JPS5944045A - メルカプト変性ポリブタジエン系感光性樹脂 - Google Patents
メルカプト変性ポリブタジエン系感光性樹脂Info
- Publication number
- JPS5944045A JPS5944045A JP15505982A JP15505982A JPS5944045A JP S5944045 A JPS5944045 A JP S5944045A JP 15505982 A JP15505982 A JP 15505982A JP 15505982 A JP15505982 A JP 15505982A JP S5944045 A JPS5944045 A JP S5944045A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- photosensitive resin
- groups
- mercapto
- photosensitive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はメルカノト変性ポリブタツエン系感光性樹脂お
よびその製造法ならびに感光性樹脂組成物に関するもの
である。
よびその製造法ならびに感光性樹脂組成物に関するもの
である。
従来、グラヒ゛了版捺染用ロールあるいはシリンド配?
aなとの製作に用いられるフォートレノストとしては而
りIJム敵と水溶性菌分子化合物を組合せたものが知ら
れている。このものは商品ノ面であるが、湿度、温度の
影暫を受けやすいため貯蔵安定性が悪い、あるいば■ク
ロム酸を用いることによる壌境汚菌の問題がある1、こ
れらの問題を解決[小′ソ するため、管モビニルアル=5−ルの桂皮酸エステル系
のフォートレノストが開発され実用化されているが、こ
のものQ:J:愛れた貯蔵安定性を有しているものの鴎
反応が充分でなく、現1家液と7してトリクレン、キル
ン、ケトン頑などの有機溶剤が会費であり、作条1員境
を害したり有機溶剤中毒などの問題がある。。
aなとの製作に用いられるフォートレノストとしては而
りIJム敵と水溶性菌分子化合物を組合せたものが知ら
れている。このものは商品ノ面であるが、湿度、温度の
影暫を受けやすいため貯蔵安定性が悪い、あるいば■ク
ロム酸を用いることによる壌境汚菌の問題がある1、こ
れらの問題を解決[小′ソ するため、管モビニルアル=5−ルの桂皮酸エステル系
のフォートレノストが開発され実用化されているが、こ
のものQ:J:愛れた貯蔵安定性を有しているものの鴎
反応が充分でなく、現1家液と7してトリクレン、キル
ン、ケトン頑などの有機溶剤が会費であり、作条1員境
を害したり有機溶剤中毒などの問題がある。。
擾た、形成された膜が耐酸性に欠けるため現1破後、熱
処理を行なわなければならないという欠点も有(7てい
る1、猿境、公害の点から有機溶剤を使用せず、花薄ア
ルカリ性水浴液による現像方法においてもポリビニルア
ルコールを幹ポリマーとして用いてその側鎖にカルがキ
シル基と桂皮酸基を4人したものについて研究がなされ
ておるが、現像性は良好なものの耐敵性、耐アルカリ性
、耐水性のある光硬化膜が得られず、また感度の点でも
充分でないためこれまで実用化されるに至っていない。
処理を行なわなければならないという欠点も有(7てい
る1、猿境、公害の点から有機溶剤を使用せず、花薄ア
ルカリ性水浴液による現像方法においてもポリビニルア
ルコールを幹ポリマーとして用いてその側鎖にカルがキ
シル基と桂皮酸基を4人したものについて研究がなされ
ておるが、現像性は良好なものの耐敵性、耐アルカリ性
、耐水性のある光硬化膜が得られず、また感度の点でも
充分でないためこれまで実用化されるに至っていない。
シルカ7’)変性プタノエ/感元性樹脂に関しては既に
特公昭54−15789に示されており、従来のポリビ
ニルアルコール¥感光性樹脂の有する暗反応、1iI4
酸、耐アルカリ性等の欠点を改良した樹脂ではあるが、
感光性樹脂液を支持板に塗布し乾燥した場合、形成被膜
の表面粘着性が大でネガフィルムとの作業性の点で充分
でなく、”また希薄アルカリ性水冶液による現像が容易
に出来るものが得られるに至っておらず、未だ改良の余
地を残しているものであった。
特公昭54−15789に示されており、従来のポリビ
ニルアルコール¥感光性樹脂の有する暗反応、1iI4
酸、耐アルカリ性等の欠点を改良した樹脂ではあるが、
感光性樹脂液を支持板に塗布し乾燥した場合、形成被膜
の表面粘着性が大でネガフィルムとの作業性の点で充分
でなく、”また希薄アルカリ性水冶液による現像が容易
に出来るものが得られるに至っておらず、未だ改良の余
地を残しているものであった。
本発明者らはこれらの問題点を解決すべく鋭意検討した
結果、本発明に到達した。
結果、本発明に到達した。
本発明の目的は、形成被膜の表面粘着性のない1−かも
布博−fルh IJ注水溶液で容易に現像が出来、作業
性に後れtc ha光光性樹脂金提供すること。
布博−fルh IJ注水溶液で容易に現像が出来、作業
性に後れtc ha光光性樹脂金提供すること。
さらにもう一つの目的は、高感匿と広い感光波長域會・
1し、漬れた耐敵性を持ち、E2かも合成が容易で安価
である感光性樹脂を提供することにある。。
1し、漬れた耐敵性を持ち、E2かも合成が容易で安価
である感光性樹脂を提供することにある。。
すなわち、本56明は
1 数平均分子はが2U O〜20.00(1、重合体
鎖の、i。
鎖の、i。
屯−条以−Lがゲタツエン単位であるシタジエン系・j
5リマーの一東結合のうち、30〜100徂i襲を水酸
基1個゛よ/こtよ2個以上を持つシルカゾト化合物の
1独′または2#1以上の化合物でシルカプト変性し、
尋人された水酸基を介して該水酸基のム)〜80虫11
(・メにカルノ1?キシル基を有し、かつ該水酸基の1
10〜20φに感光基を有するシルカプト変性・メリノ
゛タノエノ系感光性樹脂。
5リマーの一東結合のうち、30〜100徂i襲を水酸
基1個゛よ/こtよ2個以上を持つシルカゾト化合物の
1独′または2#1以上の化合物でシルカプト変性し、
尋人された水酸基を介して該水酸基のム)〜80虫11
(・メにカルノ1?キシル基を有し、かつ該水酸基の1
10〜20φに感光基を有するシルカプト変性・メリノ
゛タノエノ系感光性樹脂。
2、故平均分子厄が200〜20.000、継合体珀の
710ボ)f %以トかゲタツエン学位であるブタジェ
ン糸ポ゛リマーの二!1i結合のうち1,30〜100
継μ条を水酸基I11.′4′まlcは2閲以上持つシ
ルカプト化合物の1棟または2種以上の化合物でメルカ
プト変性した俵、導入された水酸基に酸無水物を反応せ
しめ、次いで残在する水酸基または生成するカルンIζ
ギシル基と反応する官能基を有し、かつ感光基を有する
化合物とを反応せしめ、導入された水酸基の70〜80
重#i条にカルボキシル基とン30〜20%に感光基を
導入することを特徴とするシルカフ0ト変性ポリブタノ
エン系感光性樹脂の製造法。
710ボ)f %以トかゲタツエン学位であるブタジェ
ン糸ポ゛リマーの二!1i結合のうち1,30〜100
継μ条を水酸基I11.′4′まlcは2閲以上持つシ
ルカプト化合物の1棟または2種以上の化合物でメルカ
プト変性した俵、導入された水酸基に酸無水物を反応せ
しめ、次いで残在する水酸基または生成するカルンIζ
ギシル基と反応する官能基を有し、かつ感光基を有する
化合物とを反応せしめ、導入された水酸基の70〜80
重#i条にカルボキシル基とン30〜20%に感光基を
導入することを特徴とするシルカフ0ト変性ポリブタノ
エン系感光性樹脂の製造法。
ふ 数平均分子量200〜20,000、重合体鎖の!
