスクの取付は位相を適
当に設定することにより、前記軸間距離をディスクの自
転直径以下にすることは可能であるが、この場合次の理
由により現実的には非常に好ましくない。すなわち、自
公転方式の場合、蒸着源4に電位を与える為の電極6や
、この電極6を保持する為の支柱5などが必要であり、
これらによって遮蔽される角度範囲Y、Yでは有効に蒸
着されず、また上記の様に位相をずらせた場合、蒸着有
効範囲X、X内では、蒸着源4に全面が対向すべきディ
スクが隣シのディスクによシ遮ぎられてしまうことにな
るからである。
当に設定することにより、前記軸間距離をディスクの自
転直径以下にすることは可能であるが、この場合次の理
由により現実的には非常に好ましくない。すなわち、自
公転方式の場合、蒸着源4に電位を与える為の電極6や
、この電極6を保持する為の支柱5などが必要であり、
これらによって遮蔽される角度範囲Y、Yでは有効に蒸
着されず、また上記の様に位相をずらせた場合、蒸着有
効範囲X、X内では、蒸着源4に全面が対向すべきディ
スクが隣シのディスクによシ遮ぎられてしまうことにな
るからである。
本発明は、上記のような従来のものの久、点を除去すべ
くなされたもので、1バッチ当りのディスク収容数量を
増加させるりとにより、生産坤を向上せしめた蒸着処理
装置を提供することを目的とする。
くなされたもので、1バッチ当りのディスク収容数量を
増加させるりとにより、生産坤を向上せしめた蒸着処理
装置を提供することを目的とする。
本発明による蒸着処理装置においては、固定ギアに対し
て回転自在な駆動部材上に、該固定ギアに噛合した複数
の基本遊星ギアを等間隔に千回転自在に設けると共に、
これ、ら基本遊星ギアの隣り合うもの同土間に複数の付
加遊星ギアを等間隔にて回転自在に設け、基本遊星ギア
と付加遊星ギアとを該駆動部材の回転に伴って互いに同
期させつつ反対方向に回転させる構成となっている。
て回転自在な駆動部材上に、該固定ギアに噛合した複数
の基本遊星ギアを等間隔に千回転自在に設けると共に、
これ、ら基本遊星ギアの隣り合うもの同土間に複数の付
加遊星ギアを等間隔にて回転自在に設け、基本遊星ギア
と付加遊星ギアとを該駆動部材の回転に伴って互いに同
期させつつ反対方向に回転させる構成となっている。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明するO
第3図は、本発明の一実施例を示す平面図である。第3
図において、固定ギア3に対して回転自在な駆動部材7
(第1図参照)上でかつ固定ギア3を中心とする所定円
周上には、例えば6個の基本遊星ギア11α〜11fが
等間隔にて回転自在に軸支され、これら基本遊星ギアl
id〜11fは互いに同一径を有して固定ギア3に噛合
し、前記駆動部材7の回転に伴って固定ギア3の周シを
自転しつつ公転する。駆動部材7上の前記所定円周上に
は更に、基本遊星ギアlla〜11fの隣シ合うもの同
土間に等間隔で位置するように、互いに同一径の6個の
付加遊星ギア12α〜12/が回転自在に軸支されてい
る。これら付加遊星ギア12a〜12fと固定ギア3と
の間には、双方に噛合した同軸の2段中間ギア13α〜
13f、14a〜14/が介在1ておシ、とnら中間ギ
ア13tz−13/ 、 14a−147i前記駆動部
材7の回転に伴って付加遊星ギア12α〜12fを基本
遊星ギア11α〜11/に対して同期させつ2反対方向
に回転せしめる機械的連絡手段を構成している。基本遊
星ギア11a〜11f及び付加遊星ギア12a〜12f
上には、図示せぬホルダを介して12枚のディスク9α
〜’lが担持され、これらディスクの49合うもの同士
は前記駆動部材70回転に伴って固定ギア3の周シを互
いに同期しかつ逆方向に自転しつつ公転する。
図において、固定ギア3に対して回転自在な駆動部材7
(第1図参照)上でかつ固定ギア3を中心とする所定円
周上には、例えば6個の基本遊星ギア11α〜11fが
等間隔にて回転自在に軸支され、これら基本遊星ギアl
id〜11fは互いに同一径を有して固定ギア3に噛合
し、前記駆動部材7の回転に伴って固定ギア3の周シを
自転しつつ公転する。駆動部材7上の前記所定円周上に
