JPS5973709A - 光学膜形成装置における膜厚監視装置 - Google Patents
光学膜形成装置における膜厚監視装置Info
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- JPS5973709A JPS5973709A JP18273782A JP18273782A JPS5973709A JP S5973709 A JPS5973709 A JP S5973709A JP 18273782 A JP18273782 A JP 18273782A JP 18273782 A JP18273782 A JP 18273782A JP S5973709 A JPS5973709 A JP S5973709A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0691—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of objects while moving
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、シート状の長尺の基体の表面上に光学膜を
形成したのちにこの基体を案内部材によって案内しなが
ら光を投光器から基体に投射し基体を透過しまたはこれ
で反射されたのちに受光器に到着した光のや性に基いて
光学膜の膜厚を監視する装置に関する。
形成したのちにこの基体を案内部材によって案内しなが
ら光を投光器から基体に投射し基体を透過しまたはこれ
で反射されたのちに受光器に到着した光のや性に基いて
光学膜の膜厚を監視する装置に関する。
このような装置は従来知られていて、例えば第1図に示
されるように構成される。この図においてシート状の長
尺の基体iou真空檀iiの中で巻出しローラlコから
巻出されいくつかの巻出し側偏向ローラ13で偏向され
案内されたのちに冷却筒lダに接触しながらこれの下側
を進行し、次いでいくつかの巻取シ側偏向四−ラ15で
偏向され案内されたのちに巻取シローラ/l、に巻取ら
nる。冷却筒/弘の下方には1個または多くの蒸発源/
7a、/7bが配置され、蒸発源/7a。
されるように構成される。この図においてシート状の長
尺の基体iou真空檀iiの中で巻出しローラlコから
巻出されいくつかの巻出し側偏向ローラ13で偏向され
案内されたのちに冷却筒lダに接触しながらこれの下側
を進行し、次いでいくつかの巻取シ側偏向四−ラ15で
偏向され案内されたのちに巻取シローラ/l、に巻取ら
nる。冷却筒/弘の下方には1個または多くの蒸発源/
7a、/7bが配置され、蒸発源/7a。
/7bの中で加熱された蒸着物A、Bがこれから蒸発し
て真空雰囲気内を飛行し基体10の表面上に膜状に沈積
して光学膜を形、成する。膜厚麩祝装置としては光学モ
ニタ/gが使用されこれは投光器および受光器を有する
。光の反射を利用する場合には一般に投光器/?aおよ
び受光器20aが投受光器として一体に形成され、これ
から発射された光線が案内部材を構成するコつの巻取シ
側偏向ローラlSaと/Sbの間の区域で基体10に投
射され基体IOで反射されたのちに投受光器へ戻る。光
の透過を利用する場合には通常投光器/9bと受光器コ
θbが相離して配置され、投光器/9bからの光線が例
えば反射鏡二ノで反射されたのちに基体IOを透過して
受光器コObに達する。受光器コOf1.20bで受取
った光の特性によって光学膜の膜厚が監視できるが、そ
の詳細については例えば%開昭32−’19933号公
報に述べられているので説明を省略する。
て真空雰囲気内を飛行し基体10の表面上に膜状に沈積
して光学膜を形、成する。膜厚麩祝装置としては光学モ
ニタ/gが使用されこれは投光器および受光器を有する
。光の反射を利用する場合には一般に投光器/?aおよ
び受光器20aが投受光器として一体に形成され、これ
から発射された光線が案内部材を構成するコつの巻取シ
側偏向ローラlSaと/Sbの間の区域で基体10に投
射され基体IOで反射されたのちに投受光器へ戻る。光
の透過を利用する場合には通常投光器/9bと受光器コ
θbが相離して配置され、投光器/9bからの光線が例
えば反射鏡二ノで反射されたのちに基体IOを透過して
受光器コObに達する。受光器コOf1.20bで受取
った光の特性によって光学膜の膜厚が監視できるが、そ
の詳細については例えば%開昭32−’19933号公
報に述べられているので説明を省略する。
上述した構成によn、ば尚業者によく知られているよう
に原理的にri膜厚の監視が確実に高1精度で達成され