10チ以上がブタノエン単位であるブタジェン系ポリマ
ーの二重結合のうち(資)〜i00重量%を水酸基1個
または2個以上を持つシルカプト化合物の1種また1l
Si2種以上の化合物でシルカプト変性1〜、尋人され
た水酸基を介して該水酸基の20〜80重量%にカル+
jPキシル基を有し、かつ該水酸基の80〜20重量%
に感光基を有するシルカシト変性ポリブタジェン系感光
性樹脂と増感剤および添加剤からなる感光性樹脂組成物
であシ、前述の特公昭54−15789号における感光
性樹脂は、メルカプト化性・1セリゲタツエン樹お旨に
感光基のみを尋人しtcものであるが、これに対して本
件発明の特敢はメルカプト化性ポリブタノエン樹脂に、
カル11ζキ/ル基とム&光基の両者を、尋人したこと
である。か\るカル11ζキ/ル基を2坏人したことに
より、六面枯盾性が改良され、アルカ・り現詠1住が向
−L、 l/ fc nさらに光硬化膜の1唱酸性を著
るしく改良させることが可能になった。
10チ以上がブタノエン単位であるブタジェン系ポリマ
ーの二重結合のうち(資)〜i00重量%を水酸基1個
または2個以上を持つシルカプト化合物の1種また1l
Si2種以上の化合物でシルカプト変性1〜、尋人され
た水酸基を介して該水酸基の20〜80重量%にカル+
jPキシル基を有し、かつ該水酸基の80〜20重量%
に感光基を有するシルカシト変性ポリブタジェン系感光
性樹脂と増感剤および添加剤からなる感光性樹脂組成物
であシ、前述の特公昭54−15789号における感光
性樹脂は、メルカプト化性・1セリゲタツエン樹お旨に
感光基のみを尋人しtcものであるが、これに対して本
件発明の特敢はメルカプト化性ポリブタノエン樹脂に、
カル11ζキ/ル基とム&光基の両者を、尋人したこと
である。か\るカル11ζキ/ル基を2坏人したことに
より、六面枯盾性が改良され、アルカ・り現詠1住が向
−L、 l/ fc nさらに光硬化膜の1唱酸性を著
るしく改良させることが可能になった。
本発明の感光性樹脂の骨格となる数平均分子縫200な
いし20.(用07’タソエン系ボリマーハ、ラジカル
重合、カナオン徂合、炭化水素溶媒中でのすトリウム、
リチウム触媒による止金、有機すナクムを1史用する重
合、配位アニオン重合、父はテトラヒドロフランの如き
ルイス塩基と金属アルカリとからなる触媒によるアニオ
ンリビング重合等により’J’i漬されるが、微細な梢
IWの高い画像を得る為の祠科の均質性が会費な感光性
樹脂という性′aを考慮して、fニオンリビング爪合に
より得られる;) :1−bA分布q−> rlJが狭
いものが好ましい。例えば次の株にし−Cd散される。
いし20.(用07’タソエン系ボリマーハ、ラジカル
重合、カナオン徂合、炭化水素溶媒中でのすトリウム、
リチウム触媒による止金、有機すナクムを1史用する重
合、配位アニオン重合、父はテトラヒドロフランの如き
ルイス塩基と金属アルカリとからなる触媒によるアニオ
ンリビング重合等により’J’i漬されるが、微細な梢
IWの高い画像を得る為の祠科の均質性が会費な感光性
樹脂という性′aを考慮して、fニオンリビング爪合に
より得られる;) :1−bA分布q−> rlJが狭
いものが好ましい。例えば次の株にし−Cd散される。
リーフタリン、1,2−ソフェニルベンゼンのような芳
香族炭化水素活性化剤の存在下にテトラヒドロフランの
ようeルイス塩基形化合物及びリチウム、ナトリウムの
ようなアルカリ金属を含む系にブタノエン又はブタジェ
ンと希釈剤より成る混合物を添加して生成する重合反応
混合液を水、メタノール、鉛酸のような活性水素を持つ
試剤で処理すればブタジェンホモポリマーが得られ、上
記の系にスチレンのようなコモノマーとビタヅエン又は
これらと希釈剤より成る混合物とを同時又は遂次に添加
して生成する重合反応混合液を活性水素を持つ試剤で処
理すればブタジェンコポリマーが得られる。
香族炭化水素活性化剤の存在下にテトラヒドロフランの
ようeルイス塩基形化合物及びリチウム、ナトリウムの
ようなアルカリ金属を含む系にブタノエン又はブタジェ
ンと希釈剤より成る混合物を添加して生成する重合反応
混合液を水、メタノール、鉛酸のような活性水素を持つ
試剤で処理すればブタジェンホモポリマーが得られ、上
記の系にスチレンのようなコモノマーとビタヅエン又は
これらと希釈剤より成る混合物とを同時又は遂次に添加
して生成する重合反応混合液を活性水素を持つ試剤で処
理すればブタジェンコポリマーが得られる。
前記製造方法においてブタジェンコポリマーに用いられ
るコモノマーとしてはスチレンの他にアクリロニトリル
、アクリル酸エチル、メタアクリルVメチル、メチルビ
ニルケトン、a−メチルスチレンなどを使用し得るがス
チレンが最も好ましい、父上記ブタノエンポリマーの末
端に官能基を導入することを望む場合には前記ブタジェ
ンホモポリマーまたはコポリマーの製造過程において、
重合反応混合液を友々1式化エチレンもしくは二酸化炭
素のよつな親電子試削で処理すれば良く、夫夫ヒドロキ
シル基もしくはカルボキシル基を有するフ゛タノエノ小
七・Iヒリマー°またはコs5 IJマーカ得られる。
るコモノマーとしてはスチレンの他にアクリロニトリル
、アクリル酸エチル、メタアクリルVメチル、メチルビ
ニルケトン、a−メチルスチレンなどを使用し得るがス
チレンが最も好ましい、父上記ブタノエンポリマーの末
端に官能基を導入することを望む場合には前記ブタジェ
ンホモポリマーまたはコポリマーの製造過程において、
重合反応混合液を友々1式化エチレンもしくは二酸化炭
素のよつな親電子試削で処理すれば良く、夫夫ヒドロキ
シル基もしくはカルボキシル基を有するフ゛タノエノ小
七・Iヒリマー°またはコs5 IJマーカ得られる。
/タノエン糸月ずリマーの数乎均分子鼠を200から2
o、()Ooと限定したのは、分子鼠が200以下でt
よ、jセリツタツエンと]7ての特徴の一つである耐V
性が低重する2F(:あり父20,000以上では粘度
が高い為に、反応、作未時に於ける取扱いが困難となる
為である 又さらに口り合体鎮の・lO襲以上がブタノ
エン嚇位で’ttJi成されている事は、メルカプト化
を付加田(〜める/こめに@喪な因子の一つである。。
o、()Ooと限定したのは、分子鼠が200以下でt
よ、jセリツタツエンと]7ての特徴の一つである耐V
性が低重する2F(:あり父20,000以上では粘度
が高い為に、反応、作未時に於ける取扱いが困難となる
為である 又さらに口り合体鎮の・lO襲以上がブタノ
エン嚇位で’ttJi成されている事は、メルカプト化
を付加田(〜める/こめに@喪な因子の一つである。。
プタノエノ丞示すマーと反応せしめるヒドロキシル駒を
有するメルカプト化合物としてはメルカソトメチルーr
ルコール、ノルカフ0トエチルアルコール4−ヒト(コ
キシーlλ−]゛ナルメルカプタン、ノメチロールシル
カノタン、2,2−ノメナロール・エチルシルカノ°タ
ン、3,3.3− ) IJメナロールグロビルメシル
ノ0タン、七ノエタノールアミンテオグリコレート、1
−チオグリセロール等がある。
有するメルカプト化合物としてはメルカソトメチルーr
ルコール、ノルカフ0トエチルアルコール4−ヒト(コ
キシーlλ−]゛ナルメルカプタン、ノメチロールシル
カノタン、2,2−ノメナロール・エチルシルカノ°タ
ン、3,3.3− ) IJメナロールグロビルメシル
ノ0タン、七ノエタノールアミンテオグリコレート、1
−チオグリセロール等がある。
ブタジェン系ポリマーとヒドロキシル基を有するメルカ
プト化合物との反応は、室温ないし120℃にて容易に
進行し、反応触媒でも又有機過酸化物を使用する事もで
きる。反Gm媒としてはメチルエチルケトン、ツメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ノオキサン、テ
トラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、ギシレン等ヲ
用いル事が出来る。
プト化合物との反応は、室温ないし120℃にて容易に
進行し、反応触媒でも又有機過酸化物を使用する事もで
きる。反Gm媒としてはメチルエチルケトン、ツメチル
ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ノオキサン、テ
トラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、ギシレン等ヲ
用いル事が出来る。
ブタノエン系ポリマーに対するヒドロキシル基を有する
メルカプト化合物の緻は、希望する感光性を得るための
ブタノエン系ポリマーに導入スるヒドロキシル基の数に
より異なるが、希薄アルカリ水溶液で現像可能にするた
めにはブタツエン系ポリマーの二重結合のうち、30〜
100チが導入されるような量が選ばれる。
メルカプト化合物の緻は、希望する感光性を得るための
ブタノエン系ポリマーに導入スるヒドロキシル基の数に
より異なるが、希薄アルカリ水溶液で現像可能にするた
めにはブタツエン系ポリマーの二重結合のうち、30〜
100チが導入されるような量が選ばれる。
−また、反応に際し、ポリプタソエ/系ポリ−f −の
二重結合のうち60チ程度まで導入する場合には、メル