は更に、基本遊星ギアlla〜11fの隣シ合うもの同
土間に等間隔で位置するように、互いに同一径の6個の
付加遊星ギア12α〜12/が回転自在に軸支されてい
る。これら付加遊星ギア12a〜12fと固定ギア3と
の間には、双方に噛合した同軸の2段中間ギア13α〜
13f、14a〜14/が介在1ておシ、とnら中間ギ
ア13tz−13/ 、 14a−147i前記駆動部
材7の回転に伴って付加遊星ギア12α〜12fを基本
遊星ギア11α〜11/に対して同期させつ2反対方向
に回転せしめる機械的連絡手段を構成している。基本遊
星ギア11a〜11f及び付加遊星ギア12a〜12f
上には、図示せぬホルダを介して12枚のディスク9α
〜’lが担持され、これらディスクの49合うもの同士
は前記駆動部材70回転に伴って固定ギア3の周シを互
いに同期しかつ逆方向に自転しつつ公転する。
ここで、49合うディスク同士が互いに同期しつつ逆方
向に自転するためには、各ギア間で次の条件を満足する
必要がある。すなわち、基本遊星ギアtxa−tt、7
’(搏のピッチ円をφh、歯数をTb。
向に自転するためには、各ギア間で次の条件を満足する
必要がある。すなわち、基本遊星ギアtxa−tt、7
’(搏のピッチ円をφh、歯数をTb。
中間ギア13α〜13 f (Qのピッチ円をφ。、歯
数を1゛o、中間ギア14a 〜14fO))のピッチ
円をφd。
数を1゛o、中間ギア14a 〜14fO))のピッチ
円をφd。
歯数をTd、付加遊星ギア(ト))12a〜12/のピ
ッチ円をφ5.歯数をT、とすると、 φh=φ、十φd十φ。
ッチ円をφ5.歯数をT、とすると、 φh=φ、十φd十φ。
φh〉 2φ0
’r5 / Tc = Te / Td具体的数値の一
例を示すと、固定ギア3(5)のピッチ円をφ9.歯数
をTaとすると、 固定ギアA:φ、=630mI T、=313遊星ギア
B:φ、6 = 210鵡 Tb=105中間ギアC:
φo=848 T、=42′中間ギアD:φd−36臥
”J’d = 18遊星ギアE:φ、 = 90ss
T、 = 45となシ、各ギアのモジュールMは共に
2となる。
例を示すと、固定ギア3(5)のピッチ円をφ9.歯数
をTaとすると、 固定ギアA:φ、=630mI T、=313遊星ギア
B:φ、6 = 210鵡 Tb=105中間ギアC:
φo=848 T、=42′中間ギアD:φd−36臥
”J’d = 18遊星ギアE:φ、 = 90ss
T、 = 45となシ、各ギアのモジュールMは共に
2となる。
このときの自公転比率は公転/自転−1/3となる。な
お、この数値に限定されるものではない。
お、この数値に限定されるものではない。
また、49合うディスク(又はホルダノ同士が自転する
ときぶつかり合わないようにするためには、公転半径R
9隣シ合う遊星ギアの軸間角度A。
ときぶつかり合わないようにするためには、公転半径R
9隣シ合う遊星ギアの軸間角度A。
ディスク(又はホルダ)の自転直径2L、49合うディ
スク(又はホルダ)の位相差Bを適当に設定することが
重要である。こ扛について、第4図及び第5図(Q 、
(b)を参照して説明する。今、回動面内におけるデ
ィスク(又はホルダ)Iのタ1力端の座標を(Xz、Y
l)、中心の座標を(X2.Ya)、ディスク(又はホ
ルダ)■の外力端の座標を(X、。
スク(又はホルダ)の位相差Bを適当に設定することが
重要である。こ扛について、第4図及び第5図(Q 、
(b)を参照して説明する。今、回動面内におけるデ
ィスク(又はホルダ)Iのタ1力端の座標を(Xz、Y
l)、中心の座標を(X2.Ya)、ディスク(又はホ
ルダ)■の外力端の座標を(X、。
Y、)、中心の座標を(Xl 、Y4 )とする。また
、点(Xl、Yt)一点(X2 、Ya )を通る直線
と点(X、、。
、点(Xl、Yt)一点(X2 、Ya )を通る直線
と点(X、、。
Y、)、点(Xl 、Y4 )を通る直線との交点の座
標を(LL、υンとする。そして、ディスクI、ディス
ク■を共に角度P (00−1800)回転したときに
、(u、υ)と(X2 、Ya )間の距離くLがッ(
