JPS5950177A - 密着性に優れた金属表面処理法 - Google Patents
密着性に優れた金属表面処理法Info
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- JPS5950177A JPS5950177A JP16199982A JP16199982A JPS5950177A JP S5950177 A JPS5950177 A JP S5950177A JP 16199982 A JP16199982 A JP 16199982A JP 16199982 A JP16199982 A JP 16199982A JP S5950177 A JPS5950177 A JP S5950177A
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- Japan
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- metal
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- treatment method
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pressure Welding/Diffusion-Bonding (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
める金属表面処理法に関するものである。
従来より母材表面の性質や寸法，外観を変え、変色や腐
食への抵抗などを改善する目的でメッキ。
食への抵抗などを改善する目的でメッキ。
ＯＶＤ （化学蒸着）、ＰｙＤ （物理蒸着）、真空蒸
着．溶射など各種の表面処理が施てれているが、これら
は概して均一な薄層は得られるとしても一般に母材と薄
膜との結合力が非常に小さく、例えば絶えず、剥離など
の問題を伴っていた。
着．溶射など各種の表面処理が施てれているが、これら
は概して均一な薄層は得られるとしても一般に母材と薄
膜との結合力が非常に小さく、例えば絶えず、剥離など
の問題を伴っていた。
これを、例えば、表面処理の代表的なものであるメッキ
によって説明すると、メッキは主として金属表面の耐蝕
、耐摩、光沢等分目的として行なわれているが、次のよ
うな欠点分有している。
によって説明すると、メッキは主として金属表面の耐蝕
、耐摩、光沢等分目的として行なわれているが、次のよ
うな欠点分有している。
［１） 第３８図に見られるようにメッキ層（２）と
母材（１）との間に多くの間隙（３）が又、メッキ層（
２）内に空孔（４）があり、通常、そこに水素が含寸れ
ていて強度を弱くする。
母材（１）との間に多くの間隙（３）が又、メッキ層（
２）内に空孔（４）があり、通常、そこに水素が含寸れ
ていて強度を弱くする。
（２）例えば耐摩（化を目的とした場合、薄いメッキで
はメッキ層がすぐに摩滅し、時には剥がれて母材の露出
が、起る。
はメッキ層がすぐに摩滅し、時には剥がれて母材の露出
が、起る。
（３） といって、厚くメンキすると、第２図に図示
するように歪が出て、例えば１回の熱サイクルでｒｆ（
ｊ ｊ！’に亀裂（５）を生じさせ、母材にもひソわれ
（６）を伝播する。
するように歪が出て、例えば１回の熱サイクルでｒｆ（
ｊ ｊ！’に亀裂（５）を生じさせ、母材にもひソわれ
（６）を伝播する。
（つ）又、一度、メッキの表面に亀裂が生じると、耐１
’ｊ！４ ’ｔＪとしての能力にｒ無に等しいばかりか
、メッキをしない場合より悪くなる。
’ｊ！４ ’ｔＪとしての能力にｒ無に等しいばかりか
、メッキをしない場合より悪くなる。
（５） 殊に、局部的にメッキが剥がれると、電解腐
ｍ（す生じ、）ｌ）Ｊ別の絹合せではメッキのない場合
より狗（端に早りＩ／１！ｌｉ′ｉ！１ｉが生じる。
ｍ（す生じ、）ｌ）Ｊ別の絹合せではメッキのない場合
より狗（端に早りＩ／１！ｌｉ′ｉ！１ｉが生じる。
（６）光沢を必要とする装飾部品では一度、メッキを落
すと、表面が欠落して全体の価値が低下する。
すと、表面が欠落して全体の価値が低下する。
などである。
ところで、近年、１）１前記メツキを始め、ＣＶＤ。