カプト化合物はほぼ等量的にブタジェン系ポリマーに付
加するので、等モルで良く、また60〜100≠尋人す
る揚台には反応が進行しにくくなるため、シルカ/1・
化合物をほぼ1.2〜1.5倍量以上使用することが望
゛ましい。
二重結合のうち60チ程度まで導入する場合には、メル
カプト化合物はほぼ等量的にブタジェン系ポリマーに付
加するので、等モルで良く、また60〜100≠尋人す
る揚台には反応が進行しにくくなるため、シルカ/1・
化合物をほぼ1.2〜1.5倍量以上使用することが望
゛ましい。
触媒で必る1」伎過酸化物とじ−Cはノアンルノヤーオ
ギザイド頌、例えば過絃化ベンゾイル、2.4−ノクロ
ル過酸化ベンゾイル、オクタノイル/4’−オギツ°イ
1゛、ラウロイルノゼーオキサイドなど、ジアルキルパ
ーオキサイ19類、例えばノー第3プチルパーオギザイ
1゛、ツクミールパーオキサイド、2.5−ツメチル−
2,5−ジ(t−ブチル)や−オキシ)ヘギザンなど、
ノセーエステル類、例えは第;ウシチルie−ベンゾエ
ート、%:3ブチルパー了セデート、ノー第3ゾチルノ
?−フタレート、2,5−ツメチル−2,5−ノ(ペン
ゾイルノ9−オキン)へキザ7など、ケトン・ぐ−オギ
ザイド類、例えばメナルエナルケトンノ9−オキサイド
、シクロヘキサノン、e−オキサイドなど、ノ\イドロ
パーオギサイド類、飼えばバー1 t″′′ロノ々キサ
イド、クメンハイドロノゼーオキFJ−(+’、a−フ
ェニルエテルノ1イドロノに一オキリーイド、第3/チ
ルハイドロパーオキサイドなど、およびこれらの混合物
が適当である。
ギザイド頌、例えば過絃化ベンゾイル、2.4−ノクロ
ル過酸化ベンゾイル、オクタノイル/4’−オギツ°イ
1゛、ラウロイルノゼーオキサイドなど、ジアルキルパ
ーオキサイ19類、例えばノー第3プチルパーオギザイ
1゛、ツクミールパーオキサイド、2.5−ツメチル−
2,5−ジ(t−ブチル)や−オキシ)ヘギザンなど、
ノセーエステル類、例えは第;ウシチルie−ベンゾエ
ート、%:3ブチルパー了セデート、ノー第3ゾチルノ
?−フタレート、2,5−ツメチル−2,5−ノ(ペン
ゾイルノ9−オキン)へキザ7など、ケトン・ぐ−オギ
ザイド類、例えばメナルエナルケトンノ9−オキサイド
、シクロヘキサノン、e−オキサイドなど、ノ\イドロ
パーオギサイド類、飼えばバー1 t″′′ロノ々キサ
イド、クメンハイドロノゼーオキFJ−(+’、a−フ
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ルハイドロパーオキサイドなど、およびこれらの混合物
が適当である。
前記方法でもって得られる水酸基を有するブタジェン系
、J?リマーにさらに酸無水物を反応せしめカルがキシ
ル基を導入する際、用いられる酸無水物基を有する化合
物としては無水フタール酸、無水マレイン酸、無水イタ
コン酸、無水コノ1り酸、77 トラ−9,10−Jハ
イドロ−α、β−無水コノ飄り酸、無水テトラハイドロ
フタル酸、無水5−ノルボルネン−2,3−ソカルボン
濱、無水テトラクロルフタル酸、無水トリメリット1波
、無水マレイン咳−ロジン樹脂等があり、これらの1橿
または2橿以上をuF用して用いることができる。反応
は水酸基と酸無水物基のハ了フエステル化反応によって
行なわれカルはキシル基が導入される。
、J?リマーにさらに酸無水物を反応せしめカルがキシ
ル基を導入する際、用いられる酸無水物基を有する化合
物としては無水フタール酸、無水マレイン酸、無水イタ
コン酸、無水コノ1り酸、77 トラ−9,10−Jハ
イドロ−α、β−無水コノ飄り酸、無水テトラハイドロ
フタル酸、無水5−ノルボルネン−2,3−ソカルボン
濱、無水テトラクロルフタル酸、無水トリメリット1波
、無水マレイン咳−ロジン樹脂等があり、これらの1橿
または2橿以上をuF用して用いることができる。反応
は水酸基と酸無水物基のハ了フエステル化反応によって
行なわれカルはキシル基が導入される。
水酸基と酸無水物のハーフェステル化反応は、溶媒を用
いて無触媒または触媒存在下で行なわれるが、用いられ
る溶媒としてそれ自身で触媒作用をも備えているピリノ
ンの他、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
セロソルブアセテ−ト、N−メチルピロリドン、)10
ダン化炭化水素ゆを用いることができる。
いて無触媒または触媒存在下で行なわれるが、用いられ
る溶媒としてそれ自身で触媒作用をも備えているピリノ
ンの他、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メ
チルエチルケトン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
セロソルブアセテ−ト、N−メチルピロリドン、)10
ダン化炭化水素ゆを用いることができる。
エステル化反応触媒とし7て、ビリ゛シン1 ピリコン
、/L/ チノン、]・リエナルアミン等の第三級アミ
ンがl1il当であるがこれらの曲アルカリも用いるこ
とができる1、 土だ反応&−1、++rt)〜150’Cr晶IWで容
易に行なうことができる3、 次いで一部筏任した水酸基を有する71曾リプタツエン
糸ポリマーVす&光基を邦人する反応は一水醒ノルにカ
ルがニルクロライド基、j厘化スルホニル基、スルホン
Va、γルデヒド基、カルンJ?キシル、!]す、酸無
水物ノー;、或はイソシアネート2基を有し、かつアク
リロイル店、アット基、シンナミリデン基、シアノシン
ナミリデン基、シンナモイル基を有する化合物を反応せ
しめ、水酸基とカルyrpニルクロクイドa!、l1化
スルホニル基、スルホン「1g、アルIヒト基、カル・
1ζキシル基或はば無水物基、とのエステル化反応およ
び水rR4とイソシアネート基とのウレタン化反影6に
より結合させて導入する。
、/L/ チノン、]・リエナルアミン等の第三級アミ
ンがl1il当であるがこれらの曲アルカリも用いるこ
とができる1、 土だ反応&−1、++rt)〜150’Cr晶IWで容
易に行なうことができる3、 次いで一部筏任した水酸基を有する71曾リプタツエン
糸ポリマーVす&光基を邦人する反応は一水醒ノルにカ
ルがニルクロライド基、j厘化スルホニル基、スルホン
Va、γルデヒド基、カルンJ?キシル、!]す、酸無
水物ノー;、或はイソシアネート2基を有し、かつアク
リロイル店、アット基、シンナミリデン基、シアノシン
ナミリデン基、シンナモイル基を有する化合物を反応せ
しめ、水酸基とカルyrpニルクロクイドa!、l1化
スルホニル基、スルホン「1g、アルIヒト基、カル・
1ζキシル基或はば無水物基、とのエステル化反応およ
び水rR4とイソシアネート基とのウレタン化反影6に
より結合させて導入する。
また、シルカノト変性した水酸基を有するブタノエン系
ポリマーに酸無水物を反応させ、生成するカルがキシル
基に感光基を尋人する反応はカルがキシル基にグリシジ
ル基、アミド基、イソシアネート基、或は水酸基を有し
、かつアクリロイル基、アジド基、シンナミリデン基、
シアノシンナミリデン基、或はシンナモイル基を有する
化合物を反応せしめ、カル+’lζキシル基とグリシジ
ル基のミ エステル化反応、カルボキシル基とアジド基およびカル
ボキシル基とインシアネート基との酸アミ1”反応によ
り結合させて尋人する。
ポリマーに酸無水物を反応させ、生成するカルがキシル
基に感光基を尋人する反応はカルがキシル基にグリシジ
ル基、アミド基、イソシアネート基、或は水酸基を有し
、かつアクリロイル基、アジド基、シンナミリデン基、
シアノシンナミリデン基、或はシンナモイル基を有する
化合物を反応せしめ、カル+’lζキシル基とグリシジ
ル基のミ エステル化反応、カルボキシル基とアジド基およびカル
ボキシル基とインシアネート基との酸アミ1”反応によ
り結合させて尋人する。
これらの反応は一般方法で行なわれ、そのうちエステル
化反応が最も良く利用される。エステル化反応の溶媒と
しては、それ自身で触媒作用をも備えているピリジンの
他、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチル
エチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、セロソルブ
アセテート、N−メチルピロリドン、ノーロダン化炭化
水素等を用いる事が出来る。エステル化反応触媒として
は、ビリソン、ピコリン、ルチジン、トリエチルアミン
、 N −Nジメチルペンデルアミン等の第三級アミン
が1虎当であるが、これらのほかアルカリも用いる・」
tが出来る。また反応tIA度は、アルカリ触媒を用い
る場合には、アルカリ水による好まL <ないケン化反
L6を避ける為に室温以下好ましくは0℃以下が虐当で
あり、その曲の」場合には4温ないり、 12+3 ’
Cが好まし、い、1−まだ反応の隙、ハイドロギノン系
の出合触媒が必要にLI、lじてI;15ノ111され
る。
化反応が最も良く利用される。エステル化反応の溶媒と
しては、それ自身で触媒作用をも備えているピリジンの
他、アセトン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチル
エチルケトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン、セロソルブ
アセテート、N−メチルピロリドン、ノーロダン化炭化
水素等を用いる事が出来る。エステル化反応触媒として
は、ビリソン、ピコリン、ルチジン、トリエチルアミン
、 N −Nジメチルペンデルアミン等の第三級アミン
が1虎当であるが、これらのほかアルカリも用いる・」
tが出来る。また反応tIA度は、アルカリ触媒を用い
る場合には、アルカリ水による好まL <ないケン化反
L6を避ける為に室温以下好ましくは0℃以下が虐当で
あり、その曲の」場合には4温ないり、 12+3 ’
Cが好まし、い、1−まだ反応の隙、ハイドロギノン系
の出合触媒が必要にLI、lじてI;15ノ111され
る。
Jすする感光)I(4−、4人する反応に用いられるシ
ンナモイル系・を有する化合′l勿の具体例と1〜では
、ケイ皮酸、ケイ皮I・+1.りr1ライド、P−フェ
ニレンノアクリル酸りDライド寺3、シンナミリデン基
を・イする化訃物とL −C&−1:ンンナミリデン酢
酸、シンナミリIンl!l’ロ挾クロライl’ V o
シアノシンナミリデン基4・有する化自−物としてe
、t 、 シ゛rノシンナミリデン匪醒クロライ1″”
:P Llアクリロイル基を有する化合物と[7て61
: ’fクリルrd 、アクリル醍クロライド、メタア
クリル+1λグリシツルエステル等。アジド基を有する
化合物としては、アット安息香酸、p−アジドベンゾイ
ルクロライド、3−アジド無水フタルtt、m−アジド
ペンツアルデヒド、ホルミル−1−ナフチルアット、ア
ジドスルホニルベンゾイルクロライド、アジド1ノフエ
ニルアミンスルホン酸、P−イソシアネ−)ベンゼンス
ルホニルアジド、2−クロロ−5−アジドスルボニルフ
ェニルイソシアネート等がある、。
ンナモイル系・を有する化合′l勿の具体例と1〜では
、ケイ皮酸、ケイ皮I・+1.りr1ライド、P−フェ
ニレンノアクリル酸りDライド寺3、シンナミリデン基
を・イする化訃物とL −C&−1:ンンナミリデン酢
酸、シンナミリIンl!l’ロ挾クロライl’ V o
シアノシンナミリデン基4・有する化自−物としてe
、t 、 シ゛rノシンナミリデン匪醒クロライ1″”
:P Llアクリロイル基を有する化合物と[7て61
: ’fクリルrd 、アクリル醍クロライド、メタア
クリル+1λグリシツルエステル等。アジド基を有する
化合物としては、アット安息香酸、p−アジドベンゾイ
ルクロライド、3−アジド無水フタルtt、m−アジド
ペンツアルデヒド、ホルミル−1−ナフチルアット、ア
ジドスルホニルベンゾイルクロライド、アジド1ノフエ
ニルアミンスルホン酸、P−イソシアネ−)ベンゼンス
ルホニルアジド、2−クロロ−5−アジドスルボニルフ
ェニルイソシアネート等がある、。
感光基を有する化合物としては種々あるが、中でもアク
リロイル基を有する化合物の使用がJ漢の表面貼層性、
感度の点で有利である。
リロイル基を有する化合物の使用がJ漢の表面貼層性、
感度の点で有利である。
これらの反応によって導入されるカルボキシル基、感光
基の導入曽は、シタツエン系ポリマーの骨格に導入され
た水酸基の」〜80ボ址チにカルボキシル基と80〜2
0電1%に感光基を有するように尋人される。
基の導入曽は、シタツエン系ポリマーの骨格に導入され
た水酸基の」〜80ボ址チにカルボキシル基と80〜2
0電1%に感光基を有するように尋人される。
カルボキシル基が下限以下であると、希薄アルカリ水溶
液での現像性が低下し、また形成膜の表面粘着性が強く
、逆に上限以上であると感度が低下する。
液での現像性が低下し、また形成膜の表面粘着性が強く
、逆に上限以上であると感度が低下する。
カルボキシル基と感光基の比率において、カルン」クギ
シル基の多い方が希薄アルカリ水溶液現像性が向、Iニ
I7、mit を實性が向上する。
シル基の多い方が希薄アルカリ水溶液現像性が向、Iニ
I7、mit を實性が向上する。
感光基の多い方が感層が旨いという両者の関係全考慮し
、感光1/I・樹脂の用途に応じて適宜決定される1゜ 本発明で得られた1函光性樹脂は、形成液1摸の表面枯
7a性のない、しかも楯薄アルカリ性水溶欣で現1埃が
デメ易に出来、尚!楢)側と1酎r役性を有している。
、感光1/I・樹脂の用途に応じて適宜決定される1゜ 本発明で得られた1函光性樹脂は、形成液1摸の表面枯
7a性のない、しかも楯薄アルカリ性水溶欣で現1埃が
デメ易に出来、尚!楢)側と1酎r役性を有している。
この理由&1.7タノエン系、7リマーの骨格に−f
ルカリ水浴性基と感光Jltの摺度を高めるため、水酸
基を有するシルカゾト化合物を反応して得られるシルカ
ノト変j、;p 、Jfす/タジエンの該水酸基を介し
てカル・j?クギシル基尋人したこと、また同時に多計
の感光基を尋人12だことにある。
ルカリ水浴性基と感光Jltの摺度を高めるため、水酸
基を有するシルカゾト化合物を反応して得られるシルカ
ノト変j、;p 、Jfす/タジエンの該水酸基を介し
てカル・j?クギシル基尋人したこと、また同時に多計
の感光基を尋人12だことにある。
本発明のjIt&毘1生樹脂はそれ自身では感度が低い
場合がめり、111常1更用に当っては増感剤が加えら
れる。1感jllの請願itと(,7ては、l函光性樹
脂に対しfl、01〜.5()φ好企しくは3〜15チ
程度添加される。
場合がめり、111常1更用に当っては増感剤が加えら
れる。1感jllの請願itと(,7ては、l函光性樹
脂に対しfl、01〜.5()φ好企しくは3〜15チ
程度添加される。
増感剤の具体的化合物としては、シンナモイル基、シン
ナミリデン基を感光基とする場合には、1,5−ジニト
ロアントラキノン、アントラキノン、1.2−ペンザン
トラキノン、5−ベンゾイルアセナフテン、5−ニトロ
アセナフテン、1,8−7タロイルナフタリン、2−ニ
トロフルオレン、2,6−ビス(P−エチルフェニル)
−4−(P−n−アミロキシフェニル)チアビリリウム
ノや−クロレート、p、p’−テトラメチル、ジアミノ
ベンゾフェノン(ミヒラーズケトン) 、2+4+6−
) りアニシルピリリウムパークロレート、エリスロ
シン、ローダミンB等。アクリロイル基を感光基とする
場合には、ベンゾイルアルキルエーテル、チオキサント
ン類、ミヒラーズケトン、ジターシャリブチルパーオギ
サイド、ジペンゾチアゾールノスルフィド、トリノロモ
アセトフエノン等。アシド基を感光基とする場合には、
アセナフテン、ピレン、アクリドン、アントラキノン、
a−ナフトキノン、ミヘラ〜ズ/y−トy、P−ニトロ
アニリン、5−ニトロアセナフテン、2−ニトロフルオ
レン、1−ニトロピレン、1.2−ペンザントラキノン
、1,8−フタロイルナフタリン、9−フルオレノン、
ジフェニルノスルフ(’l’、P−ニトロベンツアルデ
ヒド、ローダミンB 、 2,4.6−ドリアニシル
ピリリウム・せ−クロ【/−ト、2,4.6−ト+)フ
ェニルピリリウムパークロレー1−14−(4−エトギ
シフェニル) −2,ti −ノフェニルe IJ l
) +7ムノヤークロレート、4− (−1−エトギシ
フェニル) −2,6−ノフェニルビリリウム・セータ
ロレー)、4−(2,4−ツク(lロノエニル) −2
,6−ノフエニルピリリウム・ゼークロ17〜1・、2
,4.6− )リフェニルチアげリリウム・ゼータ1」
レート、4−(4−メトギシフェニル) −21+)−
ノフエニルナアピリリウムノゼークロレ−1・、fi
−(4−メトキシノエニル)=2.4−ノノエニルチア
ピリリウムパークロレート、2+ 4.6− トリフr
−ニルチアピリリウムフルA・1ビレート、2,6−ビ
ス(4−エチルフェニル)−4−(・1−メトキシソ:
Lニル)チアピリリウムノを一りロレニト号が用いられ
る。
ナミリデン基を感光基とする場合には、1,5−ジニト
ロアントラキノン、アントラキノン、1.2−ペンザン
トラキノン、5−ベンゾイルアセナフテン、5−ニトロ
アセナフテン、1,8−7タロイルナフタリン、2−ニ
トロフルオレン、2,6−ビス(P−エチルフェニル)
−4−(P−n−アミロキシフェニル)チアビリリウム
ノや−クロレート、p、p’−テトラメチル、ジアミノ
ベンゾフェノン(ミヒラーズケトン) 、2+4+6−
) りアニシルピリリウムパークロレート、エリスロ
シン、ローダミンB等。アクリロイル基を感光基とする
場合には、ベンゾイルアルキルエーテル、チオキサント
ン類、ミヒラーズケトン、ジターシャリブチルパーオギ
サイド、ジペンゾチアゾールノスルフィド、トリノロモ
アセトフエノン等。アシド基を感光基とする場合には、
アセナフテン、ピレン、アクリドン、アントラキノン、
a−ナフトキノン、ミヘラ〜ズ/y−トy、P−ニトロ
アニリン、5−ニトロアセナフテン、2−ニトロフルオ
レン、1−ニトロピレン、1.2−ペンザントラキノン
、1,8−フタロイルナフタリン、9−フルオレノン、
ジフェニルノスルフ(’l’、P−ニトロベンツアルデ
ヒド、ローダミンB 、 2,4.6−ドリアニシル
ピリリウム・せ−クロ【/−ト、2,4.6−ト+)フ
ェニルピリリウムパークロレー1−14−(4−エトギ
