JPS60116775A - 蒸着処理装置 - Google Patents
蒸着処理装置Info
- Publication number
- JPS60116775A JPS60116775A JP22497783A JP22497783A JPS60116775A JP S60116775 A JPS60116775 A JP S60116775A JP 22497783 A JP22497783 A JP 22497783A JP 22497783 A JP22497783 A JP 22497783A JP S60116775 A JPS60116775 A JP S60116775A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gear
- gears
- planetary gears
- vapor deposition
- fixed gear
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、蒸着処理装置に関し、特に光学式情報記録媒
体（以下単にディスクと称する）の信号面上に金属を真
空蒸着して反射膜を形成するための蒸着処理装置に関す
るものである。
体（以下単にディスクと称する）の信号面上に金属を真
空蒸着して反射膜を形成するための蒸着処理装置に関す
るものである。
従来この種の装置として第１図に示すものがあった。図
において、基台１及びハウジング２によシ、真空で金属
蒸気雰囲気の蒸着室が画定され、基台１の中央部には固
定ギア３が配置きれている。
において、基台１及びハウジング２によシ、真空で金属
蒸気雰囲気の蒸着室が画定され、基台１の中央部には固
定ギア３が配置きれている。
固定ギア３の中心部には、蒸着されるべき金属の蒸着源
４が配置されている。蒸着源４には、第２図に示す如く
、支柱５によシ保持された電極６（よって電位が与えら
れる。固定ギア３の下方に設せられた駆動、部材７は固
定ギア３の中心軸の周シに回転自在であシ、この駆動部
材７上でかつ固定ギア３を中心とする所蓚円周１には、
例えば８１周の遊星ギア８ａ〜８ｈが等間隔にて回転自
在に軸支されている。
４が配置されている。蒸着源４には、第２図に示す如く
、支柱５によシ保持された電極６（よって電位が与えら
れる。固定ギア３の下方に設せられた駆動、部材７は固
定ギア３の中心軸の周シに回転自在であシ、この駆動部
材７上でかつ固定ギア３を中心とする所蓚円周１には、
例えば８１周の遊星ギア８ａ〜８ｈが等間隔にて回転自
在に軸支されている。
これら遊星ギア８ａ〜８ｈは互いに同一径を有して固定
ギア３に噛合し、前記駆動部材７の回転に伴って固定ギ
ア３の周シを自転しつつ公転する。
ギア３に噛合し、前記駆動部材７の回転に伴って固定ギ
ア３の周シを自転しつつ公転する。
例えば、固定ギア３のピッチ円を５３’Ｑｍ、歯数を３
１”５．モジュールを２とし、遊星ギア８α〜８ｈのピ
ッチ円を２１０ＩＩＢ、歯数を１０５．モジュールを２
とすると、公転直径が８４ Ｑ ｗｂ 、公転／自転＝
１７３となる。遊星ギア８α〜８ｈ上には、８枚のディ
スク９ａ〜９ｈがホルダ（図示せず）を介して担持され
る。
１”５．モジュールを２とし、遊星ギア８α〜８ｈのピ
ッチ円を２１０ＩＩＢ、歯数を１０５．モジュールを２
とすると、公転直径が８４ Ｑ ｗｂ 、公転／自転＝
１７３となる。遊星ギア８α〜８ｈ上には、８枚のディ