ＰＶＤの技術や、真空蒸着、俗射など表面処３（Ｉ！の
技術が広く先端産業に利用され、夫々ｊｌｃ要な役Ｌｊ
ｌＯを果している。なかでも、例えば現在、広く各方面
で利用されている工Ｃの薄膜と基材との良好な接合は電
気的特性、熱的特性に重髪な役割３果すものであるし、
工具の薄膜、−股にＳｉ３Ｎ４ 、 ＴｉＮなどセラミ
ックス簿膜が付けられることも多いが、その薄膜と母材
との接合強度は工具の）ｆ含分左右する。しかも最近で
は、更にアモルファス薄膜も電子工業に活用され、その
役割が期待されている。
技術が広く先端産業に利用され、夫々ｊｌｃ要な役Ｌｊ
ｌＯを果している。なかでも、例えば現在、広く各方面
で利用されている工Ｃの薄膜と基材との良好な接合は電
気的特性、熱的特性に重髪な役割３果すものであるし、
工具の薄膜、−股にＳｉ３Ｎ４ 、 ＴｉＮなどセラミ
ックス簿膜が付けられることも多いが、その薄膜と母材
との接合強度は工具の）ｆ含分左右する。しかも最近で
は、更にアモルファス薄膜も電子工業に活用され、その
役割が期待されている。
このように表面処理被膜は、往年のメッキより未来を与
える有力なイ珂料となっており、その重甥性が益々、高
１って来ているにががわらず、その接合強度はＳ前述し
た如く相変らず、弱く、これを［８める汎用技術は未だ
殆ど天川化されていない。
える有力なイ珂料となっており、その重甥性が益々、高
１って来ているにががわらず、その接合強度はＳ前述し
た如く相変らず、弱く、これを［８める汎用技術は未だ
殆ど天川化されていない。
ところが・近時１．烏濡高圧ガス雰１１［ｌ気下で等方
向に被処理体を圧縮し、金属粉末、セラミックス粉末な
どから緻密な焼結体を製造したＶ、金属材料を接合する
方法として熱間静水圧プレス法（以下、ＨＩＰ法という
）が開発され、注目？浴びて来た。特にＨＩＰ法による
金属材料の拡散接合は・その条件（温度、圧力１時間）
さえ、適当に選定すれば同種金属に限らず、異種金属の
組合せも含めて可能であるところから今日の復合材別製
造の見地から関心が持たれている。
向に被処理体を圧縮し、金属粉末、セラミックス粉末な
どから緻密な焼結体を製造したＶ、金属材料を接合する
方法として熱間静水圧プレス法（以下、ＨＩＰ法という
）が開発され、注目？浴びて来た。特にＨＩＰ法による
金属材料の拡散接合は・その条件（温度、圧力１時間）
さえ、適当に選定すれば同種金属に限らず、異種金属の
組合せも含めて可能であるところから今日の復合材別製
造の見地から関心が持たれている。
しかしながら、このようなＨＩＰ法といえども粉末の成
形や、焼結欠陥あるいは鋳造欠陥の除去又はカーボッの
高密度化２合金疲労部品の再生処理など一般的な金属加
工の分野に利用されることはあっても、未だ表面の薄膜
を母材に対し強固に固定しようとする試みはなされてい
ない。
形や、焼結欠陥あるいは鋳造欠陥の除去又はカーボッの
高密度化２合金疲労部品の再生処理など一般的な金属加
工の分野に利用されることはあっても、未だ表面の薄膜
を母材に対し強固に固定しようとする試みはなされてい
ない。
木発明者らは、叙上のような現状に鑑み、金属表面処理
にＨＩＰ法の適用を図ることを課題として取組み・これ
によって従来１難点とされていた金属表面被膜の接合強
度２高めることを企図し、その実験を試みるに至った。
にＨＩＰ法の適用を図ることを課題として取組み・これ
によって従来１難点とされていた金属表面被膜の接合強
度２高めることを企図し、その実験を試みるに至った。
即ち、本発明は、通気孔？有しない薄膜表面処理をした
部材にＨＩＰ法を適用して密ス６性、接合力企高めると
共に、処理部材の疲労強度ご向上させることを目的とす
るものであり、母材に曲常の表面処理手段に従って、金
属被膜ご付着形成した後、該被膜付着部材を外気から遮
断した状態におき、母材と表面金属被膜との拡散接合に
Ｉｒｘ好適であるが、両者は反応せず、かつ母料に好甘
しくない影ｇを生じさせない高温、高圧ガスＪ囲気下で
「″ＪｉＪ記波膜付着部拐に熱間静水圧プレス処理（１
１１Ｐ処理）を施すことな％徴とするものである。
部材にＨＩＰ法を適用して密ス６性、接合力企高めると
共に、処理部材の疲労強度ご向上させることを目的とす