シフェニル) −2,ti −ノフェニルe IJ l
) +7ムノヤークロレート、4− (−1−エトギシ
フェニル) −2,6−ノフェニルビリリウム・セータ
ロレー)、4−(2,4−ツク(lロノエニル) −2
,6−ノフエニルピリリウム・ゼークロ17〜1・、2
,4.6− )リフェニルチアげリリウム・ゼータ1」
レート、4−(4−メトギシフェニル) −21+)−
ノフエニルナアピリリウムノゼークロレ−1・、fi
−(4−メトキシノエニル)=2.4−ノノエニルチア
ピリリウムパークロレート、2+ 4.6− トリフr
−ニルチアピリリウムフルA・1ビレート、2,6−ビ
ス(4−エチルフェニル)−4−(・1−メトキシソ:
Lニル)チアピリリウムノを一りロレニト号が用いられ
る。
±1C11へ尤材+−1にラソカル架倫の為の有哉過酸
化物、映比泥(匡削、重合防+h剤、金属、ガラスとの
接着性向上の為のシランカッシリング剤、ビニルモノマ
ー、着色剤、充填剤および他のポリマーを混合使用して
も差[一つかえないし、残存”の二重結合を電子線硬化
しても差しつかえない。また、得られた感光材料を支持
体に塗布1−だ除表面粘着性が強すさ゛るとネガフィル
ムの密層作業が困難になる場合があり、その場合は感光
性、支持体との接着性、現像性、感光硬化後の樹脂の諸
性質を低下させない棟頬及び址の常温で固体の池のポリ
マーを加えると上記粘着性が改善される1、好ましい他
のポリマーとしては、ヒドロギシノロビルセルロース、
ポリヒドロキシスチレン、スチレン−マレイン酸共重合
体、ロジン−無水マレイン酸樹脂、イタコン酸誘導体と
ビニルトルエンの共厘合体、石油樹脂或はエポキシ樹脂
のアルカリ水可溶性誘導体等がある。
化物、映比泥(匡削、重合防+h剤、金属、ガラスとの
接着性向上の為のシランカッシリング剤、ビニルモノマ
ー、着色剤、充填剤および他のポリマーを混合使用して
も差[一つかえないし、残存”の二重結合を電子線硬化
しても差しつかえない。また、得られた感光材料を支持
体に塗布1−だ除表面粘着性が強すさ゛るとネガフィル
ムの密層作業が困難になる場合があり、その場合は感光
性、支持体との接着性、現像性、感光硬化後の樹脂の諸
性質を低下させない棟頬及び址の常温で固体の池のポリ
マーを加えると上記粘着性が改善される1、好ましい他
のポリマーとしては、ヒドロギシノロビルセルロース、
ポリヒドロキシスチレン、スチレン−マレイン酸共重合
体、ロジン−無水マレイン酸樹脂、イタコン酸誘導体と
ビニルトルエンの共厘合体、石油樹脂或はエポキシ樹脂
のアルカリ水可溶性誘導体等がある。
かかる4?リマーは、感光性樹脂との相溶性が良好であ
り、希薄アルカリ水に可溶であること、固体状ポリマー
であることが必要である。かかるポリマーの添加は感光
液粘度調整、形成被膜表面粘着性の改善、現詠件の改良
など、用途に応じた目的に合せて吠用される。
り、希薄アルカリ水に可溶であること、固体状ポリマー
であることが必要である。かかるポリマーの添加は感光
液粘度調整、形成被膜表面粘着性の改善、現詠件の改良
など、用途に応じた目的に合せて吠用される。
本発明によって得られた感光性樹脂tよ形成皮膜の表面
粘着のない、しかも希薄アルカリ性水溶液で現像が容易
に出来、高感度、と耐酸性を有し、作業性に冨む潰れた
感光性樹脂であり、合成も容易で安価である。また殊に
塩化第二鉄水溶液を腐食液として用いたJ)A合の耐食
膜として有効である。
粘着のない、しかも希薄アルカリ性水溶液で現像が容易
に出来、高感度、と耐酸性を有し、作業性に冨む潰れた
感光性樹脂であり、合成も容易で安価である。また殊に
塩化第二鉄水溶液を腐食液として用いたJ)A合の耐食
膜として有効である。
充分な露光全行なうことにより光硬化膜は耐酸性と同時
に耐アルカリ性も示すようになる。もちろん耐有磯溶ハ
リの性能も尚いから、この感光性樹脂はフォトレノスト
としての用途だけでなく、オフセット印刷版と1−での
28版やスクリーン印刷用の感光液あるいはレソストイ
ンギなどのように巾広い用途を有するものである。
に耐アルカリ性も示すようになる。もちろん耐有磯溶ハ
リの性能も尚いから、この感光性樹脂はフォトレノスト
としての用途だけでなく、オフセット印刷版と1−での
28版やスクリーン印刷用の感光液あるいはレソストイ
ンギなどのように巾広い用途を有するものである。
次に本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが
、これに限定されるものではない。以下部および俤は時
に断らない限り嬢駄基準である1、実施例1 攪拌器1.!16M、装置、副丁装置dをセットした三
ツロフラスコを用いて、数平均分子量1,390水酸基
価68.3 KOHmy/l 1 、2−ビニル含有f
f91,1%、1.4−トランス含有量8.9係の末端
に水酸基を有するポリブタノエングリコールよりなるブ
タジェン系ポリマー(日本曹達■製G−10(1(1)
1,000部をジオキサン1.000部に溶解し、三
ツロフラスコに仕込んだ後、約80℃に加熱した。
、これに限定されるものではない。以下部および俤は時
に断らない限り嬢駄基準である1、実施例1 攪拌器1.!16M、装置、副丁装置dをセットした三
ツロフラスコを用いて、数平均分子量1,390水酸基
価68.3 KOHmy/l 1 、2−ビニル含有f
f91,1%、1.4−トランス含有量8.9係の末端
に水酸基を有するポリブタノエングリコールよりなるブ
タジェン系ポリマー(日本曹達■製G−10(1(1)
1,000部をジオキサン1.000部に溶解し、三
ツロフラスコに仕込んだ後、約80℃に加熱した。
次いでシルカノトエチルアルコール1,050 部’t
”]ψへしながら1時間で滴下し、滴下終了後80℃で
7時間反応を続けた。反応終了後、2mmHtの真空就
で100℃×2時間未反応のシルヵゾトエチルアルコー
ルおよびジオキサ/を除去(7てl、 950部の反応
生成物[A−1〕を得た。この反応生成物(A−1)の
数平均分子量は2,750 、水酸基価は391 KO
Hψ′2であった。
”]ψへしながら1時間で滴下し、滴下終了後80℃で
7時間反応を続けた。反応終了後、2mmHtの真空就
で100℃×2時間未反応のシルヵゾトエチルアルコー
ルおよびジオキサ/を除去(7てl、 950部の反応
生成物[A−1〕を得た。この反応生成物(A−1)の
数平均分子量は2,750 、水酸基価は391 KO
Hψ′2であった。
次に攪拌器、還流水分離器滴下装置をセットした三ツロ
フラスコを用いて反応生成物(A−1)のシルカノトエ
タノール化ポリブタシェフ60部、ジオキサ760部、
無水フタル酸加部とを混合し、攪゛拌しながら加温をし
て反応温度115℃〜120 ’Cで2時間反応させた
後、加温を止めてジオキサ7800部とハイドロギノノ
0.3部とを加えた。
フラスコを用いて反応生成物(A−1)のシルカノトエ
タノール化ポリブタシェフ60部、ジオキサ760部、
無水フタル酸加部とを混合し、攪゛拌しながら加温をし
て反応温度115℃〜120 ’Cで2時間反応させた
後、加温を止めてジオキサ7800部とハイドロギノノ
0.3部とを加えた。
次に#温度を室温−まで下げて、アクリル酸クロライド
の40都をl向上しながら室温で5時間反応を続けた。
の40都をl向上しながら室温で5時間反応を続けた。
反応路−r後10時間放置してから反応物をItl t
のビーツノ−に移L、1屯縫多の水酸化ナトリウム水溶
液5tを加え5時間攪拌を続けた後、IO≠の塩酸で中
411 L ”C樹(盾分を沈殿させた。この沈殿物を
東めよく水洗し、暗所で空気乾燥さ亡た後、沈殿9勿約
8()部を・・イドロキノン0.2部を含むソオギーリ
゛ン800部に溶解し、30部の無水硫酸ソーダを加え
て1時間14拝した陵、濾過して感光性樹脂ch−t〕
の1(1%ノオギナン躊液ヲ8また。
のビーツノ−に移L、1屯縫多の水酸化ナトリウム水溶
液5tを加え5時間攪拌を続けた後、IO≠の塩酸で中
411 L ”C樹(盾分を沈殿させた。この沈殿物を
東めよく水洗し、暗所で空気乾燥さ亡た後、沈殿9勿約
8()部を・・イドロキノン0.2部を含むソオギーリ
゛ン800部に溶解し、30部の無水硫酸ソーダを加え
て1時間14拝した陵、濾過して感光性樹脂ch−t〕
の1(1%ノオギナン躊液ヲ8また。
実施例2〜15
実施例1で得られ/こ生成物CA −1)]のメシルカ
ン0トエタノール、j5 リプタツエンを用いて表1に
記載17た配aでもつ゛C実施例1と同様にl〜で、感
光性樹脂[R−1〜[R−15:]のIOチノオキサン
溶液f、得た。
ン0トエタノール、j5 リプタツエンを用いて表1に
記載17た配aでもつ゛C実施例1と同様にl〜で、感
光性樹脂[R−1〜[R−15:]のIOチノオキサン
溶液f、得た。
実施例15
実施例1と同様な方法で数平均分子量2,860、水酸
基価30−5 KOHmf/f 、 l 、 2−ビ
ニル含有量89.8チ、1.4− )ランス含有量1O
12%の末端に水酸基を有するポリブタジェングリコー
ルよりなるブタジェン系ポリマー(日本a達(鱒製G
−3000) 1,000部をソオキサン1,000部
に溶解シ、シルカソトエ〜 ナルアルコール1,020部を用いてシルカゾトエタノ