スク９ａ〜９ｈがホルダ（図示せず）を介して担持され
る。
８枚のディスク９α〜９ｈは駆動部材７の回転に伴って
各遊星ギア８ＬＬ〜８ｈと一体に固定ギア３の周シを自
転しつつ公転する。そして各ディスクの表面及び裏面が
蒸着源４とほぼ対向する角度範囲Ｘ、Ｘが蒸着有効範囲
となり、他の角度範囲Ｙ。
各遊星ギア８ＬＬ〜８ｈと一体に固定ギア３の周シを自
転しつつ公転する。そして各ディスクの表面及び裏面が
蒸着源４とほぼ対向する角度範囲Ｘ、Ｘが蒸着有効範囲
となり、他の角度範囲Ｙ。
このように構成された従来装置では、隣り、ディスク同
士が自転するときにぶつかシ合わないようにするために
は、隣シ合う遊星ギアの軸間距離をディスクの自転直径
よシ大に設定しなければならないので、所定の公転直径
に対し１′バツチ当シのディスクの収容数量に限界が生
じていた。例えば、公転直径を８４０１１とした場合に
は、３０ｃｒｎデイスクで８枚／バッチ、２０Ｉ：Ｉｎ
ディスクで１２枚／バッチが限界となっていた。
士が自転するときにぶつかシ合わないようにするために
は、隣シ合う遊星ギアの軸間距離をディスクの自転直径
よシ大に設定しなければならないので、所定の公転直径
に対し１′バツチ当シのディスクの収容数量に限界が生
じていた。例えば、公転直径を８４０１１とした場合に
は、３０ｃｒｎデイスクで８枚／バッチ、２０Ｉ：Ｉｎ
ディスクで１２枚／バッチが限界となっていた。
但し、物理的には、隣り合うディスクの取付は位相を適
当に設定することにより、前記軸間距離をディスクの自
転直径以下にすることは可能であるが、この場合次の理
由により現実的には非常に好ましくない。すなわち、自
公転方式の場合、蒸着源４に電位を与える為の電極６や
、この電極６を保持する為の支柱５などが必要であり、
これらによって遮蔽される角度範囲Ｙ、Ｙでは有効に蒸
着されず、また上記の様に位相をずらせた場合、蒸着有
効範囲Ｘ、Ｘ内では、蒸着源４に全面が対向すべきディ
スクが隣シのディスクによシ遮ぎられてしまうことにな
るからである。
当に設定することにより、前記軸間距離をディスクの自
転直径以下にすることは可能であるが、この場合次の理
由により現実的には非常に好ましくない。すなわち、自
公転方式の場合、蒸着源４に電位を与える為の電極６や
、この電極６を保持する為の支柱５などが必要であり、
これらによって遮蔽される角度範囲Ｙ、Ｙでは有効に蒸
着されず、また上記の様に位相をずらせた場合、蒸着有
効範囲Ｘ、Ｘ内では、蒸着源４に全面が対向すべきディ
スクが隣シのディスクによシ遮ぎられてしまうことにな
るからである。
本発明は、上記のような従来のものの久、点を除去すべ
くなされたもので、１バッチ当りのディスク収容数量を
増加させるりとにより、生産坤を向上せしめた蒸着処理
装置を提供することを目的とする。
くなされたもので、１バッチ当りのディスク収容数量を
増加させるりとにより、生産坤を向上せしめた蒸着処理
装置を提供することを目的とする。
本発明による蒸着処理装置においては、固定ギアに対し
て回転自在な駆動部材上に、該固定ギアに噛合した複数
の基本遊星ギアを等間隔に千回転自在に設けると共に、
これ、ら基本遊星ギアの隣り合うもの同土間に複数の付
加遊星ギアを等間隔にて回転自在に設け、基本遊星ギア
と付加遊星ギアとを該駆動部材の回転に伴って互いに同
期させつつ反対方向に回転させる構成となっている。