る。しかしながら実際には、偏向ローラ15aと15b
の間の区域で基体IOが充分に引き張られるとしても、
第2図に示されるように基体IOは破線10Dで示され
るように設計上の位置から例えば角度りだけよじれ、或
いは振動する。これによって例えば光の反射を利用する
際に、原理的には投受光器/?a、、20aから投射さ
れる光線すなわち基体への入射光重の光路に沿って戻る
べき反射光Rが実際には入射光重の光路から横へ偏る。
に原理的にri膜厚の監視が確実に高1精度で達成され
る。しかしながら実際には、偏向ローラ15aと15b
の間の区域で基体IOが充分に引き張られるとしても、
第2図に示されるように基体IOは破線10Dで示され
るように設計上の位置から例えば角度りだけよじれ、或
いは振動する。これによって例えば光の反射を利用する
際に、原理的には投受光器/?a、、20aから投射さ
れる光線すなわち基体への入射光重の光路に沿って戻る
べき反射光Rが実際には入射光重の光路から横へ偏る。
従ってよしn、角度すなわち偏向角度りが大きければ反
射光Rt′i投受光器/9a、20aに全く到着せず、
またよじれ角度すなわち偏向角度りが小さくてもこれは
もちろん一定ではなく変動するから投受光器への反射光
の到着量が変動して、膜厚の監視が困難または不可能に
なる。光の透過を利用する際にも明らかに同様のことが
起る。
射光Rt′i投受光器/9a、20aに全く到着せず、
またよじれ角度すなわち偏向角度りが小さくてもこれは
もちろん一定ではなく変動するから投受光器への反射光
の到着量が変動して、膜厚の監視が困難または不可能に
なる。光の透過を利用する際にも明らかに同様のことが
起る。
上述した従来の欠点は、案内部材を構成するコつの巻取
シ側偏向ローラISaと15t)の間の区域で基体10
に光を投射する代シに案内部材15aまたけlsbに接
触する基体部分に光を投射するようにすれば、この基体
部分がよしn、たシ振動したりすることriないから除
去できるように思われる。
シ側偏向ローラISaと15t)の間の区域で基体10
に光を投射する代シに案内部材15aまたけlsbに接
触する基体部分に光を投射するようにすれば、この基体
部分がよしn、たシ振動したりすることriないから除
去できるように思われる。
しかし、なからこのようにしたとすると、この基体部分
l″t2つの案内部材の間の区域のように平面に広がる
ことなく案内部材isに沿ってわん曲しているから(第
3図)光を発散される作用を有し、従って入射光路工U
に゛沿って基体部分に投射される入射光重は基体部分で
反射されたのちにRuで示されるように発散する。故に
反射光RFi受光器20(第1図)に#丘とんど到着せ
ず従って膜厚蓋aは達成できない。案内部材を透明体で
形成して光の透過を利用するようにし、た場合にも同様
のことが言える。
l″t2つの案内部材の間の区域のように平面に広がる
ことなく案内部材isに沿ってわん曲しているから(第
3図)光を発散される作用を有し、従って入射光路工U
に゛沿って基体部分に投射される入射光重は基体部分で
反射されたのちにRuで示されるように発散する。故に
反射光RFi受光器20(第1図)に#丘とんど到着せ
ず従って膜厚蓋aは達成できない。案内部材を透明体で
形成して光の透過を利用するようにし、た場合にも同様
のことが言える。
よってこの発明は、従来の装νCにおいて案内部材の間
の基体部分に光を投射した場合に生じる前述した欠点並
びに案内部材に接触する基体部分に光を投射した場合に
生じる同じく前述した別の欠点を共に除去することを目
的とする。
の基体部分に光を投射した場合に生じる前述した欠点並
びに案内部材に接触する基体部分に光を投射した場合に
生じる同じく前述した別の欠点を共に除去することを目
的とする。
この目的の達成のためこの発明による膜舟監視装散は、
案内部材の少くとも1つを円筒状ローラとして形成し、
この円筒状ローラに接触する基体の部分に光を投射する
ようにし、投光器から前記基体部分を経て受光器に達す
る光路に、前記円筒状ローラの[11]線に平行な線状
焦点を有する線状集光用光学系を配置したξとを特徴と
する。
案内部材の少くとも1つを円筒状ローラとして形成し、
この円筒状ローラに接触する基体の部分に光を投射する
ようにし、投光器から前記基体部分を経て受光器に達す
る光路に、前記円筒状ローラの[11]線に平行な線状
焦点を有する線状集光用光学系を配置したξとを特徴と
する。
望まし、くけ、(1)投光器と受光器が投受光器さして
一体に形成されている場合に、円筒状ローラの軸線を線
状焦点とする線状集光用光学系が使用され(2)または