るものであり、母材に曲常の表面処理手段に従って、金
属被膜ご付着形成した後、該被膜付着部材を外気から遮
断した状態におき、母材と表面金属被膜との拡散接合に
Ｉｒｘ好適であるが、両者は反応せず、かつ母料に好甘
しくない影ｇを生じさせない高温、高圧ガスＪ囲気下で
「″ＪｉＪ記波膜付着部拐に熱間静水圧プレス処理（１
１１Ｐ処理）を施すことな％徴とするものである。
ここで、前記通常の表面処理手段としてはメッキ法、Ｃ
ＶＤ法、ＰＶＤ法、真空蒸着法、溶射法など公知のすべ
ての金属表面処理手段が含１れるが、本発明においてＨ
工Ｐ処理にイ１はれる金属被膜としては、通気孔を有し
ない被膜がイ１効であるところから溶射法は余り適切と
は云えず、最も代表的な手段としては電気メツキ法によ
る処理が挙げられる。
ＶＤ法、ＰＶＤ法、真空蒸着法、溶射法など公知のすべ
ての金属表面処理手段が含１れるが、本発明においてＨ
工Ｐ処理にイ１はれる金属被膜としては、通気孔を有し
ない被膜がイ１効であるところから溶射法は余り適切と
は云えず、最も代表的な手段としては電気メツキ法によ
る処理が挙げられる。
この場合、母材としては、殆どすべての金属。
炭化物宿、電導性のあるものが使用可能であり、史にＬ
′（空蒸着の場合にはプラスチック、カーボン。
′（空蒸着の場合にはプラスチック、カーボン。
セラミック、ガラスなども使用可能である。更に気相メ
ッキではこれに適した種々の金属が期用σれる。
ッキではこれに適した種々の金属が期用σれる。
一刀、表面処理イ２料としてはメッキ、真空蒸着などで
は殆どすべての金属が使用可能であるが・代表的なもの
としてはＣ！ｕ、 Ｎ］、 Ｏｒ、 Ｚｍ、 Ｓｎ、
Ｐｂ、 Ｐｆ；、 Ａ 、ｌ、。
は殆どすべての金属が使用可能であるが・代表的なもの
としてはＣ！ｕ、 Ｎ］、 Ｏｒ、 Ｚｍ、 Ｓｎ、
Ｐｂ、 Ｐｆ；、 Ａ 、ｌ、。
Ｓｂ、 Ｃｃｌ、 Ｃｏ、 Ａｕ、■Ｙ１．Ａｇ、７ｊ
ど、又、気相メッキの場合には、Ｚｒ、 Ｔｊ、 Ｗ、
Ｎｂ、 Ｔａも充分使用することができる。
ど、又、気相メッキの場合には、Ｚｒ、 Ｔｊ、 Ｗ、
Ｎｂ、 Ｔａも充分使用することができる。
そして上記の如き各１母拐１表面処理材によって金属表
面処理が行なわれ、Ｉ母材表面に金属被膜が１・１着形
成されるが、この金属被膜を付着せしめた部イ３では前
述の如くその接合力に欠如するところから０（に該部側
に本発明の重要な工程とするＨ工Ｐ処理ご施ず。
面処理が行なわれ、Ｉ母材表面に金属被膜が１・１着形
成されるが、この金属被膜を付着せしめた部イ３では前
述の如くその接合力に欠如するところから０（に該部側
に本発明の重要な工程とするＨ工Ｐ処理ご施ず。
ＨＩ Ｐ処理は通常、カプセルと称する軟鋼あるいはガ
ラス製の答２；；を用い、前記金属被膜付着部イＡｋ該
カブ士ル１１りに装入し、蓋を溶接等により取り角け、
内部の空気な真空吸引脱気し、Ｉ、かる後、脱気管？閉
塞して密封し、高温高圧炉内に収納して所要の１ｚ濡高
圧下に保持したＡｒ カース等不活性ガス雰囲気下で
静水印プレス処理を行なうことによってなされるが、こ
の処理によって金属被膜空孔内に含１れている例えば水
素カス汀追い出プれ・金属被膜と母イレはその接合面で
拡散接合し金属被膜、例えばメッキが母相の凹凸中にも
深く侵入し強固な接合力を得る。
ラス製の答２；；を用い、前記金属被膜付着部イＡｋ該
カブ士ル１１りに装入し、蓋を溶接等により取り角け、
内部の空気な真空吸引脱気し、Ｉ、かる後、脱気管？閉
塞して密封し、高温高圧炉内に収納して所要の１ｚ濡高
圧下に保持したＡｒ カース等不活性ガス雰囲気下で
静水印プレス処理を行なうことによってなされるが、こ
の処理によって金属被膜空孔内に含１れている例えば水
素カス汀追い出プれ・金属被膜と母イレはその接合面で
拡散接合し金属被膜、例えばメッキが母相の凹凸中にも
深く侵入し強固な接合力を得る。
第３図は、第１図、第２図に対比しメッキにより１号；
１ンに表面処理した後、１１工Ｐ処理３行つグこ場合を
示し、第１図、第２図においてメッキ層（２）に見られ
た空孔（４）やメッキ層（２）と母相（１）との間に存
在した間隙（３）が消失し、しかもメッキ層がｆｉＪ拐
（１１内へ侵入（７）シて両者が良好な接合状態？有し