て回転自在な駆動部材上に、該固定ギアに噛合した複数
の基本遊星ギアを等間隔に千回転自在に設けると共に、
これ、ら基本遊星ギアの隣り合うもの同土間に複数の付
加遊星ギアを等間隔にて回転自在に設け、基本遊星ギア
と付加遊星ギアとを該駆動部材の回転に伴って互いに同
期させつつ反対方向に回転させる構成となっている。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明するＯ
第３図は、本発明の一実施例を示す平面図である。第３
図において、固定ギア３に対して回転自在な駆動部材７
（第１図参照）上でかつ固定ギア３を中心とする所定円
周上には、例えば６個の基本遊星ギア１１α〜１１ｆが
等間隔にて回転自在に軸支され、これら基本遊星ギアｌ
ｉｄ〜１１ｆは互いに同一径を有して固定ギア３に噛合
し、前記駆動部材７の回転に伴って固定ギア３の周シを
自転しつつ公転する。駆動部材７上の前記所定円周上に
は更に、基本遊星ギアｌｌａ〜１１ｆの隣シ合うもの同
土間に等間隔で位置するように、互いに同一径の６個の
付加遊星ギア１２α〜１２／が回転自在に軸支されてい
る。これら付加遊星ギア１２ａ〜１２ｆと固定ギア３と
の間には、双方に噛合した同軸の２段中間ギア１３α〜
１３ｆ、１４ａ〜１４／が介在１ておシ、とｎら中間ギ
ア１３ｔｚ−１３／ 、 １４ａ−１４７ｉ前記駆動部
材７の回転に伴って付加遊星ギア１２α〜１２ｆを基本
遊星ギア１１α〜１１／に対して同期させつ２反対方向
に回転せしめる機械的連絡手段を構成している。基本遊
星ギア１１ａ〜１１ｆ及び付加遊星ギア１２ａ〜１２ｆ
上には、図示せぬホルダを介して１２枚のディスク９α
〜’ｌが担持され、これらディスクの４９合うもの同士
は前記駆動部材７０回転に伴って固定ギア３の周シを互
いに同期しかつ逆方向に自転しつつ公転する。
図において、固定ギア３に対して回転自在な駆動部材７
（第１図参照）上でかつ固定ギア３を中心とする所定円
周上には、例えば６個の基本遊星ギア１１α〜１１ｆが
等間隔にて回転自在に軸支され、これら基本遊星ギアｌ
ｉｄ〜１１ｆは互いに同一径を有して固定ギア３に噛合
し、前記駆動部材７の回転に伴って固定ギア３の周シを
自転しつつ公転する。駆動部材７上の前記所定円周上に
は更に、基本遊星ギアｌｌａ〜１１ｆの隣シ合うもの同
土間に等間隔で位置するように、互いに同一径の６個の
付加遊星ギア１２α〜１２／が回転自在に軸支されてい
る。これら付加遊星ギア１２ａ〜１２ｆと固定ギア３と
の間には、双方に噛合した同軸の２段中間ギア１３α〜
１３ｆ、１４ａ〜１４／が介在１ておシ、とｎら中間ギ
ア１３ｔｚ−１３／ 、 １４ａ−１４７ｉ前記駆動部
材７の回転に伴って付加遊星ギア１２α〜１２ｆを基本
遊星ギア１１α〜１１／に対して同期させつ２反対方向
に回転せしめる機械的連絡手段を構成している。基本遊
星ギア１１ａ〜１１ｆ及び付加遊星ギア１２ａ〜１２ｆ
上には、図示せぬホルダを介して１２枚のディスク９α
〜’ｌが担持され、これらディスクの４９合うもの同士
は前記駆動部材７０回転に伴って固定ギア３の周シを互
いに同期しかつ逆方向に自転しつつ公転する。
ここで、４９合うディスク同士が互いに同期しつつ逆方
向に自転するためには、各ギア間で次の条件を満足する
必要がある。すなわち、基本遊星ギアｔｘａ−ｔｔ、７
’（搏のピッチ円をφｈ、歯数をＴｂ。
向に自転するためには、各ギア間で次の条件を満足する