u、、v)と(Xl 、Y4 )間の距離〈Lの時、デ
ィスクi、nがぶつかり、その他の時にはぶつからない
と判断する。
標を(LL、υンとする。そして、ディスクI、ディス
ク■を共に角度P (00−1800)回転したときに
、(u、υ)と(X2 、Ya )間の距離くLがッ(
u、、v)と(Xl 、Y4 )間の距離〈Lの時、デ
ィスクi、nがぶつかり、その他の時にはぶつからない
と判断する。
Xl−■(→−L −aaBP ・−・・−(1)Y□
= L −ain P −山(2)X、= 1も ・・
団・(3) Y2= O・・・・・・(4) X8= R−006A+L −cts (−P+B)
−・・15)Y8= R−5inA+L −ain (
−P十B) ・” ・・・(6)X、 = R,−oo
s A ・・・・・・(7)¥4−■も一8inA・・
団・(8) 点(Xl 、Yl )、点(X2.Ya)を通る直線の
式は〜(X2−Xt) (y−Yt) = (Ya−Y
l) (z −Xt) ”’(9ン点(XB、Y、へ点
(Xi、YJを通る直線の式は、(Xl−Xa)(y−
Y、)= (Y4−Yll)(z−X8ン−a1交点の
座標(u、、v)は u = (Xit−Xt ) (Xl−Xll) (Y
、−Yl)+(Ya−Yl) (Xl−x8)・Xよ−
(y、 y3) (心−X、)・X8/ (Ya Yt
)(Xl XB) (Y4 Ya) (X2 XI)I
’ = (Ya−Yl) (Y4−Ya) (XB−X
I)+(Xl−XB) (Y21−Y、)・Ya−(X
、−X□) (y、−y8)・Y□/ (X2 Xl、
)(Y4−¥11 )−(Xl−XB) (Y、−Y工
)−A−X工+Y1=−A −X8+Y3Y、−Ya−
A (XニーX、J=O Y□−Ya−A(X□−XB)=Oのとき ぶつかるY
、−Ya−A(X□−XB)\0のとき ぶつからない
1(、A 、 L 、 Bを代入して、Pを0→180
°としたとき 1丁でπ丁−yy、 A;扉ワ7票ア とLとの大小を比較する。
= L −ain P −山(2)X、= 1も ・・
団・(3) Y2= O・・・・・・(4) X8= R−006A+L −cts (−P+B)
−・・15)Y8= R−5inA+L −ain (
−P十B) ・” ・・・(6)X、 = R,−oo
s A ・・・・・・(7)¥4−■も一8inA・・
団・(8) 点(Xl 、Yl )、点(X2.Ya)を通る直線の
式は〜(X2−Xt) (y−Yt) = (Ya−Y
l) (z −Xt) ”’(9ン点(XB、Y、へ点
(Xi、YJを通る直線の式は、(Xl−Xa)(y−
Y、)= (Y4−Yll)(z−X8ン−a1交点の
座標(u、、v)は u = (Xit−Xt ) (Xl−Xll) (Y
、−Yl)+(Ya−Yl) (Xl−x8)・Xよ−
(y、 y3) (心−X、)・X8/ (Ya Yt
)(Xl XB) (Y4 Ya) (X2 XI)I
’ = (Ya−Yl) (Y4−Ya) (XB−X
I)+(Xl−XB) (Y21−Y、)・Ya−(X
、−X□) (y、−y8)・Y□/ (X2 Xl、
)(Y4−¥11 )−(Xl−XB) (Y、−Y工
)−A−X工+Y1=−A −X8+Y3Y、−Ya−
A (XニーX、J=O Y□−Ya−A(X□−XB)=Oのとき ぶつかるY
、−Ya−A(X□−XB)\0のとき ぶつからない
1(、A 、 L 、 Bを代入して、Pを0→180
°としたとき 1丁でπ丁−yy、 A;扉ワ7票ア とLとの大小を比較する。
本願発明者の実験結果によれば、30crnデイスクの
場合、R=420sa、A=30°+2L=319sa
。
場合、R=420sa、A=30°+2L=319sa
。
13=120°とすることにより、隣シ合うディスク同
士がぶつかシ合わないことが判明している。また、20
儒デイスクの場合、R=420簾、A=22°。
士がぶつかシ合わないことが判明している。また、20
儒デイスクの場合、R=420簾、A=22°。
2L=215ms、B=112°とすることによシ、隣
シ合うディスク同士がぶつかり合わないことが判明して
いる。
シ合うディスク同士がぶつかり合わないことが判明して