ていることを明らかにしている。
１ンに表面処理した後、１１工Ｐ処理３行つグこ場合を
示し、第１図、第２図においてメッキ層（２）に見られ
た空孔（４）やメッキ層（２）と母相（１）との間に存
在した間隙（３）が消失し、しかもメッキ層がｆｉＪ拐
（１１内へ侵入（７）シて両者が良好な接合状態？有し
ていることを明らかにしている。
なお・上記Ｈ工Ｐ処理における処理部ｆｌは１け材なら
びに金属被膜の種類あるいは膜厚により、又表面処理の
月り勺によって適切な条件が選ばれるが、一般的に母材
と金属被膜が拡散接合するに秘すな温度でなければなら
ない。しかし、母相と金属被膜が反ルぷ［５たり、母材
に好寸しくない変態など・影響を及ぼさない温度以下で
あることが肝要である０具体的にはＳｎ、 Ｚ？１など
をメソキイオとして鋼に表Ｕｏ処理しである場合には圧
力、温度ともに低く、圧力５０々、２００’Ｃ以上でも
充分可能であるがその他の金属表面処理の場合には殆ど
１００η。
びに金属被膜の種類あるいは膜厚により、又表面処理の
月り勺によって適切な条件が選ばれるが、一般的に母材
と金属被膜が拡散接合するに秘すな温度でなければなら
ない。しかし、母相と金属被膜が反ルぷ［５たり、母材
に好寸しくない変態など・影響を及ぼさない温度以下で
あることが肝要である０具体的にはＳｎ、 Ｚ？１など
をメソキイオとして鋼に表Ｕｏ処理しである場合には圧
力、温度ともに低く、圧力５０々、２００’Ｃ以上でも
充分可能であるがその他の金属表面処理の場合には殆ど
１００η。
３００°Ｃ以上が好適である。
勿論、Ｈ工ｐ処理の態様として金属表面処理を施した部
、（２によっては必らずしもカプセル等の容器を使用す
ることは必要でなく、又、ガスもＡｒガスに限らず、Ｎ
２ ガスなど他の不活性ガスを使用することも充分、
可能である。
、（２によっては必らずしもカプセル等の容器を使用す
ることは必要でなく、又、ガスもＡｒガスに限らず、Ｎ
２ ガスなど他の不活性ガスを使用することも充分、
可能である。
なお、母材の表面は平滑でなく・通常、凹凸を有してい
るこ吉が多いが、このような凹凸面は表面の金属被膜？
その四部に侵入させ、より強固な接合をｑ４）ることが
できるので、表面処理に先立ち、（：Ｊ ４号面に１５
１面加工を施しておくことも有効である。
るこ吉が多いが、このような凹凸面は表面の金属被膜？
その四部に侵入させ、より強固な接合をｑ４）ることが
できるので、表面処理に先立ち、（：Ｊ ４号面に１５
１面加工を施しておくことも有効である。
更に本発明方法が適用される表面処理された金属被膜令
１着：３１Ｓ （’Ｊの（Ｉｚ属被膜厚は、通常の表面
処理によって得られる０、０５μ〜５０μあるい汀、そ
れ以上という広範囲にわたっており、それら（こズ・Ｊ
して実質的に殆ど適用することができる。
１着：３１Ｓ （’Ｊの（Ｉｚ属被膜厚は、通常の表面
処理によって得られる０、０５μ〜５０μあるい汀、そ
れ以上という広範囲にわたっており、それら（こズ・Ｊ
して実質的に殆ど適用することができる。
かくして、以上のようにして得られたメッキ等、金属表
面処理による金属被膜は母材と強固に結合し、同時に金
属被膜同の空孔あるいは母イ２と該被膜との間の間隙は
圧潰消失し、同部分に含１れていた水素ガスは逃散して
密着性、接合力を１烏め、かつ水素ガスを放出して処理
部材の疲労強度を天面上σせ、更に母材の露出、ひソ割
れ等を充分に阻止する。
面処理による金属被膜は母材と強固に結合し、同時に金
属被膜同の空孔あるいは母イ２と該被膜との間の間隙は
圧潰消失し、同部分に含１れていた水素ガスは逃散して
密着性、接合力を１烏め、かつ水素ガスを放出して処理
部材の疲労強度を天面上σせ、更に母材の露出、ひソ割
れ等を充分に阻止する。
以下、更に本発明の具体的な実施例を掲げる。
実施例
下記表に示す母、（才に対し電解メッキ法を利用して夫
々下記拐質のメッキ層を形成し、以下の処理条件に従っ
てＨ工Ｐ処理を行なった。
々下記拐質のメッキ層を形成し、以下の処理条件に従っ
てＨ工Ｐ処理を行なった。
以下余白
次いで上記・得られた処理部材について夫々、そのに見
られる如く何れもメッキ層における空孔は消失し、しか
もメッキ層が母村内へ侵入し一層強固な接合を果してい