ール化反応を行ない、数平均分子量5,044 、水酸
基11111303 KOHダ/2の反応生成物(A−
2)を得た。
基価30−5 KOHmf/f 、 l 、 2−ビ
ニル含有量89.8チ、1.4− )ランス含有量1O
12%の末端に水酸基を有するポリブタジェングリコー
ルよりなるブタジェン系ポリマー(日本a達(鱒製G
−3000) 1,000部をソオキサン1,000部
に溶解シ、シルカソトエ〜 ナルアルコール1,020部を用いてシルカゾトエタノ
ール化反応を行ない、数平均分子量5,044 、水酸
基11111303 KOHダ/2の反応生成物(A−
2)を得た。
次に反応生成物(A−23のシルカゾトエタノール化1
1?リプタジエン加部、ノオキサ/60部、無水フター
ル酸10部とを混合し、攪拌しながら加温し゛C反応温
度115℃〜120℃で2時間反応させた後加温を止め
てビリノン400部、))イドロキノン0.2部とを加
えた。次いで温度を室温まで下げてP−アジドベンゾイ
ルクロライドの22部を滴下した。
1?リプタジエン加部、ノオキサ/60部、無水フター
ル酸10部とを混合し、攪拌しながら加温し゛C反応温
度115℃〜120℃で2時間反応させた後加温を止め
てビリノン400部、))イドロキノン0.2部とを加
えた。次いで温度を室温まで下げてP−アジドベンゾイ
ルクロライドの22部を滴下した。
次にν)び加温して温度を75℃まであげ、との温虻で
5時間反応を行なった。反応終了後室温に冷却1.た反
応’4!!lJ’f:水に投入して沈殿物を得た。この
沈殿物をよく水洗1−た鏝、冷暗所にて自然乾燥させて
感光性樹脂[R−16)を得た。
5時間反応を行なった。反応終了後室温に冷却1.た反
応’4!!lJ’f:水に投入して沈殿物を得た。この
沈殿物をよく水洗1−た鏝、冷暗所にて自然乾燥させて
感光性樹脂[R−16)を得た。
実施例17
実施例16において無水フタール酸のかわりに無水マレ
インIt ’0 部、P−アクトベンゾイルクロライド
のかわりにり゛イ皮酸りロライドΔ)部を用いて、他は
実施例10と同様に処理して感光性樹脂[R−17]を
得た。
インIt ’0 部、P−アクトベンゾイルクロライド
のかわりにり゛イ皮酸りロライドΔ)部を用いて、他は
実施例10と同様に処理して感光性樹脂[R−17]を
得た。
実施例18
実施例1に記載1〜だ方法で数平均分子=t 1,1(
10゜1.2−ビニル含有量90.5.1.4− )ラ
ンス汀有瀘9.5係の末端に官能基を有しないポリプタ
ノエ/よりなるツタツエン系ポリマー(日本1達■HB
−1000) 1,000部、ジオキサンi、ooo部
、シルヵノトエナルγルコール870部を用いてシルヵ
ゾトエタノール化反応を行ない、故平均分子蓋1,92
0゜水酸基価301 KOHray/fの反応生成物(
A−3]を得た。
10゜1.2−ビニル含有量90.5.1.4− )ラ
ンス汀有瀘9.5係の末端に官能基を有しないポリプタ
ノエ/よりなるツタツエン系ポリマー(日本1達■HB
−1000) 1,000部、ジオキサンi、ooo部
、シルヵノトエナルγルコール870部を用いてシルヵ
ゾトエタノール化反応を行ない、故平均分子蓋1,92
0゜水酸基価301 KOHray/fの反応生成物(
A−3]を得た。
次に実施例口)のシルカノトエタノール化ポリブタノエ
ン[: A−2]のかわりに上記反応生成物(:A−3
)al、:p−アジドベンゾイルクロライドのかわりに
シンナシリデン酢酸りロライド為部を用いた他は実施例
16と同様に処理して感光性樹脂〔u−1s〕を得た。
ン[: A−2]のかわりに上記反応生成物(:A−3
)al、:p−アジドベンゾイルクロライドのかわりに
シンナシリデン酢酸りロライド為部を用いた他は実施例
16と同様に処理して感光性樹脂〔u−1s〕を得た。
実施例19
攪拌器、還流水分離器、滴下装置をセットした三ツロフ
ラスコに実施例16で得られたシルカノトエタノール化
ポリツタジエン(A−2)20部と無水フタール酸6部
、無水マレイン酸6部とハイドロキノン0.05部、お
よびジオキサy30部を仕込んで110℃〜120℃で
2時間反応した。この反応物の中にグリシジルメタアク
リル酸エステル8部とN、N−ツメチルベンジルアミン
0.5部、ハイドロキノン()、1部、ソオギサン30
0部を加えて100℃で3時間反応を行なった。反応終
了後室温に冷却した反応物を水に投入して沈殿物を得た
。この沈殿物をよく水洗した後冷暗所にて自然乾燥させ
て感光性樹脂(R−19)を得た。
ラスコに実施例16で得られたシルカノトエタノール化
ポリツタジエン(A−2)20部と無水フタール酸6部
、無水マレイン酸6部とハイドロキノン0.05部、お
よびジオキサy30部を仕込んで110℃〜120℃で
2時間反応した。この反応物の中にグリシジルメタアク
リル酸エステル8部とN、N−ツメチルベンジルアミン
0.5部、ハイドロキノン()、1部、ソオギサン30
0部を加えて100℃で3時間反応を行なった。反応終
了後室温に冷却した反応物を水に投入して沈殿物を得た
。この沈殿物をよく水洗した後冷暗所にて自然乾燥させ
て感光性樹脂(R−19)を得た。
実施例(至)
実施例t9においてノルカフ0トエタノール化ポリ!タ
ジエン(A ・−2〕のかわりに(A−1)を用いた他
は全く同様に処理し7て感光性樹脂[R−20]を得た
。
ジエン(A ・−2〕のかわりに(A−1)を用いた他
は全く同様に処理し7て感光性樹脂[R−20]を得た
。
実施例21
実施例1に記載した方法で数平均分子け1,600.1
.2−ビニル含有量3%、l、4−トランス含有量29
%、l、4−シス含有i68%の末端に官能基を有しな
いポリlタフエンよりなるブタジェンポリマー(ヒュー
シスA(j、fi Po1yol Hulg 110
) l、QQQ部、ノオギサン1 、1)00 MB
、シルカノトエチルアルコール800部を用いてシルカ
ゾトエタノール化反応ヲ行ない、数平均分子bi2,7
90、水酸価31Q KOHり/lの反応生成物(A−
4)を得た。
.2−ビニル含有量3%、l、4−トランス含有量29
%、l、4−シス含有i68%の末端に官能基を有しな
いポリlタフエンよりなるブタジェンポリマー(ヒュー
シスA(j、fi Po1yol Hulg 110
) l、QQQ部、ノオギサン1 、1)00 MB
、シルカノトエチルアルコール800部を用いてシルカ
ゾトエタノール化反応ヲ行ない、数平均分子bi2,7
90、水酸価31Q KOHり/lの反応生成物(A−
4)を得た。
次に実施列lにおいて(:A−11のかわりに上記反し
ト;生成物[:A−4]を用いる他は全く同様に処JJ
! 1〜て感ノC性樹脂[)(−21)10チソオギサ
ン溶を夜を得た。。
ト;生成物[:A−4]を用いる他は全く同様に処JJ
! 1〜て感ノC性樹脂[)(−21)10チソオギサ
ン溶を夜を得た。。
実施例22
数平均分子1.1 :4.23(1、ブタノエン単位5
6チ、スチレン単位44チ、水酸基価28.1 KOH
’trq/yを有するブタノエン−スチレンランダムコ
ーポリマーよりなるシタジエン系ポリマー1.000部
、ジオキサン1.000部、シルカゾトエチルアルコー
ル540 部ヲ用いてシルカゾトエタノール化反応を行
ない、数平均分子174,400 、水酸基flIj2
10 KOHrrq/y (7)反応生成物(A−5)
を得た。
6チ、スチレン単位44チ、水酸基価28.1 KOH
’trq/yを有するブタノエン−スチレンランダムコ
ーポリマーよりなるシタジエン系ポリマー1.000部
、ジオキサン1.000部、シルカゾトエチルアルコー
ル540 部ヲ用いてシルカゾトエタノール化反応を行
ない、数平均分子174,400 、水酸基flIj2
10 KOHrrq/y (7)反応生成物(A−5)
を得た。
次に攪拌器、還流水分離器、滴下装置をセットした三ツ
ロフラスコを用いて反応生成物[:A−53部部、ジオ
キサ760部、無水フタル酸13.0部とを混合し、攪
拌(−ながら加温をして反応温度115℃〜120℃で
2時間反応させた後、加温を止めてジオキサン800部
とハイドロキノン0.3部とを加えた。次に液温度を室
温まで下げた後、アクリル酸クロライドの加部を滴下し
ながら室温で5時間反応を続けた。
ロフラスコを用いて反応生成物[:A−53部部、ジオ
キサ760部、無水フタル酸13.0部とを混合し、攪
拌(−ながら加温をして反応温度115℃〜120℃で
2時間反応させた後、加温を止めてジオキサン800部
とハイドロキノン0.3部とを加えた。次に液温度を室
温まで下げた後、アクリル酸クロライドの加部を滴下し
ながら室温で5時間反応を続けた。
以後実施例1と全く同様に処理して感光性樹脂(R−2
2)の10%ノオキサン溶液を得た。
2)の10%ノオキサン溶液を得た。
実施例お
実施例1で得た感光性樹脂(R−1)の10 %ジオキ
サン溶液 100 部ビニルト
ルエン/イタコン収ノチルエステル共東合体の10φノ
オキザンmy 50 部ノイソノロピルナオ
キザントン 0.8 部ツメチルアミノベンゾイ
ル酸イソノロビルエステル
0.8 部クリスタルグイオレット 0
.05部以上の成分を均一に混合した感光性樹脂[R−