いる。
また、上記数値例においては、蒸着源4と対向するディ
スクを全面に亘って有効に蒸着できるという実験結果も
得られている0 なお、上記実施例においては、30αデイスク用の蒸着
処理装置に適用した場合について説明したが、20tr
nディスク用蒸着処理装置の場合には、各ギアの組み合
わせを、例えば 固定ギアA:φ、 = 67218 Ta= 336遊
星ギアB:φ7=168m Tb= 84中間ギアC:
φ、= 565m Tc= 28中間ギアD:φd=
28m Td= 14遊星ギアE:φ、= 84語 T
、=42とし、各ギアのモジュールMを共に2とするこ
とによシ、公転/自転=1/4なる自公転比率となる。
スクを全面に亘って有効に蒸着できるという実験結果も
得られている0 なお、上記実施例においては、30αデイスク用の蒸着
処理装置に適用した場合について説明したが、20tr
nディスク用蒸着処理装置の場合には、各ギアの組み合
わせを、例えば 固定ギアA:φ、 = 67218 Ta= 336遊
星ギアB:φ7=168m Tb= 84中間ギアC:
φ、= 565m Tc= 28中間ギアD:φd=
28m Td= 14遊星ギアE:φ、= 84語 T
、=42とし、各ギアのモジュールMを共に2とするこ
とによシ、公転/自転=1/4なる自公転比率となる。
なお、上記数値例に限定されるものではない。
第6図は、本発明の他の実施例を示す一部分の平面図で
アシ、本実施例においては、基本遊星ギア11に中間ギ
ア15が同情にかつ一体に設けられており、この中間ギ
ア15は付加遊星ギア12と噛合し、この付加遊星ギア
12を基本遊星ギア11に対して同期させつつ反対方向
に回転せしめる機械的連絡手段を構成している。中間ギ
ア15は基本遊星ギア11とほぼ等しいピッチ円及び歯
数を有し、付加遊星ギア12とは全く等しいL′ツチ円
及び歯数を有しておシ、この構成により上記実施例と同
様の効果が得られる。
アシ、本実施例においては、基本遊星ギア11に中間ギ
ア15が同情にかつ一体に設けられており、この中間ギ
ア15は付加遊星ギア12と噛合し、この付加遊星ギア
12を基本遊星ギア11に対して同期させつつ反対方向
に回転せしめる機械的連絡手段を構成している。中間ギ
ア15は基本遊星ギア11とほぼ等しいピッチ円及び歯
数を有し、付加遊星ギア12とは全く等しいL′ツチ円
及び歯数を有しておシ、この構成により上記実施例と同
様の効果が得られる。
以上説明したように、本発明によれ慎、固定ギアに対し
て回転自在な駆動部材上に、該固定ギアに噛合した複数
の基本遊星ギアを等間隔にて回転自在に設けると共に、
これら基本遊星ギアの隣シ合うもの同土間に複数の付加
遊星ギアを等間隔にて回転自在に設け、基本遊星ギアと
付加遊星ギアとを該駆動部材の回転に伴って互いに同期
させつつ反対方向に回転させる構成としたので、従来と
同じ公転直径であってもディスクの処理量を増加でき、
生産性を向上できることになる。具体的には、公転直径
を例えば840111とした場合、30I0Ynデイス
クで従来8枚/バッチであったものを12枚/バッチと
50チ増加でき、20cmディスクでは従来12枚/バ
ッチであったものを16枚/バッチと33.3%増加で
きるという結果が得られている。
て回転自在な駆動部材上に、該固定ギアに噛合した複数
の基本遊星ギアを等間隔にて回転自在に設けると共に、
これら基本遊星ギアの隣シ合うもの同土間に複数の付加
遊星ギアを等間隔にて回転自在に設け、基本遊星ギアと
付加遊星ギアとを該駆動部材の回転に伴って互いに同期
させつつ反対方向に回転させる構成としたので、従来と
同じ公転直径であってもディスクの処理量を増加でき、
生産性を向上できることになる。具体的には、公転直径
を例えば840111とした場合、30I0Ynデイス
クで従来8枚/バッチであったものを12枚/バッチと
50チ増加でき、20cmディスクでは従来12枚/バ
ッチであったものを16枚/バッチと33.3%増加で
きるという結果が得られている。
第1図は従来装置を示す一部断面を含む斜視間、第2図
は第1図の要部の平面図、第3図は本発明の一実施例を