投光器から前記基体部分までの光路に、円筒状ローラの
線状焦点に光を収束プせるように線状集光用光学系が配
置され、オた(3)線状集光用光学系として柱状集光レ
ンズが使用される。
一体に形成されている場合に、円筒状ローラの軸線を線
状焦点とする線状集光用光学系が使用され(2)または
投光器から前記基体部分までの光路に、円筒状ローラの
線状焦点に光を収束プせるように線状集光用光学系が配
置され、オた(3)線状集光用光学系として柱状集光レ
ンズが使用される。
ここにおいてm秋集光用光学系とは、いわゆるかまぼこ
形レンズ(円筒レンズ)のような柱状集光レンズまたは
半円筒状凹面鏡のように1つの特定力向に適当な長さだ
け延長しその間で形状および特性がこの特定方向に不変
であって従って特定方向に直交する各平面での焦点が船
足方向に延長する1つの共通な直線の上に位置している
ような集光用光学系を指シ1、この直線が線状焦点と呼
ばれる。
形レンズ(円筒レンズ)のような柱状集光レンズまたは
半円筒状凹面鏡のように1つの特定力向に適当な長さだ
け延長しその間で形状および特性がこの特定方向に不変
であって従って特定方向に直交する各平面での焦点が船
足方向に延長する1つの共通な直線の上に位置している
ような集光用光学系を指シ1、この直線が線状焦点と呼
ばれる。
以下、納ダ図かI−第ココ図、を参照しながらこの発明
の実施例について詳説する。
の実施例について詳説する。
第を図に示される実施例では、第1図の従来の装置にお
いて案内部材(巻取シ側偏向ローラ)isのうちの少く
とも1個例えば/lbか円筒状ローラとして形成され、
投受光器/9a、、20aは円筒状ローラ15bの軸線
コlに直角に交差りかつ基体IOとこのローラ15bと
の接触個所10aを通過する直線2コに沿って光を投射
するようにかつこの直線22に沿って戻って来る光を受
光するように配置される。さらに前記直線ココ上にVi
a状焦点焦点−ラ軸線コ/に一致するようにかまほこ形
集光レンズ(円筒レンズ)23が配置される。
いて案内部材(巻取シ側偏向ローラ)isのうちの少く
とも1個例えば/lbか円筒状ローラとして形成され、
投受光器/9a、、20aは円筒状ローラ15bの軸線
コlに直角に交差りかつ基体IOとこのローラ15bと
の接触個所10aを通過する直線2コに沿って光を投射
するようにかつこの直線22に沿って戻って来る光を受
光するように配置される。さらに前記直線ココ上にVi
a状焦点焦点−ラ軸線コ/に一致するようにかまほこ形
集光レンズ(円筒レンズ)23が配置される。
この実施例についてζらに第5図および第6図を参照し
て説明すると、投受光器から投射される光は前記直線2
2に沿う平行光束Iaとして円面レンズコ3に到着し、
このレンズ23によってローラ軸線J/へ向って収束ゴ
るような光束よりになる。しかるに円筒状ローラ15b
の表面従ってこnに接触する基体部分/(7aの監視面
(光学膜が被着形成された面、ローラに接触しない力の
面)コグは明らかにローラ軸線、2/へ向って収束する
前記光束Ibのすべての光線に対して直交するから、光
束1.bのすべての光k(入射光)工ニ監視面2qで反
射されて入射光と全く同じ径路を逆行する反射光Rにな
る。かくシ、て入射光束Ibと全く同じ径路を逆行する
反射光束Rbが生じ、これが円筒レンズ23の作用で入
射光束工aと同じ径路で逆行する平行反射光束Raにな
シ投受光器へ向う。このよう処して膜厚の監視が確実に
達成される。なお、第S図において、入射光束工aの断
面が円である楊会に入射光束および反射光束が円筒レン
ズ23を通過する範I21JFi平行破糾コ5で示すよ
うに円形であるが反射が行なわれる範囲に平行破線26
で示すようVCfg円形になる。また収束する入射光束
よりはロー9fmI線2/のうちの27で示される範囲
に向って進行する。ざら[第A図においてFLriレン
ズ23の焦点距離をかす。
て説明すると、投受光器から投射される光は前記直線2
2に沿う平行光束Iaとして円面レンズコ3に到着し、
このレンズ23によってローラ軸線J/へ向って収束ゴ
るような光束よりになる。しかるに円筒状ローラ15b
の表面従ってこnに接触する基体部分/(7aの監視面
(光学膜が被着形成された面、ローラに接触しない力の
面)コグは明らかにローラ軸線、2/へ向って収束する
前記光束Ibのすべての光線に対して直交するから、光
束1.bのすべての光k(入射光)工ニ監視面2qで反
射されて入射光と全く同じ径路を逆行する反射光Rにな
る。かくシ、て入射光束Ibと全く同じ径路を逆行する
反射光束Rbが生じ、これが円筒レンズ23の作用で入
射光束工aと同じ径路で逆行する平行反射光束Raにな