ることが看取された。
られる如く何れもメッキ層における空孔は消失し、しか
もメッキ層が母村内へ侵入し一層強固な接合を果してい
ることが看取された。
しかも上記処理部拐は、その後において試料２ニ若干の
難は見られたが、総じてメッキ層に亀裂を起すこともな
く、又、＃！Ｊ蝕を生じることも認められなかった。
難は見られたが、総じてメッキ層に亀裂を起すこともな
く、又、＃！Ｊ蝕を生じることも認められなかった。
以上の如く、本発明方法は従来のメッキなど金属表面処
理においては得られなかった接合力、密特開昭５９−
５１１１７７（４） 着性ご発揮し、その改善をもたらすと共に処理部材の疲
労強度の向上を果し、今後、益々、その利用が重要視さ
れる切削工具３電子部品企始め、ロールあるいは軸、軸
受等の摺動部拐、装飾部品に対する金属表面処理法とし
てその効果は大いに期待される。
理においては得られなかった接合力、密特開昭５９−
５１１１７７（４） 着性ご発揮し、その改善をもたらすと共に処理部材の疲
労強度の向上を果し、今後、益々、その利用が重要視さ
れる切削工具３電子部品企始め、ロールあるいは軸、軸
受等の摺動部拐、装飾部品に対する金属表面処理法とし
てその効果は大いに期待される。
ｍ１図は従来におけるメッキ層と母材との接合部分の状
態を示す部分断面説明図、第２図は同じ〈従来の厚肉メ
ッキにおけるメッキ層の亀裂伏態？示す部分断面説明図
、第３図は本発明方法により処理したメッキ層と母材と
の接合状態を示す部分断面説明図である。
態を示す部分断面説明図、第２図は同じ〈従来の厚肉メ
ッキにおけるメッキ層の亀裂伏態？示す部分断面説明図
、第３図は本発明方法により処理したメッキ層と母材と
の接合状態を示す部分断面説明図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ 母材に通常の表面処理手段に従って金属被膜を付着
形成した後、該被膜付着部材を外気から遮断した状態に
おき、母材と表面金属被膜との拡散接合には好適である
が、両者が反応せず、かつ母材に好ましくない影響を生
じさせない高温高圧の不活性ガス雰囲気下で前記被膜付
着部材に熱間静水圧プレス処理２施すことご特徴とする
密着性に優れた金属表面処理法。 ！、 通常の表面処理手段がメッキ処理である特許請求
の範囲第１項記載の密着性に優れた金属表面処理法。 ３ 母材に付着形成する金属被膜がＯｕ、 Ｎｉ、 Ｏ
ｒ、 Ｚｎ。 Ｓｎ、 ｐｂ、 Ｐｔ、 Ａｔ、 Ｓｂ、 Ｃｄ、 （
！ｏ、 Ａｎ、工ｎ、 、Ａｇからなる金属群−より選
ばれた１種以上の金属又は合金である特許請求の範囲第
１項又は第２項記載の密着性に優れた金属表面処理法。 父 母材が金属、プラスチック、カーボン、セラミンク
、ガラスからなる群より選ばれた材料である特許請求の
範囲第１項、第２項又は第３項記載の密着性に優れた金
属表面処理法。 ５ ガス雰囲気が圧力５０獅以上、２００°Ｃ以上であ
る特許請求の範囲第１項記載の密着性に優れた金属表面
処理法。 ６ ガス雰囲気が圧力１０ ｏｙ２．以上、３００°Ｃ
以上である特許請求の範囲第１項又は第５項記載の密着
性に優れた金属表面処理法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16199982A JPS5950177A (ja) | 1982-09-16 | 1982-09-16 | 密着性に優れた金属表面処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16199982A JPS5950177A (ja) | 1982-09-16 | 1982-09-16 | 密着性に優れた金属表面処理法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5950177A true JPS5950177A (ja) | 1984-03-23 |
Family
ID=15746105