必要がある。すなわち、基本遊星ギアｔｘａ−ｔｔ、７
’（搏のピッチ円をφｈ、歯数をＴｂ。
中間ギア１３α〜１３ ｆ （Ｑのピッチ円をφ。、歯
数を１゛ｏ、中間ギア１４ａ 〜１４ｆＯ））のピッチ
円をφｄ。
数を１゛ｏ、中間ギア１４ａ 〜１４ｆＯ））のピッチ
円をφｄ。
歯数をＴｄ、付加遊星ギア（ト））１２ａ〜１２／のピ
ッチ円をφ５．歯数をＴ、とすると、 φｈ＝φ、十φｄ十φ。
ッチ円をφ５．歯数をＴ、とすると、 φｈ＝φ、十φｄ十φ。
φｈ〉 ２φ０
’ｒ５ ／ Ｔｃ ＝ Ｔｅ ／ Ｔｄ具体的数値の一
例を示すと、固定ギア３（５）のピッチ円をφ９．歯数
をＴａとすると、 固定ギアＡ：φ、＝６３０ｍＩ Ｔ、＝３１３遊星ギア
Ｂ：φ、６ ＝ ２１０鵡 Ｔｂ＝１０５中間ギアＣ：
φｏ＝８４８ Ｔ、＝４２′中間ギアＤ：φｄ−３６臥
”Ｊ’ｄ ＝ １８遊星ギアＥ：φ、 ＝ ９０ｓｓ
Ｔ、 ＝ ４５となシ、各ギアのモジュールＭは共に
２となる。
例を示すと、固定ギア３（５）のピッチ円をφ９．歯数
をＴａとすると、 固定ギアＡ：φ、＝６３０ｍＩ Ｔ、＝３１３遊星ギア
Ｂ：φ、６ ＝ ２１０鵡 Ｔｂ＝１０５中間ギアＣ：
φｏ＝８４８ Ｔ、＝４２′中間ギアＤ：φｄ−３６臥
”Ｊ’ｄ ＝ １８遊星ギアＥ：φ、 ＝ ９０ｓｓ
Ｔ、 ＝ ４５となシ、各ギアのモジュールＭは共に
２となる。
このときの自公転比率は公転／自転−１／３となる。な
お、この数値に限定されるものではない。
お、この数値に限定されるものではない。
また、４９合うディスク（又はホルダノ同士が自転する
ときぶつかり合わないようにするためには、公転半径Ｒ
９隣シ合う遊星ギアの軸間角度Ａ。
ときぶつかり合わないようにするためには、公転半径Ｒ
９隣シ合う遊星ギアの軸間角度Ａ。
ディスク（又はホルダ）の自転直径２Ｌ、４９合うディ
スク（又はホルダ）の位相差Ｂを適当に設定することが
重要である。こ扛について、第４図及び第５図（Ｑ 、
（ｂ）を参照して説明する。今、回動面内におけるデ
ィスク（又はホルダ）Ｉのタ１力端の座標を（Ｘｚ、Ｙ
ｌ）、中心の座標を（Ｘ２．Ｙａ）、ディスク（又はホ
ルダ）■の外力端の座標を（Ｘ、。
スク（又はホルダ）の位相差Ｂを適当に設定することが
重要である。こ扛について、第４図及び第５図（Ｑ 、
（ｂ）を参照して説明する。今、回動面内におけるデ
ィスク（又はホルダ）Ｉのタ１力端の座標を（Ｘｚ、Ｙ
ｌ）、中心の座標を（Ｘ２．Ｙａ）、ディスク（又はホ
ルダ）■の外力端の座標を（Ｘ、。
Ｙ、）、中心の座標を（Ｘｌ 、Ｙ４ ）とする。また
、点（Ｘｌ、Ｙｔ）一点（Ｘ２ 、Ｙａ ）を通る直線
と点（Ｘ、、。
、点（Ｘｌ、Ｙｔ）一点（Ｘ２ 、Ｙａ ）を通る直線
と点（Ｘ、、。
Ｙ、）、点（Ｘｌ 、Ｙ４ ）を通る直線との交点の座
標を（ＬＬ、υンとする。そして、ディスクＩ、ディス
ク■を共に角度Ｐ （００−１８００）回転したときに
、（ｕ、υ）と（Ｘ２ 、Ｙａ ）間の距離くＬがッ（
ｕ、、ｖ）と（Ｘｌ 、Ｙ４ ）間の距離〈Ｌの時、デ
ィスクｉ、ｎがぶつかり、その他の時にはぶつからない
と判断する。
標を（ＬＬ、υンとする。そして、ディスクＩ、ディス
ク■を共に角度Ｐ （００−１８００）回転したときに
、（ｕ、υ）と（Ｘ２ 、Ｙａ ）間の距離くＬがッ（
ｕ、、ｖ）と（Ｘｌ 、Ｙ４ ）間の距離〈Ｌの時、デ
ィスクｉ、ｎがぶつかり、その他の時にはぶつからない
と判断する。
Ｘｌ−■（→−Ｌ −ａａＢＰ ・−・・−（１）Ｙ□