シ投受光器へ向う。このよう処して膜厚の監視が確実に
達成される。なお、第S図において、入射光束工aの断
面が円である楊会に入射光束および反射光束が円筒レン
ズ23を通過する範I21JFi平行破糾コ5で示すよ
うに円形であるが反射が行なわれる範囲に平行破線26
で示すようVCfg円形になる。また収束する入射光束
よりはロー9fmI線2/のうちの27で示される範囲
に向って進行する。ざら[第A図においてFLriレン
ズ23の焦点距離をかす。
第弘は)の実施例において、光を透過埒せる真空Nll
の監視窓コクかこの第、ダ図に示されているような場所
に設けられていなくて例えは第1図に示されるような場
所に存する場合には、第7図に示すように例えば2枚の
平面反射鏡2ga、2.gbが適当な位置に配置される
。この第7図において投受光器’ 9 as J Oa
および円筒レンズコ3は反射鏡2g a 、 2g b
によるそnらの鏡像lりa’、2(7a’および、23
′が第4図の/qa。
の監視窓コクかこの第、ダ図に示されているような場所
に設けられていなくて例えは第1図に示されるような場
所に存する場合には、第7図に示すように例えば2枚の
平面反射鏡2ga、2.gbが適当な位置に配置される
。この第7図において投受光器’ 9 as J Oa
および円筒レンズコ3は反射鏡2g a 、 2g b
によるそnらの鏡像lりa’、2(7a’および、23
′が第4図の/qa。
20および23と同じ要件を充すように配置される。
第4図から第7図に示したように或いは以下においてさ
らに例示されるように円筒ローラに接触する基体部分で
の反射を利用する際に1基体i。
らに例示されるように円筒ローラに接触する基体部分で
の反射を利用する際に1基体i。
が金属箔またに不透明フィルム−4ような不透明体であ
る場合には円筒状ローラとして公知のもの例えばその表
面を研磨したのちにNiをメッキして鏡面したものが使
用できる。しかしながら基体IOが透明°プラスチック
のように透明体である場合には、第3図に極めて図解的
に示されるように入射光重は基体IOの監視面2qで反
射されて反射光Rになる以外に基体IOおよびこj、と
円筒状ローラ15bと間の微細な空気間隙または真空間
隙29を通過し、て円筒状ローラ15bの表面30でR
fで示されるように反射され、この反射光Rfが間隙コ
?および基体10を通過してRgで示すように進行し或
いは監視面コクで再反射されてRhのように進行する。
る場合には円筒状ローラとして公知のもの例えばその表
面を研磨したのちにNiをメッキして鏡面したものが使
用できる。しかしながら基体IOが透明°プラスチック
のように透明体である場合には、第3図に極めて図解的
に示されるように入射光重は基体IOの監視面2qで反
射されて反射光Rになる以外に基体IOおよびこj、と
円筒状ローラ15bと間の微細な空気間隙または真空間
隙29を通過し、て円筒状ローラ15bの表面30でR
fで示されるように反射され、この反射光Rfが間隙コ
?および基体10を通過してRgで示すように進行し或
いは監視面コクで再反射されてRhのように進行する。
よって投受光器には膜厚監視に必要な反射光R以外にR
gなどで示されるようなローラ面反射光が入射してこj
、が監視を妨害するおそれがある。よってローラ面反射
を防止する対策が必要になる。
gなどで示されるようなローラ面反射光が入射してこj
、が監視を妨害するおそれがある。よってローラ面反射
を防止する対策が必要になる。
その対策の1つとし7て第9図に示されるように円筒状
ローラ/Sbの表面30の所要&!囲に反射防止処理ま
たIJメッキ、酸化処理などによる黒色化処理が31で
示さn、るように施されてもよい。
ローラ/Sbの表面30の所要&!囲に反射防止処理ま
たIJメッキ、酸化処理などによる黒色化処理が31で
示さn、るように施されてもよい。
黒色化処理した場合にri第1O図に略示されるように
入射光重のうちで表面30の処理範囲3/に到着した部
分子iSで示されるように散乱反射され或いは吸収され
て投受光器には入射しない。
入射光重のうちで表面30の処理範囲3/に到着した部
分子iSで示されるように散乱反射され或いは吸収され
て投受光器には入射しない。
別の対策として、円筒状ローラlSbを第1/図に図示
されるようにガラス、セラミックまたは樹脂などの透明
体で形成してもよく、或いは第12図に示すように円筒
状ローフ/S bの所要範囲すなわち光が投射される範
囲3コが透明体で作られてもよい。さらに第13図のよ
うに円筒状ローラisbのうちの回吸範囲33が間隙に
なるようにこのローラ/3bが同軸線の2つの部分/!