6]浴液をプリント回路用鋼張り積層板上に乾燥後の厚
さが約4μmになるように塗布[2、温風で乾燥17た
3、ネガフィルムを密盾し、3に:wの高圧水銀灯のも
とて40011距離から30秒間蕗蕗九た。露光の終っ
た板を1%の炭酸ナトIJウム水溶液中で綿で軽くこす
ることによって現像を行ない水洗をした。
サン溶液 100 部ビニルト
ルエン/イタコン収ノチルエステル共東合体の10φノ
オキザンmy 50 部ノイソノロピルナオ
キザントン 0.8 部ツメチルアミノベンゾイ
ル酸イソノロビルエステル
0.8 部クリスタルグイオレット 0
.05部以上の成分を均一に混合した感光性樹脂[R−
6]浴液をプリント回路用鋼張り積層板上に乾燥後の厚
さが約4μmになるように塗布[2、温風で乾燥17た
3、ネガフィルムを密盾し、3に:wの高圧水銀灯のも
とて40011距離から30秒間蕗蕗九た。露光の終っ
た板を1%の炭酸ナトIJウム水溶液中で綿で軽くこす
ることによって現像を行ない水洗をした。
続いて塩化第二鉄40襲水浴液をI Ky / adの
圧力で噴射し、エツチングを行った。エツチング時間4
分で120〜150μmの1話に床1wを有する画像が
得られたか感光性樹脂゛によるレノスト層には何らの異
常もβ2められなかった。このものを10 %水酸化ナ
トリウム水浴液中に浸漬し、50℃〜70℃に加熱し表
面をこすりとることでレジスト層を剥離してプリント回
路が得られた。又この感光性樹脂液は冷暗所に保存して
おいたところ3力月以上にわたって安定な状態であった
。
圧力で噴射し、エツチングを行った。エツチング時間4
分で120〜150μmの1話に床1wを有する画像が
得られたか感光性樹脂゛によるレノスト層には何らの異
常もβ2められなかった。このものを10 %水酸化ナ
トリウム水浴液中に浸漬し、50℃〜70℃に加熱し表
面をこすりとることでレジスト層を剥離してプリント回
路が得られた。又この感光性樹脂液は冷暗所に保存して
おいたところ3力月以上にわたって安定な状態であった
。
参考例1
実施例1で用いた数平均分子Ji 2,750 、水酸
基価391 KOH〜/yのシルカノトエタノール化ポ
リブタノエン(A−1)60部をジオキサン800部に
浴解した後、撹拌を続けながらハイドロキノン0.3部
とアクリル酸クロライド40部とを加え温度を75℃ま
で上昇させ、この温度で5時間反応させた。
基価391 KOH〜/yのシルカノトエタノール化ポ
リブタノエン(A−1)60部をジオキサン800部に
浴解した後、撹拌を続けながらハイドロキノン0.3部
とアクリル酸クロライド40部とを加え温度を75℃ま
で上昇させ、この温度で5時間反応させた。
反応終了後室温にもどし水中に反応液を投入して沈殿物
を得た。これをよく水洗し冷暗所で自然乾燥して感光性
樹脂[R:Et−1]を得た。
を得た。これをよく水洗し冷暗所で自然乾燥して感光性
樹脂[R:Et−1]を得た。
比較例1
参考例1の感光性樹脂(RR−1)の10%ジオキザン
溶液 100 部ビニルトルエ
ン/イタコン1#!/チルエステル共重合体の1096
ノオキサン溶液 50 部ノイソノロビルチオキ
サントン 0.8部ツメチルアミノベンゾイル酸イ
ソノロビルニスデル 0.8
部りリスタルッ゛イオレット O,’05部
以上の成分ケ均一に混合した感光性樹脂EC−1〕溶液
をプリント回路用鋼張り槓j−板上に乾燥後の厚さが約
4μ7nになるように塾布し、温1虱で乾燥した。得ら
れた形成被膜の表面はやや粘涜性があった。次いでネガ
フィルムを督着し、3部w(D高圧水銀灯のもとて−1
13cmの距離から;幻秒間庫光した。露光の経つtc
板を実施例23と同様に1%炭酸ナトIJウム浴故中で
現1求を行ったがうまく現像できなかったlCめ、ベン
ゼンとエナルアルコールの混合Fj7戊゛C現隊を行っ
たは、塩化第二鉄−10チ水溶液を1I(f / tr
iの圧力で噴射(7エツチングを行なった。エツチング
時間・1分で120〜150μm(D腐jk深度を有す
る1La11−J!が1υらIしたが、感光性樹脂によ
るレノスト層1に損1易が山・こりlI!i11ぷに一
部欠けが出ていた1、−3した、版画に’I’+S 7
.7住があったため、ネガフィルムの甜/d時に96生
j、、たLti fitムラによる画・1戚のカブリ現
象が一部に月^われでいた。。
溶液 100 部ビニルトルエ
ン/イタコン1#!/チルエステル共重合体の1096
ノオキサン溶液 50 部ノイソノロビルチオキ
サントン 0.8部ツメチルアミノベンゾイル酸イ
ソノロビルニスデル 0.8
部りリスタルッ゛イオレット O,’05部
以上の成分ケ均一に混合した感光性樹脂EC−1〕溶液
をプリント回路用鋼張り槓j−板上に乾燥後の厚さが約
4μ7nになるように塾布し、温1虱で乾燥した。得ら
れた形成被膜の表面はやや粘涜性があった。次いでネガ
フィルムを督着し、3部w(D高圧水銀灯のもとて−1
13cmの距離から;幻秒間庫光した。露光の経つtc
板を実施例23と同様に1%炭酸ナトIJウム浴故中で
現1求を行ったがうまく現像できなかったlCめ、ベン
ゼンとエナルアルコールの混合Fj7戊゛C現隊を行っ
たは、塩化第二鉄−10チ水溶液を1I(f / tr
iの圧力で噴射(7エツチングを行なった。エツチング
時間・1分で120〜150μm(D腐jk深度を有す
る1La11−J!が1υらIしたが、感光性樹脂によ
るレノスト層1に損1易が山・こりlI!i11ぷに一
部欠けが出ていた1、−3した、版画に’I’+S 7
.7住があったため、ネガフィルムの甜/d時に96生
j、、たLti fitムラによる画・1戚のカブリ現
象が一部に月^われでいた。。
実施例潤
実施例6で得られた感光性樹脂(R−63の10チノオ
キサン溶液 100 部ビニルトルエ
ン/イタコン酸フチルエステル共重合体の10チノオキ
サン躊液 100 部2−メチルアントラキノン
1 部カセノールミーリンググリーンGW
O,02部以上を均一に溶解して得られた感光性樹脂
〔R−41,1溶液を砂目室て、陽極酸化処理したアル
ミ板の上に塗布乾燥し約1.5μmの感光被膜を形成し
た。次にネガフィルムを真空密着し、3−5 mw /
aJの強度を有する光源を用いて1分間露光した後、
1q6のリン酸ナト、lJウム水溶液中で約15秒間綿
で軽くこすることによって現像をなし水洗して印刷版を
得た。この版を用いてオフセット印刷したところ鮮明な
印刷紙面が得られた。
キサン溶液 100 部ビニルトルエ
ン/イタコン酸フチルエステル共重合体の10チノオキ
サン躊液 100 部2−メチルアントラキノン
1 部カセノールミーリンググリーンGW
O,02部以上を均一に溶解して得られた感光性樹脂
〔R−41,1溶液を砂目室て、陽極酸化処理したアル
ミ板の上に塗布乾燥し約1.5μmの感光被膜を形成し
た。次にネガフィルムを真空密着し、3−5 mw /
aJの強度を有する光源を用いて1分間露光した後、
1q6のリン酸ナト、lJウム水溶液中で約15秒間綿
で軽くこすることによって現像をなし水洗して印刷版を
得た。この版を用いてオフセット印刷したところ鮮明な
印刷紙面が得られた。
比較例2
参考例1で得られた感光性樹脂[RR−1]の10、俤
ジオキサン溶液 100 部ビニルト
ルエン/イタコン酸ソチルエステル共重合体の10%ソ
オギサン溶液 100 部2−メチルアントラキ
ノン 1 部力ヤノールミーリンググリンaw
o、o5部以−ヒを均一に溶解して得られた感
光性樹脂〔C−2〕暦液を砂目室て、陽極酸化処理した
アルミ板の上に塗布乾燥し、約1.5μmの感光被膜を
形成り、、 fcが被膜表面にやや粘着性が残った。次
にネガフィルムを貞免密着12、実施例調と同じ光源を
用いて1分間露光しfc後、1q6の炭酸す) IJウ
ム水溶液中で60秒間綿でこすって現像したが、画像周
辺部において規律不十分な部分があったため、さラニコ
のものをベン−ピンとエチルアルコール混合浴液中で完
全に現像して印刷版を得た。この版を用いてオフセット
印刷したところネガフィルムの密層ムラによる画像ムラ
が全面に現われた。
ジオキサン溶液 100 部ビニルト
ルエン/イタコン酸ソチルエステル共重合体の10%ソ
オギサン溶液 100 部2−メチルアントラキ
ノン 1 部力ヤノールミーリンググリンaw
o、o5部以−ヒを均一に溶解して得られた感
光性樹脂〔C−2〕暦液を砂目室て、陽極酸化処理した
アルミ板の上に塗布乾燥し、約1.5μmの感光被膜を
形成り、、 fcが被膜表面にやや粘着性が残った。次
にネガフィルムを貞免密着12、実施例調と同じ光源を
用いて1分間露光しfc後、1q6の炭酸す) IJウ
ム水溶液中で60秒間綿でこすって現像したが、画像周
辺部において規律不十分な部分があったため、さラニコ
のものをベン−ピンとエチルアルコール混合浴液中で完
全に現像して印刷版を得た。この版を用いてオフセット
印刷したところネガフィルムの密層ムラによる画像ムラ
が全面に現われた。
実施例25
実施例1〜22と参考例1で得られた各々の感光性樹脂
の1()多ノオギサン溶液100部に対して増感剤とし
てノイソノロピルチオキサトンo、5部、ジメチルアミ
ノベンゾイル酸イソグロビルエステル0.5部を加えて