＝ Ｌ −ａｉｎ Ｐ −山（２）Ｘ、＝ １も ・・
団・（３） Ｙ２＝ Ｏ・・・・・・（４） Ｘ８＝ Ｒ−００６Ａ＋Ｌ −ｃｔｓ （−Ｐ＋Ｂ）
−・・１５）Ｙ８＝ Ｒ−５ｉｎＡ＋Ｌ −ａｉｎ （
−Ｐ十Ｂ） ・” ・・・（６）Ｘ、 ＝ Ｒ，−ｏｏ
ｓ Ａ ・・・・・・（７）￥４−■も一８ｉｎＡ・・
団・（８） 点（Ｘｌ 、Ｙｌ ）、点（Ｘ２．Ｙａ）を通る直線の
式は〜（Ｘ２−Ｘｔ） （ｙ−Ｙｔ） ＝ （Ｙａ−Ｙ
ｌ） （ｚ −Ｘｔ） ”’（９ン点（ＸＢ、Ｙ、へ点
（Ｘｉ、ＹＪを通る直線の式は、（Ｘｌ−Ｘａ）（ｙ−
Ｙ、）＝ （Ｙ４−Ｙｌｌ）（ｚ−Ｘ８ン−ａ１交点の
座標（ｕ、、ｖ）は ｕ ＝ （Ｘｉｔ−Ｘｔ ） （Ｘｌ−Ｘｌｌ） （Ｙ
、−Ｙｌ）＋（Ｙａ−Ｙｌ） （Ｘｌ−ｘ８）・Ｘよ−
（ｙ、 ｙ３） （心−Ｘ、）・Ｘ８／ （Ｙａ Ｙｔ
）（Ｘｌ ＸＢ） （Ｙ４ Ｙａ） （Ｘ２ ＸＩ）Ｉ
’ ＝ （Ｙａ−Ｙｌ） （Ｙ４−Ｙａ） （ＸＢ−Ｘ
Ｉ）＋（Ｘｌ−ＸＢ） （Ｙ２１−Ｙ、）・Ｙａ−（Ｘ
、−Ｘ□） （ｙ、−ｙ８）・Ｙ□／ （Ｘ２ Ｘｌ、
）（Ｙ４−￥１１ ）−（Ｘｌ−ＸＢ） （Ｙ、−Ｙ工
）−Ａ−Ｘ工＋Ｙ１＝−Ａ −Ｘ８＋Ｙ３Ｙ、−Ｙａ−
Ａ （ＸニーＸ、Ｊ＝Ｏ Ｙ□−Ｙａ−Ａ（Ｘ□−ＸＢ）＝Ｏのとき ぶつかるＹ
、−Ｙａ−Ａ（Ｘ□−ＸＢ）＼０のとき ぶつからない
１（、Ａ 、 Ｌ 、 Ｂを代入して、Ｐを０→１８０
°としたとき １丁でπ丁−ｙｙ、 Ａ；扉ワ７票ア とＬとの大小を比較する。
＝ Ｌ −ａｉｎ Ｐ −山（２）Ｘ、＝ １も ・・
団・（３） Ｙ２＝ Ｏ・・・・・・（４） Ｘ８＝ Ｒ−００６Ａ＋Ｌ −ｃｔｓ （−Ｐ＋Ｂ）
−・・１５）Ｙ８＝ Ｒ−５ｉｎＡ＋Ｌ −ａｉｎ （
−Ｐ十Ｂ） ・” ・・・（６）Ｘ、 ＝ Ｒ，−ｏｏ
ｓ Ａ ・・・・・・（７）￥４−■も一８ｉｎＡ・・
団・（８） 点（Ｘｌ 、Ｙｌ ）、点（Ｘ２．Ｙａ）を通る直線の
式は〜（Ｘ２−Ｘｔ） （ｙ−Ｙｔ） ＝ （Ｙａ−Ｙ
ｌ） （ｚ −Ｘｔ） ”’（９ン点（ＸＢ、Ｙ、へ点
（Ｘｉ、ＹＪを通る直線の式は、（Ｘｌ−Ｘａ）（ｙ−
Ｙ、）＝ （Ｙ４−Ｙｌｌ）（ｚ−Ｘ８ン−ａ１交点の
座標（ｕ、、ｖ）は ｕ ＝ （Ｘｉｔ−Ｘｔ ） （Ｘｌ−Ｘｌｌ） （Ｙ
、−Ｙｌ）＋（Ｙａ−Ｙｌ） （Ｘｌ−ｘ８）・Ｘよ−
（ｙ、 ｙ３） （心−Ｘ、）・Ｘ８／ （Ｙａ Ｙｔ
）（Ｘｌ ＸＢ） （Ｙ４ Ｙａ） （Ｘ２ ＸＩ）Ｉ
’ ＝ （Ｙａ−Ｙｌ） （Ｙ４−Ｙａ） （ＸＢ−Ｘ
Ｉ）＋（Ｘｌ−ＸＢ） （Ｙ２１−Ｙ、）・Ｙａ−（Ｘ
、−Ｘ□） （ｙ、−ｙ８）・Ｙ□／ （Ｘ２ Ｘｌ、
）（Ｙ４−￥１１ ）−（Ｘｌ−ＸＢ） （Ｙ、−Ｙ工
）−Ａ−Ｘ工＋Ｙ１＝−Ａ −Ｘ８＋Ｙ３Ｙ、−Ｙａ−
Ａ （ＸニーＸ、Ｊ＝Ｏ Ｙ□−Ｙａ−Ａ（Ｘ□−ＸＢ）＝Ｏのとき ぶつかるＹ
、−Ｙａ−Ａ（Ｘ□−ＸＢ）＼０のとき ぶつからない
１（、Ａ 、 Ｌ 、 Ｂを代入して、Ｐを０→１８０
°としたとき １丁でπ丁−ｙｙ、 Ａ；扉ワ７票ア とＬとの大小を比較する。
本願発明者の実験結果によれば、３０ｃｒｎデイスクの
場合、Ｒ＝４２０ｓａ、Ａ＝３０°＋２Ｌ＝３１９ｓａ
。
場合、Ｒ＝４２０ｓａ、Ａ＝３０°＋２Ｌ＝３１９ｓａ
。
１３＝１２０°とすることにより、隣シ合うディスク同
士がぶつかシ合わないことが判明している。また、２０
儒デイスクの場合、Ｒ＝４２０簾、Ａ＝２２°。
士がぶつかシ合わないことが判明している。また、２０