;b (1)およびt s b (2)によって構成さ
jてもよい。
されるようにガラス、セラミックまたは樹脂などの透明
体で形成してもよく、或いは第12図に示すように円筒
状ローフ/S bの所要範囲すなわち光が投射される範
囲3コが透明体で作られてもよい。さらに第13図のよ
うに円筒状ローラisbのうちの回吸範囲33が間隙に
なるようにこのローラ/3bが同軸線の2つの部分/!
;b (1)およびt s b (2)によって構成さ
jてもよい。
これらの場合には第1q図に極めて図解、的に示はれる
ように、入射光重のうちで基体IOおよび間隔コ9を通
過する部分Pは円筒状ローラ/jbの透明体の部分3コ
または間隙33の中へ進み従ってローラ表面30で反射
されることがない。
ように、入射光重のうちで基体IOおよび間隔コ9を通
過する部分Pは円筒状ローラ/jbの透明体の部分3コ
または間隙33の中へ進み従ってローラ表面30で反射
されることがない。
第15図は投光器/?aと受光器2(7aが相離して配
靜される実施例を示す。この場合に円筒レンズ23#−
iその線状焦点が円筒状ローラ/jbを円筒鏡と見なし
た場合の線状焦点3qに一致するように人躬光路工uK
配置される。この場合に投光器/9aからの円形断面(
平行破線35で示す)の光束工ari円筒レンズ、23
を通過するときに半開き角αで線状焦点3ダに向って収
束する入射光束よりKなシ、基体IOの部分10aの監
視面において反射角βで反射され、1lli線、2/お
よび線状焦点3tを通る平面36に平行に楕円断面(平
行破線3り)の光束Raとして受光器コOaへ向う。
靜される実施例を示す。この場合に円筒レンズ23#−
iその線状焦点が円筒状ローラ/jbを円筒鏡と見なし
た場合の線状焦点3qに一致するように人躬光路工uK
配置される。この場合に投光器/9aからの円形断面(
平行破線35で示す)の光束工ari円筒レンズ、23
を通過するときに半開き角αで線状焦点3ダに向って収
束する入射光束よりKなシ、基体IOの部分10aの監
視面において反射角βで反射され、1lli線、2/お
よび線状焦点3tを通る平面36に平行に楕円断面(平
行破線3り)の光束Raとして受光器コOaへ向う。
入射光束よりの半開き角αけ約/θ0以下であることが
望せしい。
望せしい。
WIA図の実施例は監視面コqが拡散反射する場合に利
用され、これにおいては円筒レンズ23はこれを通過し
た入射光束よりが第3図のようにローラ軸線コ/に向っ
て収束する代シにこれに平行な監視面2を上の直線3g
に向って監視面、21Iに直交する光軸で収束する。拡
散反射光のかなシの部分がはは入射光束Ia 、 Ib
と同じ径路を逆に進行して投受光器へ戻る。
用され、これにおいては円筒レンズ23はこれを通過し
た入射光束よりが第3図のようにローラ軸線コ/に向っ
て収束する代シにこれに平行な監視面2を上の直線3g
に向って監視面、21Iに直交する光軸で収束する。拡
散反射光のかなシの部分がはは入射光束Ia 、 Ib
と同じ径路を逆に進行して投受光器へ戻る。
第17図の実施例では線状集光用光学系としてnit述
した円筒レンズの代シに部分円筒四面鋭39か使用され
る。こねは紀/ざMに示されるような形状を有し1、第
77図に示されるようにその中心時・;11紐が円筒状
ローラ/SbをP」筒鋭と見なした場合の線状焦点3弘
に一致する2ように配か″される。
した円筒レンズの代シに部分円筒四面鋭39か使用され
る。こねは紀/ざMに示されるような形状を有し1、第
77図に示されるようにその中心時・;11紐が円筒状
ローラ/SbをP」筒鋭と見なした場合の線状焦点3弘
に一致する2ように配か″される。
凹面鏡39に形成された通し窓qOを辿って入射する光
束工aは監視面コμで反射されて凹面鋏39に1b角に
入射し同じ径路を通って逆行しその隙に監視面2グでぜ
Jび反射される。辿し窓グθに形成された遮光部q/汀
大入射光監視面2q″′C″1回だけ反射されたのちに
直接受光器へ向うことがないように阻止するために設け
られる。
束工aは監視面コμで反射されて凹面鋏39に1b角に
入射し同じ径路を通って逆行しその隙に監視面2グでぜ
Jび反射される。辿し窓グθに形成された遮光部q/汀
大入射光監視面2q″′C″1回だけ反射されたのちに
直接受光器へ向うことがないように阻止するために設け
られる。
第17図のように配置される凹面鏡39を線状焦点3t
の廿わりで回転できるようにすることもできる。こ1に
よればm791gに示されるように凹面鏡39の回転位
置に応じて監視r]113tへの入射角β(こttti
反射角に等しい)が変化できる。
の廿わりで回転できるようにすることもできる。こ1に