混合調整した感光性樹脂液および実施例乙〜24、比較
例1〜2の感光樹脂′FA整液を砂目室て陽極酸化処理
したアルミ板上に塗布して乾燥させた後、21段階の連
続調整濃度を有するコダックフォトグラフイクステップ
タブレットN[L 2を真空密着し露光現像を行なった
。その諸条件と形成樹脂の表向粘着性、現像性、ステッ
プタープレットの残存段数、支持体との密層性、耐朶品
等の諸結果を表2に示した。
の1()多ノオギサン溶液100部に対して増感剤とし
てノイソノロピルチオキサトンo、5部、ジメチルアミ
ノベンゾイル酸イソグロビルエステル0.5部を加えて
混合調整した感光性樹脂液および実施例乙〜24、比較
例1〜2の感光樹脂′FA整液を砂目室て陽極酸化処理
したアルミ板上に塗布して乾燥させた後、21段階の連
続調整濃度を有するコダックフォトグラフイクステップ
タブレットN[L 2を真空密着し露光現像を行なった
。その諸条件と形成樹脂の表向粘着性、現像性、ステッ
プタープレットの残存段数、支持体との密層性、耐朶品
等の諸結果を表2に示した。
−2(
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 】、数平均5〕・子址が200〜20,000、重合体
鎖の40 LJf、 iJφ以」二が7タジ工ン単位で
あるツタツエン系+4リマーの二重結合のりら30〜1
00重i、+1%を水酸基1個“または2飼以上持つメ
ルカノト化a物の1独−または2(j以上の化合物でメ
ルカノ°]変1生12、導入された水tIi基を介して
該水r夜間の2Ll・−80i M %にカルボキシル
基を有し、かつ該水酸基の80〜20%に感光基をイ]
す、:、メルカプト変性ポリブタジェン系感光性樹脂。 2、 数平均分子はが20()〜20.000、徂合体
頌の4D肛鼠襲以上がツタツエン単位である/タノエン
糸・Jヒリマーの二重結合のうち、30−100車lj
i価を水酸基1個′または2個以上を持つメルカプト化
0′物の1稚−または2橿」メ上の化合物でメルカプト
変性した故、導入された水酸基に酸無水物を反応せしめ
、次いで残存する水酸基または生成するカルボキシル基
と反応する官能基を有し、かつ感光基を有する化合物と
を反応せしめ、尋人された水酸基の加〜80市敗係にカ
ルボキシル基と80〜20%に感光基を尋人することを
特徴とするメルカプト変性ポリブタジェン系感光性樹脂
の製造法。 :3.数乎均分子址200〜20.000、重合体鎖の
40≠以上がツタツエン単位であるブタジェン系ポリマ
ーの二重結合のうち30〜I00tm%を水酸基1個ま
たは2個以上を持つメルカプト化合物のl釉゛または2
棟以上の化合物でメルカプト変性し、導入された水酸基
を介して該水酸基の20〜8()重量優にカルボキシル
基を有17、かつ該水酸基の80〜20重量係に感光基
を有するメルカプト変性ポリブタジェン系感光性樹脂と
増感剤および添加剤からなる感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15505982A JPS5944045A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | メルカプト変性ポリブタジエン系感光性樹脂 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15505982A JPS5944045A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | メルカプト変性ポリブタジエン系感光性樹脂 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5944045A true JPS5944045A (ja) | 1984-03-12 |
JPH0352620B2 JPH0352620B2 (ja) | 1991-08-12 |
Family
ID=15597764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15505982A Granted JPS5944045A (ja) | 1982-09-06 | 1982-09-06 | メルカプト変性ポリブタジエン系感光性樹脂 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5944045A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61164517A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-07-25 | 松下電器産業株式会社 | 電気発熱体 |
JPS61164526A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-07-25 | 松下電器産業株式会社 | 電気湯沸し器 |
JPS6264086A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-20 | 松下電器産業株式会社 | 面状ヒ−タ |
JPH0215032U (ja) * | 1988-07-18 | 1990-01-30 | ||
JP2001026618A (ja) * | 1999-07-16 | 2001-01-30 | Kyoeisha Chem Co Ltd | ポリブタジエン変性物とその変性物を含む塗料用親水化剤 |
JP2008024898A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Tosoh Corp | 石油樹脂アクリレート及びその製造方法 |
WO2015198779A1 (ja) * | 2014-06-24 | 2015-12-30 | Jsr株式会社 | 新規な重合体およびその用途 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5397047A (en) * | 1977-02-05 | 1978-08-24 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS5415789A (en) * | 1977-06-17 | 1979-02-05 | Chino Works Ltd | Hourly integrating device for temperature changing stepwise |
JPS54110287A (en) * | 1978-01-25 | 1979-08-29 | Du Pont | Photosensitive elastic composition |
JPS55143557A (en) * | 1979-04-05 | 1980-11-08 | Du Pont | Photosensitive elastic composition |
-
1982
- 1982-09-06 JP JP15505982A patent/JPS5944045A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5397047A (en) * | 1977-02-05 | 1978-08-24 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | Photosensitive resin composition |
JPS5415789A (en) * | 1977-06-17 | 1979-02-05 | Chino Works Ltd | Hourly integrating device for temperature changing stepwise |
JPS54110287A (en) * | 1978-01-25 | 1979-08-29 | Du Pont | Photosensitive elastic composition |
JPS55143557A (en) * | 1979-04-05 | 1980-11-08 | Du Pont | Photosensitive elastic composition |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61164517A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-07-25 | 松下電器産業株式会社 | 電気発熱体 |
JPS61164526A (ja) * | 1985-01-16 | 1986-07-25 | 松下電器産業株式会社 | 電気湯沸し器 |
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JP2008024898A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Tosoh Corp | 石油樹脂アクリレート及びその製造方法 |
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