儒デイスクの場合、Ｒ＝４２０簾、Ａ＝２２°。
２Ｌ＝２１５ｍｓ、Ｂ＝１１２°とすることによシ、隣
シ合うディスク同士がぶつかり合わないことが判明して
いる。
シ合うディスク同士がぶつかり合わないことが判明して
いる。
また、上記数値例においては、蒸着源４と対向するディ
スクを全面に亘って有効に蒸着できるという実験結果も
得られている０ なお、上記実施例においては、３０αデイスク用の蒸着
処理装置に適用した場合について説明したが、２０ｔｒ
ｎディスク用蒸着処理装置の場合には、各ギアの組み合
わせを、例えば 固定ギアＡ：φ、 ＝ ６７２１８ Ｔａ＝ ３３６遊
星ギアＢ：φ７＝１６８ｍ Ｔｂ＝ ８４中間ギアＣ：
φ、＝ ５６５ｍ Ｔｃ＝ ２８中間ギアＤ：φｄ＝
２８ｍ Ｔｄ＝ １４遊星ギアＥ：φ、＝ ８４語 Ｔ
、＝４２とし、各ギアのモジュールＭを共に２とするこ
とによシ、公転／自転＝１／４なる自公転比率となる。
スクを全面に亘って有効に蒸着できるという実験結果も
得られている０ なお、上記実施例においては、３０αデイスク用の蒸着
処理装置に適用した場合について説明したが、２０ｔｒ
ｎディスク用蒸着処理装置の場合には、各ギアの組み合
わせを、例えば 固定ギアＡ：φ、 ＝ ６７２１８ Ｔａ＝ ３３６遊
星ギアＢ：φ７＝１６８ｍ Ｔｂ＝ ８４中間ギアＣ：
φ、＝ ５６５ｍ Ｔｃ＝ ２８中間ギアＤ：φｄ＝
２８ｍ Ｔｄ＝ １４遊星ギアＥ：φ、＝ ８４語 Ｔ
、＝４２とし、各ギアのモジュールＭを共に２とするこ
とによシ、公転／自転＝１／４なる自公転比率となる。
なお、上記数値例に限定されるものではない。
第６図は、本発明の他の実施例を示す一部分の平面図で
アシ、本実施例においては、基本遊星ギア１１に中間ギ
ア１５が同情にかつ一体に設けられており、この中間ギ
ア１５は付加遊星ギア１２と噛合し、この付加遊星ギア
１２を基本遊星ギア１１に対して同期させつつ反対方向
に回転せしめる機械的連絡手段を構成している。中間ギ
ア１５は基本遊星ギア１１とほぼ等しいピッチ円及び歯
数を有し、付加遊星ギア１２とは全く等しいＬ′ツチ円
及び歯数を有しておシ、この構成により上記実施例と同
様の効果が得られる。
アシ、本実施例においては、基本遊星ギア１１に中間ギ
ア１５が同情にかつ一体に設けられており、この中間ギ
ア１５は付加遊星ギア１２と噛合し、この付加遊星ギア
１２を基本遊星ギア１１に対して同期させつつ反対方向
に回転せしめる機械的連絡手段を構成している。中間ギ
ア１５は基本遊星ギア１１とほぼ等しいピッチ円及び歯
数を有し、付加遊星ギア１２とは全く等しいＬ′ツチ円
及び歯数を有しておシ、この構成により上記実施例と同
様の効果が得られる。
以上説明したように、本発明によれ慎、固定ギアに対し
て回転自在な駆動部材上に、該固定ギアに噛合した複数
の基本遊星ギアを等間隔にて回転自在に設けると共に、
これら基本遊星ギアの隣シ合うもの同土間に複数の付加
遊星ギアを等間隔にて回転自在に設け、基本遊星ギアと
付加遊星ギアとを該駆動部材の回転に伴って互いに同期
させつつ反対方向に回転させる構成としたので、従来と
同じ公転直径であってもディスクの処理量を増加でき、
生産性を向上できることになる。具体的には、公転直径
を例えば８４０１１１とした場合、３０Ｉ０Ｙｎデイス
クで従来８枚／バッチであったものを１２枚／バッチと
５０チ増加でき、２０ｃｍディスクでは従来１２枚／バ