示す平面図、第4図及び第5図(α)。 (b)は第3図の動作原理を示す図、第6図は本発明の
他の実施例を示す平面図である。 主要部分の符号の説明 4・・・蒸着源 9,9α〜9β・・・ディスク11.
11tL〜11f・・・基本遊星ギア12.12α〜1
2f・・・付加遊星ギア13α〜13f、14α〜14
f、15・・・中間ギア出 願 人 パイオニア株式会
社 代理人 弁理士藤村元彦 (外1名ン 泉2図 尾312I
は第1図の要部の平面図、第3図は本発明の一実施例を
示す平面図、第4図及び第5図(α)。 (b)は第3図の動作原理を示す図、第6図は本発明の
他の実施例を示す平面図である。 主要部分の符号の説明 4・・・蒸着源 9,9α〜9β・・・ディスク11.
11tL〜11f・・・基本遊星ギア12.12α〜1
2f・・・付加遊星ギア13α〜13f、14α〜14
f、15・・・中間ギア出 願 人 パイオニア株式会
社 代理人 弁理士藤村元彦 (外1名ン 泉2図 尾312I
Claims (3)
- (1)ハウジング内に配置された固定ギアと、前記固定
ギアの中心部に配置された蒸着されるべき金属の蒸着源
と、前記固定ギアの中心軸の周シに回転自在に設けられ
た駆動部材と、前記駆動部材上でかつ前記固定ギアを中
心とする所定円゛周上に等間隔にて回転自在に配置され
かつ前記固定ギアに噛合した同一径の複数の基本遊星ギ
アと、前記基本遊星ギアの隣り合うもの同土間に等間隔
で位置するように前記駆動部材上の前記所定円周上に回
転自在に配置された同一径の複数の付加遊星ギアと、前
記付加遊星ギアと前記固定ギアとの間を機械的に連絡し
前記駆動部材の回転に伴って前記付加遊星ギアを前記基
本遊星ギアに対して同期させつつ反対方向に回転せしめ
る機械的連絡手段と、前記基本及び付加遊星ギア上に設
けられた被蒸着対象物ホルダとからなることを特徴とす
る蒸着処理装置。 - (2) 前記機械的連絡手段は、前記付加遊星ギアと前
記固定ギアとの間に介在して双方に噛合した中間ギアで
あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の蒸着
処理装置。 - (3)前記機械的連絡手段は、前記基本遊星キアと同軸
にかつ一体に設けられて前記付加遊星ギアに噛合した中
間ギアであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の蒸着処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22497783A JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22497783A JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60116775A true JPS60116775A (ja) | 1985-06-24 |
JPH0350833B2 JPH0350833B2 (ja) | 1991-08-02 |
Family
ID=16822164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22497783A Granted JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60116775A (ja) |
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- 1983-11-28 JP JP22497783A patent/JPS60116775A/ja active Granted
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Also Published As
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---|---|
JPH0350833B2 (ja) | 1991-08-02 |
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