よればm791gに示されるように凹面鏡39の回転位
置に応じて監視r]113tへの入射角β(こttti
反射角に等しい)が変化できる。
この場合に凹面鏡3りは入射光束工aから外n7’(と
ころに位置し比較的小型であって通し窓ダOを有しない
。
ころに位置し比較的小型であって通し窓ダOを有しない
。
か、20図Vi第11図またけ第13図に示されるよう
な透過性の円筒状ローラ15bを使用して基体10を透
過した光の特性によって膜辱を監視する例を示す。この
実施例では円筒状ローラ/Sbを円筒レンズと見なした
ときの線状態)3,31tが別の円筒レンズ23の線状
焦点と一致するようになっている。投光器/9bからの
入射光束Iatj円筒レンズである円筒状ローラ15b
および基体10を透過して、円筒ローラisbの軸線コ
/からこれの焦点距離FL(1)だけ離n−た線状焦点
J4’に向って収束し、この線状焦点3グを通過して発
散する光束はこの線状焦点3qから焦点距$2+! F
L (2)だけ離れている円筒レンズコ3によって平行
な通過光束TaKなシ、受光器20bへ向う。公知のよ
うに円筒状ローラ15bの焦点距離PL (11け、ロ
ーラの半径をRその屈折率をnとすればnR/[コ(n
−/))与えらj10−ラの屈折率が約i、sとすれば
約へSRになる。
な透過性の円筒状ローラ15bを使用して基体10を透
過した光の特性によって膜辱を監視する例を示す。この
実施例では円筒状ローラ/Sbを円筒レンズと見なした
ときの線状態)3,31tが別の円筒レンズ23の線状
焦点と一致するようになっている。投光器/9bからの
入射光束Iatj円筒レンズである円筒状ローラ15b
および基体10を透過して、円筒ローラisbの軸線コ
/からこれの焦点距離FL(1)だけ離n−た線状焦点
J4’に向って収束し、この線状焦点3グを通過して発
散する光束はこの線状焦点3qから焦点距$2+! F
L (2)だけ離れている円筒レンズコ3によって平行
な通過光束TaKなシ、受光器20bへ向う。公知のよ
うに円筒状ローラ15bの焦点距離PL (11け、ロ
ーラの半径をRその屈折率をnとすればnR/[コ(n
−/))与えらj10−ラの屈折率が約i、sとすれば
約へSRになる。
この発明の効果を確認するため、第1図に示されるよう
な装置を使用し7、厚さq0μm1幅73wn、長さ2
SθMのアルミニウム箔からなる基体/θを毎分3Mの
速ざで送シこn、に対して2個の蒸発源/7a、/7b
から蒸着物質としてOrおよび(!r203を蒸発させ
て光学的選択吸収膜を形成する作業において、/、8μ
m の波、長の光を使用して第1図に示すような従来の
膜厚監視装置、と第4図から第6図に示すようなこの発
明による膜厚監視装置とKついて比較試験を行なった。
な装置を使用し7、厚さq0μm1幅73wn、長さ2
SθMのアルミニウム箔からなる基体/θを毎分3Mの
速ざで送シこn、に対して2個の蒸発源/7a、/7b
から蒸着物質としてOrおよび(!r203を蒸発させ
て光学的選択吸収膜を形成する作業において、/、8μ
m の波、長の光を使用して第1図に示すような従来の
膜厚監視装置、と第4図から第6図に示すようなこの発
明による膜厚監視装置とKついて比較試験を行なった。
この発明の賜金に円筒状ローラ15bの直径は//コ門
で、円筒レンズ23としては幅57Wr11、焦点距離
g6調のものが使用された。光学モニタの記録器に示さ
れた出力(p)の時間(T)豹変化は、従来の装置およ
びこの発明による装置でそれぞれ第21図および第、1
.2図に示す通シであつ’* (ただし第2/ンと第2
a図で出力(p)と時間(T)の単位は異っている)。
で、円筒レンズ23としては幅57Wr11、焦点距離
g6調のものが使用された。光学モニタの記録器に示さ
れた出力(p)の時間(T)豹変化は、従来の装置およ
びこの発明による装置でそれぞれ第21図および第、1
.2図に示す通シであつ’* (ただし第2/ンと第2
a図で出力(p)と時間(T)の単位は異っている)。
こn、ら図において、Fは蒸着作業開始時点、Gは蒸着
作業終了時点を有し、また鎖線UVi蒸着作業をしない
ときの正しい出力水準、鎖線Vけ蒸着作業中の正しい出
力水準を示す。これら図面を比較すれば、この発明の有
効性は明らかである。
作業終了時点を有し、また鎖線UVi蒸着作業をしない
ときの正しい出力水準、鎖線Vけ蒸着作業中の正しい出
力水準を示す。これら図面を比較すれば、この発明の有
効性は明らかである。
上述したことから明らかなように、この発明によれば、
案内部材に接触する基体部分に光を投射して膜厚監視を
行なうようにしたから従来のような基体のよしわ、また
は振動に基因する欠点は完全に除去され、ざらに線状集