ッチであったものを１６枚／バッチと３３．３％増加で
きるという結果が得られている。
て回転自在な駆動部材上に、該固定ギアに噛合した複数
の基本遊星ギアを等間隔にて回転自在に設けると共に、
これら基本遊星ギアの隣シ合うもの同土間に複数の付加
遊星ギアを等間隔にて回転自在に設け、基本遊星ギアと
付加遊星ギアとを該駆動部材の回転に伴って互いに同期
させつつ反対方向に回転させる構成としたので、従来と
同じ公転直径であってもディスクの処理量を増加でき、
生産性を向上できることになる。具体的には、公転直径
を例えば８４０１１１とした場合、３０Ｉ０Ｙｎデイス
クで従来８枚／バッチであったものを１２枚／バッチと
５０チ増加でき、２０ｃｍディスクでは従来１２枚／バ
ッチであったものを１６枚／バッチと３３．３％増加で
きるという結果が得られている。
第１図は従来装置を示す一部断面を含む斜視間、第２図
は第１図の要部の平面図、第３図は本発明の一実施例を
示す平面図、第４図及び第５図（α）。 （ｂ）は第３図の動作原理を示す図、第６図は本発明の
他の実施例を示す平面図である。 主要部分の符号の説明 ４・・・蒸着源 ９，９α〜９β・・・ディスク１１．
１１ｔＬ〜１１ｆ・・・基本遊星ギア１２．１２α〜１
２ｆ・・・付加遊星ギア１３α〜１３ｆ、１４α〜１４
ｆ、１５・・・中間ギア出 願 人 パイオニア株式会
社 代理人 弁理士藤村元彦 （外１名ン 泉２図 尾３１２Ｉ
は第１図の要部の平面図、第３図は本発明の一実施例を
示す平面図、第４図及び第５図（α）。 （ｂ）は第３図の動作原理を示す図、第６図は本発明の
他の実施例を示す平面図である。 主要部分の符号の説明 ４・・・蒸着源 ９，９α〜９β・・・ディスク１１．
１１ｔＬ〜１１ｆ・・・基本遊星ギア１２．１２α〜１
２ｆ・・・付加遊星ギア１３α〜１３ｆ、１４α〜１４
ｆ、１５・・・中間ギア出 願 人 パイオニア株式会
社 代理人 弁理士藤村元彦 （外１名ン 泉２図 尾３１２Ｉ
Claims (3)
- （１）ハウジング内に配置された固定ギアと、前記固定
ギアの中心部に配置された蒸着されるべき金属の蒸着源
と、前記固定ギアの中心軸の周シに回転自在に設けられ
た駆動部材と、前記駆動部材上でかつ前記固定ギアを中
心とする所定円゛周上に等間隔にて回転自在に配置され
かつ前記固定ギアに噛合した同一径の複数の基本遊星ギ
アと、前記基本遊星ギアの隣り合うもの同土間に等間隔
で位置するように前記駆動部材上の前記所定円周上に回
転自在に配置された同一径の複数の付加遊星ギアと、前
記付加遊星ギアと前記固定ギアとの間を機械的に連絡し
前記駆動部材の回転に伴って前記付加遊星ギアを前記基
本遊星ギアに対して同期させつつ反対方向に回転せしめ
る機械的連絡手段と、前記基本及び付加遊星ギア上に設
けられた被蒸着対象物ホルダとからなることを特徴とす
る蒸着処理装置。 - （２） 前記機械的連絡手段は、前記付加遊星ギアと前
記固定ギアとの間に介在して双方に噛合した中間ギアで
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の蒸着
処理装置。 - （３）前記機械的連絡手段は、前記基本遊星キアと同軸
にかつ一体に設けられて前記付加遊星ギアに噛合した中
間ギアであることを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の蒸着処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22497783A JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22497783A JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60116775A true JPS60116775A (ja) | 1985-06-24 |
| JPH0350833B2 JPH0350833B2 (ja) | 1991-08-02 |
Family
ID=16822164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22497783A Granted JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60116775A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US10968527B2 (en) | 2015-11-12 | 2021-04-06 | California Institute Of Technology | Method for embedding inserts, fasteners and features into metal core truss panels |
| US11155907B2 (en) | 2013-04-12 | 2021-10-26 | California Institute Of Technology | Systems and methods for shaping sheet materials that include metallic glass-based materials |
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| US11773475B2 (en) | 2017-06-02 | 2023-10-03 | California Institute Of Technology | High toughness metallic glass-based composites for additive manufacturing |
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-
1983
- 1983-11-28 JP JP22497783A patent/JPS60116775A/ja active Granted
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| US11773475B2 (en) | 2017-06-02 | 2023-10-03 | California Institute Of Technology | High toughness metallic glass-based composites for additive manufacturing |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0350833B2 (ja) | 1991-08-02 |
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