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16199982A Pending JPS5950177A (ja) | 1982-09-16 | 1982-09-16 | 密着性に優れた金属表面処理法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950177A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61117287A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-06-04 | エヌ・ヴイ・ベカルト・エス・エイ | ゴム付着性金属皮膜を形成した鉄基材及びその製法 |
| JPS61201786A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 材料の表面処理方法 |
| JPH03126687A (ja) * | 1989-10-11 | 1991-05-29 | Eagle Ind Co Ltd | セラミックスのメタライズ方法 |
| JPH03158478A (ja) * | 1984-05-25 | 1991-07-08 | Vapor Technol Inc | 基体をコーテイングする方法および装置 |
| WO2000031312A1 (de) * | 1998-11-19 | 2000-06-02 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Verfahren zur herstellung einer schutzschicht auf einem martensitischen stahl und verwendung des mit der schutzschicht versehenen stahls |
| US7043819B1 (en) * | 1996-12-23 | 2006-05-16 | Recast Airfoil Group | Methods for forming metal parts having superior surface characteristics |
-
1982
- 1982-09-16 JP JP16199982A patent/JPS5950177A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03158478A (ja) * | 1984-05-25 | 1991-07-08 | Vapor Technol Inc | 基体をコーテイングする方法および装置 |
| JPS61117287A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-06-04 | エヌ・ヴイ・ベカルト・エス・エイ | ゴム付着性金属皮膜を形成した鉄基材及びその製法 |
| JPS61201786A (ja) * | 1985-03-04 | 1986-09-06 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 材料の表面処理方法 |
| JPH03126687A (ja) * | 1989-10-11 | 1991-05-29 | Eagle Ind Co Ltd | セラミックスのメタライズ方法 |
| US7043819B1 (en) * | 1996-12-23 | 2006-05-16 | Recast Airfoil Group | Methods for forming metal parts having superior surface characteristics |
| WO2000031312A1 (de) * | 1998-11-19 | 2000-06-02 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Verfahren zur herstellung einer schutzschicht auf einem martensitischen stahl und verwendung des mit der schutzschicht versehenen stahls |
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