光用光学系を利用しこれと円筒状ローラとして形成され
た案内部材の光学的や性との組介せによって案内部側に
接触する基体部分に光を投射し、たときにとnを透過し
またけこれで反射された光が収束するようにしたから常
に確実に受光器に光が入射し、て膜厚監視が確実に達成
される。
案内部材に接触する基体部分に光を投射して膜厚監視を
行なうようにしたから従来のような基体のよしわ、また
は振動に基因する欠点は完全に除去され、ざらに線状集
光用光学系を利用しこれと円筒状ローラとして形成され
た案内部材の光学的や性との組介せによって案内部側に
接触する基体部分に光を投射し、たときにとnを透過し
またけこれで反射された光が収束するようにしたから常
に確実に受光器に光が入射し、て膜厚監視が確実に達成
される。
第1図は従来の光学膜形成装置における膜厚監視装置の
図解図、第ユ図F′i第1図の装置の監視光投射場所を
示す部分斜視図、第3図は単に案内部材に光を投射した
ときの状態を略示する説明図、第を図はこの発明による
膜厚監視装V4のv、/実施例を略示する第1図に相当
する部分図解図、第S図は第9図の実施例の拡大部分斜
視図、第6図は第5駁に対応する立面図、第7図f′i
第を図の実施例の変型を示す第を図と同様の図、第3図
は基体が透明体である場曾の光路を示す説明図、第7図
は円筒状ローラの変型を示す斜視図、第10図は第9図
の変型における光路を、示す説明図、第1/図、第72
図および第73図は円筒状ローラの各種変型をそnそれ
示す斜視図、第1+図は第1/図、第12図および第7
3図の変型における光路を示す説明図、第is図はこの
発明の第コ実施例の図解図、第16図は第3実施例の図
解図、組77図は第を実施例の図解図、第tg鳴は第1
7図の実施例に使用される凹面鏡の斜視図、第79図は
第17図の実施例の変型を示す図、第一1.0図は第5
実施例の図解図、第21図は第1図の装置による従来の
装置を用いた実験結果を示すグラフ、第2.2図は、第
μ図の実施例による実験結果を示す第27図に対応する
グラフである。 図面において、IOは基体、/Sは案内部材、1sbu
円筒状ローラとして形成された案内部材、/9aと1q
bn投光器、20aとJob?−1:受光器、コ3は線
状集光用光学系の例である円筒レンズ、39は線状集光
用光学系の例である部分円筒凹面鏡を示す。 第2図 第8図 第9図 第10図 第17図 第19園
図解図、第ユ図F′i第1図の装置の監視光投射場所を
示す部分斜視図、第3図は単に案内部材に光を投射した
ときの状態を略示する説明図、第を図はこの発明による
膜厚監視装V4のv、/実施例を略示する第1図に相当
する部分図解図、第S図は第9図の実施例の拡大部分斜
視図、第6図は第5駁に対応する立面図、第7図f′i
第を図の実施例の変型を示す第を図と同様の図、第3図
は基体が透明体である場曾の光路を示す説明図、第7図
は円筒状ローラの変型を示す斜視図、第10図は第9図
の変型における光路を、示す説明図、第1/図、第72
図および第73図は円筒状ローラの各種変型をそnそれ
示す斜視図、第1+図は第1/図、第12図および第7
3図の変型における光路を示す説明図、第is図はこの
発明の第コ実施例の図解図、第16図は第3実施例の図
解図、組77図は第を実施例の図解図、第tg鳴は第1
7図の実施例に使用される凹面鏡の斜視図、第79図は
第17図の実施例の変型を示す図、第一1.0図は第5
実施例の図解図、第21図は第1図の装置による従来の
装置を用いた実験結果を示すグラフ、第2.2図は、第
μ図の実施例による実験結果を示す第27図に対応する
グラフである。 図面において、IOは基体、/Sは案内部材、1sbu
円筒状ローラとして形成された案内部材、/9aと1q
bn投光器、20aとJob?−1:受光器、コ3は線
状集光用光学系の例である円筒レンズ、39は線状集光
用光学系の例である部分円筒凹面鏡を示す。 第2図 第8図 第9図 第10図 第17図 第19園
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 l シート状の長尺の基体の表面上に光学膜を形成した
のちにこの基体を案内部材によって案内しながら光を投
光器から基体、に投射し基体を透過し1.たけこれで反
射されたのちに受光器に到着した光の特性に基いて光学
膜の膜厚を監視する装動において、案内部材の少くとも
1つを円筒状ローラとして形成し、この円筒状ローラに
接触する基体の部分に光を投射するよう圧し、投光器か
ら前記基体部分を経て受光器に達する光路に、前記円筒
状−−ラの軸線に平行な線状焦点を有する線状集光用光
学系を配置したことを特徴とする光学膜形成装置におけ
る膜厚監視装置。 コ、投光器と受光器が投受光器として一体に形成されて
いる場合に、円筒状ローラの軸線を線状焦点とするね状
集光用光学系を使用する特許請求の範囲第1項に記載の
膜厚監視装置。 3 投光器から前記基体部分までの光路に、円筒状ロー
ラの線状焦点に光を収束させるように#状集光用光学系
を配置した特許請求の範囲第1項に記載の膜厚監視装置
。 lA線状集光用光学系として柱状集光レンズを使用する
特許請求の範囲第7項、第2項、第3項のいずjか1項
に記載の膜厚監視装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18273782A JPS5973709A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 光学膜形成装置における膜厚監視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18273782A JPS5973709A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 光学膜形成装置における膜厚監視装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5973709A true JPS5973709A (ja) | 1984-04-26 |
Family
ID=16123553
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18273782A Pending JPS5973709A (ja) | 1982-10-20 | 1982-10-20 | 光学膜形成装置における膜厚監視装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5973709A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006208196A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 被膜検査装置および方法 |
JP2009257987A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Konica Minolta Holdings Inc | 膜厚計測装置、膜厚計測方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5231761A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-10 | Hitachi Ltd | Method of monitoring thickness of thin film formed by vapor phase reac tion process |
JPS5279953A (en) * | 1975-12-26 | 1977-07-05 | Ulvac Corp | Film thickness monitor for thin film production |
-
1982
- 1982-10-20 JP JP18273782A patent/JPS5973709A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5231761A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-10 | Hitachi Ltd | Method of monitoring thickness of thin film formed by vapor phase reac tion process |
JPS5279953A (en) * | 1975-12-26 | 1977-07-05 | Ulvac Corp | Film thickness monitor for thin film production |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006208196A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 被膜検査装置および方法 |
JP2009257987A (ja) * | 2008-04-18 | 2009-11-05 | Konica Minolta Holdings Inc | 膜厚計測装置、膜厚計測方法 |
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